射线光电子能谱分析

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第四章 XPS光电子能谱

第四章 XPS光电子能谱

dI = I 0 dt / ( EK )
(EK)是一个常数,与电子的动能有关,称为光电子非弹性散射自由程或 者电子逸出深度。有时也被称为非弹性散射“平均自由程”。如果t代表垂直 固体表面并指向固体外部的方向,则(EK)就是“平均逸出深度”。这样, 光电子垂直于固体表面发射,并经历距离t后的强度为:
实验中发现,光电子的逸出深度对于不同材料以及不同动能的光电子时不同 的。为了便于定量计算,人们做了大量的工作,综合大量的实测数据,总结 出了一下经验公式。 对于单质材料,(EK)与元素种类无关,只与电子的动能有关。如果光 电子的动能在100~2000 eV之间,则近似与(EK)½成正比。
h+A A
*, +
+e

在某些情况下,还会引起俄歇电子的 发射。(为什么?)俄歇电子发射对 于材料的结构分析很有用处。
X射线光电子能谱分析的基本原理
1、光电效应(光致发射或者光电 离): 当光子与材料相互作用时,从原子中 各个能级发射出的光电子的数目是不 同的,有一定的几率。光电效应的几 率用光电截面表示,定义为某能级 的电子对入射光子的有效能量转移面 积,或者一定能量的光子从某个能级 激发出一个光电子的几率。所以, 与电子所在壳层的平均半径r,入射光子的频率和受激原子的原子序数Z有关。 一般来说,在入射光子的能量一定的情况下: 1、同一原子中半径越小的壳层,光电效应截面越大;电子结合能与入射光子的 量越接近,光电效应截面越大。 2、不同原子中同一壳层的电子,原子序数越大,光电效应截面越大。 光电效应截面越大,说明该能级上的电子越容易被光激发。与同原子其他壳层上 的电子相比,它的光电子峰的强度就大。科学工作者已经对Al和Mg的K线激发 下,各元素的各能级的光电效应截面经行了计算。 X射线(h) 光电子(e-)

X射线光电子能谱分析方法及原理(XPS)

X射线光电子能谱分析方法及原理(XPS)

半导体工业
晶体缺陷分析、界面性质研究 等。
环境科学
大气污染物分析、土壤污染研 究等。
X射线光电子能谱分析的优缺点
1 优点
提供元素化学状态信息、非破坏性分析、高表面敏感性。
2 ห้องสมุดไป่ตู้点
样品需真空处理、分析深度有限、昂贵的设备和维护成本。
总结和展望
X射线光电子能谱分析是研究材料表面的有力工具。未来,随着仪器和技术的 不断进步,XPS将在更多领域发挥重要作用。
X射线光电子能谱分析方 法及原理(XPS)
X射线光电子能谱分析(XPS)是一种表面分析技术,通过测量材料的X射线光 电子能谱来研究材料的电子结构和化学组成。
X射线光电子能谱分析的基本 原理
XPS基于光电效应,探测材料与X射线相互作用所放出的光电子。通过测量光 电子能量和强度,可以推断材料表面元素的化学态。
X射线光电子能谱分析的仪器和实验设备
XPS仪器
包含X射线源、光电子能谱仪 和数据处理系统。
电子枪
产生高能电子束,用于激发材 料表面。
光电子能谱仪
测量光电子的能量和角度,用 于分析材料的电子结构。
X射线光电子能谱分析的样品准备方法
1 表面清洗
去除杂质和氧化层,以确保准确测量。
2 真空处理
在超高真空条件下进行实验,避免气体影响。
3 固定样品
使用样品架或夹具将样品固定在仪器中。
X射线光电子能谱分析的数据处理和解 析方法
峰面积计算
根据光电子峰的面积计算元素含量。
能级分析
通过分析光电子的能级分布,推断材料的化学状态。
谱峰拟合
将实验谱峰与已知标准进行拟合,确定元素的化学态和含量。
X射线光电子能谱分析的应用领域

电子能谱分析XPS和AES

电子能谱分析XPS和AES

电子能谱分析XPS和AES电子能谱分析(Electronic Spectroscopy)是一种用来研究材料表面的化学成分和电子结构的技术。

常用的电子能谱分析方法有X射线光电子能谱(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS)和反射能量损失光谱(Auger Electron Spectroscopy, AES)。

X射线光电子能谱(XPS)是一种通过照射样品表面并测量逸出电子能量来获取有关材料表面成分和电子状态的信息的分析技术。

XPS的原理基于光电效应,即被照射的样品会产生光电子,这些光电子的能量和数量与样品的化学成分和电子状态有关。

通过分析逸出电子的能谱,可以得到材料的化学成分、元素的氧化态和电子能级等信息。

XPS的实验装置主要由以下几个部分组成:X射线源、能谱分析器、逸出电子探测器和数据处理系统。

首先,样品被置于真空室中,并由X射线源产生的X射线照射。

X射线会使样品表面的原子或分子发生光电效应,逸出的光电子经过能谱分析器的光学元件进行能量分析。

最后,逸出电子被探测器捕获,并由数据处理系统进行分析和展示。

XPS的主要应用领域包括材料科学、表面化学和界面物理等。

通过XPS,可以定量确定样品表面的化学成分,并且可以分析不同化学状态的元素。

此外,XPS还可以提供有关样品表面化学反应和电子能带结构等信息。

XPS广泛应用于材料研究、催化剂表征、薄膜和界面研究等领域。

反射能量损失光谱(Auger Electron Spectroscopy, AES)是另一种常用的电子能谱分析方法。

AES是一种利用样品表面产生的俄歇电子进行表征的技术。

与XPS类似,AES也是一种通过照射样品表面并测量逸出电子能谱来获取有关材料表面成分和电子结构的信息。

AES的原理基于俄歇电子效应,即当X射线或电子束照射在样品表面时,被照射的原子会发生电离,产生一个空位。

然后,另一个外层电子会填补进空位,并释放出一个能量等于原位电子之间跃迁能量差的电子,称为俄歇电子。

X射线光电子能谱分析法

X射线光电子能谱分析法

X射线光电子能谱分析法X射线光电子能谱分析法(XPS)是一种常用的表面分析技术,它通过测量材料表面的X射线光电子能谱来研究材料的化学组成、表面形貌以及表面电子结构等信息。

