真空知识——精选推荐

真空知识与镀膜基础
第一：为什么不在大气中进行镀膜
1：空气中的活性分子与薄膜蒸发材料,蒸发用的加热器发生反应形成化合物。

2：空气分子进入薄膜形成杂质。

3：气体分子妨碍蒸发物质的原子，分子直线前进，而从不少蒸气分子不能到基底。

4：蒸发物质在真空中达到饱和蒸气压所需的温度低于空气中要求的温度。

第二：真空镀膜基础
1：真空定义
实际中没有绝对真空,低于标准大气压叫真空。

真空分类：低真空10+2 中真空10+2——10-1高真空10-1——10-5 超高真空10-5以下2：压力
1标准大气压=760毫米汞柱
压力产生原因：分子不规则运动气体分子撞击物体表面而产生。

分子运动与温度，物体体积有关系。

压力：垂直作用在物体表面上的力叫做压力。

压力是物体间相互挤压发生形变而产生的一种力，所以本质上是弹力。

第三：气体分子的运动
1：布朗运动分子不规则运动, 花粉试验。

2：气体分子运动速度约450m/秒。

3：气体分子直径2——5×10-8cm
4:分子与气体内璧撞击次数 3.8×102每秒每平方厘米
5:气体分子流量
流量=压力差×容积/时间
Q=PV/T MPC质量流量 APC压力流量
第四：膜的基本性质
1：电传导性2：电阻温度系3：薄膜的密度4：薄膜的时效变化
物理结合过程：
物质分(原子和分子) 原子分(原子核-
和电子
+
)存在静电力
是产生分子的原因分子中存在斥力与引力,没有斥力就是平衡力。

当分子间距离小于平衡力形成斥力。

当分子间距离大于平衡力形成引力。

化学结合过程：
破坏共价电，离子电，金属电。

从而达到饱和状态从而吸附。

吸附机率：时间温度影响吸附。

膜的生成：大膜吸附小膜不断增加不断结合，从而产生膜事整体。

薄膜应力：内应力分（沉积应力和附加应力）
热应力产生：药材分子碰撞击基板时而产生热应力。

因为两者之间硼涨系数不同。

膜裂：由干膜的应力作用形成。

第五：普通镀膜
真空度对镀膜的影响
普通分热镀和冷镀，热镀350℃（真空度低会深，真空度高会浅）冷镀为25℃。

辅助镀膜有(IAD和RF辅助)IAD就像铁锤一样把刚镀好的膜敲打一边。

RF就是消耗伞上的正负电子。

第六：真空泵
1：RP泵油回转泵（机械泵）
工作范围105
---10
2
Pa
2:BMP泵增压泵也叫罗茨泵
机械泵与增压泵的油主要功能是润滑。

BMP
作用是：增加压力，当转精抽时显作用。

如下图3：DP泵也叫（精抽泵或扩散泵）
工作范围10-1
---10
-5
Pa
DP泵里装有硅油,硅油粘着力特别大,
来排气。

加热硅油为250℃可排气。

如下反图
RP泵和BMP泵DP泵工作范围互相参了一些，这样会安全。

PCLconCLOd作用除霜,降低空气分子为固体再排出。

算CLOD温度T=145-275
=-128℃
第七：真空计
1：盖斯勒管如下图
工作范围105
---10
Pa
2:皮拉尼真空计如下图
工作范围104
---10
-1
Pa
真空
红色
电离气体紫色
3:PenIng 通电电离气体,造成民压差再用电压检验测真空。

