铁电存储器原理及应用比较
FeRAM铁电存储器魏双
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特点
射频识别系统 在非接触式存储器领域里,FeRAM提供一个理想的解决方案。低功耗访 问在射频识别系统中至关重要,因为能源消耗是以距离成指数下降的。 想要以最小的能耗读写标签数据就必须保持标签有足够近的距离。通 过对射频发射机和接收机改进写入距离,降低运动的灵敏性以及降低 射频功率需求,使需要写入的应用获得优势。 诊断和维护系统 在一个复杂的系统里,记录系统失效时的操作历史和系统状态是非常 宝贵的。如果没有这些数据,能够准确的解决或执行需求指令是很困 难的。由于FeRAM具备高耐久性的特点,可以生成一个理想的系统日志。 从计算机工作站到工业过程控制等的系统,都能从FeRAM中获益
制造工艺
铁电存储器技术和标准的CMOS制造工艺相兼容。铁电薄膜被放置 于CMOS基层之上,并置于两电极之间,使用金属互连并钝化的方 法完成铁电存储器的制造。
特点
FeRAM具有快速写入、高耐久性、低功耗的特性,以下列举了FeRAM在一 些领域中与其他存储器相比的主要优势: 频繁掉电环境 任何非易失性存储器可以保留配置。可是,配置更改或电源失效情况随 时可能发生,因此,更高写入耐性的FeRAM允许无限的变更记录。任何时 间系统状态改变,都将写入新的状态。这样可以在电源关闭可用的时间 很短或立即失效时状态被写入存储器。 高噪声环境 在嘈杂的环境下向EEPROM写数据是很困难的。在剧烈的噪音或功率波动 情况下,EEPROM的写入时间过长会出现漏洞(以毫秒衡量),在此期间 写入可能被中断。错误的概率跟窗口的大小成正比。FeRAM的写入执行窗 口少于200ns。
结构原理
铁电存储器工作原理
FeRAM利用铁电晶体的铁电效应实现数据存储 ,铁电晶体的结构如图所示。铁电效应是指在 铁电晶体上施加一定的电场时,晶体中心原子 在电场的作用下运动,并达到一种稳定状态; 当电场从晶体移走后,中心原子会保持在原来 的位置。这是由于晶体的中间层是一个高能阶 ,中心原子在没有获得外部能量时不能越过高 能阶到达另一稳定位置,因此FeRAM保持数据 不需要电压,也不需要像DRAM一样周期性刷新 。由于铁电效应是铁电晶体所固有的一种偏振 极化特性,与电磁作用无关,所以FeRAM存储 器的内容不会受到外界条件(诸如磁场因素) 的影响,能够同普通ROM存储器一样使用,具 有非易失性的存储特性。
(整理)铁电存储器工作原理及应用
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铁电存储器工作原理及应用摘要:介绍铁电存储器(FRAM)的一般要领和基本原理,详细分析其读写操作过程及时序。
将FRAM与其它存储器进行比较,分析在不同场合中各自的优缺点。
最后以FM1808为例说明并行FPGA与8051系列单片机的实际接口,着重分析与使用一般SRAM的不同之处。
关键词:铁电存储器 FRAM原理 8051 存储技术1 背景铁电存储技术最在1921年提出,直到1993年美国Ramtron国际公司成功开发出第一个4Kb 的铁电存储器FRAM产品,目前所有的FRAM产品均由Ramtron公司制造或授权。
最近几年,FRAM又有新的发展,采用了0.35μm工艺,推出了3V产品,开发出“单管单容”存储单元的FRAM,最大密度可在256Kb。
2 FRAM原理FRAM利用铁电晶体的铁电效应实现数据存储,铁电晶体的结构如图1所示。
铁电效应是指在铁电晶体上施加一定的电场时,晶体中心原子在电场的作用下运动,并达到一种稳定状态;当电场从晶体移走后,中心原子会保持在原来的位置。
这是由于晶体的中间层是一个高能阶,中心原子在没有获得外部能量时不能越过高能阶到达另一稳定位置,因此FRAM保持数据不需要电压,也不需要像DRAM一样周期性刷新。
由于铁电效应是铁电晶体所固有的一种偏振极化特性,与电磁作用无关,所以FRAM存储器的内容不会受到外界条件(诸如磁场因素)的影响,能够同普通ROM存储器一样使用,具有非易失性的存储特性。
FRAM的特点是速度快,能够像RAM一样操作,读写功耗极低,不存在如E2PROM的最大写入次数的问题;但受铁电晶体特性制约,FRAM仍有最大访问(读)次数的限制。
2.1 FRAM存储单元结构FRAM的存储单元主要由电容和场效应管构成,但这个电容不是一般的电容,在它的两个电极板中间沉淀了一层晶态的铁电晶体薄膜。
前期的FRAM的每个存储单元使用2个场效应管和2个电容,称为“双管双容”(2T2C),每个存储单元包括数据位和各自的参考位,简化的2T2C存储单元结构如图2(a)所示。
FeRAM铁电存储器魏双
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结构原理
铁电存储器器件结构
目前铁电存储器最常见的器件结构是 Planar (平面式)和Sபைடு நூலகம்ack(堆叠式)结 构,两者的区别在于铁电电容的位置 和电容与MOS管互连的方式。在平面式 结构中,将电容置于场氧上面,通过 金属铝,将电容上电极和MOS管有源区 相连,工艺相对简单,但单元面积较 大;而在堆叠式结构中,将电容置于 有源区,通过塞子(Plug)将电容下电 极和MOS管源端相连,需要CMP工艺, 集成密度较高。另外,堆叠式结构可 以采用铁电电容制作在金属线上的做 法,从而减少铁电电容在形成过程中 对工艺的相互影响。
应用
三、非易失性缓冲
铁电存贮器(FeRAM)可以在其它存储器之前快速存储数据。在此情况 下,信息从一个子系统非实时地传送到另一个子系统去。由于资料的 重要性, 缓冲区内的数据在掉电时不能丢失,在某些情况下,目标系 统是一个较大容量的存储装置。FeRAM以其擦写速度快、擦写次数多使 数据在传送之前得到存储。 典型应用:工业系统、银行自动提款机 (ATM), 税控机, 商业结算系 统 (POS), 传真机,未来将应用于硬盘非易失性高速缓冲存储器。
应用
二、参数设置与存储 FeRAM通过实时存储数据帮助系统设计者解决了突然断电数据丢失的问 题。参数存储用于跟踪系统在过去时间内的改变,它的目的包括在上电 状态时恢复系统状态或者确认一个系统错误。总的来说,数据采集是系 统或子系统的功能,不论何种系统类型,设置参数存储都是一种底层的 系统功能。 典型应用: 影印机,打印机,工业控制,机顶盒,网络设备和大型家用电 器
制造工艺
铁电存储器技术和标准的CMOS制造工艺相兼容。铁电薄膜被放置 于CMOS基层之上,并置于两电极之间,使用金属互连并钝化的方 法完成铁电存储器的制造。
铁电存储器 [自动保存的]