XPS技术具有高表面分辨率、高化学分辨率和宽能量范围等优点,被广泛应用于材料科学、表面科学和界面科学等领域。

下面将详细介绍XPS的原理、仪器结构、测量步骤以及应用。

XPS的原理:XPS基于光电效应,即当光子与物质相互作用时,能够使物质中的电子获得足够的能量从而被抛出。

通过测量被抛出的光电子的能量以及其强度,可以得到材料表面的各种信息。

XPS谱图由两个平行的轴表示,一个是电子能量轴,用来表示光电子的能量,另一个是计数轴,用来表示光电子的强度。

XPS的仪器结构:XPS的典型仪器结构包括光源、透镜系统、分析室、光电子能谱仪、多道分析器和检测器等部分。

其中,光源产生具有特定能量和强度的X射线,透镜系统用于聚焦X射线到样品表面,分析室用于保持真空环境,并可进行样品的表面清洁和预处理,光电子能谱仪用于测量光电子能谱,多道分析器用于对光电子的能量进行分析,检测器用于测量光电子的强度。

XPS的测量步骤:1.样品表面处理:对于有机材料,样品表面可能存在有机污染物,需要通过加热或离子轰击等方法进行表面清洁。

对于无机材料,一般不需要进行表面处理。

2.真空抽取:将样品放入真空室中,并进行抽取,以保证测量时的真空环境。

3.光源和透镜系统调节:调节光源的能量和透镜系统的聚焦,使其能够产生精确的X射线束。

4.测量样品表面:将样品置于X射线束中,测量样品表面的X射线光电子能谱。

5.数据分析:对测量得到的光电子能谱进行分析,得到材料的化学组成、表面形貌以及表面电子结构等信息。

XPS的应用:1.表面化学组成分析:XPS可以确定材料表面的元素组成和化学状态,对于催化剂、薄膜材料等具有重要意义。

2.表面形貌研究:通过测量不同位置的XPS谱图,可以了解材料表面的形貌特征,如晶体结构、晶粒尺寸等。

电子能谱分析

电子能谱分析
电子能谱分析
第一章 X射线光电子能谱 第二章 俄歇电子能谱
固体表面的化学组成和体内不完全相同,甚至完全不同, 造成这种差别的原因主要有:
★ 表面原子(或离子)化学键部分断裂(悬挂键), 能量状态与体内不同;
★ 外来物在表面的吸附、污染; ★ 表面的氧化、腐蚀和摩擦; ★ 人为加工的表面,如离子注入、钝化和各种涂层。
1.1.2 信息能量
入射光子h与原子的某一内层电子产生非弹性散射时,其h能量将
消耗于以下几部分:
• 克服结合能Eb
• 逸出功s
• 转换为出射动能EK • 电子逸出表面时原子产生的反冲能Er • 可给出以下能量守恒关系:
h = Eb + EK + s + Er
由上述讨论可见:
• 当M>>m时,只要选择合适光束源,使光子能量h不太大,则可
因此,在实际应用中,人们要对材料和器件工作表面的 宏观性能做出正确的评价与理解,首先必须对各种条件下表 面的化学组成和化学状态进行定性和定量的测定和分析。
• 固体表面状态,包括表面成分、结构、配位、化学键性、 能带、电子态等等,对材料的许多物性以及相关的应用和 理论都有非常重要的意义。
• 人们早就十分关注固体表面问题,但一直受到实验手段的 局限,主要是缺乏在原子水平表征、研究材料成分、结构、 状态和性能的直接手段。
• 此时,忽略Er,则试样和谱仪壳材两者分别有以下能量关系:谱仪
逸出功 sp代替试样逸出功s:
试样谱仪未连接
试样谱仪连接
EKsp EK
EK + s = EKsp+ sp
EKsp
仪器的sp 是给定不变的, 可通过实测EKsp来求得试样的结合能Eb.

X射线光电子能谱(XPS)谱图分析

X射线光电子能谱(XPS)谱图分析

一、X光电子能谱分析的基本原理X光电子能谱分析的基本原理:一定能量的X光照射到样品表面,和待测物质发生作用,可以使待测物质原子中的电子脱离原子成为自由电子。

该过程可用下式表示:hn=Ek+Eb+Er (1)其中:hn:X光子的能量;Ek:光电子的能量;Eb:电子的结合能;Er:原子的反冲能量。

其中Er很小,可以忽略。

对于固体样品,计算结合能的参考点不是选真空中的静止电子,而是选用费米能级,由内层电子跃迁到费米能级消耗的能量为结合能Eb,由费米能级进入真空成为自由电子所需的能量为功函数Φ,剩余的能量成为自由电子的动能Ek,式(1)又可表示为:hn=Ek+Eb+Φ(2) Eb=hn-Ek-Φ(3)仪器材料的功函数Φ是一个定值,约为 4 eV,入射X光子能量已知,这样,如果测出电子的动能Ek,便可得到固体样品电子的结合能。

