材料分析测试技术课件第九章PPT课件
材料测试与研究方法 第九章 X射线衍射分析
连续谱
• X射线强度与波长 的关系曲线,称之 X射线谱。 • 在管压很低时,小 于20kv的曲线是连 续变化的,故称之 连续X射线谱,即 连续谱。
对连续X射线谱的解释
• 量子力学概念,当能量为ev的电子与靶的原子整 体碰撞时,电子失去自己的能量,其中一部分以 光子的形式辐射出去,每碰撞一次,产生一个能 量为hv的光子。 • 大量的电子在到达靶面的时间、条件均不同,而 且还有多次碰撞,因而产生不同能量不同强度的 光子序列,即形成连续谱。 • 极限情况下,能量为ev的电子在碰撞中一下子把 能量全部转给光子,那么该光子获得最高能量和 具有最短波长,即短波限λ0。都有一个最短波长, 称之短波限λ0,强度的最大值在λ0的1.5倍处。 eV = hvmax = hc/λ0 λ0 = 1.24/V (nm)
X射线具有波粒二象性。解释它的 干涉与衍射时,把它看成波,而 考虑它与其他物质相互作用时, 则将它看成粒子流,这种微粒子 通常称为光子。 X=波 波=粒 ?! X=粒
粒子性
• 特征表现为以光子形式辐射和吸收时 具有的一定的质量、能量和动量。 • 表现形式为在与物质相互作用时交换 能量。如光电效应;二次电子等。 • X 射线的频率 ν 、波长 λ 以及其光子的 能量ε动量p之间存在如下关系:
会烧熔靶面。目前有100kW的旋转阳极,其功率比普通X射线管大 数十倍。
Planck‗s law : Energy(photon) = h= hc/ 波长越短,能量越高。
09 透射电子显微镜 材料分析测试技术 教学课件
【教学内容】 1. 透射电子显微镜的构造与成像原理; 2. 透射电镜图像的成像过程; 3. 透射电镜主要性能; 4. 表面复型技术;
【重点掌握内容】 1. 透射电子显微镜构造; 2. 表面复型技术; 3. 复型电子显微镜图像的分析;
【教学难点】 表面复型技术
一. 透射电镜的结构原理
镜实现,通常有两级聚光镜来聚
为镜了下焦调装。整一C如束个1右—斑聚图强大光。磁小镜透镜,光,在栏MC。2聚通110 光常510 经二级聚C光2—后弱可磁获透镜得,几长u焦m的,电小α。 子束斑为;了调整束斑大小还在C2聚光 为一了个减消镜二斑下级。小像装聚像散一光散器个后,,可聚在以获光得镜C校2光N下正u阑还m磁。的要场通电装成常子经束 轴对称为性了的减;小像散,在C2下还要装 电子枪一对个称还消性可的像以。散倾器斜,以2—校3正0,磁以场成轴 实现中电心子暗枪场还成可像以倾。斜2—30,以
实现中心磁场成像。
(二) 成像系统
由物镜、物镜光栏、选区光栏、中间镜(1、2)和投影 镜组成。 物镜:强励磁短焦透镜(f=1-3mm),放大倍数100—300倍。 作用:形成第一幅放大像 物镜光栏:装在物镜背焦面,直径20—120um,无磁金属制 成。 作用:a.提高像衬度,b.减小孔经角,从而减小像差。C.进 行暗场成像 选区光栏:装在物镜像平面上,直径20-400um, 作用:对样品进行微区衍射分析。 中间镜:弱压短透镜,长焦,放大倍数可调节0—20倍 作用:a.控制电镜总放大倍数。B.成像/衍射模式选择。 投影镜:短焦、强磁透镜,进一步放大中间镜的像。投影镜 内孔径较小,使电子束进入投影镜孔径角很小。
材料测试技术基础 材料现代研究方法 第九章 透射电镜的结构
电磁透镜
• 短线圈磁场中的电子 运动显示了电磁透镜 聚焦成像的基本原理。 聚焦成像的基本原理。 实际电磁透镜中为了 增强磁感应强度, 增强磁感应强度,通 常将线圈置于一个由 软ຫໍສະໝຸດ Baidu材料( 软磁材料(纯铁或低 碳钢) 碳钢)制成的具有内 环形间隙的壳子里 如图5 (如图5-4)。
电磁透镜