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二、FRAM原理及特点
写入方法与DRAM稍有不同。DRAM利用电容器中有无电荷记录数据,因此使用名 为位线的布线单向加压。而FeRAM由于必须双向加压,因此除位线以外,还添加 了名为板线的线路。写入“1”时,由板线向位线加压。写入“0”时则反过来由 位线向板线加压。 读取方法也不同于DRAM。DRAM根据电容器中有无电荷判定 “1”或“0”。而FeRAM则不能直接读出电容器的状态。因此读取时通过强行写 入“1”,来判定“0”还是“1”。数据为1时由于状态不变,因此电荷移动少。 而数据为0时由于状态发生反转,因此会产生大的电荷移动。利用这种电荷差判 定1和0, FeRAM在读取时也进行写入动作。
铁电存储器成品图
五、FRAM与其它存储技术比较
FRAM与E2PROM FRAM可以作为E2PROM的第二种选择,它除了 E2PROM的性能外,访问速度要快得多。
FRAM与SRAM 从速度、价格及使用方便来看SRAM优于FRAM,但 是从整个设计来看,FRAM还有一定的优势。 非易失性的FRAM可以保存启动程序和配置信息。如 果应用中所有存储器的最大访问速度是70ns,那么可以 使用一片FRAM完成这个系统,使系统结构更加简单。
但是在铁电电容中反复写入会使之加速老化。
也就是说不仅是写入时,读取时FeRAM也会产生 老化,并且FeRAM在读取时与DRAM一样,是破坏 性读取,所以也需要像DRAM那样进行回写操作
FRAM的读操作
FRAM读操作过程是:在存储单元电容上施加一已 知电场,如果原来晶体的中心原子的位置和施加的电 场方向后使中心原子达到的位置相同,则中心原子不 会移动;若不相同,则中心原子将越过晶体中间层的 高能阶到达另一位置,则在充电波形上就会出现一个 尖峰,即产生原子移动的比没有产生移动的多了一个 尖峰,把这个充电波形 同参考位的充电波形进行比较, 便可以判断检测的存储单元中的内容是“1”或“0”。。
完美的铁电存储器
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完美的铁电存储器一. Fujitsu铁电存储器(FRAM) 技术原理日本Fujitsu公司是全球最大的铁电存储器(FRAM)供货商,至2010年12月31日,全球已经累计出货17亿颗铁电存储器!Fujitsu公司铁电存储器(FRAM)的核心技术是铁晶体管材料,这一特殊材料使得铁电存储产品同时拥有随机存取内存(RAM) 和非挥发性存贮产品(ROM)的特性。
铁晶体管材料的工作原理是:当我们把电场加载到铁晶体管材料上,晶阵中的中心原子会沿着电场方向运动,到达稳定状态,晶阵中的每个自由浮动的中心原子只有两个稳定状态,一个我们拿来记忆逻辑中的0、另一个记亿1,中心原子能在常温,没有电场的情况下停留在此状态达一百年以上。
铁电存储器不需要定时刷新,能在断电情况下保存资料。
二、Fujitsu铁电存储器(FRAM) 技术优点传统半导体内存有两大体系:挥发性内存(Volatile Memory),和非挥发性内存(Non-volatile Memory)。
挥发性内存如SRAM和DRAM 在没有电源的情况下都不能保存资料,但这种内存拥有高性能、易用等优点。
非挥发性内存像 EPROM、 EEPROM和 FLASH 能在断电后仍保存资料,但由于所有这些内存均起源自只读存储器 (ROM) 技术,所以您不难想象得到它们都有不易写入的缺点,确切的来说,这些缺点包括写入缓慢、有限次写入次数、写入时需要特大功耗等等。
FRAM第一个最明显的优点是FRAM可跟随总线(Bus Speed)速度写入,若比较起 EEPROM/Flash的最大不同的是 FRAM在写入后无须任何等待时间(NoDelayTM Write),而 EEPROM/Flash须要等 3~10毫秒 (mS) 才能写进下一笔资料。
铁电存储器(FRAM)的第二大优点是近乎无限次读写。
当 EEPROM/Flash只能应付十万次 (10的5次方)至一百万次写入时,新一代的铁电存储器(FRAM)已达到一百亿个亿次(10的 10次方)的写入寿命。
铁电存储器FM24C04原理及应用
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f b iE e t c P w rT s n & Reerh I s tt, h n 4 0 7 C ia Hu e lcr o e et g i i sac n tue Wu a 3 0 7, hn ) i
Ab t a t T i ri l d s rb s F ro l c rc Ra d m c s Me r e h o o y n h s r c : h s a t e e c e e r e e t n o Ac e s c i i mo y t c n l g a d t e a v n a e , o a e w t o e me r t c n l g , e h tc l i t d c s h h r — d a t g s c mp r d i h h t r mo y e h o o mp ai a l n r u e t e a d y y o wa e,h p r to n h p lc t n f F r t e o e a i n a d t e a p i a i s o RAM M 2 C 4 p o u e y o F 4 0 r d c d b Ra r n C r . mto o p Ke y wo d f ro l c rc r n o a c s me r ; i h e d r c r a / r t n r t d — r s:e r e e ti a d m c e s mo h g n u a e e d w i y n e; o w i e e
无 限次 写 入等 超级 特性 。
可 见 ,这 一 特 殊 材 料 使 得 铁 电 存 储 产 品 同 时拥 有 随 机 存 取 存 储 器 ( AM) 非 易 失 性 存 储 产 品 的 特 R 和
铁电随机存储器(FRAM)的工作原理
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FRAM技术Faler整理 2007-4-2FRAM的工作原理FRAM技术的核心是将微小的铁电晶体集成进电容内,使到FRAM产品能够象快速的非易失性RAM那样工作。
通过施加电场,铁电晶体的电极化在两个稳定状态之间变换。
内部电路将这种电极化的方向感知为高或低的逻辑状态。
每个方向都是稳定的,即使在电场撤除后仍然保持不变,因此能将数据保存在存储器中而无需定期更新。