各种原子,分子的轨道电子结合能是一定的。

因此,通过对样品产生的光子能量的测定,就可以了解样品中元素的组成。

元素所处的化学环境不同,其结合能会有微小的差别,这种由化学环境不同引起的结合能的微小差别叫化学位移,由化学位移的大小可以确定元素所处的状态。

例如某元素失去电子成为离子后,其结合能会增加,如果得到电子成为负离子,则结合能会降低。

因此,利用化学位移值可以分析元素的化合价和存在形式。

二、电子能谱法的特点(1)可以分析除H和He以外的所有元素;可以直接测定来自样品单个能级光电发射电子的能量分布,且直接得到电子能级结构的信息。

(2)从能量范围看,如果把红外光谱提供的信息称之为“分子指纹”,那么电子能谱提供的信息可称作“原子指纹”。

它提供有关化学键方面的信息,即直接测量价层电子及内层电子轨道能级。

而相邻元素的同种能级的谱线相隔较远,相互干扰少,元素定性的标识性强。

(3)是一种无损分析。

(4)是一种高灵敏超微量表面分析技术,分析所需试样约10-8g即可,绝对灵敏度高达10-18g,样品分析深度约2nm。

X射线光电子能谱分析

X射线光电子能谱分析

8.2.2 振动精细结构
对于同一电子能级, 对于同一电子能级,分子还可能有许多不同的 振动能级, 振动能级,因此实际测得的紫外光电子能谱图既 有结合能峰,又有振动精细结构。 有结合能峰,又有振动精细结构。
Ek = hv − I
光 电 子 动 能 入 射 光 子 能 量 绝 热 电 离 能
(a) n
§8.4
俄歇电子能谱(AES) 俄歇电子能谱(AES)
•1925年法国的物理学家俄歇(P.Auger)在用X射线研究光 1925年法国的物理学家俄歇( 1925年法国的物理学家俄歇 )在用X 电效应时就已发现俄歇电子,并对现象给予了正确的解释。 电效应时就已发现俄歇电子,并对现象给予了正确的解释。 •1968年L.A.Harris采用微分电子线路,使俄歇电子能谱开始 1968年 采用微分电子线路, 1968 采用微分电子线路 进入实用阶段。 进入实用阶段。 •1969年,Palmberg、Bohn和Tracey引进了筒镜能量分析器, 1969年 Palmberg、Bohn和Tracey引进了筒镜能量分析器 引进了筒镜能量分析器, 1969 提高了灵敏度和分析速度,使俄歇电子能谱被广泛应用。 提高了灵敏度和分析速度,使俄歇电子能谱被广泛应用。
hv = Ek + Eb +φ
0k时固体能带中充 0k时固体能带中充 满电子的最高能级
功函数
为防止样品上正电荷积累, 为防止样品上正电荷积累,固体样品必须保持 和谱仪的良好电接触,两者费米能级一致。 和谱仪的良好电接触,两者费米能级一致。 实际测到的电子动能为: 实际测到的电子动能为:
' Ek = Ek −(φsp −φs )
俄歇电子能谱的基本机理是:入射电子束或X 俄歇电子能谱的基本机理是:入射电子束或X射 线使原子内层能级电子电离, 线使原子内层能级电子电离,外层电子产生无辐 射俄歇跃迁,发射俄歇电子, 射俄歇跃迁,发射俄歇电子,用电子能谱仪在真 空中对它们进行探测。 空中对它们进行探测。

X射线光电子能谱分析法

X射线光电子能谱分析法

X射线光电子能谱分析法X射线光电子能谱分析法(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)是一种非常重要的表面分析技术,广泛应用于材料科学、化学、表面物理、生物技术和环境科学等领域。

本文将对X射线光电子能谱分析法进行详细介绍,包括基本原理、仪器分析系统和应用领域。

一、基本原理X射线光电子能谱分析法是利用X射线照射固体表面,使其产生光电子信号,并通过测量光电子的动能和数量,来确定样品表面的化学成分及其状态。

其主要基于光电效应(photoelectric effect)和X射线物理过程。

光电效应是指当光子入射到固体物质表面的时候,会将表面电子激发到导带或导带以上的能级上,并逃离固体形成受激电子。

这些逃逸的电子称为光电子,其动能与入射光子的能量有关。

X射线物理过程主要包括光子的透射、散射和与原子内电子的相互作用等。

当X射线入射到固体表面时,会发生漫反射和荧光特性,造成信号的背景噪声。

同时,X射线的能量足够高,可以与样品的内层电子发生作用,如光电子相对能谱(Photoelectron RELative Energies)和化学平移分量(Chemical Shift)等。

二、仪器分析系统X射线光电子能谱分析系统包括光源、样品室、分析仪和检测器等。

光源常用的是具有较窄X射线能谱线宽的准单色X射线源,如AlKα线或MgKα线。

样品室的真空度一般要达到10^-8Pa左右,以避免空气对样品的干扰。

分析仪是用于测量光电子动能和数量的关键部件,常见的配备有放大器、电子能谱仪和角度分辨收集器等。

放大器将来自检测器的信号放大,并进行滤波处理以滤除高频噪声。

电子能谱仪是用于测量光电子动能的装置,一般包括一个径向入射、自由运动的光电子束和一个动能分析系统。

角度分辨收集器则用于测量光电子的角度分布。

检测器用于测量光电子的数量,常见的有多种类型的二极管(如能量分辨二极管和多道分析器)和面向瞬态X射线源的时间分辨仪器。

X射线光电子能谱分析

X射线光电子能谱分析

X射线光电子能谱分析X射线光电子能谱分析(X-ray photoelectron spectroscopy,简称XPS)是一种用来表征材料表面元素化学状态和电子能级分布的表征技术。

它利用X射线照射材料表面,测量和分析材料表面光电子的能谱,通过分析能谱图可以得到有关材料的化学组成、表面化学键的种类和键长、元素的电子与核心电子之间的相互作用等信息。

本文将对X射线光电子能谱分析技术的原理、仪器设备及应用领域进行详细介绍。

X射线光电子能谱分析的原理可以用以下几个步骤来概括:首先,用X射线照射材料表面,激发材料表面的原子和分子。

然后,从激发的原子和分子中发射出光电子。

这些光电子的能量与产生它们的原子或分子的能级差有关。

最后,测量和分析这些光电子的能谱,从而得到材料表面的化学组成和电子能级分布信息。

为了进行X射线光电子能谱分析,需要使用专门的仪器设备,包括X射线源、能量分辨光电子能谱仪和电子能谱仪。

X射线源通常使用非常亮的单晶或多晶X射线管。

光电子能谱仪用来测量光电子的能谱,并将所获得的信号转化为能谱图。

电子能谱仪则用来检测、放大和记录电子能谱图。

X射线光电子能谱分析可以在多个领域应用,具有广泛的研究意义和实际应用价值。

在材料科学领域,它可以用来表征材料表面的成分和化学状态,研究材料的性质和行为;在表面科学领域,它可以研究表面的形貌和变化,探索表面的特性和反应;在催化剂和材料化学领域,它可以分析催化剂的表面状态和反应过程;在电子器件和光学器件领域,它可以研究界面和界面化学反应的机理等。

总结起来,X射线光电子能谱分析是一种非常重要的表征技术,可以提供关于材料表面的成分、化学状态和电子能级分布等信息。

通过XPS技术,可以探索材料的性质、表面的形貌以及材料的化学反应机理等,对于材料科学、表面科学、催化剂和电子光学器件等领域的研究和应用具有重要意义。

X射线光电子能谱及其应用简介

X射线光电子能谱及其应用简介

XPS应用
化合态识别
❖化合态识别-光电子峰
S的2p峰在不同化学状态下的结合能值
XPS应用
化合态识别
XPS应用
化合态识别
❖化合态识别-光电子峰
Ti及TiO2中2p3/2峰的峰位及2p1/2和2p3/2之间的距离
XPS应用
化合态识别
❖化合态识别-光电子峰
C1s在不同化学状态下半峰高宽的变化
CF4
C6H6
CO
CH4
半 峰 高 宽 0.52
0.57
0.65
0.72
(eV)
THANkS
结合能( Eb):电子克服原子核束缚和周围电子的作
用,到达费米能级所需要的能量。
费米(Fermi)能级:T=0K固体能带中充满电子的最高能级
真空能级:K电子达到该能级时完全自由而不受核的作用
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XPS的基本原理
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XPS基本原理
对于固体样品,计算结合能的参考点不 是选真空中的静止电子,而是选用费米 能级,由内层电子跃迁到费米能级消耗 的能量为结合能 Eb,由费米能级进入 真空成为自由电子所需的能量为功函数 Φ,剩余的能量成为自由电子的动能Ek,
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筒镜形电子能量分析器
筒镜分析器示意图
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真空系统
电子能谱仪的真空系统有两个基本功能。
1、使样品室和分析 器保持一定的真空 度,以便使样品发 射出来的电子的平 均自由程相对于谱 仪的内部尺寸足够 大,减少电子在运 动过程中同残留气 体分子发生碰撞而 损失信号强度。
hv=Ek+Eb+Φ

