铁电存储器原理及应用比较

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FeRAM铁电存储器魏双

FeRAM铁电存储器魏双

制造工艺
铁电存储器技术和标准的CMOS制造工艺相兼容。铁电薄膜被放置 于CMOS基层之上,并置于两电极之间,使用金属互连并钝化的方 法完成铁电存储器的制造。
特点
FeRAM具有快速写入、高耐久性、低功耗的特性,以下列举了FeRAM在一 些领域中与其他存储器相比的主要优势: 频繁掉电环境 任何非易失性存储器可以保留配置。可是,配置更改或电源失效情况随 时可能发生,因此,更高写入耐性的FeRAM允许无限的变更记录。任何时 间系统状态改变,都将写入新的状态。这样可以在电源关闭可用的时间 很短或立即失效时状态被写入存储器。 高噪声环境 在嘈杂的环境下向EEPROM写数据是很困难的。在剧烈的噪音或功率波动 情况下,EEPROM的写入时间过长会出现漏洞(以毫秒衡量),在此期间 写入可能被中断。错误的概率跟窗口的大小成正比。FeRAM的写入执行窗 口少于200ns。
应用
三、非易失性缓冲
铁电存贮器(FeRAM)可以在其它存储器之前快速存储数据。在此情况 下,信息从一个子系统非实时地传送到另一个子系统去。由于资料的 重要性, 缓冲区内的数据在掉电时不能丢失,在某些情况下,目标系 统是一个较大容量的存储装置。FeRAM以其擦写速度快、擦写次数多使 数据在传送之前得到存储。 典型应用:工业系统、银行自动提款机 (ATM), 税控机, 商业结算系 统 (POS), 传真机,未来将应用于硬盘非易失性高速缓冲存储器。

(整理)铁电存储器工作原理及应用

(整理)铁电存储器工作原理及应用

铁电存储器工作原理及应用

摘要:介绍铁电存储器(FRAM)的一般要领和基本原理,详细分析其读写操作过程及时序。将FRAM与其它存储器进行比较,分析在不同场合中各自的优缺点。最后以FM1808为例说明并行FPGA与8051系列单片机的实际接口,着重分析与使用一般SRAM的不同之处。

关键词:铁电存储器 FRAM原理 8051 存储技术

1 背景

铁电存储技术最在1921年提出,直到1993年美国Ramtron国际公司成功开发出第一个4Kb 的铁电存储器FRAM产品,目前所有的FRAM产品均由Ramtron公司制造或授权。最近几年,FRAM又有新的发展,采用了0.35μm工艺,推出了3V产品,开发出“单管单容”存储单元的FRAM,最大密度可在256Kb。

2 FRAM原理

FRAM利用铁电晶体的铁电

效应实现数据存储,铁电晶

体的结构如图1所示。铁电

效应是指在铁电晶体上施

加一定的电场时,晶体中心

原子在电场的作用下运动,

并达到一种稳定状态;当电

场从晶体移走后,中心原子

会保持在原来的位置。这是

由于晶体的中间层是一个

高能阶,中心原子在没有获

得外部能量时不能越过高

能阶到达另一稳定位置,因此FRAM保持数据不需要电压,也不需要像DRAM一样周期性刷新。由于铁电效应是铁电晶体所固有的一种偏振极化特性,与电磁作用无关,所以FRAM存储器的内容不会受到外界条件(诸如磁场因素)的影响,能够同普通ROM存储器一样使用,具有非易失性的存储特性。

FRAM的特点是速度快,能够像RAM一样操作,读写功耗极低,不存在如E2PROM的最大写入次数的问题;但受铁电晶体特性制约,FRAM仍有最大访问(读)次数的限制。

铁电晶体管存储的结构

铁电晶体管存储的结构

铁电晶体管存储的结构

铁电晶体管存储的结构由电容和场效应管构成,在两个电极板中间沉淀了一层晶态的铁电晶体薄膜。

铁电存储器利用铁电晶体的铁电效应实现数据存储,铁电效应指在铁电晶体上施加一定的电场时,晶体中心原子在电场作用下运动并达到一种稳定状态;当电场从晶体移走后,中心原子会保持在原来位置。前期铁电存储器每个存储单元使用2个场效应管和2个电容,称为"双管双容",每个存储单元包括数据位和各自的参考位;后来Ramtron设计开发了更先进的"单管单容"存储单元,所有数据位使用同一个参考位。

铁电随机存储器(FRAM)的工作原理

铁电随机存储器(FRAM)的工作原理

FRAM技术

Faler整理 2007-4-2

FRAM的工作原理

FRAM技术的核心是将微小的铁电晶体集成进电容内,使到FRAM产品能够象快速的非易失性RAM那样工作。通过施加电场,铁电晶体的电极化在两个稳定状态之间变换。内部电路将这种电极化的方向感知为高或低的逻辑状态。每个方向都是稳定的,即使在电场撤除后仍然保持不变,因此能将数据保存在存储器中而无需定期更新。

相对于其它类型的半导体技术而言,铁电存储器具有一些独一无二的特性。传统的主流半导体存储器可以分为两类--易失性和非易失性。易失性的存储器包括静态存储器SRAM(static random access memory)和动态存储器DRAM(dynamic random access memory)。 SRAM和DRAM在掉电的时候均会失去保存的数据。RAM 类型的存储器易于使用、性能好,可是它们同样会在掉电的情况下会失去所保存的数据。非易失性存储器在掉电的情况下并不会丢失所存储的数据。然而所有的主流的非易失性存储器均源自于只读存储器(ROM)技术。所有由ROM技术研发出的存储器则都具有写入信息困难的特点。这些技术包括有EPROM(几乎已经废止)、EEPROM和Flash。这些存储器不仅写入速度慢,而且只能有限次的擦写,写入时功耗大。