如下图
工作范围101
---10-3
Pa
工作原理电离空气，空气带走能量来感应真空度。

4：电离真空计
工作范围10
-2
---10
-8
太敏感烧坏了，经常换不划算。

第八 镀膜
镀膜就是在真空状态用电子枪将固态药材溶成气态蒸发到基板上面，膜是以原
柱状形成排列在基板表面。

固态转化成气态过程。

镀膜方式分（蒸发和溅射）
膜怎样吸附（物理吸附和化学吸附）
物理吸附：物质的特性不同分子静电力存在结合活波电子或核外电子。

化学吸附：固体和气体药材的原子团，离子团共价健两者热时变化，破坏基板共价健结合。

膜的应力分为(热应力和沉积应力,附加应力)
沉积应力:膜一层一层结合到基板,基板的温度绘降低,膜就会沉积。

附加应力：膜吸附空气中的水份或油污等影响膜成长而膜就漂移,这个过程就附加应力。

热应力：机台加热过高。

脱膜：点状或条状和膜强度不是一回事。

怎样提高膜强度：清洁基板、严格要求基板、选择正确的基板加热温度、蒸气压要求、
镀IR膜背面打基膜。

薄膜的种类:抗反射膜(也叫增透减反膜)
截止膜有，红外截止膜（也叫IR膜）、紫外线截止膜(也叫UV膜)、隔热膜、
滤光片、分光片、偏正膜、还有光信光纤、光通信方面薄膜。

称为高层膜（DWDM或MWDA）。

第九镀膜日常问题
1：斑孔出现和对策
MGF2中含有MGO这种材质溶点差不多，但是MGO到溶点时会爆溅，这样会使高速离子打在基板上造成斑孔。

所以镀MGF2时不加氧，否则成了氧化镁。

机台镀膜室要清洁，不然有二次电子束会把杂质打到基板表面形式斑孔。

连续式机台为什么,EB2药点长条状。

为了节约成本，理想状是圆心状没有伞差分光稳定。

镀膜的顶界是没有调程和程式
维护人员照样能镀出分光标准品质稳定的薄膜。

2：为什么刚换药或洗机台后紫色膜易过色?
原因一:真空度高,蒸发物折射率变大,膜厚变薄。

真空度低，蒸发物折射率变小，膜厚变厚。

薄膜厚度决定了分光其中有公式ND=M（λ/4）
原因二：加热伞套桶是整伞最高点,真空度低时分子自由程小,条件不稳定毛片镀50％
MGF2时, 伞的中圈下圈也许镀了80％MGF2毛片反光信号以为镀100％镀完工时,实际
伞上镀了120％MGF2所以就过色。

3:监控波长与成膜关系
长波监控比较厚的膜层,STOP值较大。

短波监控比较浅，STOP值较小。

担心捌PeaK时光量跳。

据分析监控波长长时PeaK值短，波长短时PeaK值长。

反推长波区药材折射率变小,
短波区药材折射变大。

膜层之间是成比例监控。

监控波长是为了辅助成膜更准确些, 监控波长对成膜影响不明显。

4：膜厚定律和气体分子运动公式
ND=M（λ/4） N：是沉积膜料折射率或是膜层折射率
D：沉积薄膜物理厚度
ND：沉积薄膜光学厚度
λ：监控薄膜层入射光波的波长
M：薄膜系数
（PV）/T=C
P：压强 V：体积 T：温度 C：常数
5：一般程式结构、
6:镜片面别的区分
镜片分三种:一凸一凹、双凸、双凹。

