新型压力敏感器件[实用新型专利]

专利名称：新型压力敏感器件专利类型：实用新型专利
发明人：吕世骥
申请号：CN89205181.7
申请日：19890623
公开号：CN2064504U
公开日：
19901024
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：新型压力敏感器件是一种由高平整度硅膜片制备的力敏传感器，由硅层、介质层和硅膜片组成，其特点是硅膜片由高平整度和均匀厚度的硅膜片构成，它采用异质材料在同一腐蚀液中腐蚀速率的显著差异制成，将异质结界面作为腐蚀自停止界面，使腐蚀后的硅膜片具有高平整度和均匀的厚度，从而保证了压力敏感器件具有较高的精度和较好的一致性。

申请人：东南大学
地址：210018 江苏省南京市四牌楼2号
国籍：CN
代理机构：东南大学专利事务所
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