• 此时线圈的磁力线都集中在 壳内,磁感应强度得以加强。 壳内,磁感应强度得以加强。 狭缝的间隙越小, 狭缝的间隙越小,磁场强度 越强, 越强,对电子的折射能力越 大。为了使线圈内的磁场强 度进一步增强, 度进一步增强,可以在电磁 线圈内加上一对磁性材料的 锥形环(如图5 所示), 锥形环(如图5-5所示), 这一装置称为极靴。 这一装置称为极靴。增加极 靴后的磁线圈内的磁场强度 可以有效地集中在狭缝周围 几毫米的范围内。 几毫米的范围内。
有效放大倍数
• 上式说明,光学透镜的分辨本领主要取决于照明源的波长。 上式说明,光学透镜的分辨本领主要取决于照明源的波长。 半波长是光学显微镜分辨率的理论极限。 半波长是光学显微镜分辨率的理论极限。可见光的最短波 长是390nm 也就是说光学显微镜的最高分辨率是≈200nm。 390nm, 长是390nm,也就是说光学显微镜的最高分辨率是≈200nm。 • 一般地人眼的分辨本领是大约0.2mm,光学显微镜的最大 一般地人眼的分辨本领是大约0.2mm 0.2mm, 分辨率大约是0.2μm 0.2μm。 0.2μm放大到0.2mm让人眼能分 放大到0.2mm 分辨率大约是0.2μm。把0.2μm放大到0.2mm让人眼能分 辨的放大倍数是1000 1000倍 辨的放大倍数是1000倍。这个放大倍数称之为有效放大倍 光学显微镜的分辨率在0.2μm 0.2μm时 数。光学显微镜的分辨率在0.2μm时,其有效放大倍数是 1000倍 1000倍。 • 光学显微镜的放大倍数可以做的更高,但是,高出的部分 光学显微镜的放大倍数可以做的更高,但是, 对提高分辨率没有贡献,仅仅是让人眼观察更舒服而已。 对提高分辨率没有贡献,仅仅是让人眼观察更舒服而已。 所以光学显微镜的放大倍数一般最高在1000 1500之间 1000之间。 所以光学显微镜的放大倍数一般最高在1000-1500之间。
材料分析测试技术材料X射线衍射和电子显微分析课件
实际案例分析
材料A的X射线衍射和电子显微分析
通过结合应用,确定了材料A的晶体结构和微观结构特征,为其性能研究提供了 有力支持。
材料B的缺陷分析
利用X射线衍射和电子显微分析,成功检测到材料B中的晶体缺陷和微观结构变化 ,为优化制备工艺提供了指导。
材料X射线衍射和电
04
子显微分析的发展
趋势与未来展望
材料分析测试技术材料 X射线衍射和电子显微 分析课件
contents
目录
• 材料X射线衍射分析 • 电子显微分析技术 • 材料X射线衍射与电子显微分析的比较与
结合 • 材料X射线衍射和电子显微分析的发展趋
势与未来展望
材料X射线衍射分析
01
X射线衍射基本原理
X射线是一种电磁波,具有波粒二象性,能够穿透物质并在物质内部发生散射。当X射线照 射到晶体时,晶体中的原子或分子的周期性排列结构会对其产生散射,形成特定的衍射图样 。
结合应用的优势
01
02
03
互补性
X射线衍射和电子显微分 析在材料分析中各有优劣 ,结合使用可以相互补充 ,获得更全面的材料信息 。
多维度分析
结合应用可以同时获得材 料的晶体结构和微观形貌 信息,有助于深入理解材 料的性能和行为。
提高分析效率
两种方法的结合可以缩短 样品制备时间和分析周期 ,提高工作效率。
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本部分的主要目的:介绍透射电镜分析、扫描电镜分析、表面成分分析及相关技术的基本原理,了解透射电镜样品制备和分析的基本操作和步骤,掌握扫描电镜在材料研究中的应用技术。在介绍基本原理的基础上,侧重分析技术的应用!讲课18学时,实验:4学时,考试2学时。
主要要求:1)掌握透射电镜分析、扫描电镜分析和表面分析技术及其在材料研究领域的应用;2)了解电子与物质的交互作用以及电磁透镜分辨率的影响因素;3)了解透射电镜的基本结构和原理,掌握电子衍射分析及衍射普标定、薄膜样品的制备及其透射电子显微分析;4)了解扫描电镜的基本结构及其工作原理,掌握原子序数衬度、表面形貌衬度及其在材料领域的应用;了解波谱仪、能谱仪的结构及工作原理,初步掌握电子探针分析技术;5)对表面成分分析技术有初步了解;6)了解电子显微技术的新进展及实验方法的选择;参考书:1)常铁军,祁欣主编。《材料近代分析测试方法》哈尔滨工业大学出版社;2)周玉,武高辉编著。