相对于其它类型的半导体技术而言,铁电存储器具有一些独一无二的特性。
传统的主流半导体存储器可以分为两类--易失性和非易失性。
易失性的存储器包括静态存储器SRAM(static random access memory)和动态存储器DRAM(dynamic random access memory)。
SRAM和DRAM在掉电的时候均会失去保存的数据。
RAM 类型的存储器易于使用、性能好,可是它们同样会在掉电的情况下会失去所保存的数据。
非易失性存储器在掉电的情况下并不会丢失所存储的数据。
然而所有的主流的非易失性存储器均源自于只读存储器(ROM)技术。
所有由ROM技术研发出的存储器则都具有写入信息困难的特点。
这些技术包括有EPROM(几乎已经废止)、EEPROM和Flash。
这些存储器不仅写入速度慢,而且只能有限次的擦写,写入时功耗大。
铁电存储器能兼容RAM的一切功能,并且和ROM技术一样,是一种非易失性的存储器。
铁电存储器在这两类存储类型间搭起了一座跨越沟壑的桥梁--一种非易失性的RAM。
当一个电场被加到铁电晶体时,中心原子顺着电场的方向在晶体里移动。
当原子移动时,它通过一个能量壁垒,从而引起电荷击穿。
内部电路感应到电荷击穿并设置存储器。
移去电场后,中心原子保持不动,存储器的状态也得以保存。
铁电存储器不需要定时更新,掉电后数据能够继续保存,速度快而且不容易写坏。
铁电存储器技术和标准的CMOS制造工艺相兼容。
铁电薄膜被放置于CMOS 基层之上,并置于两电极之间,使用金属互连并钝化后完成铁电制造过程。
铁电存储器工作原理和器件结构
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铁电存储器工作原理和器件结构摘要:铁电存储器与传统的非易失性存储器相比,具有功耗小、读写速度快、抗辐照能力强等优点,因此在一些特殊应用领域具有很好的市场。
文章介绍了铁电存储器的基本工作原理,并介绍了两种主流的铁电材料。
文章还介绍了铁电存储器的电路结构,包括2T2C、1T1C、1T2C以及链式结构,并说明了铁电存储器的读写过程。
铁电存储器的器件结构主要有Planar 结构和Stacked 结构两种。
Planar 结构制作工艺相对简单,但是集成度不高。
Stacked 结构的集成度更高,对工艺的要求也更高。
1 铁电存储器简介随着IT 技术的不断发展,对于非易失性存储器的需求越来越大,读写速度要求越来越快,功耗要求越来越小,现有的传统非易失性存储器,如EEPROM、FLASH 等已经难以满足这些需要了。
传统的主流半导体存储器可以分为两类:易失性和非易失性。
易失性存储器包括静态存储器SRAM(Static RandomAccessMemory)和动态存储器DRAM(Dynamic RandomAccessMemory)。
SRAM和DRAM在掉电的时候均会失去保存的数据。
RAM 类型的存储器易于使用、性能好,可是它们同样会在掉电的情况下失去所保存的数据。
非易失性存储器在掉电的情况下并不会丢失所存储的数据。
然而所有的主流非易失性存储器均源自于只读存储器(ROM)技术。
正如你所猜想的一样,被称为只读存储器的东西肯定不容易进行写入操作,而事实上是根本不能写入。
所有由ROM技术研发出的存储器则都具有写入信息困难的特点。
这些技术包括有EPROM、EEPROM和Flash。
这些存储器不仅写入速度慢,而且只能有限次的擦写,写入时功耗大。
相对于其他类型的半导体技术而言,铁电存储器具有一些独一无二的特性。
铁电存储器能兼容RAM的一切功能,并且和ROM技术一样,是一种非易失性的存储器。
铁电存储器在这两类存储类型间搭起了一座跨越沟壑的桥梁——一种非易失性的RAM。
铁电存储器
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铁电存储器是一种在断电时不会丢失信息的非易失存储器, 它具有高速度、高密度、低功耗和抗辐射等优点,在IC卡、 移动电话、嵌入式微处理器、航空航天和军事应用等领域显 示出极大的发展潜力和良好的应用前景,受到了各国科技界 和产业界的广泛关注。图为RAMTRON公司的两款铁电存储 器。
背景介绍:铁电存储技术最早在1921年提出,直到1993年美 国Ramtron国际公司成功开发出第一个4Kb的铁电存储器 FRAM产品,标志着铁电存储技术开始实际应用,目前所有 的FRAM产品均由Ramtron公司制造或授权。最近几年, FRAM又有新的发展,采用了0.35μm工艺,推出了3V产品, 开发出“单管单容”存储单元的FRAM,最大密度可在256Kb。
PZT 是研究最多、使用最广泛。优点是能够 在较低的温度下制备,可以用溅射和金属有 机气相沉积(MOCVD)的方法来制备,具 有剩余极化较大、原材料便宜、晶化温度较 低的优点;缺点是有疲劳退化问题,还有含 铅会对环境造成污染。 SBT 最大的优点是没有疲劳退化的问题,而且 不含铅;但是它的缺点是工艺温度较高,使之工艺集成难度增大,剩余极化程度 较小。
传统存储器现状:随着人们对于存储容量越来越高需求,科 研人员也在不断的提高存储密度,但存储密度的提高使得浮 动栅与导电沟道之间绝缘介质层厚度减到 2.5nm 左右,这已 经很接近它的极限厚度。再进一步减薄绝缘介质层的厚度将 无法保证数据的存储寿命。
为了满足市场需求,开发新一代具有存储密度高、功耗低、写 入/擦除速度快、抗疲劳能力强、数据保持能力强、与传统 CMOS工艺相兼容等特点的新型非易失性存储器则成为必然 趋势。 因此,科研人员对包括电荷俘获型存储器、铁电存储器 (FeRAM)、磁存储器(MRAM)、相变存储器(PCRAM)和阻变存 储器(ReRAM)在内的一些新型存储器进行了广泛的研究。
铁电存储器FM24C16原理及其综合应用
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铁电存储器FM24C16原理及其综合应用Ramtron铁电存储器FRAM1、铁电存储器技术原理、特性及应用美国Ramtron公司铁电存储器(FRAM)的核心技术是铁电晶体材料。
这一特殊材料使铁电存储器同时拥有随机存取记忆体(RAM)和非易失性存储器的特性。
铁电晶体的工作原理是:当在铁电晶体材料上加入电场,晶体中的中心原子会沿着电场方向运动,达到稳定状态。
晶体中的每个自由浮动的中心原子只有2个稳定状态,一个记为逻辑中的0,另一个记为1。
中心原子能在常温、没有电场的情况下,停留在此状态达100年以上。
铁电存储器不需要定时刷新,能在断电情况下保存数据。
由于整个物理过程中没有任何原子碰撞,铁电存储器有高速读写、超低功耗和无限次写入等特性。