X射线光电子能谱分析

X射线光电子能谱分析

X射线光电子能谱分析X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)是一种重要的表面分析技术,广泛应用于物质表面成分、电子态和化学状态的研究。

本文将从XPS的原理、仪器构成、数据分析以及应用等方面进行详细介绍。

XPS原理基于光电效应,即当材料表面受到X射线照射后,光电子从表面脱离。

这些脱离的光电子具有一定的动能,其动能与被照射材料的原子核和电子状态相关。

通过测量脱离光电子的动能和相应的能谱,可以获得材料表面的成分和电子结构等信息。

XPS仪器通常由X射线源、光学系统、光电子能谱仪以及数据采集与分析系统组成。

X射线源通常采用非常纯净的铝或镁,通过加热产生X射线,其能量通常在0.5-2.5 keV范围内。

光学系统将X射线聚焦在材料表面,使其与表面相互作用。

此外,还需要一个真空系统以及样品调节装置,以保证实验过程的可靠性。

在光电子能谱仪中,光电子在进入光学透镜之后,通过缝隙进入光谱学荧光屏,其中光电子会击中荧光屏产生荧光,然后荧光被光电二极管或者多道采集系统接收。

通过测量光谱的能量分布,可以得到XPS的能谱图像。

数据采集与分析系统用于处理和分析得到的XPS数据。

根据样品组成和光电子的能量分布,可以识别和测量各种元素的化学状态和含量。

此外,还可以通过能级分别效应等技术,研究材料的表面电子结构和化学键性质。

XPS在材料科学和表面化学等领域具有广泛的应用。

首先,XPS被广泛应用于材料表面组分分析。

通过测量光电子的能量分布,可以确定元素的存在和相对含量,从而判断材料的组成。

其次,XPS可以提供元素的化学状态信息,即原子与其他元素的化学键类型和性质。

这对于研究各种材料的界面和表面反应具有重要意义。

此外,XPS还可以通过研究表面电荷分布和电子能带结构等信息,研究材料的电子结构与性质。

总结来说,X射线光电子能谱是一种重要的表面分析技术,可以提供材料的组分、化学状态以及电子结构等信息。

X射线光谱与电子能谱分析法

X射线光谱与电子能谱分析法

X射线光谱与电子能谱分析法首先,我们来看一下X射线光谱的原理和应用。

X射线光谱是指物质在X射线照射下,通过对X射线的吸收和辐射进行分析来获取物质结构和性质的方法。

这种方法主要依赖于物质对X射线的吸收和散射过程,通过对X射线吸收谱、荧光谱和散射谱的分析可以得到物质的化学成分和晶体结构。

因此,X射线光谱在材料科学、地质学、化学等领域被广泛应用。

X射线光谱的应用非常广泛。

例如,在材料科学中,通过X射线光谱可以研究材料的晶体结构和相变行为,从而了解材料的力学性能和热学性能。

在地质学中,可以通过X射线光谱来分析岩石和矿物的成分和结构,从而帮助地质学家了解地球的历史演变和地质构造。

在化学中,可以通过分析X射线吸收谱来确定化合物中的元素种类和含量,从而揭示化学反应的机理和热力学性质。

接下来,我们来看一下电子能谱的原理和应用。

电子能谱是指通过测量物质中电子能级的分布情况来研究物质结构和性质的方法。

这种方法主要利用物质中原子和分子的电子能级的离散性,通过测量电子的能级和能量来研究物质的能带结构和价带特性。

因此,电子能谱在固体物理学、化学和生物学等领域被广泛应用。

电子能谱的应用也非常广泛。

例如,在固体物理学中,可以通过电子能谱来揭示材料的电子结构和能带特性,从而理解材料的导电机制和光学性质。

在化学中,可以通过电子能谱来研究分子的轨道结构和化学反应的机理,从而探索分子的化学性质和反应性质。

在生物学中,可以通过电子能谱来研究蛋白质和DNA分子的结构和功能,从而了解生物分子的结构和功能。

最后,我们来比较一下X射线光谱和电子能谱这两种分析方法。

首先,X射线光谱主要研究物质的晶体结构和元素成分,而电子能谱主要研究物质的电子能带结构和能带特性。

其次,X射线光谱需要通过X射线的吸收和辐射来分析物质,而电子能谱则是通过电子的能级和能量来分析物质。

另外,X射线光谱通常需要使用X射线生成设备和光谱仪器,而电子能谱则需要使用电子能谱仪进行测量。

X射线光电子能谱分析

X射线光电子能谱分析

一、X射线光电子能谱的测量原理X射线光电子能谱(X-ray photoelectron Spectroscopy,简称XPS)也就是化学分析用电子能谱(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis,简称ESCA),它是目前最广泛应用的表面分析方法之一,主要用于成分和化学态的分析。

用单色的X射线照射样品,具有一定能量的入射光子同样品原子相互作用,光致电离产生了光电子,这些光电子从产生之处输运到表面,然后克服逸出功而发射,这就是X射线光电子发射的三步过程。

用能量分析器分析光电子的动能,得到的就是x射线光电子能谱。

根据测得的光电子动能可以确定表面存在什么元素以及该元素原子所处的化学状态,这就是x射线光电子谱的定性分析。

根据具有某种能量的光电子数量,便可知道某种元素在表面的含量,这就是x射线光电子谱的定量分析。

为什么得到的是表面信息呢?这是因为:光电子发射过程的后两步,与俄歇电子从产生处输运到表面然后克服逸出功而发射出去的过程是完全一样的,只有深度极浅范围内产生的光电子,才能够能量无损地输运到表面,用来进行分析的光电子能量范围与俄歇电子能量范围大致相同。