《材料分析测试技术——材料某射线与电子显微分析》哈尔滨工业大学出版社。1998版3)黄孝瑛编著。
《透射电子显微学》上海科学技术出版社。1987版4)进藤大辅,及川哲夫合著.《材料评价的分析电子显微方法》冶金工业出版社。2001年版5)叶恒强编著。
《材料界面结构与特性》科学出版社,1999版1.1引言眼睛是人类认识客观世界的第一架“光学仪器”。但它的能力是有限的,如果两个细小物体间的距离小于0.1mm时,眼睛就无法把它们分开。
《材料分析测试技术》课件
随着新材料和新能源的快速发展 ,测试技术不断更新换代,向更 高精度和更广应用领域发展。
02
材料物理性能测试技术
Chapter
光学性能测试技术
总结词
了解和掌握光学性能测试技术对于研究材 料的性能和应用具有重要意义。
光电效应测试技术
利用光电效应原理,测量材料的光电导率 、光生电流和光生电压等参数,以评估材 料的光电性能。
电学性能测试技术
电容率测试技术
电阻率测试技术
测量材料电阻率的方法,以评估 材料的导电性能。
通过测量材料的电容率,了解材 料的介电性能和电介质常数。
击穿场强测试技术
研究材料在强电场下的击穿行为 ,以评估材料的绝缘性能和耐压 强度。
总结词
电学性能测试技术是研究材料电 学性质的重要手段,对于材料的 应用和器件性能评估具有重要意 义。
和准确性。
THANKS
感谢观看
《材料分析测试技术》ppt课件
目录
• 材料分析测试技术概述 • 材料物理性能测试技术 • 材料化学性能测试技术 • 材料力学性能测试技术 • 材料无损检测技术 • 材料分析测试技术的应用与展望
01
材料分析测试技术概述
Chapter
定义与目的
定义
材料分析测试技术是指通过一系列实验手段对材料 进行物理、化学、机械等性能检测,以获取材料组 成、结构、性能等方面的信息。
材料分析测试技术PPT课件
■X射线探测器:WDS中使用的探测器和 XRD中使用的一样。
5
WWDDSS和EDSS的的比比较较
11
2.8 扫描隧道显微镜(简介)
• 扫描隧道显微镜简称STM,是新型的表面分析仪 器,是1982年,由G.Binnig和H.Rhrer等人发明 的,该发明于1986年获诺贝尔奖。
• STM的原理:STM以原子尺度的极细探针及样品 作为电极,当针尖与样品非常接近时(约1nm), 就产生隧道电流。通过记录扫描过程中,针尖位 移的变化,可得到样品表面三维显微形貌图。
定点定性分析 定点定量分析
线扫描分析 面扫描分析
7
*定性分析:利用WDS将样品发出的X射线展成 谱,记下其波长,根据波长表确定样品中所含元 素。
*定量分析:既记录样品发射的X射线的波长, 还记录其强度,将强度与标样对比确定元素的 含量。
*定点分析:对样品表面选定微区作定点全谱扫 描,进行定性或定量分析。
化反应的过程和相变的过程,以促进深入认识化学反
应的原理和物理相互作用的本质。还可在观察分析表
面结构的同时,对表面进行刻蚀、诱导沉积或搬动原
材料分析测试技术课程教案.doc
《材料分析测试技术》课程教案
根据大纲要求《材料分析测试技术》课程学时64,分配如下:
1、课时学时分配
讲课52学时
绪论2
第一章X射线的性质4
第二章X射线衍射6
第三章多晶体分析方法4
第四章X射线衍射应用6
第五章透射电子显微镜4
第六章电子衍射6
第七章晶体薄膜衍射成像分析6
第八章扫描电子显微镜与电子探针6
第九章光谱分析简介4
第十章其它显微分析方法简介4
2.实验学时:12学时
1.德拜相机与德拜相,立方晶系粉末相指标化。2学时
2.衍射仪结构与实验2
3.物相分析2
4.透射电子显微镜结构与工作原理2
5.选区电子衍射及明、暗场成像2
6.扫描电子显微镜及电子探针2