一凸一凹，水平拿凹面向上, 凸面向下取参照物。

放大时下面为D面，
反之缩小时为S面，简称大D小S。

当放大时按双凸判，当缩小时按双凹判。

双凸：上面反应上面，下面反应下面。

双凸：上面反应下面的面，
下面反应上面的面。

7：真空度对分光曲线的影响
图А
图B
由图A 和图B 可知当真空度低时薄膜曲线两边翘,当真空度高时薄膜曲线中间翘, 如果继续抽真空,中间不停高。

由此可知真空度高时药材折射率大，薄膜膜层变浅。

真空度低时药材折射率小，薄膜膜层变深。

8：药点对分光的影响和ERR 值
A ：关于MGF2药点之分析，当光斑打到药槽中心时，整体会镀浅。

当光斑打偏时 离中心点偏左或右时，整体会镀深，原因药点角度变，膜料分布不平均。

B ：当光斑打到MGF2药槽中间时，整伞镜片会变浅,原因药面中间下降,蒸发源距离 基板距离远和角度变窄。

膜料少了，所以浅色。

C ：当光斑打偏左或右时，蒸发源角度原本180°变为150°，在伞回转的影响下， 部分会镀深。

Y
X
380nm
780nm
R=0.5％
X
380nm
780nm
R=0.5％
Y
D ：ERR 是薄膜设计值与实际成膜之间的差值 公式是
9:镀七层绿色膜和补色 常用药材折射率
MGF 2=1.38 SIO 2=1.40 AL 2O 3=1.62 ZRO=1.98 OH-5=2.06 H4=2.04
监控之分析:
A 高折射率106、2和4层分析当真空度高时，第4层PEAK 值会高，第2层
会少镀，第4层也会少镀，第2层和第4层成反比。

膜系中106光学厚度会变浅。

B 当真空度低时，第4层PEAK 值会低，第2层会多镀第4层也会多镀。

膜系中106光学厚度会变深。

补色：
A 有记录曲线时，按记录曲线算厚度，用TFC 摸拟OPM 值，摸拟成功。

把摸拟厚 度代入原程式中，原始厚度－已镀厚度﹦需要补色厚度，重新算STOP 值。

B 无记录曲线时，摸拟补色分光曲线，不停改TF
C 中光学厚度得出相似分光曲线， 将摸拟厚度代入程式中计算OPM 值，重新算STOP 值。

10:分光检测原理
A 检测原理,分光系统和检测系统。

取参考光与测试光比较。

双光路：参考光与测量光比例成50％:50％。

单光路：只有参考光被测物光线与参考光同路。

基板表面粗造成度和干净度影响RT 值。

基板BK7、折射率为1.52、反射为4.2％。

屈折射率：未镀基板折射率。

B 测量不准确原因分析：归零块脏、镜片脏、薄镜片背面干扰、非同心圆、 未完全聚焦，测错面。

第十 电子枪和离子枪
A ： 电子枪接电子柜控制
A －
B 偏转
C －
D X 轴方向
E －
F Y 轴方向
A －
B （102枪等于15Ω ，203枪等于无限欧） B －
C 等于无限欧
C －
D 等于0.5到15Ω D －
E 等于无限欧 E －
F 等于0.5到15Ω FA 等于无限欧
－
1
×100％=ERR
102电子枪和203电子枪如下图
电子枪结构：PS 电源供给指示灯、V 真空度指示灯、W 冷却水指示灯、AUX 辅助指示灯。

ACC 加速电压警报指示灯、FIL 灯丝电流警报、EMSN 发射电流警报。

DEF 偏转电流警报。

电子柜： DOOR 门、FUSE （P ）保险共7个、FUSE （M ）保险共6个，
FUSE （V ）真空。

扫描线圈控制药点形状，偏转线圈控制药点移动，磁转控制冷却水。

日本三家光学镀膜机：光驰（OPTORUN ）离子源IAD ，新科隆（SHINCRON ）电子枪JEOL ， 昭和真空（SHOWA ）FR 辅助。

昭和SGS －3095A Ⅲ－8电子枪参数如下：
OH －5电子枪条件
OH －5光斑
1 4 5
X Y X Y X Y 50 10 13 10 10 8
AL 2O 3电子枪条件
ZRO 2 电子枪条件
20 15 10 5 0 -5 -10 -15 -20 -15 -10 -5 0 5 10 15
18 13．5 9 4．5 0 -4.5 -9 -13.5 -18 -13.5 -9 -4.5 0 4.5 9 13.5
B 离子枪维护
正常工作参数：光驰1300机台
900 900 12
400 反射功率
1356
536 0 75 0
加氩气 10 氧气功 50 中和器氩气加8
加氧气理由（1是氧化金属药材，2氧气离子化发射氧离子轰击）
枪体结构：三栅板 DAS 绝缘与三块导体 D 是1闭目作用分布均匀，发射方向角度。