所以和俄歇谱一样,从X射线光电子谱得到的也是表面的信息,信息深度与俄歇谱相同。

如果用离子束溅射剥蚀表面,用X射线光电子谱进行分析,两者交替进行,还可得到元素及其化学状态的深度分布,这就是深度剖面分析。

X射线电子能谱仪、俄歇谱仪和二次离子谱仪是三种最重要的表面成分分析仪器。

X射线光电子能谱仪的最大特色是可以获得丰富的化学信息,三者相比,它对样品的损伤是最轻微的,定量也是最好的。

它的缺点是由于X射线不易聚焦,因而照射面积大,不适于微区分析。

不过近年来这方面已取得一定进展,分析者已可用约100 μm直径的小面积进行分析。

最近英国VG公司制成可成像的X射线光电子谱仪,称为“ESCASCOPE”,除了可以得到ES-CA谱外,还可得到ESCA像,其空间分辨率可达到10μm,被认为是表面分析技术的一项重要突破。

电子行业X射线光电子能谱

电子行业X射线光电子能谱

电子行业X射线光电子能谱介绍X射线光电子能谱是一种重要的表征材料电子结构的表征技术,在电子行业中被广泛应用。

本文将介绍X射线光电子能谱技术在电子行业中的应用、原理及其优势。

应用场景电子材料表征X射线光电子能谱技术可以对电子材料进行表征,包括材料的原子组成、元素的化学状态以及电子结构等信息。

这对于电子行业中的材料开发、材料分析以及新材料设计具有重要意义。

纳米电子器件分析在纳米电子器件制备和性能研究中,X射线光电子能谱技术可以提供器件内部的元素分布、电子态密度、界面特性等信息,帮助深入理解器件的结构和性能。

电子材料表面分析电子材料的表面特性对于其性能及功能具有重要影响。

X射线光电子能谱技术可以分析电子材料表面的元素分布、化学状态、表面电荷分布等信息,帮助优化材料的表面特性以及相关的电子性能。

原理与方法X射线光电子能谱原理X射线光电子能谱是利用X射线激发材料表面电子后,测量逸出的光电子能量和强度分布。

其原理基于光子与物质相互作用的过程,光子入射材料后,与材料内部的原子发生相互作用,使得物质内部的电子被激发或逸出。

通过测量逸出光电子的能量和强度分布,可以揭示材料的表面化学成分和电子结构等信息。

X射线光电子能谱测量方法常见的X射线光电子能谱测量装置主要由光源、光学系统、样品台、能谱仪和数据采集系统等组成。

测量过程中,首先选择合适的X射线能量和强度,将X射线照射到待测样品表面。

样品表面的电子受到X射线的激发,逸出并进入能谱仪进行能量分析和计数。

最后通过数据采集系统获取光电子能谱的信号,并进行数据处理和分析。

优势与挑战优势高灵敏度和高分辨率:X射线光电子能谱技术具有高灵敏度和高分辨率的优点,可以对材料的微细结构进行精确分析。

无损分析:X射线光电子能谱技术是一种非破坏性分析技术,可以对材料进行无损分析,保持材料的完整性。

多元素分析:X射线光电子能谱技术可以同时分析多种元素的信息,对于复杂的材料分析非常有优势。

挑战表面敏感性:X射线光电子能谱技术对于材料表面的分析,对材料的表面特性具有很高的敏感性,但对于材料内部的分析能力相对较弱。

电子行业X射线光电子能谱分析

电子行业X射线光电子能谱分析

电子行业X射线光电子能谱分析1. 引言在电子行业中,X射线光电子能谱分析技术被广泛应用于材料表面成分分析、薄膜厚度测量以及材料电子结构研究等领域。

本文将介绍X射线光电子能谱分析的原理、仪器设备及其在电子行业中的应用。

2. 原理X射线光电子能谱分析是通过照射材料表面的X射线束来激发材料中的原子产生光电子,然后通过能谱仪器来分析和检测这些光电子的能量分布情况。

其基本原理可简单分为三个步骤:激发、发射和分析。

2.1 激发X射线束照射到材料表面后,会与材料中的原子发生相互作用。

其中一个主要过程是光电效应,即X射线光子被原子的内层电子吸收并将其击出成为光电子。

这个过程中,吸收光子的能量等于内层电子的束缚能。

2.2 发射原子内层电子被击出后,会形成空位。

其他外层的电子会跃迁填充这些空位,并释放出能量。

其中一种能量释放的方式是通过发射光电子。

经过能量守恒定律的计算,可以得到光电子的能量与原子的束缚能之间的关系。

2.3 分析通过光电子能谱仪器,可以测量并记录光电子的能量。

根据能谱的分析,可以得到材料中各元素的成分、化学状态以及材料的电子结构等信息。

常用的能谱仪器有X射线光电子能谱仪(XPS)和角色谱仪。

3. 仪器设备X射线光电子能谱分析需要使用专用的仪器设备,主要包括:1.X射线光电子能谱仪(XPS):用于产生X射线束、照射到材料表面并测量光电子的能量。

XPS仪器通常包含X射线发射系统、分析室、能量分辨系统和数据采集系统等部分。

2.能谱仪器:用于测量和分析光电子的能谱信息。

常见的能谱仪器有圆盘状能谱仪、柱状能谱仪以及角色谱仪等。

4. 应用X射线光电子能谱分析在电子行业中有广泛的应用,主要包括以下几个方面:4.1 表面成分分析X射线光电子能谱分析可以用于表面成分的定性和定量分析。

通过测量光电子的能谱,可以获得材料表面的元素组成、含量以及化学状态等信息。

这对于材料研发、产品质量控制以及表面处理等方面具有重要意义。

4.2 薄膜厚度测量电子行业中常常使用薄膜作为制造材料。

X射线光电子能谱主要功能及应用实例

X射线光电子能谱主要功能及应用实例

X射线光电子能谱主要功能及应用实例X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)是一种常用于表面化学分析的技术。