铁电存储器和E2PROM比较起来,主要有以下优点:(1)FRAM可以以总线速度写入数据,而且在写入后不需要任何延时等待,而E2PROM在写入后一般要5~10ms的等待数据写入时间;(2)FRAM有近乎无限次写入寿命。
一般E2PROM的寿命在十万到一百万次写人时,而新一代的铁电存储器已经达到一亿个亿次的写入寿命。
(3)E2PROM的慢速和大电流写入使其需要高出FRAM 2 500倍的能量去写入每个字节。
由于FRAM有以上优点,其特别适合于那些对数据采集、写入时间要求很高的场合,而不会出现数据丢失,其可靠的存储能力也让我们可以放心的把一些重要资料存储于其中,其近乎无限次写入的使用寿命,使得他很适合担当重要系统里的暂存记忆体,用来在于系统之间传输各种数据,供各个子系统频繁读写。
从FRAM问世以来,凭借其各种优点,已经被广泛应用于仪器仪表、航空航天、工业控制系统、网络设备、自动取款机等。
在设计的碳控仪系统中,由于对控制碳势适时性的要求较高,而且系统由2个子系统构成,每个子系统都要频繁读写存储器,所以我们把原来的X25045换成FM24C16以满足要求。
2 FM24C16引脚说明及工作过程FM24C16-P(8脚双列直插)外形图及引脚定义如图1及表1所示。
最新-铁电存储器原理及应用比较 精品
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铁电存储器原理及应用比较摘要介绍铁电存储器的一般要领和基本原理,详细分析其读写操作过程及时序。
将与其它存储器进行比较,分析在不同场合中各自的优缺点。
最后以1808为例说明并行与8051系列单片机的实际接口,着重分析与使用一般的不同之处。
关键词铁电存储器原理8051存储技术1背景铁电存储技术最在1921年提出,直到1993年美国国际公司成功开发出第一个4的铁电存储器产品,目前所有的产品均由公司制造或授权。
最近几年,又有新的发展,采用了035μ工艺,推出了3产品,开发出单管单容存储单元的,最大密度可在256。
2原理利用铁电晶体的铁电效应实现数据存储,铁电晶体的结构如图1所示。
铁电效应是指在铁电晶体上施加一定的电场时,范文先生网收集整理晶体中心原子在电场的作用下运动,并达到一种稳定状态;当电场从晶体移走后,中心原子会保持在原来的位置。
这是由于晶体的中间层是一个高能阶,中心原子在没有获得外部能量时不能越过高能阶到达另一稳定位置,因此保持数据不需要电压,也不需要像一样周期性刷新。
由于铁电效应是铁电晶体所固有的一种偏振极化特性,与电磁作用无关,所以存储器的内容不会受到外界条件诸如磁场因素的影响,能够同普通存储器一样使用,具有非易失性的存储特性。
的特点是速度快,能够像一样操作,读写功耗极低,不存在如2的最大写入次数的问题;但受铁电晶体特性制约,仍有最大访问读次数的限制。
2.1存储单元结构的存储单元主要由电容和场效应管构成,但这个电容不是一般的电容,在它的两个电极板中间沉淀了一层晶态的铁电晶体薄膜。
前期的的每个存储单元使用2个场效应管和2个电容,称为双管双容22,每个存储单元包括数据位和各自的参考位,简化的22存储单元结构如图2所示。
2001年设计开发了更先进的单管单容11存储单元。
11的所有数据位使用同一个参考位,而不是对于每一数据位使用各自独立的参考位。
11的产品成本更低,而且容量更大。
简化的11存储单元结构未画出公共参考位如图2所示。
铁电存储器的原理及应用
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Ramtron推出首款2兆位串行F-RAM存储器FM25H20类别:新品推荐发布时间:2008-4-17 阅读:879Ramtron推出首款2兆位串行F-RAM存储器,采用8脚TDFN (5.0 x 6.0 mm) 封装。
FM25H20采用先进的130纳米CMOS工艺生产,是高密度的非易失性F-RAM存储器,以低功耗操作,并备有高速串行外设接口(SPI)。
该3V、2Mb串行F-RAM器件以最大的总线速度写入,具有几乎无限的耐用性,通过微型封装提供更大的数据采集能力,使系统设计人员能够在计量和打印机等高级应用中减少成本和板卡空间。
FM25H20是串行闪存的理想替代产品,用于要求低功耗和最小板卡空间的精密电子系统中,包括便携式医疗设备如助听器等,它们实际上是微型数据处理器,但受到空间有限及功耗低的限制。
与闪存相比,F-RAM的优势包括大幅降低工作电流、写入速度更快、写入耐用性更比闪存高出多个数量级。
Ramtron 战略市场拓展经理Duncan Bennett 解释道:“对于那些需要在其新一代应用中提高数据采集能力,却不增加板卡空间的计量和打印机客户而言,这款2Mb 串行F-RAM 是自然的产品延伸。
FM25H20以相同的小占位面积,为半兆位串行F-RAM 客户提供高达四倍的存储能力。
除提升现有系统外,这种技术发展还推动F-RAM 进入多个需要低功耗存储器而空间严重受限的新兴市场,如便携式医疗设备。
”FM25H20是256K x 8位非易失性存储器,以高达40MHz的总线速度进行读写操作,具有几乎无限的耐用性、10年的数据保存能力,以及低工作电流。
该器件设有工业标准SPI接口,优化了F-RAM的高速写入能力。
FM25H20还备有软件和硬件写保护功能,能避免意外的写入与数据损坏。
该2Mb串行F-RAM以低功耗工作,在40MHz下读/写操作的耗电低于10mA,待机状态下耗电为80μA (典型值),超低电流睡眠模式下耗电为3μA (典型值)。
铁电存储器介绍
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一、什么是铁电存储器(F-RAM)相对于其它类型的半导体技术而言,铁电随机存储器(F-RAM)具有一些独一无二的特性。
已经确定的半导体存储器可以分为两类:易失性和非易失性。
易失性存储器包括静态随机存取存储器(SRAM)和动态随机存取存储器(DRAM)以及其他类型存储器。
RAM类型存储器易于使用,高性能,但它们有着共同的弱点:在掉电的情况下会失去所保存的数据。
F-RAM芯片技术采用一种锆钛酸铅[Pb(Zr,Ti)O3,简称为PZT的铁电薄膜材料,该铁电材料的晶体微结构如图1所示。
在铁电晶体中位于晶胞中心的Ti(或Zr)原子在外电场作用下,向上或向下产生物理偏移,撤掉外电场后,仍表现出一定的电极性,铁电存储器就是利用这两个稳定态来代表数字逻辑中的“1”和“0”,从而来存储信息。
与传统RAM器件不同,F-RAM在电源被关闭或中断时,由于PZT 晶体具有剩余极化的特性,所以能够保留其所存储的数据。
这种独特的性质使F-RAM成为一个低功耗、非易失性存储器。
同时由于在离子辐照情况下,铁电电容所存储“1”和“0”时的两个态,很难被改变,所以具有很好的抗辐射性能。
