电镀铜工艺
电镀铜工艺
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当阳极电流密度0.4-1.5A/dm2时阳极含磷量与黑膜生成量成线性关系当含P0.035%-0.0.75%时阳极铜的利用率最高泥渣生成量最少当P含量太低0.005%以下虽有黑膜生成但是太薄不足以保护铜阳极当P含量太高时黑 膜太厚阳极溶解不好阳极 泥渣多镀液中铜浓度下降添加剂消耗增加
A
B
C
D
E
F
电镀铜溶液的控制
赫尔槽试验Hull Cell Test参数 — 电流: 1-2A — 时间: 5分钟或者10分钟 — 搅拌: 空气搅拌 — 温度: 室温
电镀铜工艺的功能
电镀铜工艺 在化学沉铜层上通过电解方法沉积金属铜以提供足够的导电性/厚度及防止导电电路出现发热和机械缺陷.
电镀铜工艺的功能
电镀铜层的作用 作为孔的化学沉铜层的加厚层通过全板镀铜达到厚度5-8微米称为加厚铜. 作为图形电镀锡或镍的底层其厚度可达20-25微米称为图形镀铜.
延展性 当镀层厚度为50μm而镀层延展性减少18-20%时需要采用活性炭处理以除去杂质有机分解物 抗张强度 通常 30~35kg/mm2
电镀铜溶液的控制
五水硫酸铜浓度60-90g/L 硫酸浓度 180-220 g/L 氯离子浓度40-80ml/L 槽液温度20-30℃ 用CVS分析添加剂GT-100浓度 镀层的物理特性延展性/抗张强度
对镀铜液的基本要求
电镀铜的原理
电镀液组成H2O+CuSO4.5H2O+H2SO4+Cl-+添加剂
+
-
离子交换
直流 整流器
ne-
ne-
电镀上铜层 阴极 受镀物件 镀槽
阳极
Cu Cu2+ + 2e-
电镀铜(锡)工艺
![电镀铜(锡)工艺](https://img.taocdn.com/s3/m/c66ce7315727a5e9856a612a.png)
– 槽液温度
– 用CVS分析添加剂浓度 – 镀层的物理特性(延展性/抗张强度)
上述项目须定期分析,并维持在最佳范围内生产
电镀铜溶液的控制
赫尔槽试验 (Hull Cell Test)
阴极-
阳极+
赫尔槽结构示意图
A
B
1升容积 AB 119mm
267ml容积 47.6mm 101.7mm
D
C
BC 127mm
对铜镀层的基本要求
(1)鍍層均勻、細致、平整、無麻點、無針孔,有良好外 觀的光亮或半光亮鍍層。 (2)鍍層厚度均勻,板面鍍層厚度與孔壁鍍層厚度之比接 近1:1。 (3)鍍層與銅基體結合牢固,在鍍後和後續工序的加工過程 中,不會出現起泡、起皮等現象。 (4)鍍層導電性好 (5)鍍層柔軟性好,延伸率不低于10%,抗張強度20-50Kg/mm2, 以保證在後工序波峰焊和熱風整平時,不至于固環氧樹脂 基材上銅鍍層的膨脹系數不同導致鍍銅層産生縱向斷裂 (環氧樹脂膨脹系數12.810-5 /℃ ,銅的膨脹系數0.68 10-5 /℃)
標准電極電位
。 Cu2+ / Cu 。 Cu+ / Cu = +0.34V 。 Cu2+ / Cu + = +0.15V = +0.51V
陽極:
Cu -2e Cu2+
Cu - e Cu+ 2Cu+ + 1/2O2 + 2H+ 2Cu2+ + H2O
副反應
2Cu+ + 2 H2O 2CuOH + 2H+
黑色(或棕黑色)薄膜為Cu3P又稱磷銅陽极膜
镀铜工艺流程
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镀铜工艺流程镀铜工艺流程是将一层铜涂在其他金属或非金属材料的表面,以增加其外观质感和耐腐蚀性。
镀铜工艺流程通常包括以下步骤:表面处理、电解液配制、电镀、清洗、干燥和涂覆保护层。
首先,进行表面处理。
这一步是为了去除材料表面的氧化层、油脂和其他杂质,以便铜能够更好地附着在表面上。
表面处理方法有机械方法和化学方法两种。
机械方法包括打磨、抛光和刷洗,化学方法包括酸洗和溶液浸泡。
接下来,进行电解液配制。
电解液是完成电镀过程中必不可少的一部分。
根据不同的镀铜要求和材料类型,电解液的配制也会有所不同。
常用的电解液成分包括硫酸铜、硫酸、柠檬酸、硫代硫酸钠和其他添加剂。
配制好的电解液需要经过一定时间的搅拌和静置,以确保溶液中的各种化学成分均匀分布并达到最佳状态。
然后,进行电镀。
电镀是整个镀铜工艺流程的关键步骤。
将材料浸入预配好的电解液中,作为阴极,与阳极连接,并通过外加电流进行电镀。
在电流的作用下,电解液中的铜离子会还原成固体铜,沉积在材料表面上。
电镀时间、电流密度和温度是影响镀铜层形貌和质量的重要参数。
完成电镀后,进行清洗。
清洗是为了去除残留的电解液和其他沉积物,以免对镀铜层产生不良影响。
常用的清洗方法包括水冲洗、酸洗和碱洗。
清洗过程需要注意保持洗涤液的纯净度和稳定性,以免造成二次污染或杂质残留。
接着,进行干燥。
干燥是为了除去清洗过程中的水分,防止水分对镀铜层的质量和稳定性产生不利影响。
常用的干燥方法有自然干燥、热风干燥和吹风机干燥。
在干燥过程中,需要注意温度和湿度的控制,以免过高或过低对材料产生不利影响。
最后,进行涂覆保护层。
在完成镀铜之后,可以涂覆一层保护剂,以增加镀铜层的抗氧化性和耐腐蚀性。
常用的保护剂有清漆、氟碳漆和烤漆等。
涂覆保护层需要进行适当的干燥和固化,以确保其与镀铜层的结合力和附着性。
综上所述,镀铜工艺流程包括表面处理、电解液配制、电镀、清洗、干燥和涂覆保护层等多个步骤。
每一步都需要仔细控制各项参数,并采取相应的方法和工艺措施,以确保镀铜层的质量和稳定性。
电镀铜工艺流程及原理
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电镀铜工艺-专业介绍
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硫酸鹽酸性鍍銅的機理
電極反應
標准電極電位
陰極: Cu2+ +2e Cu 副反應 Cu2+ + e Cu+
Cu+ + e Cu 陽極: Cu -2e Cu2+
。 Cu2+ / Cu = +0.34V 。 Cu2+ / Cu + = +0.15V 。 Cu+ / Cu = +0.51V
Cu - e Cu+
以保證在後工序波峰焊和熱風整平時,不至于固環氧樹脂 基材上銅鍍層的膨脹系數不同導致鍍銅層産生縱向斷裂 (環氧樹脂膨脹系數12.810-5 /℃ ,銅的膨脹系數0.68 10-5 /℃)
对镀铜液的基本要求
(1)有良好的分散能力和深鍍能力,即使在很低的電流 密度下,也能得到均勻細致的鍍層,以保證在印制 板的板厚孔徑比較大時,仍能達Ts:Th接近1:1。
– 在化学沉铜层上通过电解方法沉积金属铜,以提供足够的导电
性/厚度及防止导电电路出现发热和机械缺陷.