A 是2ACC 负电子400 mA （标准）电子吸3层正电子。

S 是正电子900 mA 电位。

RF 等于Radio Fregueuce 射频国际标准是13.56HZ
RF 线圈都必须干净否则接地导走。

抱括(中和器电源和中间介质为陶瓷) 中和器作用有两点(中和电子使离子枪带正电,点火作用给离子源提供电子)
照射900 mA 发出有500mA 氧气离子显正电。

碰撞网板电流须30mA 以下标准是12mA 否则把网板打变形了。

中和器辅助离子枪工作，电流是枪的½中和器点火时发紫光。

能成功点火参数必须接近以下
目前采购三个厂商电台: 光驰 、新科隆、昭和机。

成膜不过四种：RH 电极成膜、RF 离子体成膜、IAD 离子源成膜，EB 电子枪成膜。

总能
高速
回转
低速
真空WV
SLV LV MV MV
RV SRV DP DP
FV
FV
MTR
第十一：增压泵的作用
当粗抽转精抽时机械泵压力不够时，这时增压泵就开始出力了。

第十二：TPM
意思是全员生产维护起源日本
全员参与的,在生产过程中进行的机械设备维护保养活动。

可动率：能稼动的时间除以总时间。

稼动率：可创造价值的时间除以总时间实际稼动时间。

面别区分
1和2是研磨面、3是面取面、4是外径面、5是倒角面。

第十三：膜厚测控
紫光折射率小，红光折射率大。

光学设计软件有：TFC Mecload Autofilm
影响镀膜品质: 基板材质、机台真空度、机台温度、基板射率、
基板清洁度、膜系材料搭配。

基板特点：耐酸性、耐磨性、耐耗性、耐腐蚀性。

离子源功能：清洁基板、减小漂移。

RF 功能：清洁基板、减小漂移。

膜厚测量之电学测量：电阻法
葡斯通电桥平衡电阻感应，R 1R 2＝R 3R 4靠感应差来测膜厚。

4
2
膜厚测量之石英晶体测量：
靠测量药材镀在石英晶体表面的厚度来改变石英晶体震荡频率变化来测量。

、 Gai 设定参数反馈速率变化
膜厚测量之光学测量极值法: 极值就是在整体中最大的数据
N 1=1.38是MGF 2 N 2=1.46是SIO 2 N 3=2.01是OH-5 N 4=2.03是OS-50 N 0是空气 N 0=1.0 N 1药材 N S 是基板 N 12
= N 0×N 1
所以成膜时必须用高低折射率混合镀互相补充参插,最终
镀出于设计曲线接近的良品厚度。

其中计算等效折射率为根本。

380nm
780nm
=2.1 N =1.46
10A/S 0
第十四：镀膜日常故障与膜系分类
1：镀膜记录单
2：正常关蒸着机
切总冷却水———自动变手动————等40分钟后切制御电源———漏电遮断器OFF
3：机械泵加油
停止———手动关掉MV DP MTR———打开机械泵外盖加油———装好盖板——————手动起动MTR FV DP MV打开后运转。

4：正常关1100机台先关MV———等40分钟后关DP泵———关FV———关MTR 5：1100机台DP泵冷却水报警原因是MV 和FV阀门没关———一闪一闪按一下就OK了6：343机台CH一1不排气排气灯不亮———CH一1时间设制为零从新归到原数据
7：关于ST AT值正负解释
当药材折射率大于1.52时向上走,当药材折射率小于1.52时向下走。