第一次课教学内容:
绪论(50分钟)
介绍材料分析测试技术在材料科学研究中的作用和应用,介绍材料分析测试方法的发展历史,让同学在了解了开设本门课程的意义后,激发同学们对材料分析方法的喜爱,对这们科学的向往。
第一章X射线的性质
X射线在电磁波谱中的波段,(5分钟)X射线的本质;(10分钟)
X射线产生条件及X射线管;(35分钟)
简要介绍X射线诞生和发展历史。讲解电磁波谱及X射线的波长范围。介绍X
射线的性质和本质。详细讲解X射线产生条件及X射线管的构造。本节重点是X射线
产生条件及X射线管部分的内容,难点是从物理本质上认识X射线的产生机制。
第二次课教学内容:
X射线谱,连续谱(20分钟),特征谱产生机理(30分钟);
X射线与物质的相互作用(5分钟),相干散射(5分钟),非相干散射(10分钟), X
射线的吸收(15分钟),吸收系数(5分钟),吸收限(10分钟),
《材料分析》课件
电子显微镜法
总结词
利用电子显微镜对材料进行分析的方法。
详细描述
电子显微镜法是一种高分辨率的成像技术,可以观察材料的 微观结构和表面形貌。通过电子显微镜,可以观察到材料的 晶格结构、颗粒大小和分布情况等,从而了解材料的性质和 组成。
核磁共振法
总结词
利用核自旋磁矩对材料进行分析的方法 。
VS
详细描述
核磁共振法是一种非破坏性的分析方法, 可以用于测定分子结构和化学键信息。通 过测量原子核在磁场中的共振频率和弛豫 时间,可以推断出材料的组成和结构信息 。核磁共振法在化学、生物学和医学等领 域有广泛的应用。
03
CATALOGUE
材料性能分析
力学性能分析
总结词
描述材料在力作用下的行为和表现。
详细描述
析有助于提高飞行器和航天器的性能和安全性。
02
CATALOGUE
材料分析方法
化学分析法
总结词
通过化学反应对材料进行定性和定量分析的方法。
详细描述
化学分析法是利用化学反应来测定材料中组分的含量。它通常包括滴定分析、重 量分析和气体分析等方法。这些方法可以确定材料中各种元素的含量,以及化合 物或离子的存在与否。Baidu Nhomakorabea
物理分析法
总结词
利用物理性质对材料进行分析的方法 。
详细描述
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QN0
(9-3)
式中Байду номын сангаас
N——单位体积样品包含的原子数,
N N0 A
(——密度;A——原子量; N 0——阿伏加德罗常数)
0 ——原子散射截面。
所以
Q N0 A0
8
如果如射到1cm 2 样品表面积的电子数为n当其穿透dt厚度样品后有
dn个电子被散射到光阑- d外n, Q即d其t 减小率为dn/n,因此(有9-4) n
6
二、透射电子显微镜小孔径角成像
• 为了确保透射电子显微镜
的高分辨本领,采用小孔 径角成像。它是通过在物 镜背焦平面上沿径向插入 一个小孔径的物镜光阑来 实现的,如图9-2所示。结 果,把散射角大于α的电 子挡掉,只允许散射角小 于。的电子通过物镜光阑 参与成像。
7
三、质厚衬度成像原理
衬度是指在荧光屏或照相底片上,眼睛能观察到的光强度或感 光度的差别。电子显微 镜图像的衬度取决于投射到荧光屏或照相底
真空蒸发形成的碳膜和通过浇铸蒸发而成的塑料膜都是非晶体薄膜,它们的厚度又 都小于100nm。在电子束照射下也具备一定的稳定性,因此符合制造复型的条件。
目前,主要采用的复型方法是:一级复型法、二级复型法和萃取复型法三种。由于 近年来扫描电子显微镜分析技术和金属薄膜技术发展很快,复型技术部分地为上述两 分析方法所替代。但是,用复型观察断口比扫描电镜的断口清晰以及复型金相组织和 光学金相组织之间的相似,致使复型电镜分析技术至今仍然为人们所采用。