电镀铜工艺的功能
电镀铜层的作用
– 作为孔的化学沉铜层的加厚层,通过全板镀铜达到厚度5-8微米, 称为加厚铜.
– 作为图形电镀锡或镍的底层,其厚度可达20-25微米,称为图形镀 铜.
对铜镀层的基本要求
(2)電流密度範圍寬,如在赫爾槽2A下,全板鍍層均勻 一致。
(3)鍍液穩定,便于維護,對雜質的容忍性高,對溫度 的容忍性高。
(4)鍍液對覆銅箔板無傷害
电镀铜的原理
直流
整流器
ne-
ne-
+
-
阳极
电镀上铜层
离子交换
阴极 (受镀物件)
Cu Cu2+ + 2e- Cu2+ + 2e- Cu
电镀黄铜生产工艺
![电镀黄铜生产工艺](https://img.taocdn.com/s3/m/7f873b9181eb6294dd88d0d233d4b14e85243e86.png)
电镀黄铜生产工艺电镀黄铜是一种常见的表面处理技术,其主要目的是提高黄铜制品的耐腐蚀性能和美观度。
电镀黄铜的生产工艺主要包括前处理、电镀、后处理等步骤。
首先,在进行电镀黄铜之前,需要对黄铜制品进行前处理。
前处理主要包括除油、除锈等步骤。
首先,将黄铜制品浸泡在碱性溶液中,通过搅拌或超声波清洗除去表面的油污。
然后,使用酸性溶液去除黄铜制品表面的氧化层和锈蚀。
此外,还可以采用机械方法,如喷砂、抛光等,去除黄铜制品表面的污垢和不平整。
接下来,进行电镀黄铜的工艺步骤。
电镀黄铜通常采用直流电镀方法。
首先,将黄铜制品作为阴极,放置在含有黄铜离子的电解液中。
然后,将阳极(通常为黄铜板)放置在电解槽中,与黄铜制品相连接。
通过施加电流,将黄铜阳极上的金属溶解成黄铜离子,并在黄铜制品的表面上还原沉积。
在电镀黄铜的过程中,需要控制电镀时间和电流密度等因素,以获得理想的镀层厚度和质量。
一般来说,电镀时间越长,镀层的厚度越大。
而电流密度越高,镀层的质量越好。
在电镀过程中,还需要定期检查电解液的成分和pH值,以保持良好的电镀效果。
最后,进行电镀黄铜的后处理。
后处理主要包括洗净、抛光、封闭等步骤。
洗净是将电镀完成的黄铜制品浸泡在水中,去除表面残留的电解液和杂质。
抛光是使用抛光机或手工磨光,使黄铜制品表面光亮。
封闭是通过使用密封剂,使黄铜制品表面形成一层保护膜,增加其耐腐蚀性能和寿命。
总之,电镀黄铜的生产工艺包括前处理、电镀、后处理等步骤。
通过合理控制各个步骤的参数,可以获得具有良好表面处理效果和耐腐蚀性能的电镀黄铜制品。
电镀铜工艺-专业介绍
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电镀铜阳极表面积估算方法
圆形钛篮铜阳极表面积估算方法
— dlf /2
=3.14 d=钛篮直径 l=钛篮长度 f=系数
方形钛篮铜阳极表面积估算方法
— 1.33lwf
l=钛篮长度 w=钛篮宽度 f=系数
f与铜球直径有关:
直径=12mm f=2.2
对铜镀层的基本要求
对镀铜液的基本要求
鍍液穩定,便于維護,對雜質的容忍性高,對溫度
一致。
04
電流密度範圍寬,如在赫爾槽2A下,全板鍍層均勻
板的板厚孔徑比較大時,仍能達Ts:Th接近1:1。
03
单击此处添加正文,文字是您思想的提炼,为了演示发布的良好效果,请言简意赅地阐述您的观点。
密度下,也能得到均勻細致的鍍層,以保證在印制
為何不用電解銅或無氧銅作陽极???