塑胶基板折射率为1.49
8：RH一3电极未放OS一50加电流走直线电流在看不见，电流小才看清是没药了。

9：离子枪分加速电流、加速电压、中和电流是加速电流的两倍。

10：冷起动机台
手动打开MTR———再开FV阀门和DP 1
DP2画面有个DP OK一闪一闪———等40分
钟以上DP泵里油加热到位———最后排气运转
11：手动镀铝
先镀SIO第一层镀完中止———选600波长(确认)手动打开电极加电流430±10AM同时打开遮药板———打开记录笔———镀到没有铝看不清就OK,关记录笔关遮药板———2一半就中止。

镀SIO
12：1100一2机台一伞镜片镀到第二层电流太大,减没有来得及就快速镀完。

我以为没事，继续镀，结果曲线前端翘起。

以后要遇见停止补色,镀膜时要控制好速率。

13：膜系分类
第十五：光学薄膜应用领域及性能
1：提高光学效率,减少杂光,高反射膜。

2：光束的调整或分配，分束、分色、偏振、分光膜就是根据不同需要进行能量配至。

3：实现某些特定功能，光学薄膜无论在提高或降低,反射率、吸收率、透射率、使光束分开或合并,分色方面使偏振或检振以及在某光普带通过或阻碍方面在调整相位方面起着至关重要作用。

4：整个薄膜光学的物理依据就是光的干涉
在1930年出现了油扩散泵，机械泵抽气系统以后，制造实用的真空镀膜机才成为现实。

光学薄膜可分成两大部分，第一部分是光学薄膜，第二部分光学波导及其相应器件。

前
者特点是光横穿过薄膜而进行传播，后者的特点是光沿着平行薄膜界面的方向在膜内伟播。

光学薄膜与真空表面物理，材料特性等离子体技术等密切相关。

它主要研究光在分层媒质中的传播规律性。

在分层介质，来自不同界面的反射光，透射光在光的入射及反射方向产生光的干涉现象，通过改变材料及其厚度等特性来控制光的干涉。

5：分光不良时OPM Data和修正
分光特性曲线平滑但图形左右偏移时,偏左表示膜层厚度偏薄,修正方法:毛片、药材、及Filter 不变增加中心波长如（600——610）重新计算OPM值既可。

中心波长增加的量视偏移大小而定。

偏右时，膜层厚度太厚，移动修正方式同理减少中心波长（600——590）重新
计算OPM光量值。

分光特性曲线已经不平滑，有扭曲的现象时，表示毛片或药材的折射率已经有大的变化。

(1)以空白毛片测反射率,由反射率的大小求出Filter的波长的折射率。

(2)以此毛片试镀各药材，以平均的Peak值由软件求出各峰值的相对折射率。

(3)修正原的折射率，将①、②求出的毛片及药材折射率代入软件中求出新OPM值。

(4)用新的OPM值试镀，如果成则正确。

(5)如果曲线漂移，则左右增减即可。

如果ZRO、MGF2、TIO2、SIO2等膜材镀λ/4时Peak值长度会比折射率高的毛片
长,所镀膜层通常会比较薄分光特性左移。

毛片的厚度差不到1mm影响不大因毛片在400nm以上,吸收光线的影响很小,可呼
略不计。

6：泵的性能
昭和机：扩散泵R——7#增压泵R——4#
新科隆：扩散泵200#增压泵L400#
机械泵油性能：油的功能很重要，有润滑及保持气体密封的功能，依可提高压缩率。

扩散泵油性能：热稳定性高、挥发性物质少、冷却饱和蒸气压低、工作时饱和蒸气
压高，普通用油为硅油蒸发点250℃。

①泵璧有冷却水，使撞璧油分子成液流底部。

②泵吸入口有冷却板或液氟闸阻止油分子入真空室。

③泵油易氧化，因长时间放置时，使内部保持良好真空。

7：介绍薄膜
传统的真空镀膜技术以电子枪，电阻丝加热为主的PVD制程（物理气泡积法）此时氧
化物膜有一定比例的空隙，膜晶体结构为柱状，此时该膜易受环境潮湿影响的原因，也
叫时效变化。