片上不同区域的电子强度差别。对于非晶体样品来说,入射电子透 过样品时碰到的原子数目越多(或样品越厚),样品原子核库仑电场 越强(或样品原子序数越大或密度越大),被散射到物镜光阑外的电 子就越多,而通过物镜光阑参与成像的电子强度也就越低。下面讨 论非晶体样品的厚度、密度与成像电子强度的关系。如果忽略原子 之间的相互作用,则每立方厘米包含N个原子的样品的总散射面积 为
e Ur e
或
e re U
r e ——入射电子对核外电子的瞄准距离;
e——电子电荷。 所有瞄准以核外电子为中心,re为半径的圆内的入射电子,也 将被散射到比α角大的方向上去。所以也可用π 来衡量一个孤立的 核外电子把入射电子散射到比α角大的方向上去的能力,习惯上叫
做核外电子非弹性散射截面,用 来e 表示,即 .e re2
当Qt=1时
t
1 Q
tC
(9-7)
t c 叫临界厚度,即电子在样品中受到单次散射的平均自由程。因此,可
以认为,t≤ t c 的样品对电子束是透明的,相应的成象电子强度为
9
I I0 I0 e3
(9-8)
还由于
QtN00 t
A
(9-9)
若定义ρt为质量厚度,那么参与成象的电子束强度I随样品质量厚度ρt 增大衰减。
当Qt=1时
tc
A
N00
tc
(9-10)
我们把 tc叫临界质量厚度。随加速电压的增加,临界质量厚度 tc增大
• 当一个电子穿透非晶体薄样品时,将与样品发生
相互作用,或与原子核相互作用,或与核外电子 相互作用,由于电子的质量比原子核小得多,所 以原子核对入射电子的散射作用,一般只引起电 子改变运动方向,而能量没有变化(或变化甚微), 这种散射叫做弹性散射。散射电子运动方向与原 来人射方向之间的夹角叫做散射角,用α来表示, 如图9-1所示。散射角α的大小取决于瞄准距离 , 原子核r n 电荷Ze和入射电子加速电压U,其关系如下
5
§9-1 概 述
由于电子束的穿透能力比较低,用透射电子显微镜分析的样品非常薄,根据样品的 原子序数大小不同,一般在5—500nm之间。要制成这样薄的样品必须通过一些特殊 的方法,复型法就是其中之一。所谓复型,就是样品表面形貌的复制,其原理与侦破 案件时用石膏复制罪犯鞋底花纹相似。复型法实际上是一种间接(或部分间接)的分析 方法,因为通过复型制备出来的样品是真实样品表面形貌组织结构细节的薄膜复制品。
3
zn Ur n
或
rn
ze U
可见所有瞄准以原子核为中 心, 为半径的圆内的人射电子
将被散射到大于α 的角度以外的方
向上去。所以可用 来rn2 衡量一个
孤立的原子核把人射电子散射到 比α角度大的方向上去的能力,习
惯表上示叫,做即弹σn=性散射截面,rn2用σn来
4
但是,当一个电子与一个孤立的核外电子发生散射作用时,由于 两者质量相等,散射过程不仅使入射电子改变运动方向,还发生 能量变化,这种散射叫做非弹性散射。散射角可由下式来定
若入射电子总数为n 0(t=0),由于受到t厚度的样品散射作用,最后
只有n个电子通过物镜光阑参与成象。将式(9-4)积分得到
n n0eQt
(9-5)
由于电子束强度I=ne(e为电子电荷),因此上式可写为
I I0eQt
(9-6)
上式说明强度为 的入射电子穿透总散射截面为Q,厚度为t的样品后,
通过物镜光阑参与成象的电子强度I随Qt乘积增大而呈指数衰减。
第九章 复型技术
§9-1 概 述 §9-2 质厚衬度原理 §9-3 一级复型和二级复型 §9-4 萃取复型与粉末样品
1
§9-2 质厚衬度原理
•
质厚衬度是建立在非晶体样品中原子对入射电子的
散射和透射电子显微镜小孔径角成像基础上的成像原理,
是解释非晶态样品(如复型)电子显微图像衬度的理论依据。
2
一、单个原子对入射电子的散射
一个原子序数为Z的原子有Z个核外电子。因此,一个孤立原
子把电子散射到。以外的散射截面,用 0 来表示,等于原子核弹
性即散0射截面nnZ和所e 。有核原外子电序子数非越单大性,散产射生截弹面性Z散射e 之的和比,例就越大。
弹性散射是透射电子显微成像的基础;而非弹性散射引起的色差将
使背景强度增高,图像衬度降低。