銅粉多,陽极泥多。 鍍層易產生毛刺和粗糙。 銅离子濃度逐漸升高,難以控制。 添加劑消耗量大。 陽极利用率低。
磷銅陽极的特色
通電后磷銅表面形成一層黑色(或棕黑)的薄膜 黑色(或棕黑色)薄膜為Cu3P又稱磷銅陽极膜 磷銅陽极膜的作用 — 陽极膜本身對(Cu+--e→Cu2+)反應有催化、加速作用,從而 減少Cu+的積累。 — 陽极膜形成后能抑制Cu+的繼續產生 — 陽极膜的電導率為1.5X104 -1 cm-1具有金屬導電性 — 磷銅較純銅陽极化小(1A/dm2 P0.04-0.065%磷銅的陽极化 比無氧銅低50mv-80mv)不會導致陽极钝化。 — 陽极膜會使微小晶粒從陽級脫落的現象大大減少 — 陽极膜在一定程度上阻止了銅陽极的過快溶解
02
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PCB线路板的电镀铜工艺
![PCB线路板的电镀铜工艺](https://img.taocdn.com/s3/m/cdc91e1bcc7931b765ce15bf.png)
PCB线路板的电镀铜工艺一.电镀工艺的分类:酸性光亮铜电镀电镀镍/金电镀锡二.工艺流程:浸酸→全板电镀铜→图形转移→酸性除油→二级逆流漂洗→微蚀→二级→浸酸→镀锡→二级逆流漂洗逆流漂洗→浸酸→图形电镀铜→二级逆流漂洗→镀镍→二级水洗→浸柠檬酸→镀金→回收→2-3级纯水洗→烘干三.流程说明:(一)浸酸①作用与目的:除去板面氧化物,活化板面,一般浓度在5%,有的保持在10%左右,主要是防止水分带入造成槽液硫酸含量不稳定;②酸浸时间不宜太长,防止板面氧化;在使用一段时间后,酸液出现浑浊或铜含量太高时应及时更换,防止污染电镀铜缸和板件表面;③此处应使用C.P级硫酸;(二)全板电镀铜:又叫一次铜,板电,Panel-plating①作用与目的:保护刚刚沉积的薄薄的化学铜,防止化学铜氧化后被酸浸蚀掉,通过电镀将其加后到一定程度②全板电镀铜相关工艺参数:槽液主要成分有硫酸铜和硫酸,采用高酸低铜配方,保证电镀时板面厚度分布的均匀性和对深孔小孔的深镀能力;硫酸含量多在180克/升,多者达到240克/升;硫酸铜含量一般在75克/升左右,另槽液中添加有微量的氯离子,作为辅助光泽剂和铜光剂共同发挥光泽效果;铜光剂的添加量或开缸量一般在3-5ml/L,铜光剂的添加一般按照千安小时的方法来补充或者根据实际生产板效果;全板电镀的电流计算一般按2安/平方分米乘以板上可电镀面积,对全板电来说,以即板长dm×板宽dm×2×2A/DM2;铜缸温度维持在室温状态,一般温度不超过32度,多控制在22度,因此在夏季因温度太高,铜缸建议加装冷却温控系统;③工艺维护:每日根据千安小时来及时补充铜光剂,按100-150ml/KAH补充添加;检查过滤泵是否工作正常,有无漏气现象;每隔2-3小时应用干净的湿抹布将阴极导电杆擦洗干净;每周要定期分析铜缸硫酸铜(1次/周),硫酸(1次/周),氯离子(2次/周)含量,并通过霍尔槽试验来调整光剂含量,并及时补充相关原料;每周要清洗阳极导电杆,槽体两端电接头,及时补充钛篮中的阳极铜球,用低电流0。
PCB电镀铜原理简介电镀工艺
![PCB电镀铜原理简介电镀工艺](https://img.taocdn.com/s3/m/5adf7041b8f67c1cfad6b8db.png)
b. 提高Throwing power 的方法很多,包括: (1) 降低ηcts 和ηcth 之差值(△ηct):其方法包括: -改善搅拌效果 -降低IR 值,包括提高酸度及加入导电盐 -强迫孔内对流(降低IR) -添加改变Charge transfer 能力之添加剂包括载体光泽剂等 (2) 修正极化曲线:如之前所提藉降低极化曲线的斜率降低△J
槽液中各成分作用机制
1.提供反应所必须之金属离子,即供给槽液铜离子的主源. 2.配槽时要用化学级之含水硫酸铜结晶溶解使用,平常作业中则由阳极磷铜块解
离补充之,为一盐桥并增加槽液的极限电流密度,配液后要做活性炭处理及假镀 (dummy).
1.增加溶液的导电性及阳极的溶解,镀液在不镀时要关掉吹气(air),以防铜量上升 酸量下降及光泽剂之过度消耗.
双面板以上完成钻孔后即进行镀通孔(Plated Through Hole, PTH) 步骤,其目的使孔壁上之非导体部份之树脂及玻纤束进行金属化 (metalization ),以进行后来之电镀铜制程,完成足够导电及焊接之金属 孔壁。
2
电镀流程
一次铜:
酸洗 → 电镀 → 水洗 → 水洗
二次铜:
清洁剂 → 水洗 → 水洗 → 微蚀 → 水洗 → 水洗 → 酸洗→ 电镀 → 水洗 → 水洗 → 镀锡铅 → 水洗
c. 修正极化曲极化曲线的方法: 降低金属离子浓度: 基本上过电压就是赋予带电离子反应所需能量,以驱使反应进行。因此离子愈少则要 维持定量离子在定时间内反应之难度愈高,因此必须给予较大能量。其结困即使得 J-η曲线愈平,可得几项推论: -CuSO4 浓度愈低,Throwing power 愈好 -上述结果也可推论到二次铜电镀线路不均的板子,其Distribution 也将改善 -必须强调的是随CuSO4 降低,相同电路密度下所消耗的能量更大
镀铜工艺流程,化学镀铜工艺与电镀铜工艺的区别
![镀铜工艺流程,化学镀铜工艺与电镀铜工艺的区别](https://img.taocdn.com/s3/m/e715f1df7d1cfad6195f312b3169a4517623e576.png)