图1 具有钙钛矿结构PZT薄膜结构图铁电存储器技术和标准的CMOS制造工艺相兼容。
铁电薄膜被放置于CMOS基层之上,并置于两电极之间,使用金属互连并钝化后完成铁电制造过程,器件结构如图2所示。
图2 铁电存储器存储单元剖面图F-RAM、ROM都属于非易失性存储器,在掉电情况下数据不会丢失。
新一代ROM,像EEPROM(可擦可编程只读存储器)和Flash存储器,可以被擦除,并多次重复编程,但它们需要高电压写入且写入速度非常慢。
基于ROM技术的存储器读写周期有限(仅为1E5次),使它们不适合高耐性工业应用。
F-RAM比一般串口EEPROM器件有超过10,000倍的耐性,低于3,000倍的功耗和将近500倍的写入速度(图 3),还有出色的抗干扰能力(包括抗伽玛射线)、极高的可靠性和工作寿命。
铁电存储器的原理和应用
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铁电存储器的原理和应用1. 铁电存储器简介铁电存储器是一种非挥发性存储器,可以在断电后仍能保留数据。
它基于铁电材料的特殊性质实现数据的存储和读取。
铁电存储器具有快速读写速度、低功耗、高可靠性等优点,因此在许多电子设备中得到广泛应用。
2. 铁电存储器的工作原理铁电存储器的工作原理基于铁电材料的特殊性质。
铁电材料具有一种被称为铁电效应的特性,即在外加电场的作用下,它们可以产生永久性的电极极化。
这意味着铁电材料可以用不同的电场极化方向表示逻辑值“0”和“1”。
铁电存储器主要由两个部分组成:电容和晶体管。
每个存储单元由一个铁电电容和一个晶体管连接组成。
当写入数据时,通过对晶体管施加恒定电压来选择存储单元。
然后,根据所需的数据,将电压施加到铁电电容上以改变其极化方向表示数据。
在读取数据时,通过测量铁电电容的电压来确定数据。
3. 铁电存储器的应用铁电存储器由于其快速读写速度、低功耗以及非挥发性的特点,在许多领域得到了广泛应用。
3.1 电子设备铁电存储器在电子设备中应用广泛。
它可以用于各种存储需求,包括个人电脑、平板电脑、智能手机等。
由于其非挥发性的特性,即使在断电后也可以保留数据,所以在这些设备中用作操作系统和应用程序的主存储器非常适合。
3.2 物联网在物联网领域,铁电存储器也有重要应用。
物联网设备通常需要具备非挥发性存储器以保留传感器数据、配置信息等重要数据。
铁电存储器可以提供快速读写速度和低功耗,同时具备高可靠性,非常适合用于物联网设备的存储需求。
3.3 军事和航天领域铁电存储器在军事和航天领域也发挥着重要作用。
由于其快速读写速度和高可靠性,它可以应用于高性能计算、卫星系统等领域,用于保留重要的操作指令和数据。
3.4 医疗设备铁电存储器在医疗设备中也有应用。
例如,可用于心脏起搏器、人工智能药物管理设备等。
由于铁电存储器的低功耗和快速读写速度,可以用于存储医疗设备的配置信息和患者数据,确保设备的可靠运行和数据的安全存储。
铁电存储器的原理及应用
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铁电存储器的原理及应用1. 引言铁电存储器是一种新型的非挥发性存储器,具有高速读写、低功耗、可擦写的优点,广泛应用于嵌入式系统、智能卡等领域。
本文将介绍铁电存储器的工作原理以及其在各个领域中的应用。
2. 铁电存储器的工作原理铁电存储器是基于铁电材料的储存电荷来实现信息存储的。
其工作原理可以概括为以下几个步骤:2.1 构造铁电存储单元铁电存储器由一系列铁电材料组成,其中最常用的铁电材料有PZT(铅锆钛酸盐)、BST(钡钛酸锶)等。
这些材料具有铁电效应,可以在电场作用下形成可逆的极化状态,从而存储电荷。
2.2 写操作写操作是将数据存储到铁电存储器中的过程。
写操作通常是通过施加电场来改变铁电材料的极化状态,使其存储特定的电荷。
铁电存储器的写操作非常快速,可以在纳秒级别完成。
2.3 读操作读操作是从铁电存储器中读取数据的过程。
读操作通过测量铁电材料的极化状态来获取存储的电荷信息。
由于铁电材料极化状态的可逆性,铁电存储器的读操作不会损失存储的数据。
2.4 擦除操作擦除操作是将铁电存储器中的数据清除的过程。
擦除操作通常是通过施加反向电场来翻转铁电材料的极化状态,使其恢复到初始状态。
3. 铁电存储器的应用铁电存储器具有许多优点,因此在许多领域得到了广泛的应用。
3.1 嵌入式系统在嵌入式系统中,铁电存储器通常用于存储程序代码和数据,以提供快速的读写访问。
由于铁电存储器的高速读写特性,嵌入式系统可以更快地执行指令和处理数据。
3.2 智能卡铁电存储器还可以用于制作智能卡,例如身份证、银行卡等。
智能卡需要存储大量的个人信息和交易记录,而铁电存储器可以提供足够的存储容量和快速的读写速度。
3.3 科学研究铁电存储器在科学研究领域也有广泛的应用。
科学研究人员可以利用铁电存储器存储实验数据、模拟计算结果等。
由于铁电存储器的可擦写性,科研人员可以反复重复实验,并在每次实验中修改存储的数据。
3.4 军事应用铁电存储器在军事应用中也起着重要的作用。
FRAM 铁电存贮器技术
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FRAM 铁电存贮器技术原理美国Ramtron公司铁电存贮器(FRAM)的核心技术是铁电晶体材料.这一特殊材料使得铁电存贮产品同时拥有随机存取记忆体(RAM) 和非易失性存贮产品的特性.铁电晶体材料的工作原理是: 当我们把电场加载到铁电晶体材料上,晶阵中的中心原子会沿着电场方向运动,到达稳定状态.晶阵中的每个自由浮动的中心原子只有两个稳定状态.一个我们拿来记亿逻辑中的0,另一个记亿1.中心原子能在常温,没有电场的情况下停留在此状态达一百年以上.铁电记忆体不需要定时刷新,能在断电情况下保存数据.由于在整个物理过程中没有任何原子碰撞,铁电记忆体 (FRAM)拥有高速读写,超低功耗,和无限次写入等超级特性.存贮器的基础知识传统半导体记忆体有两大体系:易失性记忆体待(volatile memory), 和非易失性记忆体 (non-volatile memory).易失性记忆体像SRAM和DRAM 在没有电源的情况下都不能保存数据.但这种存贮器拥有高性能,易用等优点.非易失性记忆体像EPROM, EEPROM和 FLASH 能在断电后仍保存资料.但由于所有这些记忆体均起源自唯读存贮器 (ROM) 技术, 所以您不难想象得到它们都有不易写入的缺点.确切的来说,这些缺点包括写入缓慢,有限写入次数,写入时需要特大功耗等等.我们可以做一个简单的比较:图一是16K比特铁电存贮器(FRAM)的性能和16K比特EEPROM 的比较. FRAM第一个最明显的优点是FRAM可以跟随总线速度写入. 