膜成长时，杂质空隙越少，品质越好。

杂质空气使膜附着力减弱，折射率
变化，柱状结构使光的散射提高。

注意：真空度、基板温度、基板清洁、蒸发速率、氧压、蒸发源清洁、应力。

改善：真
空室清洁、机台加热、基板清洗清洁、洗净与镀前、镀膜时短、合理药材搭配、稳定氧压、RF 、IAD辅助(可以提高折射率,增强膜强度,及附着力。

)
基板温度一般250℃到300℃。

膜厚监控
目视、光学监控(反射、透射式)不有物理晶体振荡法。

①光学：膜成长，毛片反射率不断变化反光强度也变化，使光电箱产生的光电流随之变
化，此变化由记录笔摸拟记录下来，可决定膜厚。

②晶体监控振动：振动频率随质的变化而改变，质量大（膜厚大），振动频率小由此控制。

8：薄膜材料分类
表面改质膜材料，改变表面硬度。

机能膜材料：能量转化方面如SI、Ge、Ga、n、Zn、SnO2、Ca光电转换热电子反射Cao 光热转换TiO2固体电解质Na2O 热电转换PbT e 超传导Nacl DD一Sn
金属膜材料：
硬质膜TIC 电光电子：MnBi 润滑膜：AU 生物化学：TI BAL 4V
光学膜：能量机能NiTO. Fe40Ni40 BA Bb
耐膜材料：mo2si Tic Zrc TiB2 有机塑料材料：POA TPA ALQ3
半导体膜材料：Si Ge CrAs
9: 薄膜性能
(1)高充填密度
利用真空镀膜法镀的光学薄膜会呈现柱状结构,空隙部分在大气中会吸收水气结果导致在大气中膜的光学厚度比真空中厚,分光特性也随之向长波漂移10nm左右。

在与光通信相关的薄膜中对波长漂移量的要求非常苛刻，要求在0.1nm以下。

(2)薄膜的吸收与散射
TIO2作为高折射材料用于普通镀膜法，但为了得到高充填密使用了普通离子，等离子体技术，却发现这样容易产生微结晶化，导散光的散射。

如果没有良好的镀膜条件，如气压、镀膜速率、离子能量、离子密度，得到的薄膜也容易由于缺氧而产生吸收。

(3)薄膜的应力
因为真空镀膜（EB）方法镀制的SIO2呈现的是收缩应力（内应力），TIO2和T a2O5等高折射材料是伸张应力(外应力)所以即使是对于多层膜构成的滤光片,应力变形也是一个严重的问题。

10：光学薄膜设计应考以下几点
(1)设计基础如:特性矩阵变化换电路,等价膜理论吸收理论。

(2)膜材料的特性：蒸发材料的特性及成品膜的机械应力，机械强度和耐化学药品性。

(3)成膜技术：成膜法、蒸发源、真空计、膜厚监控等控制仪器,折射率及膜厚控制技术,膜
厚分布和重复性。

(4)光学参数测定：真空中及大气中的光学参数的获得。

(5)电子枪：电子枪用于光学镀膜用途时,电子束照射面上的电力强度分布(电流)和电子束形
状是(药点、形状)非常重要,特别是对于蒸发时只在表面上熔融并蒸发的物质,熔融面形状对蒸发分布有影响,因为这会影响到整个基片架上的膜厚分布,所以需要能够均匀熔融蒸发面的电子枪。

真空镀膜法中使用的电子枪，利用磁铁使电子束偏转180°或者是270°，加热蒸发面多层成膜的电子枪的电子束电流在100mA——1000 mA加速电压在4000V——10000V，电子束操作范围约为±15 mA，蒸发速度为0.1——7nm/see。