镀铜工艺流程|化学镀铜工艺与电镀铜工艺的区别镀铜工艺流程镀铜工艺种类不止一种,也不是三言两语就能说清楚的,镀铜工艺特点包括了优点和缺点。
我们先来说下什么是镀铜工艺?镀铜工艺通常分为化学镀铜工艺和电镀铜工艺。
化学镀铜工艺是在有钯等催化活性物质的表面,通过甲醛等还原剂的作用,使铜离子还原析出。
化学镀铜工艺是相对于电镀铜工艺的优势主要有基体范围广泛,镀层厚度均匀,工艺设备简单,镀层性能良好等一系列优势。
电镀铜工艺,PCB制造业中,电镀铜已经应用许多年了,印制板电镀铜溶液属酸性溶液,具有高酸低铜特点,有极好的分散能力和深镀能力镀后的铜层有光泽性。
通俗的说,镀铜工艺其实是一种表面处理技术,在金属表面上镀上一薄层其它金属或合金起保护、美观的作用。
只要你需要保护的,认为有价值的,都可以给它镀上。
镀铜工艺种类1、化学镀铜工艺:是电路板制造中的一种工艺,通常也叫沉铜或孔化(PTH)是一种自身催化性氧化还原反应。
2、电镀铜工艺:用于铸模,镀镍,镀铬,镀银和镀金的打底,修复磨损部分,防止局部渗碳和提高导电性。
电镀铜工艺分为碱性镀铜和酸性镀铜二法。
电镀铜工艺也可以分为以下几个(1)氰化镀铜工艺:氰化物镀铜是应用最早和最广泛的镀铜工艺方法。
镀液主要由铜氰络合物和一定量的游离氰化物组成,呈强碱性。
(2)硫酸盐镀铜工艺:氰化物镀铜,硫酸盐镀铜工艺早期应用于塑料电镀、电铸、精饰等方面,包括装饰层和功能镀层。
在电子工业中较早的应用是印刷电路、印刷板、电子接触元件。
(3)焦磷酸盐镀铜工艺。
(4)无氰镀铜工艺:无氰镀铜工艺完全取代传统氰化镀铜工艺和光亮镀铜工艺,适用于任何金属基材:纯铜、铜合金、铁、不锈钢、锌合金压铸件、铝、铝合金工件等基材上,挂镀或滚镀均可。
镀铜工艺流程1、化学镀铜工艺步骤:膨胀→去钻污→中和→除油→微蚀→预浸→活化→加速→化学镀铜。
2、电镀铜工艺步骤:(1)氰化镀铜工艺步骤:1、浸酸→全板电镀铜→图形转移→酸性除油→二级逆流漂洗→微蚀→二级→浸酸→镀锡→二级逆流漂洗。
电镀工艺学电镀铜合金
![电镀工艺学电镀铜合金](https://img.taocdn.com/s3/m/73234b4b6d85ec3a87c24028915f804d2b168708.png)
电镀铜合金的未来应用前景和挑战
应用前景
随着科技的不断发展,电镀铜合金在新能源、新材料等领域的应用逐渐增多,如太阳能光伏板、燃料 电池等。其优良的导电、导热性能和加工特性将为新兴产业的发展提供有力支持。
挑战
随着环保意识的增强,电镀工艺的环境友好性成为关注焦点。电镀铜合金的环保生产技术和资源循环 利用是未来发展的关键。同时,新型铜合金材料的研发和应用也将为电镀铜合金的发展带来新的机遇 和挑战。
02 电镀铜合金的基本原理
电镀的基本原理
电镀是一种利用电解原理在导电 材料表面沉积一层金属或合金的
过程。
在电镀过程中,通过施加电流, 使阳极金属溶解并进入电解液, 然后通过电化学反应在阴极上沉
积形成金属层。
电镀的沉积速率、镀层质量和附 着力等性能受到电流密度、电解 液成分和温度等多种因素的影响
。
应急预案
制定电镀铜合金的突发环境事件应急 预案,确保在发生事故时能够及时处 置。
电镀铜合金的环保处理技术和设备
废水处理
采用沉淀、过滤、吸附、生物处理等方法去除电 镀废水中的重金属离子和有害物质。
废气处理
采用活性炭吸附、催化燃烧等方法处理电镀废气 中的有害气体。
固废处理
对电镀产生的固废进行分类处理,可回收利用的 进行回收,不可回收的进行无害化处理。
电镀铜合金的耐腐蚀性能
防腐蚀原理
电镀铜合金通过在基材表面形成一层致密的铜合金镀层,隔绝基材与外界环境的 接触,从而有效防止腐蚀。
பைடு நூலகம்耐腐蚀性能影响因素
镀层厚度、成分、结构以及表面处理等因素都会影响电镀铜合金的耐腐蚀性能。
影响电镀铜合金性能的因素
镀层厚度
镀层厚度直接影响电镀铜合金的 物理性能和耐腐蚀性能,过薄或
电镀铜(锡)工艺
![电镀铜(锡)工艺](https://img.taocdn.com/s3/m/c66ce7315727a5e9856a612a.png)
酸性鍍銅液各成分及特性簡介
酸性鍍銅液成分
— 硫酸銅(CuSO4.5H2O) — 硫酸 (H2SO4)
— 氯離子(Cl-) — 添加劑
酸性鍍銅液各成分功能
— CuSO4.5H2O :主要作用是提供電鍍所需Cu2+及提高導電能力 — H2SO4 — Cl— 添加劑 :主要作用是提高鍍液導電性能,提高通孔電鍍的均勻性。 :主要作用是幫助陽極溶解,協助改善銅的析出,結晶。 :主要作用是改善均鍍和深鍍性能,改善鍍層結晶細密性。
操作條件對酸性鍍銅效果的影響
溫度
— 溫度升高,電極反應速度加快,允許電流密度提高,鍍層沉 積速度加快,但加速添加劑分解會增加添加劑消耗,鍍層結 晶粗糙,亮度降低。 — 溫度降低,允許電流密度降低。高電流區容易燒焦。防止鍍 液升溫過高方法:鍍液負荷不大于0.2A/L,選擇導電性能優 良的挂具,減少電能損耗。配合冷水機,控制鍍液溫度。
,从而获得镀层间的良好结合力.
电镀铜工艺的功能
电镀铜工艺
– 在化学沉铜层上通过电解方法沉积金属铜,以提供足够的导电
性/厚度及防止导电电路出现热和机械缺陷.
电镀铜工艺的功能
电镀铜层的作用
– 作为孔的化学沉铜层的加厚层,通过全板镀铜达到厚度5-8微米,
称为加厚铜.
– 作为图形电镀锡或镍的底层,其厚度可达20-25微米,称为图形镀 铜.