比较起EEPROM的最大不同的是FRAM在写入后无须任何等待时间.而EEPROM要等几毫秒 (mS) 才能写进下一笔资料.铁电存贮器(FRAM)的第二大优点是近乎无限次写入.当EEPROM只能应付十万 (10的5次方) 至一百万次写入时, 新一代的铁电存贮器(FRAM) 已达到一亿个亿次 (10的16次方) 的写入寿命.铁电存贮器(FRAM)的第三大优点是超低功耗. EEPROM的慢速和高电流写入令它需要高出FRAM 2,500倍的能量去写入每个字节 (见下图).铁电存贮器(FRAM)含盖RAM技术的优点,又同时拥有ROM技术的非易失性特点.铁电存贮器(FRAM)为业界提供了一个崭新的存贮器产品:一个非易失性的RAM.FRAM铁电存贮器的应用我们向来用EEPROM 来存储设置资料和启动程式,用SRAM 来暂存系统或运算变数.如果掉电后这些数据仍需保留的话,我们会通过加上后备电池的方法去实现.很久以来我们没有检验这种记忆体架构的合理性.铁电存贮器(FRAM)的出现为大家提供了一个简洁而高性能的一体化存贮技术.1.数据采集和记录铁电存贮器(FRAM) 的出现使工程师可以运用非易失性的特点进行多次, 高速写入. 在这以前, 在只有EEPROM的情况下, 大量数据采集和记录对工程师来说是一件非常头疼的事.数据采集包括记录和贮存数据. 更重要的是能在失去电源的情况下,不丢失任何资料. 在数据采集的过程中, 数据需要不断高速写入,对旧资料进行更新. EEPROM的写入寿命和速度往往不能满足要求.典型应用包括: 仪表(电力表, 水表, 煤气表, 暖气表, 记程车表), 测量, 医疗仪表, 非接触式聪明卡(RFID), 门禁系统, 汽车记录仪(了解汽车事故的黑匣子)…2.存储配置参数以往在只有EEPROM的情况下, 由于写入次数限制, 工程师们只能在侦测到掉电的时候,才把更新了的配置参数及时地存进EEPROM里. 这种做法很明显地存在着可靠性的问题. 铁电存贮器(FRAM)的推出使工程师可以有更大的发挥空间去选择实时记录最新的配置参数. 免去是否能在掉电时及时写入的忧虑.典型应用包括: 电话里的电子电话簿, 影印机,打印机, 工业控制, 机顶盒 (Set-Top-Box), 网络设备, TFT 屏显, 游戏机,自动贩卖机….3.非易失性缓冲记忆铁电存贮器(FRAM)无限次快速擦写令这种产品十分适合担当重要系统里的暂存记忆体.在一些重要系统里, 往往需要把资料从一个子系统非实时地传到另一个子系统去. 由于资料的重要性, 缓冲区内的数据在掉电时不能丢失. 以往, 工程师们只能通过SRAM加后备电池的方法去实现.虽然知道这种方法隐藏着电池耗乾, 化学液体泄出等安全, 可靠性问题. 铁电存贮器(FRAM) 的出现为业界提供了一个高可靠性, 但低成本的方案.典型应用包括: 银行自动提款机 (ATM), 税控机, 商业结算系统 (POS), 传真机…4.SRAM的取代和扩展铁电存贮器(FRAM) 无限次快速擦写和非易失性的特点,令系统工程师可以把现在在线路板上分离的SRAM和EEPROM器件整合到一个铁电存贮器(FRAM)里. 为整个系统节省功耗, 成本, 空间.同时增加了整个系统的可靠性.典型应用包括: 用铁电存贮器(FRAM) 加一个便宜的单片机(microcontroller) 来取代一个较贵的SRAM嵌入式单片机和外围EEPROM.RAMTRON FRAM铁电存贮器产品Ramtron 串行 (serial) 非易失性RAM尊循标准工业接口.2-wire产品为单片机 (microcontroller) 配选最少的接线.SPI产品需要多一至两个接线,但具有高速和通讯协议简单的优点.Ramtron 并行 (parallel) 非易失性RAM与标准SRAM管脚兼容.并行FRAM对SRAM加后备电池方案做出了一大改进.系统工程师再不需要担心电池干涸,和在系统里加上笨拙的机械置.FRAM 的封装就象SRAM一样有简单的贴片封装 (SOIC) 或插脚封装 (DIP) -而您也该是时候把电池仍掉了!RAMTRON 公司和铁电存贮器产品的发展方向Ramtron公司成立于1984年. 总部设在美国科罗拉多州的Colorado Springs市. 公司于1992年在美国纳斯达克上市.Ramtron是当今领先的铁电存贮器技术和产品供应商.世界上决大部分重要的半导体存贮器制造商都向Ramtron申请授权专利来做铁电存贮器的研究. 他们包括日本的Toshiba, Hitachi, Fujistu, Rohm, Asahi,韩国的Samsung, 和德国的Infineon.在未来的几年里, Ramtron 会继续努力不断降低成本.令外, 将在明年上半年推出兆级 (Mbit) 密度的铁电体. 大密度的铁电体 (FRAM)将来会取代各类记亿体,成为真正的超级存贮器”.。
铁电存储器的三个典型应用
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铁电存储器的三个典型应用2009-07-24 09:46:51 来源:与非网摘要:铁电存储器(FRAM)以其非挥发性,读写速度块, 擦写次数多,和低功耗等特点被广泛应用各行各业. 文章首先介绍铁电的原理, 之后分别介绍铁电储存器在电表, 税款机, 和电子道路收费系统的典型应用.关键词: 铁电储存器, 应用1 铁电储存器的原理上图是铁电的原子结构图. 当一个电场施加到铁电晶体时, 中心原子会顺着电场的方向在晶体里移动. 当原子移动通过一个能量壁垒时, 会引起电荷击穿. 内部电路感应到电荷击穿并设置储存器. 移去电场后, 中心原子保持不动, 储存器的状态也得以保存.铁电储存器不需要定时更新, 调电后数据却能够继续保存, 速度快而且不容易写坏. 铁电储存器就是根据该原理设计而成.2 铁电储存器的典型应用2.1 铁电存储器在电表存储中的应用2.1.1 概述在电子技术日新月异、新型多功能电能表层出不穷的今天,电能表中存储器的选择也是多种多样,存储器的好坏直接关系到电能表的正常使用和测量精度。
目前应用最多的方案仍是SRAM加后备电池、EEPROM、NVRAM 这三种。
但这三种方案均存在着缺陷。
其中SRAM加后备电池的方法增加了硬件设计的复杂性,同时由于加了电池又降低了系统的可靠性;而EEPROM的可擦写次数较少(约100万次),且写操作时间较长(约10 ms);而NVRAM的价格问题又限制了它的普及应用。
因此,工程人员在设计电能表的存储模块时,往往要花很大的精力来完善方案,才能使电表数据准确无误的写入存储器中。
由于所有的非易失性记忆体均源自ROM技术。
你能想象到,只读记忆体的数据是不可能修改的。