第十六：洗净与研磨简介
1：关于洗净流程简介
未镀品：甩干洗剂——洗剂——洗剂——市水（强碱）——洗剂——洗剂——市水——市水——纯水——纯水——纯水——甩干——轰干（吹风）70℃
单面完品：轰干洗剂——洗剂——市水——洗剂——市水——纯水——IPA——IPA——IPA——轰干——吹氮气风
未镀有油镜片：环保液——环保液——洗剂——洗剂——市水（强碱）——洗剂——市水——纯水——纯水——IPA——IPA——IPA——轰干——吹风
备注：轰干机乙丙醇加热110℃轰20秒
甩干机两分钟吹热风70℃
最佳洗净方式是试出来的。

2：加工SLA——12E-1列成形加工流程
加工序号：素线批号、FRP批号、树脂批号、工程名称、目标尺寸、测量尺寸、作业开始结束、一次成型、作业者、机器、加工回数、二次成型、作业者、良品数不良数。

硬化——二枚粘合——切断（Z=4.80±0.05 P=5/LOT）——切断检查——接着——粗研（Z=4.295±0.05 P=1/LOT）——精研（Z=4.235±0.01 P=1/LOT）——耳切
（WT=225/227±1.0 P=1/LOT）——热处理、侧面洗净、端面洗净、外观检查、光学检查、包装检查——束扎——QA抽查（测量值20±10nm 10 8 6 4 2 0 -2 -4 -6 -8 -10）——作业回数——加工批号——素线批号——砂掛尺寸——ZO——作业者——一次加工时间——一次测量尺寸（研磨量基准50um—60um 60 59 58 57 56 55 54 53 52 51 50）——研磨速度——第二次加工时间——二次测量尺寸——作业时间。

备注：研磨与砂掛、砂掛光粉每个20um、研磨光粉每个1um 、机台每次上班清洗修皿、换海棉，加研磨粉。

机台随着研磨而速度变低,就要修皿,刚修好的皿研磨速可达1.3um/分钟,七八批过后研磨速度降到1.0 um/分钟,正常每分钟1.1—1.2um。

十七：现代南光机基本操作
1：排气
加药、确认水晶值、伞回转打到（150Ｖ确认回转）
操作伞回转打到50Ｖ，关门排气、按取件、按烘烤ⅠⅡ。

找程式：Start——Abort——Reset——Start——选程式——Start——Abort——Reset
记录膜厚：Graph(返回)——Program（切入）——记录——Graph
2：溶药
确认束流和灯丝预置是否归零，打开电子枪扫描——变手动——枪灯丝——高压——调XY位移
3：镀膜
伞回转打到150Ｖ高折射率药材要打开压控仪电源。

确认程式、温度、真空度、档板Ⅰ、
打开电子枪扫描——变自动——枪灯丝——高压——将光斑位移调到甘锅中心。

4：镀完
关闭高压——打手动——枪灯丝——电子枪扫描——压控仪——伞回转降至50Ｖ——切断烘烤ⅠⅡ——等到温度降到300度进气
5：光驰机调速率
XP XS 是纵向 XP 是调里外
YP YS 是横向 YP 是调右左
6：分光规格
机种 4903G6 折射率 1.834 420——500 R〈0.5% 520——720 R〈0.8%
程式:TS1-78
机种 3307G6折射率 1.923 400——700 R〈1.0% 反射峰值510±2
程式:NW180-88
机种 0811G8折射率 1.497 400 R〈1.2% 420——660nm R〈0.7% 700nm R〈1.2% 程式:TS1-48
7:生产调配
对应赶急机种，刚上班确认报表，明确机种，确定数量。