影響陽极溶解的因素
陽极面積(即陽极電流密度控制在0.5ASD-1.5ASD之間) 陽极袋 (聚丙烯) 陽极及陽极袋的清洗方法和頻率
添加剂对电镀铜工艺的影响
载体 吸附到所有受镀表面, 增加 表面 阻抗,从而改变分布不 良情况. 抑制沉积速率
铜打底电镀锡工艺流程
![铜打底电镀锡工艺流程](https://img.taocdn.com/s3/m/de651c49b42acfc789eb172ded630b1c59ee9bbd.png)
铜打底电镀锡工艺流程一、概述铜打底电镀锡是一种常用的电镀工艺,用于保护铜表面、增加导电性和耐腐蚀性。
本文将介绍铜打底电镀锡的工艺流程。
二、准备工作1. 清洗:将待电镀的铜制品放入去离子水中清洗,去除表面的油污和杂质。
2. 预处理:将铜制品浸泡在酸性溶液中,去除铜表面的氧化物和铜锈。
三、打底工艺1. 除脂:将铜制品浸泡在碱性溶液中,去除表面的油脂和有机物。
2. 洗净:将铜制品用去离子水冲洗干净,确保表面无杂质。
3. 阳极活化:将铜制品放入硫酸铜溶液中,通过电流激活阳极表面,增加活化中心。
4. 电镀底铜:将铜制品放入铜盐溶液中,作为阴极,通过电流使铜离子还原成金属铜,形成一层均匀的铜膜。
四、电镀锡工艺1. 清洗:将打底后的铜制品放入去离子水中清洗,去除表面的污垢。
2. 预处理:将铜制品浸泡在酸性溶液中,去除铜表面的氧化物和铜锈。
3. 洗净:将铜制品用去离子水冲洗干净,确保表面无杂质。
4. 阳极活化:将铜制品放入硫酸铜溶液中,通过电流激活阳极表面,增加活化中心。
5. 电镀锡:将铜制品放入锡盐溶液中,作为阴极,通过电流使锡离子还原成金属锡,形成一层均匀的锡膜。
五、后处理工艺1. 清洗:将电镀后的铜制品放入去离子水中清洗,去除表面的污垢。
2. 干燥:将铜制品放置在通风处晾干,确保表面无水分残留。
3. 检验:对电镀后的铜制品进行质量检验,检查镀层的厚度、附着力和均匀性。
4. 包装:将合格的铜制品进行包装,以保护镀层免受外界损害。
六、注意事项1. 工艺参数的控制:包括电流密度、溶液温度、pH值等,需要严格控制,以保证电镀质量。
2. 设备维护:定期清洗和维护电镀设备,确保设备正常运行。
3. 安全操作:在进行电镀工艺时,需戴上防护手套和眼镜,避免接触到有害溶液和电流。
通过以上工艺流程,铜打底电镀锡能够有效地保护铜制品的表面,提高其导电性和耐腐蚀性。
这一工艺在电子、通信、汽车等行业得到广泛应用,为产品提供了良好的表面保护和性能提升。
铜电镀工艺
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铜电镀工艺
1铜电镀工艺
铜电镀工艺是一种广泛应用于工业制造和五金产品加工上的一种称之为电镀的工艺。
其工艺针对不锈钢,铝,铁,铜等金属材料加工,采用电解的方式将溶液中的金属离子,沉积在物件表面上形成一层薄膜而完成。
1.1基本工艺
铜电镀工艺的基本操作:首先将待电镀物件表面清洗干净;然后放入配备有纯铜阳极和碱性阴极的电解池中;当电极和物件作用电力后得到所需要的纯铜腐蚀;之后在物件表面形成一层厚度可控的薄膜;最后拿出进行抛光去除锈斑,完成清洗、电解和抛光的整个过程。
1.2工艺优点
铜电镀工艺有着众多的优点,首先工艺的成本低,易于实施;其次,用铜电镀技术处理的物品抗锈和耐腐蚀等物理性能得到大大的提高,以确保其使用寿命;再次,金属电镀表面光洁度较高,有着一定的反射率;最后,铜电镀作为一种装饰保养工艺,表面色泽很漂亮,使得物品有着更加的视觉冲击力。
由此可见,铜电镀工艺是一种适用于不锈钢,铝,铁,铜等金属材料加工的广泛应用的工艺,其物理性能优良,成本低以及优美的装饰让该工艺在行业中颇受欢迎。
铜镀金电镀工艺
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铜镀金电镀工艺铜镀金电镀工艺是一种将铜表面镀上一层金属的技术。
这种工艺可以提高铜制品的表面光泽和耐腐蚀性,同时也可以增加其装饰性和附加值。
下面将详细介绍铜镀金电镀工艺的原理、流程和应用。
一、原理铜镀金电镀工艺是将金属沉积在铜的表面上,以形成一层金属膜。
这种沉积过程是通过电化学反应实现的。
在电解液中,铜离子会在阳极上氧化成铜离子,而金离子则会在阴极上还原成金属。
这种电化学反应可以形成一层金属膜,覆盖在铜的表面上。
二、流程铜镀金电镀的流程包括以下几个步骤:1.清洗:将铜制品浸入清洗液中,去除表面的污垢和氧化物。
2.酸洗:将铜制品浸入酸性溶液中,去除表面的氧化物和铜锈。
3.活化:将铜制品浸入活化剂中,使其表面变成亲水性,以便金属膜的附着。
4.电镀:将铜制品浸入电化学池中,在阳极上将铜离子氧化成铜离子,在阴极上将金离子还原成金属,形成一层金属膜。
5.清洗:将电镀完毕的铜制品浸入清洗液中,去除表面残留的电镀液和活化剂。
6.烘干:将铜制品在高温下烘干,使其表面干燥。
三、应用铜镀金电镀工艺广泛应用于装饰和工业领域。
在装饰领域,铜镀金可以用于制作高档家具、灯饰、钟表、餐具等。
它可以提高产品的质感和美观度,增加其附加值。
在工业领域,铜镀金可以用于制作电子元件、航空部件、汽车零件等。
它不仅可以提高产品的耐腐蚀性和导电性能,还可以增加其外观质量。
铜镀金电镀工艺是一种重要的表面处理技术,它可以为铜制品增加光泽、耐腐蚀性和装饰性,提高其附加值和市场竞争力。
随着时代的发展,铜镀金电镀工艺也在不断创新和进步,为各个领域的产品提供更多的可能性和选择。
铜电镀工艺(3篇)