它可以提供关于材料表面化学组成、价态、电子结构和电荷转移等信息。

以下是X射线光电子能谱的主要功能及应用实例。

1.表面化学分析:XPS可以确定材料的表面化学组成,包括原子种类、化学键和它们的相对丰度。

通过测量不同能量的光电子能谱,可以得到元素特征峰的强度和形状,从而定量分析材料表面上各种元素的相对含量。

应用实例:XPS广泛用于研究材料表面的符合物、生物界面、涂层和薄膜等。

例如,可以通过XPS分析材料的腐蚀表面层,以了解腐蚀过程中发生的化学变化。

另外,XPS也常被用来探测化学元素的清洁度,以确定材料的纯度。

2.化学价态分析:XPS可以测量材料中不同元素的化学价态。

通过分析元素的开壳层电子能级,可以确定元素的氧化态、配位数和电荷转移等信息,从而揭示材料的化学特性和反应活性。

应用实例:XPS可以用于研究催化剂表面的价态变化和催化反应机理。

例如,可以通过测量催化剂在不同反应条件下的XPS谱图,来研究催化剂表面的电子状态和活性位点,以及反应物在界面上的吸附和解离等过程。

3.能带结构测定:XPS可以提供材料的电子能带结构信息。

通过测量材料的价带和导带的能带边、费米能级、能带间距和带隙宽度等参数,可以了解材料的电子结构和导电性质。

应用实例:XPS可用于研究半导体、金属和氧化物等材料的能带结构和电子性质。

例如,可以通过测量半导体材料的价带和导带的能带边,来研究材料的能隙和输运性质,以及探索在光电子器件中的应用。

4.化学键分析:XPS可以测量材料中化学键的电子密度和价电子轨道的分布。

通过观察峰位和峰形的变化,可以推断出化学键的键长、键数和键的极性等信息。

应用实例:XPS可用于研究材料的化学键环境和键的特性。

例如,可以通过XPS测量材料中C1s能级的峰位和结构,来确定碳的化学键状态,从而分析碳材料的结构和官能团的存在。

2024年X射线光电子能谱(XPS)市场前景分析

2024年X射线光电子能谱(XPS)市场前景分析

2024年X射线光电子能谱(XPS)市场前景分析引言X射线光电子能谱(X-ray Photoelectron Spectroscopy,简称XPS),也被称为电子能谱仪(ESCA),是一种表征材料表面化学成分和化学态的非破坏性分析技术。

XPS技术通过测量材料表面的光电子发射能谱,可以获取样品的元素组成、化学键态、表面电子能级等信息。

本文将对XPS市场前景进行分析。

XPS市场概述近年来,X射线光电子能谱市场呈现出稳步增长的趋势。

XPS技术在材料科学、表面科学、纳米材料、半导体行业等领域具有广泛的应用。

XPS技术提供了高分辨率和高灵敏度的表征能力,能够满足科学研究和工业生产对材料表面性质的需求,因此在市场上受到了广泛的关注。

XPS市场驱动因素1. 材料科学和表面科学的发展随着科学技术的飞速发展,材料科学和表面科学的研究日益深入。

XPS技术作为表征材料表面的重要手段,为科学家们提供了研究材料性质的有力工具,推动了XPS 技术市场的增长。

2. 电子器件的需求增加随着电子器件行业的飞速发展,对高性能材料的需求不断增加。

XPS技术能够提供材料表面的元素组成和化学状态信息,为电子器件材料的研发和生产提供了重要参考,因此在电子器件行业中的应用前景广阔。

3. 环境保护和能源领域的需求环境保护和能源领域对材料表面性质的研究和表征需求日益增加。

XPS技术可以提供材料表面的化学成分和化学键态信息,帮助科学家们研究材料的表面反应性和催化性能,为环境保护和能源领域的研究提供有效支持。

XPS市场挑战和机遇挑战1.仪器价格较高:XPS设备的研发和制造成本较高,导致仪器价格相对较高,限制了中小型企业和科研机构的购买意愿。

2.技术复杂性:XPS技术在操作和数据处理方面存在一定的复杂性,需要具备一定的专业知识和技术能力。

对于一些非专业用户来说,使用和维护XPS设备可能存在一定困难。

机遇1.技术创新和应用拓展:随着科学技术的进步和需求的增加,XPS技术不断创新和应用拓展,例如高分辨率XPS、XPS显微镜等,为XPS市场的发展提供了新机遇。

X射线光电子能谱(XPS)的基本原理及应用

X射线光电子能谱(XPS)的基本原理及应用
工作流程
准备样品 - 放置于真空室中 - 照射X射线 - 测 量电子能谱 - 分析和解释结果。
XPS在材料表征中的应用
半导体材料
XPS可用于研究半导体材料的表面化学状况和 界面特性。
聚合物材料
对聚合物材料进行表面分析,了解其化学成分 和表面改性效果。
金属合金
生物材料
XPS可用于表征金属合金的成分和表面氧化状态。 研究生物材料表面的化学活性,用于医学和生 物工程领域。
XPS可用于确定催化剂表面的活性位点,帮助优化催化剂设计。
Hale Waihona Puke 2反应机理研究通过分析催化剂表面的元素状态和化学键情况,揭示催化反应的机理。
3
失活机制研究
通过分析催化剂失活前后的表面化学状态,探究失活机制并提出改进策略。
总结和展望
X射线光电子能谱 (XPS) 是一种强大的表面分析技术,广泛应用于材料科学和表面化学领域。未来,随 着技术的进一步发展,XPS将在更多领域发挥重要作用。
X射线光电子能谱 (XPS) 的基本原理及应用
X射线光电子能谱 (XPS) 是一种先进的分析技术,可用于研究和表征材料的 表面组成和化学状态。
定义和概述
1 什么是XPS?
2 工作原理
X射线光电子能谱 (XPS) 是一种非接触性的表面 分析技术,通过测量材 料表面上光电子的能谱 来了解元素的化学状态、 组成和表面反应性。
2
能谱测量
测量电子的能量和强度,建立能谱图,分析元素和化学状态。
3
定量分析
通过峰面积计算得到元素的相对含量,进一步分析材料组成。
XPS仪器的组成和工作流程
X射线源
发射足够强的X射线束以激发样品表面原子。
电子能谱仪

(完整版)X射线光电子能谱分析(XPS)

(完整版)X射线光电子能谱分析(XPS)