所有以它为基础发展起来的非易失性记忆体都很难写入,而且写入速度慢,它们包括EPROM(现在基本已经淘汰),EEPROM和Flash,它们存在写入数据时需要的时间长,擦写次数低,写数据功耗大等缺点。
鉴于以上情况,越来越多的设计者将目光投向了新型的非易失性铁电存储器(FRAM)。
铁电材料在存储器件中的应用
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铁电材料在存储器件中的应用随着信息技术的快速发展,存储器件的需求也逐渐增加。
在过去的几十年中,传统的存储器技术一直主导着市场,但是随着科学技术的进步和对高密度、低功耗存储器的需求增加,铁电材料逐渐成为了研究热点。
铁电材料具有许多独特的性质,使其在存储器件中具有广泛的应用前景。
本文将介绍铁电材料的基本原理和在存储器件中的应用。
一、铁电材料的基本原理铁电材料是一类具有独特物理性质的功能材料,其具有非线性光电效应、反铁磁效应和耗负能力等特点。
它可以在外加电场的作用下改变其自发极化方向,并且在去除电场之后仍能保持极化状态。
这一独特的性质被称为铁电性。
铁电材料的结构通常由两种或多种离子构成,其中一种阳离子在晶体表面的结构中具有特殊的位置,形成快熔的锯齿形结构,从而使材料具有铁电性。
铁电材料具有许多重要的特性,例如电滞回线、高介电常数、低损耗和长寿命等。
这些特性使得铁电材料在存储器件中具有许多独特的应用。
二、铁电存储器的基本原理铁电存储器是一种基于铁电材料原理的非挥发性存储器。
它具有可擦写、可编程和高密度存储等优点,因此广泛应用于电子设备中。
铁电存储器的工作原理如下:通过施加电场,铁电材料的极化方向可以改变。
将该铁电材料分成许多小部分,每个小部分称为一个单元。
每个单元可以存储一个位或二进制数字。
当施加电场时,单元的极化方向会改变,从而表示位的不同状态。
当不再施加电场时,单元会保持其极化状态,实现信息的长期储存。
与传统存储器相比,铁电存储器具有更快的读写速度、更高的可靠性和更低的功耗。
它可以广泛应用于数字产品、通信设备、计算机和可穿戴设备等领域。
三、铁电材料在存储器件中的应用1. 铁电随机存储器(FeRAM)铁电随机存储器是一种基于铁电材料的存储器,它具有与传统动态随机存储器(DRAM)相似的工作原理。
它能够实现高速读写、低功耗和长期数据存储的优点。
2. 铁电闪存存储器(FeFET)铁电闪存存储器是利用铁电材料的非挥发性特点来实现信息存储的一种技术。
铁电存储器
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谢谢大家
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典型应用一:电表存储中的应用
存储器的好坏直接关系到电能表的正常使用和测量精度。目前应用最 多的方案仍是SRAM加后备电池、EEPROM、NVRAM这三种。 SRAM加后备电池:增加了硬件设计的复杂性,同时由于加了电池又降 低了系统的可靠性 EEPROM:可擦写次数较少(约100万次),且写操作时间较长(10 ms) NVRAM(Non-Volatile Random Access Memory):价格问题限制其普及应用
静态存储器SRAM(Static Random Access Memory): 速度非 常快,价格昂贵,如计算机CPU的以及缓存,二级缓存
动态存储器DRAM( Dynamic Random Access Memory ):保留 数据时间短,速度比SRAM慢,价格也便宜一下,如计算机内存
非易失性
典型应用三:ETC(电子道路收费系统)
在RFID( Radio Frequency IDentification 射频识别技术)系统中读写 距离非对称,采用有源标应答器,成本增加且需更换电池。 FRAM产品有低功耗、快速写入的能力,在非接触式记忆体应用领域中 具有相等读写距离的特性可提供比较好的解决方案。应用在电子道路收费系 统中,可以在等功耗的环境下,达到15米以上的读写距离,因而改变系统架 构由有源标应答器变为无源应答器,节省系统成本同时提高产品可靠性。
内容简介
铁电的相关介绍
存储器的类型 铁电存储器的原理 铁电存储器的应用
总结
铁电的相关介绍
1.铁电的范畴
介电
压电
热释电 铁电
铁电的相关介绍
2.铁电体的定义
凡呈自发极化,并且自发极化可以随着外电场方 向而改变的晶体 铁电体具有高介电常数(几百~几万)
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铁电存储器原理及应用比较摘要:介绍铁电存储器(FRAM)的一般要领和基本原理,详细分析其读写操作过程及时序。
将FRAM与其它存储器进行比较,分析在不同场合中各自的优缺点。
最后以FM1808为例说明并行FPGA与8051系列单片机的实际接口,着重分析与使用一般SRAM的不同之处。
关键词:铁电存储器 FRAM原理 8051 存储技术1 背景铁电存储技术最在1921年提出,直到1993年美国Ramtron国际公司成功开发出第一个4Kb的铁电存储器FRAM产品,目前所有的FRAM产品均由Ramtron公司制造或授权。
最近几年,FRAM又有新的发展,采用了0.35μm工艺,推出了3V产品,开发出“单管单容”存储单元的FRAM,最大密度可在256Kb。
2 FRAM原理FRAM利用铁电晶体的铁电效应实现数据存储,铁电晶体的结构如图1所示。
铁电效应是指在铁电晶体上施加一定的电场时,晶体中心原子在电场的作用下运动,并达到一种稳定状态;当电场从晶体移走后,中心原子会保持在原来的位置。
这是由于晶体的中间层是一个高能阶,中心原子在没有获得外部能量时不能越过高能阶到达另一稳定位置,因此FRAM保持数据不需要电压,也不需要像DRAM一样周期性刷新。
由于铁电效应是铁电晶体所固有的一种偏振极化特性,与电磁作用无关,所以FRAM存储器的内容不会受到外界条件(诸如磁场因素)的影响,能够同普通ROM存储器一样使用,具有非易失性的存储特性。
FRAM的特点是速度快,能够像RAM一样操作,读写功耗极低,不存在如E2PROM的最大写入次数的问题;但受铁电晶体特性制约,FRAM仍有最大访问(读)次数的限制。
2.1 FRAM 存储单元结构FRAM的存储单元主要由电容和场效应管构成,但这个电容不是一般的电容,在它的两个电极板中间沉淀了一层晶态的铁电晶体薄膜。
前期的FRAM的每个存储单元使用2个场效应管和2个电容,称为“双管双容”(2T2C),每个存储单元包括数据位和各自的参考位,简化的2T2C存储单元结构如图2(a)所示。
2001年Ramtron设计开发了更先进的“单管单容”(1T1C)存储单元。
1T1C的FRAM所有数据位使用同一个参考位,而不是对于每一数据位使用各自独立的参考位。