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第1篇一、引言电镀作为一种表面处理技术,广泛应用于金属材料的表面处理领域。
铜电镀工艺作为电镀技术的重要组成部分,具有广泛的应用前景。
本文将详细介绍铜电镀工艺的基本原理、工艺流程、影响因素及应用领域。
二、基本原理铜电镀工艺是利用电解原理,在金属工件表面沉积一层铜的过程。
在电镀过程中,阳极(铜棒)溶解,铜离子迁移至阴极(工件)表面,并在工件表面还原沉积,形成均匀、致密的铜层。
电镀原理可用以下公式表示:阳极:Cu → Cu2+ + 2e-阴极:Cu2+ + 2e- → Cu三、工艺流程1. 工件预处理工件预处理是电镀工艺的第一步,主要包括清洗、除油、除锈、活化等步骤。
(1)清洗:去除工件表面的灰尘、油污等杂质,保证电镀质量。
(2)除油:采用有机溶剂或碱性溶液去除工件表面的油脂。
(3)除锈:使用酸液去除工件表面的氧化皮、锈蚀等。
(4)活化:在酸性溶液中,使工件表面形成一层活性膜,有利于铜离子的吸附。
2. 电镀液配制根据工件材料和电镀要求,选择合适的电镀液。
常用的铜电镀液有硫酸铜-硫酸溶液、硫酸铜-硫酸-酒石酸钾钠溶液等。
3. 电镀过程将工件放入电镀槽中,接通电源,调整电流密度、温度、时间等参数,使工件表面沉积一层均匀、致密的铜层。
4. 镀层后处理(1)清洗:去除工件表面的电镀液残留物。
(2)钝化:在酸性溶液中,使镀层表面形成一层钝化膜,提高镀层的耐腐蚀性。
(3)干燥:将工件置于干燥箱中,去除镀层表面的水分。
四、影响因素1. 电流密度:电流密度过高,镀层粗糙、不均匀;电流密度过低,镀层薄,耐腐蚀性差。
2. 温度:温度过高,镀层易产生针孔、气泡;温度过低,镀层沉积速度慢,易产生灰暗色。
3. 搅拌:搅拌速度过快,镀层易产生针孔、气泡;搅拌速度过慢,镀层易产生灰暗色。
4. 电镀液成分:电镀液成分比例不合适,镀层质量差。
五、应用领域1. 电子产品:如电子元器件、接插件、印刷电路板等。
2. 汽车零部件:如汽车发动机、变速箱、制动系统等。
bc电池 铜电镀工艺
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bc电池铜电镀工艺
随着电池生产技术的不断进步,各种新型电池不断涌现。
其中,电池材料对电池性能和安全性有着重要影响。
在此背景下,电镀铜
技术得到了广泛的应用。
一、铜电镀工艺在电池中的应用优势
1. 电池容量和能量密度提高:铜具有较高的电化学活性,能
够有效提高电池的容量和能量密度。
2. 电池寿命延长:铜镀层具
有较好的耐腐蚀性,能够有效延长电池的使用寿命。
3. 降低成本:铜电镀工艺相比其他金属电镀工艺成本较低,有利于降低电池生产
成本。
二、铜电镀工艺流程
铜电镀工艺主要包括以下步骤:
1. 电池壳体的清洗和预处理;
2. 镀液的配制和调试;
3.
电池壳体通电,进行电镀; 4. 镀层处理和检测。
三、铜电镀工艺注意事项
1. 确保电池壳体清洗干净,避免杂质影响镀层质量;
2. 严
格控制镀液成分和温度,确保镀层质量; 3. 定期检测镀层厚度和
均匀性,及时调整工艺参数。
总之,铜电镀工艺在电池生产中具有广泛应用前景,通过合理应用铜电镀工艺,能够有效提高电池性能和安全性,降低生产成本。
随着电池生产技术的不断进步,铜电镀工艺将会得到更加广泛的应用。
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电镀铜工艺A 电镀铜工艺部分1问题:各镀铜层附着力不良原因:(1)除油前清洁处理不当,铜表面的氧化或钝化膜除干净(2)除油槽液中的润湿剂被带出或水洗不足造成底铜钝化(3)板子进入镀槽后电源并未立即打开(4)电流密度过大(5)过硫酸根残余物污染(6)干膜显影后水洗不足解决方法:(1)A)提高除油槽液温度以利去除基板表面油污和指纹B必须经微蚀处理除去铜表面的氧化膜和污染物C检查除油槽和微蚀槽液的活性(2)A检查水洗程序即水量和水压B增加水洗流量并在出槽时采用喷淋水洗,确保孔内清洗效果C提高水洗水温度,喷淋水洗后也可采用多段式溢流水洗(3)重新检查整流器自动程序(4)重新检查电镀程序和被镀基板实测面积,适当降低电流密度(5)如使用过硫酸盐微蚀后,还必须尽5-10%硫酸浸洗,以除去基板表面铜盐类。
(6)A.提高喷淋压力B.检查喷嘴是否被堵塞,并采用适当地喷嘴布置C、增加水洗温度2、问题:经第二次电镀铜的导线出现局部漏镀与阶梯式镀层原因:(1)干膜经性影后图像不洁(2)板面已有指纹及油渍的污染(3)镀液中有机物含量过多(4)修版的油墨对待镀板子的线路部分造成意外污染(5)镀液中的添加剂成分有问题(6)除油槽中润湿剂被带走,并自小孔内逐渐流出而影响镀铜外观(7)干膜表面渗出显影液的残渣(8)显影液受到污染解决方法:(1)A.重新检查显影程序,确保显影后图像清晰B.检查底片电路图形布线密度,凡导线有长、线路又密时应特别小心显影操作程序C.检查显影机显影段喷嘴是否被堵塞(2)A.提高除油槽液的温度B.持取班子要特别注意,绝不能用手触摸板面,只能用手掌顶两侧板边(3)A.使用霍氏槽分析光亮剂B.按照工艺规定进行活性碳过滤处理C.严格控制添加剂的含量(4)检查经修补后的线路部分状态,确保板面无异物(5)通过工艺试验法和分析法确定添加剂质量优劣并进行调整(6)增加水洗浸泡时间并在板子出槽时另采用强力喷淋水清洗(7)A.曝光后须放置30分钟以使反应到达平衡B.使用低温烘烤以加速溶剂的挥发C.