第18章X射线光电子能谱分析18.1 引言固体表面分析业已发展为一种常用的仪器分析方法,特别是对于固体材料的分析和元素化学价态分析。

目前常用的表面成分分析方法有:X射线光电子能谱(XPS), 俄歇电子能谱(AES),静态二次离子质谱(SIMS)和离子散射谱(ISS)。

AES 分析主要应用于物理方面的固体材料科学的研究,而XPS的应用面则广泛得多,更适合于化学领域的研究。

SIMS和ISS由于定量效果较差,在常规表面分析中的应用相对较少。

但近年随着飞行时间质谱(TOF-SIMS)的发展,使得质谱在表面分析上的应用也逐渐增加。

本章主要介绍X射线光电子能谱的实验方法。

X射线光电子能谱(XPS)也被称作化学分析用电子能谱(ESCA)。

该方法是在六十年代由瑞典科学家Kai Siegbahn教授发展起来的。

由于在光电子能谱的理论和技术上的重大贡献,1981年,Kai Siegbahn获得了诺贝尔物理奖。

三十多年的来,X射线光电子能谱无论在理论上和实验技术上都已获得了长足的发展。

XPS已从刚开始主要用来对化学元素的定性分析,业已发展为表面元素定性、半定量分析及元素化学价态分析的重要手段。

XPS的研究领域也不再局限于传统的化学分析,而扩展到现代迅猛发展的材料学科。

目前该分析方法在日常表面分析工作中的份额约50%,是一种最主要的表面分析工具。

在XPS谱仪技术发展方面也取得了巨大的进展。

在X射线源上,已从原来的激发能固定的射线源发展到利用同步辐射获得X射线能量单色化并连续可调的激发源;传统的固定式X射线源也发展到电子束扫描金属靶所产生的可扫描式X射线源;X射线的束斑直径也实现了微型化,最小的束斑直径已能达到6μm大小, 使得XPS在微区分析上的应用得到了大幅度的加强。

图像XPS技术的发展,大大促进了XPS在新材料研究上的应用。

在谱仪的能量分析检测器方面,也从传统的单通道电子倍增器检测器发展到位置灵敏检测器和多通道检测器,使得检测灵敏度获得了大幅度的提高。

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射线光电子能谱分析 Pleasure Group Office【T985AB-B866SYT-B182C-BS682T-STT18】X射线光电子能谱分析一、固体表面的分析固体不同于气体、液体,不具有流动性,在一定应力的作用下也不会发生明显的形状改变。

固体的表面也与液体表面不同,不存在理想的平滑表面。

固体表面厚度定义为5倍于原子或分子的直径:对于原子结构的固体物质,铁、硅,表面约为1 nm;对于分子结构的固体物质,如聚合物,其表面是5倍单体的厚度,约为5~10 nm;实际测样中,有时指1个或几个原子层,有时指厚度达微米级的表层。

大多数固体表面,在组分上或结构上都是和体内不一样的。

(1)组分不同。

对很多合金,某些元素会在表面富集,称为表面偏析或分凝,掺杂生长的晶体也有这种现象。

Cu-Ni合金中,在表面20个原子层中Cu的含量是体内的5倍。

表面还可以吸附外界的原子,而这些外来原子与体内不同,不仅能在表面形成吸附层,还可以在表面生成化合物。

(2)表面的排列与体内不同。

晶体中的原子处于有规律的周期性排列状态,而在表面这种周期突然中断,表面出现重构和驰豫现象。

重构指的是表面最外层原子的排列与体内不同。

而驰豫指的是表面原子所处的力场与体内原子不同,因此表面原子会发生相对于正常位置的上移或下移,以此来降低体系能量的现象。

晶体表面原子周期性的突然中断还会使表面出现各种缺陷,例如台阶、弯折、重位、凸沿等等,而这些缺陷往往是吸附活性点,对催化等非常重要。

(3)表面的电子结构与体内原子结构不同。

每个原子/离子在体内的都是有规律地排布,从空间上讲是电子处于一种平衡状态,而表面原子从空间分布上至少是缺一个方向的平衡(面、棱、角),电子云的分布也不相同。

因此,表面的原子比体内原子活性更大。

由于表面和体内具有上述不同之点,使得表面许多物理、化学性质,如光学、电学、磁学、热学、机械、化学活动性等性质与体内不同。

对于表面的这些性质的研究能揭露一些表面现象的本质。

例如催化与表面吸附层和表面原子结构的关系等。

其他还有表面钝化、活化、腐蚀、脆性、发光等现象,因此对“表面”的研究,不仅是一种基础理论工作,而且其潜在的实际应用价值也很大。

由于被分析的深度和侧向范围是如此浅薄和细微,被检测信号来自极小的采样体积,信息强度十分微弱,重复性差,对分析系统的灵敏度要求也很高。

所以,直到六十年代前后,随着超高真空和电子技术的突破,才使表面分析技术迅速发展起来。

用一束“粒子” 作为探针来探测样品表面,探针可以是电子、离子、光子、中性粒子、电场、磁场、热或声波,在探针作用下,从样品表面发射或散射粒子或波,它们可以是电子、离子、光子、中性粒子、电场、磁场、热或声波。

检测这些发射粒子的能量、动量、荷质比、束流强度等特征,或波的频率、方向、强度、偏振等情况,就可获得有关表面的信息。

本文主要介绍X射线光子作为探针的X射线光电子能谱(X-ray Photoelectron Spectroscopy,XPS)分析方法。

二、X射线光电子能谱几个基本物理概念光电效应当一束光子辐照到样品表面时,光子可以被样品中某一元素的原子轨道上的电子所吸收,使得该电子脱离原子核的束缚,以一定的动能从原子内部发射出来,变成自由的光电子,而原子本身则变成一个激发态的离子。

即:A + hνA+* + e-。

只有当光子能量(hν)大于临阈光子能量(hν0)时,即光解离作用发生所需要的最小能量时,光电离作用才发生。

其中hν0= E b + E k + Er,E b是原子能级中电子的电离能或结合能。

E k是出射光电子的动能。

Er是发射光电子的反冲动能。

光电离截面(σ)简单来说就是光电离作用的几率,或者说是某能级的电子对入射光子有效转移面积,也可以认为是一定能量的光子与原子作用时,从某个能级激发出一个电子的几率。

值得注意的是,临阈光子能量hν0处,σ越大。

对于不同元素,同一壳层的σ随原子序数增大而增大;而同一原子的σ值反比于轨道半径的平方,所以对于轻原子,1s比2s电子的激发概率要大20倍。

电子平均自由程(λ)电子平均自由程(λ):指光电子在固体样品表面不发生非弹性碰撞时逸出的深度。

电子能谱法所能研究的信息深度d取决于逸出电子的平均自由程λ。

一般来说,电子能谱研究的信息深度d=3λ,在30 nm以内。

X射线光电子能谱发展历史1877年,赫兹(heinrich Rudolf Hertz)发现光电效应。

1907年,用半球磁场和感光板记录到不同速度电子。

1954年,瑞典乌普沙拉(Uppsala)大学的凯.西格班(Kai M. Siegbahn)领导的研究组得到第一张XPS谱图。

1969年,凯.西格班和HP合作生产出第一台XPS仪器。

发现了内层电子结合能的位移现象,解决了电子能量分析的技术问题,测定了元素周期表中各元素的轨道结合能,从而测定固体表面的电子结构和表面组分的化学成分1981年,凯.西格班因对XPS的贡献获诺贝尔物理学奖。