1T1C的FRAM产品成本更低,而且容量更大。
简化的1T1C存储单元结构(未画出公共参考位)如图2(b)所示。
2.2 FRAM的读/写操作FRAM保存数据不是通过电容上的电荷,而是由存储单元电容中铁电晶体的中心原子位置进行记录。
直接对中心原子的位置进行检测是不能实现的。
实际的读操作过程是:在存储单元电容上施加一已知电场(即对电容充电),如果原来晶体中心原子的位置与所施加的电场方向使中心原子要达到的位置相同,中心原子不会移动;若相反,则中心原子将越过晶体中间层的高能阶到达另一位置,在充电波形上就会出现一个尖峰,即产生原子移动的比没有产生移动的多了一个类峰。
把这个充电波形同参考位(确定且已知)的充电波形进行比较,便可以判断检测的存储单元中的内容是“1”或“0”。
[!--empirenews.page--]无论是2T2C还是1T1C的FRAM,对存储单元进行读操作时,数据位状态可能改变而参考位则不会改变(这是因为读操作施加的电场方向与原参考位中原子的位置相同)。
由于读操作可能导致存储单元状态的改变,需要电路自动恢复其内容,所以每个读操作后面还伴随一个“预充”(precharge)过程来对数据位恢复,而参考位则不用恢复。
晶体原子状态的切换时间小于1ns,读操作的时间小于70ns,加上“预充”时间60ns,一个完整的读操作时间约为130ns。
图2 写操作和读操作十分类似,只要施加所要的方向的电场改变铁电晶体的状态就可以了,而无需进行恢复。
但是写操作仍要保留一个“预充”时间,所以总的时间与读操作相同。
FRAM的写操作与其它非易失性存储器的写操作相比,速度要快得多,而且功耗小。
2.3 FRAM的读写时序在FRAM读操作后必须有个“预充电”过程,来恢复数据位。
增加预充电时间后,FRAM一个完整的读操作周期为130ns,如图3(a)所示。
这是与SRAM和E2PROM不同的地方。
图3(b)为写时序。
3 FRAM与其它存储技术比较目前Ramtron公司的FRAM主要包括两大类:串行FRAM和并行FRAM。
其中串行FRAM 又分I2C两线方式的FM24××系列和SPI三线方式的FM25xx系列。
串行FRAM与传统的24xx、25xx型的E2PROM引脚及时序兼容,可以直接替换,如Microchip、Xicor公司的同型号产品;并行FRAM价格较高但速度快,由于存在“预充”问题,在时序上有所不同,不能和传统的
SRAM直接替换。
FRAM产品具有RAM和ROM优点,读写速度快并可以像非易失性存储器一样使用。
因铁电晶体的固有缺点,访问次数是有限的,超出限度,FRAM就不再具有非易失性。
Ramtron给出的最大访问次数是100亿次(10 10),但是并不是说在超过这个次数之后,FRAM 就会报废,而是它仅仅没有了非易失性,但它仍可像普通RAM一样使用。
(1)FRAM与E2PROMFRAM 可以作为E2PROM的第二种选择。
它除了E2PROM的性能外,访问速度要快得多。
但是决定使用FRAM之前,必须确定系统中一旦超出对FRAM的100亿次访问之后绝对不会有危险。
图3 (2)FRAM与SRAM从速度、价格及使用方便来看,SRAM优于FRAM;但是从整个设计来看,FRAM 还有一定的优势。
假设设计中需要大约3KB的SRAM,还要几百个字节用来保存启动代码的E2PROM配置。
非易失性的FRAM可以保存启动程序和配置信息。
如果应用中所有存储器的最大访问速度是70ns,那么可以使用1片FRAM完成这个系统,使系统结构更加简单。
(3)FRAM 与DRAMDRAM适用于那些密度和价格比速度更重要的场合。
例如DRAM是图形显示存储器的最佳选择,有大量的像素需要存储,而恢复时间并不是很重要。
如果不需要下次开机时保存上次内容,使用易失性的DRAM存储器就可以。
DRAM的作用与成本是FRAM无法比拟的。
事实证明,DRAM不是FRAM所能取代的。
[!--empirenews.page--](4)FRAM与Flash现在最常用的程序存储器是Flash,它使用十分方便而且越来越便宜,程序存储器必须是非易失性的,并且要相对低廉,还要比较容易改写。
而使用FRAM会受访问次数的限制。
4 FRAM与单片机接口下面介绍并行FRAM——FM1808与8051/52—的实际应用。
4.1 预充电信号的产生在大多数的8051系统中,对存储器的片选信号CE通常允许在多个读写访问操作时保持为低。
但这对FM1808不适用,必须在每次访问时CE由硬件产生一个正跳变。
标准8051核的一个机器周期包括12个时钟周期,ALE信号在每个机器周期中有效两次,除了对外部[1][2]下一页数据存储器访问时仅有效一次。
8051对外部存储器的读或写操作需要两个机器周期。
快速型8051如DS87C520或W77E58的一个机器周期仅需4个时钟周期,而在一些新的,如Philips 的8051中,一个机器周期为6个时钟周期,在任何一个机器周期中ALE信号都有效两次。
尽管有这些不同,仍可以用ALE信号和地址片选来产生可用作FRAM访问的CE信号。
要保证对FM1808的正确访问,必须注意两点:第一,FRAM的访问时间必须大于70ns;第二,ALE的高电平宽度必须大于60ns。
对于标准的8051/52,ALE信号的宽度因不同厂家略有不同。
一些快速的8051/52系列,如Dallas的DS87C520,Winbond的W77E58则更窄一些。
图4 根据前面的介绍,要实现对FM1808的正常操作,对于标准8051/52来说,主频不能高于20MHz;而对于高速型的8051/52,主频不应高于23MHz。
4.2 FM1808与8051的接口电路FM1808与8051接口电路如图4所示。
这里使用8051的ALE信号和由地址产生CE的片选信号相“或”来产生CE的正跳变。
2片32K×8的FRAM存储器,A15与ALE通过74FC32相“或”作为U2的片选,取反后作为U3的片选。
所以,U2的地址为0~7FFFH,U3的地址为8000H~FFFFH。
8051的RD信号与PSEN信号相“与”后作为U3的输出允许,所以U3作为程序或数据存储器使用。
当J1跳接块在右边时,U2与U3用法相同;而J1跳接在左边时,U2仅作为程序存储器。
要保证代码不会意外地被改写,仅需断开J2即可。
需要注意的是,由于逻辑门电路都有6~8ns的延时时间,在主频较高时对应使用快速型逻辑芯片(F系列)。
结语FRAM产品为我们提供了可使用的存储器的一种新选择,在原来使用E2PROM的应用中表现会更出色,为某些原来认为需要使用SRAM的E2PROM的应用系统找到一种新的途径。
但是由于最大访问次数的限制,要成为理想的通用存储器,FRAM还有很长的路要走。