显影后加强水洗(8)提高显影的再生速率;保持显影的洁净度3、问题:板子正反两面镀层厚度不均匀原因:(1)板子两面的电镀面积不一致,尤其是一面是接地层面而另一面是线路面时(2)可能是某一边阳极的线路导电不良所致解决方法:(1)A.以正反排版方式将板子两面待镀面积加以调整B、根据量产情况,又可采用两面单独整流器实施控制(2)检查导线连接质量,特别是阳极导电接触部位要定时清理4、问题:镀层太薄原因:(1)电镀过程中,电流或电镀时间不够(2)板子与挂具或挂具与阴极杆的接触导电不良解决方法:(1)根据所镀面积的计算数据,确认板子实际被镀面积已决定总的电流大小和电镀时间(2)检查阴极杆与整流器、板子与挂具等所有连接部位的接点5、问题:全板镀同的厚度分布不均原因:(1)阳极篮与阴极板面相对位置不当(2)阳极接点导电不良(3)镀液中硫酸浓度不足导致溶液导电不良(4)铜金属含量过高(5)搅拌太过强烈(6)循环过滤得搅拌方式不良解决方法:(1)A.采用非破坏性的镀层厚度测量法详细了解板面镀层厚度分布的差异B.根据镀层测量的结果,重新安排阳极的位置(2)A.作业前首先是用伏特计测每一支阳极与阳极杆是否接触良好B.境界所有接点,并确保阳极杆所有接点的电位降都相同(3)检测溶液中的柳酸浓度,根据结果调整达到工艺范围所规定值(4)A.按照工艺要求进行分析与检查铜金属含量B.采用稀释槽液或采用不容性阳极直到铜浓度降到工艺规定值C.在电镀槽停置时期取出同阳极(5)根据生产实际情况,调整搅拌程度(6)根据生产实际,出水口位置应座落在挂板的正下方,以对全板面产生更为均匀的液流6.问题:镀液槽面起泡原因:(1)循环泵内滞留有空气(2)槽液过度搅动过滤涡流(3)润湿剂添加过量解决方法:(1)A.将泵与管加满水以免空气残留B.检查槽内液位和进水口的高度,必要时将液位提高(2)根据实际情况降低搅拌程度并重新设计溢流形式,以避免溶液产生过多气泡(3)根据工艺要求进行添加时,应采取少加勤加,应减少添加量7、问题:通孔铜壁出现破洞(1)化学沉铜层厚度不足或未能将孔壁全部覆盖(2)镀液中有颗粒物悬浮(3)化学沉铜被溶解(4)电镀前浸酸时间过长解决方法:(1)A.按工艺要求调整化学沉铜槽液成分B.增加化学沉铜学积的时间C.若化学沉铜厚度不足,在板子进入加厚铜槽时需采用较低的电流以免电流过大会损坏沉铜层D.电镀铜时孔内气泡存在,所以必采用增加槽液或板子移动率,促使镀液能流过孔内。
(2)A.按工艺要求彻底过滤溶液B.电镀前加强板面的冲洗C.检查电镀前槽液是否有悬浮物(3)A.检测或检查电镀前微蚀或浸酸溶液的浓度B.不可使用相容的酸液,如氟硼酸或含有硝酸或氟酸等酸盐类。
C.板子下端进入镀槽中时电流尚未开启8、问题:镀铜层被烧焦原因:(1)电流密度过高或电镀面积不均匀,导致板面上局部电流密度超过极限电流(2)镀液搅拌不当或阴极移动搅拌不足(lim;A)“极限电流密度”(Jlim;ASF),其关系式如下:(1)Ilim nFADCb n-电子数δ F-法拉第常数(镀出1gm金属所需的电量)A-带镀面积(2)Jlim=nFDCb D-金属离子扩散系数δ Cb-主槽液平均金属离子浓度δ-阴极膜厚厚度30 ASF的情况下,其距离至少应为150毫米(3)在操作电流密度下的铜离子浓度过低(4)硫酸浓度过高(5)槽液温度过低(6)各添加剂含量已失去平衡(7)阳极过长或阳极数量过多(8)槽液搅拌过弱解决方法:(1)A.根据工艺要求适当降低所采用电流量B.按照添加剂系统设定操作电流密度,和板子布置情况及搅拌程度C.在高电流密度区域增加辅助阴极的带孔板,以吸收多余的电流(2)A.采用循环过滤即低压空气进行搅拌B.配合阴极移动(应与板面呈垂直状态)搅拌C.检查阴阳极之间的距离,在电流密度为“极限电流强度(3)根据工艺要求规定进行分析并保持铜离子应有的浓度或降低电流密度(4)按照工艺要求稀释槽液至最佳工作范围(5)根据不同地区,应增加加热或冷却装置(两者都有兼有),以保持最佳的操作温度21-26摄氏度之间(6)A.按照工艺要求添加适用于高电流密度的添加剂,以减少烧焦B.添加适于低电流密度区添加剂,以减少板面被烧焦C.在正式添加大槽前首先进行小型实验进行检测添加剂性能和添加数量(7)A.阳极长度应比板架略短50.8-76.2mmB.装入阳极袋中的阳极必须将缩口绑紧C.从槽液中取出部分阳极,确保阴阳及比例合适D.阴极对阳极的面积比不应该超过1:2(8)应根据溶液特性适当加强搅拌程度9、问题:镀铜层表面长瘤(特别是孔口最易出现铜瘤)(1)槽液中有颗粒物出现(2)阳极未装袋或阳极袋破损(3)槽液被外来固体颗粒污(4)阳极含量过低(5)由于阳极析出污染物所致解决方法:(1)槽液应采取连续过滤,以除去槽液中的颗粒物(2)为确保槽液洁净,阳极必须装袋,并时常检查阳极袋破损情况,到达及时发现及时更换目的(3)A.检查镀铜槽内是否有外物掉落(如板子、工具、挂具等B.检查(用检孔镜)孔壁是否有其他槽液所带入的悬浮物,如整孔剂的胶体粒子吸附等C.定期清洗阳极袋和过滤系统的滤芯(4)确保阳极含量达到0.03-0.08%之间(5)A.阳极袋的开口处必须炒出镀液面B.定期更换阳极袋C.经常性的检查阳极袋是否有破损10、问题:镀铜层出现凹点原因:(1)镀铜槽中空气搅边不足或不均匀(2)槽液被油渍污染(3)过滤不当(4)镀层内特定位置出现微小气泡(5)显影不足导致线路出现锯齿状(6)镀铜前边面清洁不良解决方法:(1)按照工艺要求适当增加空气搅拌的力度并确保分布均匀(2)确定污染源,制定防止措施。