X射线光电子能谱分析基本原理X射线光子的能量在1000~1500 eV之间,不仅可使分子的价电子电离而且也可以把内层电子激发出来,内层电子的能级受分子环境的影响很小。

同一原子的内层电子结合能在不同分子中相差很小,故它是特征的。

对于固体样品,电子结合能是指原子中某个电子吸收了光子的全部能量后,克服原子核的束缚到达样品的费米能级,这一过程消耗的能量,即电子能级与费米能级之差。

所以X射线能量用于:内层电子跃迁到费米能级,即克服该电子的结合能E b和电子由费米能级进入真空成为静止电子,即克服功函数sa 以及自由电子的动能E k。

实际上,当样品置于仪器中的样品架上时,样品与仪器的费米能级是一致的,所以样品中电子只要克服仪器的费米能级到真空能级的功(仪器的功函数sp)即可变为真空中的静止电子。

hν为实验时选用的X射线能量为已知;sp是仪器的功函数,是一定值,一般为4eV;通过精确测量光电子的动能E k′,即能计算出E b。

如图2-1所示。

由于不同原子的轨道电子结合能是一定的,据此就可以进行定性分析。

图2-1 X射线光电子能谱分析原理示意图X射线光电子能谱图分析X射线光电子能谱图以检测器单位时间内接收的光电子数(光电子强度)对电子结合能或光电子动能作图。

如图2-2所示,横轴为电子结合能,纵轴为光电子强度。

X射线光电子是以以元素被激发电子所在能级命名,如O1s1/2,C2p1/2,Al2s1/2。

对于S壳层的电子来说,不发生自旋分裂,在谱图上呈现单峰。

而对于p,d,f壳层的电子而言,则会由于其分裂为两个能级,在谱图上表现为双峰且两峰的面积比一般为 2p1/2:2p3/2 = 1:2;3d3/2:3d5/2 = 2:3;4f5/2:4f7/2= 3:4。

如图2-3所示。

图2-2 典型的X射线光电子能谱图图2-3 X射线光电子特征峰示例X射线光电子能谱图一般有全扫描和窄扫描两部分谱图组成,一般定性分析首先进行全扫描(整个X射线光电子能量范围扫描)以鉴定存在的元素;再对选择的谱峰进行窄扫描,以鉴定化学状态。

如图2-4所示。

图2-4 Si-Ti基底上的Pt纳米线阵列的XPS图(a)全谱(b)Pt 4f的精细谱谱图分析XPS主要研究原子的内层电子结合能。

内层电子不参与化学反应,保留了原子轨道的特性,因此其电子结合能具有特征性,不同元素原子可以产生完全分离的电子谱线,所以相邻元素的识别也不会发生混淆。

这样就可以对样品表面元素进行定性分析。

同时,XPS也可以对表面元素的化学价态进行分析。

其依据的是化合物结构的变化和元素氧化状态的变化引起谱峰有规律的位移。

具体来说就是:内层电子一方面受到原子核强烈的库仑作用而具有一定的结合能,另一方面又受到外层电子的屏蔽作用。

当外层电子密度减少时,屏蔽作用将减弱,内层电子的结合能增加;反之则结合能将减少。

因此当被测原子的氧化价态增加,或与电负性大的原子结合时,都导致其XPS峰将向结合能的增加方向位移。

如图2-5所示。

图2-5 Be,BeO,BeF2中1s电子光电子谱线的化学位移X射线光电子能谱谱线强度反映原子的含量或相对浓度。

测定谱线强度便可进行定量分析。

X射线光电子能谱可分析除氢、氦以外的所有元素,测量深度为几埃到几十埃,对多组分样品,元素的检测限为%(原子分数)。

XPS谱中的伴峰在XPS谱中,由于激发源的能量很高,可以激发出各种物理过程的电子。

此外,在激发态的退激发过程中,又可以发生各种复杂的退激发过程,释放出能量不同的各种电子。

因此,在普通的XPS谱中,还存在很多伴峰。

而伴峰中也会包含一些对分析重要的信息。

一个处于基态的闭壳层(闭壳层指不存在未成对电子的电子壳层)原子光电离后,生成的离子中必有一个未成对电子。

若此未成对电子角量子数I>0,则必然会产生自旋-轨道偶合(相互作用),使未考虑此作用时的能级发生能级分裂(对应于内量子数j的取值j=I+1/2和j=I-1/2形成双层能级),从而导致光电子谱峰分裂;此称为自旋-轨道分裂。

因此除s轨道能级外,p,d轨道均出现双峰结构。

当X射线照射时,除了打出一个内层电子外,还有另一电子被激发到更高能级的束缚态。

这个激发是需要能量的,于是造成光电子动能的降低,在原光电子谱峰的低动能侧就会出现伴峰,称为携上峰。

易出现携上峰的情况:具有未充满的d,f轨道的过渡金属化合物和稀土化合物具有不饱和侧链,或不饱和骨架的高聚物某些具有共轭电子体系的化合物。

例如:在石墨中,由于C原子以sp2杂化存在,并在平面方向形成共轭π键。

这些共轭π键的存在可以在C1s峰的高能端产生携上伴峰。

这个峰是石墨的共轭π键的指纹特征峰,可以用来鉴别石墨碳。

碳纳米管材料的携上峰基本和石墨的一致,这说明碳纳米管材料具有与石墨相近的电子结构。

在碳纳米管中,碳原子主要以sp2杂化并形成圆柱形层状结构。

C60材料的携上峰的结构与石墨和碳纳米管材料的有很大的区别,可分解为5个峰,这些峰是由C60的分子结构决定的。

在C60分子中,不仅存在共轭π键,并还存在键。

因此,在携上峰中还包含了键的信息。

当X射线照射时,除了打出一个内层电子外,还有另一电子被激发到连续的非束缚态(电离),这就使光电子动能降低,但降低值是可连续的变化,引起主峰低能级出现连续平滑谱,类似一个台阶,就好象本底提高,这种现象称为携下峰。

有些性质不同的化合物,在主峰的化学位移上未出现不同,而携下峰却有明显的区别。

在多种退激发途径中,最常见的退激发过程就是产生俄歇电子跃迁的过程,因此X射线激发俄歇谱是光电子谱的必然伴峰。

X射线激发的俄歇电子峰多以谱线群的形式出现。

俄歇电子的动能与激发源的能量无关。

俄歇电子峰的能量也能反映化学位移效应。

例如:C1s在石墨和碳纳米管材料中,其结合能均为 eV;而在C60材料中,其结合能为 eV。

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