开始加快生产流程，如：入库数量，现场数量（未镀或者正镀数量）崔洗净、崔镀前、崔镀膜、崔芯取检。

上班时间过半，确认赶急机种出库数量，估计那个机种可能达成，那些赶急机种没法达成，将可能达成的尽力完成。

下班前一小时，统计达成率，确认入库数。

确认现场赶急机种数量，分析未达成机种原因，如何改善，写出统计表。

十八: 韩一机操作顺序
1：首先查看晶振片值、选程式，抄膜厚。

看晶振片按F2，晶振片初始值不能小于530。

选程式 F6返回——F2查程式——F4确定程式——Stop停止
抄膜厚 F6——F2查程式——F4确认程式——Stop——按F5（查看膜厚）——F6返回
2：再溶药，手动溶药。

电子枪手动——移动药槽——加电流——调光斑大小——OK——电子枪电流减到零
MGF2电流 50MA 注意用1档 AL2O3 电流 280MA——290MA用档
H4 电流 280MA——290MA 用2档
膜料速率： H4 1、2、槽设定4 A/S
AL2O3 、6槽设定 3.5 A/S
MGF2 、4槽设定 6 A/S
3:最后镀膜当真空度达到2.5*10-3 以下电子枪打成自动,
甘锅AUTO自动，Coating自动Start。

其它事项：
溶药可减少斑孔，减小伞差，稳定速率。

光斑与成膜速率
当速率比设定值低时，光斑应调小。

当速率比设定值高时，光斑应调大。

溶MGF2时，光斑调到甘锅中心，用合适光斑溶药。

4：韩一机更新晶振片控制感应片
A：却水
B：圈4个镙丝，中间5个镙丝取掉。

C：水管（铜管）2个气管（气阀）2个电阻管（接控制柜）全部取掉。

D：旧感应片，装新感应片，用镊子将新片三脚翘起。

E：圈，加密缝纸，装镙丝。

F；冷却水。

5：韩一机改晶振片
F6返回 F1进入 F5确认
路径：F6——F1进入——T选对应的药材号——单击F5（注意）——F1双击进入——修改水晶号（换位水晶号） C 清除 E 确认
6：外观知识
伤痕：反射光透过光，通过光或反射光检查，呈点状或条状不良。

斑孔：透过光，通过反光检查呈点状且发亮不良。

砂目：透过光细小的点状且分布密集。

压克：透过光，反射光与镜片颜色本身有差异的部分。

脱膜：反射光镀膜区域内白色发亮的不良现象。

裂边：透过光反射光镜片边缘破。

膜欠：反射光镀膜区域未镀到的范围。

材料不良：透过光，反射光镜片里面的不良。

十九：保养扩散泵
需要：关总电源、关总水阀、工具、毛巾、酒精或IPA，叉车。

1：冷却水管共8根，连接F V有两根气管分上下气管。

2：标记好8根水管位置，要对应。

3：DP泵加热有三根三相电连电动机。

4：需要拆水管，加热电线和冷却颈盘。

5：将叉车打起将泵体与颈盘连接24根累杆拆掉。

6：将真空室傍颈盘左边备用进气口打开进气。

7：在拆颈盘与泵体之间之前要标记好对应位置，否责装时位置难移。

8：用叉车将泵体拖出，用IPA或酒精擦干精。

9：按倒着拆顺序装好。

10：南光机镀膜时高压打不开，（原因是真空室下面门感应器开关掉了，感应门未关，所以打不开，将开关修好就OK了。

）
11：南光机甘锅错位，（先把药盘手动移位，给下面感应器留位，便于手动在下面调感应器。

将感应器调到对应位置就OK了。

）
二十：现代南光日常故障
１：今早，南光机排气后，加热灯没有亮，原因真空计未打开．
2：今晨，光驰机台清洗真空度不显示。

原因潘宁真空计感应片脏，无法测真空，进气拆潘宁。

细砂纸磨干净，注意：不可用毛巾擦，有毛会影响测量真空。

3：南光机抽气特别慢，原因找不到，开始用丙酮注射所有与外界连接缝处，用泡沫测试所有抽气管道，都找不到。

真空室门密缝圈接口不可放到顶部，因为加热丝在上面容易受热。