按工艺规定槽液进行活性碳处理机过滤(3)应采用连续不断的过滤以除去任何可能的污染物(4)有可能是泵内存有残留的空气所致,应采取泵和管道灌满水,排除掉残存的空气(5)坚强显影后的冲洗(6)检查镀铜前的除油及微蚀工序的质量状态并加强各段的清洗11、问题:镀铜层厚度分布不均匀原因:(1)导致分散能力变差的原因:铜离子含量过高、硫酸浓度过低、槽液温度过高、其它金属离子造成的污染、火灾操作条件下孔的纵横比过大(2)板子正反两面镀铜层的面厚度不一致(3)镀铜层平整性差(4)板架最下缘的板角边等高电流密度区起镀层原本就很厚(5)镀液流动不良呈停滞状态(6)电力线分布不均解决方法:(1)A.经分析按工艺要求稀释镀铜槽液B.按工艺规范增加硫酸含量,确保酸铜比10/1-12/1C.冷去槽液温度到22摄氏度D.采用小电流处理,以除去金属杂质(2)A.检查并计算每一边阳极的面积;将每一边的阳极对阳极的面积比例调整到2:1B.根据被镀件的情况,将其中一半的挂具或板子互换以均衡两面的阴极面积C.根据量产实际可采用双排整流器分别独立地控制每一边板表面被镀面积(3)A.根据霍氏槽实验提供的数据添加平整剂B、按照工艺要求适当的增加电流密度C.根据霍氏槽实验结果调整氯离子含量D.增加阳极面积,加强槽液循环过滤E.检查镀铜前除油处理是否正常(4)A.板架下缘增加辅助阴极,以吸收多余的电流B.采用阳极或阴极带孔遮板以平均分配电力线C.改进挂架结构设计,增加与板面的接触点面积D.采用框架式的挂具,使四面接触板边以改善电流分布(5)A.增加吹空气的搅拌量B.检查空气搅拌出气口位置是否恰当(6)A.按工艺要求重新设计阳极带入孔遮板以使镀液的电阻能平均分布B.检查挂具的接点电阻是否过高12、问题;铜镀层出现条纹状原因:(1)添加含量失控(添加过量时会出现条纹)(2)所采用的光致抗蚀剂与硫酸铜镀液不相容导致有机物溶于镀液中(3)除油后水洗不干净将清洁剂带入镀液中(4)槽体、过滤器、挂架等材质可能和硫酸铜镀液不相容(5)阳极袋中泥浆衬垫物所导致的槽液污染(6)干膜中的附着力促进剂未能完成除去解决方法:(1)按照工艺实验法确定添加剂含量,并用适量的活性碳将多余的添加剂除去(2)更换硫酸铜镀液相容的光致抗蚀剂(3)A.检查水洗水量及水洗时间是否足够B.采用喷淋方式清洗(4)应在设计阶段就应该解决之,并还要详细了解该所使用的物品材质性能(5)按工艺规定要经常性对阳极袋和滤芯的污物进行清理(6)检查清洁处理程序13、问题:铜镀层脆裂原因:(1)因为光亮剂的分解或光致抗蚀剂或清洁剂所致造成对镀液的有机污染(2)光亮剂添加过量(3)电流密度超出工艺范围(4)镀液温度超出正常工艺范围(正常为21-26摄氏度)(5)铜离子含量偏低(6)孔内镀铜厚度不足而容易断裂(7)添加剂含量不足(8)多层板的板厚Z方向膨胀过度解决方法:(1)按照工艺规定应定期对镀液进行活性碳处理(过滤次数应由量产多少而定)(2)应采用霍氏槽进行分析光亮剂的添加量,其具体方法如下(制作故障分析与排除):用一个标准267毫升霍氏槽(阳极生膜良好)电流密度为2A、时间10分钟,强烈搅拌,试验结果的试片应全不均匀、光亮的(3)按照工艺规范提供的数据进行调整(4)检测槽液温度,并检查加热装置是否失灵(5)改善镀液的流动情况并加强搅拌(6)通常通孔镀铜厚度应不小于20微米,必要时降低电流密度以达到深孔的最起码的铜厚度(7)采用霍氏槽火电化学方法进行分析,根据结果补充添加剂(8)检查多层板的特性要求及其基板材料的选择以及它的压制程序14、问题:铜镀层抗拉强度过低原因:(1)镀液中不纯物会导致镀层结晶连续疏松(2)金属离子污染解决方法:(1)采取每小时循环过滤2-3次,以清除镀液的杂质(2)采用低电流密度、瓦楞形阴极进行处理以除去金属杂质15、问题:镀铜层晶格结构过大原因:(1)添加剂含量过低(2)镀液温度过高(3)电流密度过高解决方法:(1)采用霍氏槽火电化学方法进行分析,根据分析提供的数据进行适量的添加(2)根据量产需要和当地气候条件,增加加热或冷却装置(3)根据所镀面积添加剂系统是否相符16、问题:无机物污染原因:镀液砷含量达到7-8ppm时将导致镀层粗糙;7-ppm的锑会造成镀层脆化;150-200ppm的氯离子会使镀层平整性不佳;铁离子达到7500ppm会促使阳极极化;镀液中含铅离子会使镀层出现颗粒;含镍会使得分散能力变差;含银会使得线路镀层变脆;焊锡会使得镀层变黑变粗;含锌会降低分散能力解决方法:采用小电流、瓦楞形阴极进行分析度或用化学沉降方法加以除去17、问题:添加剂未能发挥应有的功能原因:(1)阳离子产生极化现象-整流器通常会出现电压升高与电流下降现象(2)氯离子含量控制不当(3)槽液温度过高(4)槽液需进行活性碳处理解决方法:(1)A.调整阳极及阴极面积比2:1B.调整酸铜壁的比值到10以上C.检测铁、镍、锌等金属离子的含量D.所采用的阳极含磷量0.03-0.07%E.检查槽液温度是否太高F.按照工艺规范调整好各个参数后,再将阳极取出彻底清洗,然后再采用小电流析镀,以便重新生成一层均匀的阳极膜(2)采用化学沉降法处理,并严格控制槽液的含氯离子量在50-80PPM(3)采取冷却装置降温,并维持在21-26摄氏度(4)以除去未发挥功能作用的添加剂18、问题:添加剂消耗过快原因:(1)添加剂贮存过期导致强度减弱(2)光亮剂在阳极表面被氧化解决方法:(1)检查添加剂制造日期,更换新的添加剂(2)检查阳极是否有铜点裸露(正常的阳极表面应有一层均匀的棕色膜)说明:如高酸低铜电解液的添加剂使用MHT时(它包括补充剂:比重1.03-1.04、PH值1.4-1.5含量2.6-3.0;吸收剂:比重1.02-1.03、PH1.2-1.4、含量3.3-3.37;整平剂比重1.00-1.05、PH值1.4-1.6)。