铁电存储器能兼容RAM的一切功能,并且和ROM技术一样,是一种非易失性的存储器。铁电存储器在这两类存储类型间搭起了一座跨越沟壑的桥梁--一种非易失性的RAM。

当一个电场被加到铁电晶体时,中心原子顺着电场的方向在晶体里移动。当原子移动时,它通过一个能量壁垒,从而引起电荷击穿。内部电路感应到电荷击穿并设置存储器。移去电场后,中心原子保持不动,存储器的状态也得以保存。铁电存储器不需要定时更新,掉电后数据能够继续保存,速度快而且不容易写坏。

铁电存储器工作原理和器件结构

铁电存储器工作原理和器件结构

铁电存储器工作原理和器件结构

摘要:铁电存储器与传统的非易失性存储器相比,具有功耗小、读写速度快、抗辐照能力强等优点,因此在一些特殊应用领域具有很好的市场。文章介绍了铁电存储器的基本工作原理,并介绍了两种主流的铁电材料。文章还介绍了铁电存储器的电路结构,包括2T2C、1T1C、1T2C以及链式结构,并说明了铁电存储器的读写过程。铁电存储器的器件结构主要有Planar 结构和Stacked 结构两种。Planar 结构制作工艺相对简单,但是集成度不高。Stacked 结构的集成度更高,对工艺的要求也更高。

1 铁电存储器简介

随着IT 技术的不断发展,对于非易失性存储器的需求越来越大,读写速度要求越来越快,功耗要求越来越小,现有的传统非易失性存储器,如EEPROM、FLASH 等已经难以满足这些需要了。

传统的主流半导体存储器可以分为两类:易失性和非易失性。易失性存储器包括静态存储器SRAM(Static RandomAccessMemory)和动态存储器DRAM(Dynamic RandomAccessMemory)。SRAM和DRAM在掉电的时候均会失去保存的数据。RAM 类型的存储器易于使用、性能好,可是它们同样会在掉电的情况下失去所保存的数据。

非易失性存储器在掉电的情况下并不会丢失所存储的数据。然而所有的主流非易失性存储器均源自于只读存储器(ROM)技术。正如你所猜想的一样,被称为只读存储器的东西肯定不容易进行写入操作,而事实上是根本不能写入。所有由ROM技术研发

出的存储器则都具有写入信息困难的特点。这些技术包括有EPROM、EEPROM和Flash。这些存储器不仅写入速度慢,而且只能有限次的擦写,写入时功耗大。相对于其他类型的半导体技术而言,铁电存储器具有一些独一无二的特性。铁电存储器能兼容RAM的一切功能,并且和ROM技术一样,是一种非易失性的存储器。铁电存储器在这两类存储类型间搭起了一座跨越沟壑的桥梁——一种非易失性的RAM。同传统的非易失性存储器相比,铁电存储器具有功耗小、读写速度快、抗辐照能力强等优点,因此受到很大关注。

铁电存储器

铁电存储器
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铁电存储器
吴立佳 2011.11.5
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一、背景介绍
铁电存储技术早在1921年提出,直到1993年美国 Ramtron国际公司成功开发出第一个4K位的铁电 存储器FRAM产品,目前所有的FRAM产品均由 Ramtron公司制造或授权。最近几年,FRAM又有 新的发展,采用了0.35 m工艺,推出了3V产品, 开发出“单管单容”存储单元的FRAM,最大密度 可达256K位。
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背景介绍
铁电存储器采用人工合成的铅锆钛(PZT) 材料形成 存储器结晶体。当一个电场被施加到铁晶体管时,中 心原子顺着电场停在低能量状态I位置,反之,当电场 反转被施加到同一铁晶体管时,中心原子顺着电场的 方向在晶体里移动并停在另一低能量状态II。
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二、FRAM原理及特点 原理及特点
FRAM利用铁电晶体的铁电效应实现数据存储,铁 电晶体的结构如图1所示。铁电效应是指在铁电晶体 上施加一定的电场时,晶体中心原子在电场的作用下 运动,并达到一种稳定状态;当电场从晶体移走后, 中心原子会保持在原来的位置。
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铁电随机存储器(FRAM)的工作原理

铁电随机存储器(FRAM)的工作原理

FRAM技术

Faler整理 2007-4-2

FRAM的工作原理

FRAM技术的核心是将微小的铁电晶体集成进电容内,使到FRAM产品能够象快速的非易失性RAM那样工作。通过施加电场,铁电晶体的电极化在两个稳定状态之间变换。内部电路将这种电极化的方向感知为高或低的逻辑状态。每个方向都是稳定的,即使在电场撤除后仍然保持不变,因此能将数据保存在存储器中而无需定期更新。

相对于其它类型的半导体技术而言,铁电存储器具有一些独一无二的特性。传统的主流半导体存储器可以分为两类--易失性和非易失性。易失性的存储器包括静态存储器SRAM(static random access memory)和动态存储器DRAM(dynamic random access memory)。 SRAM和DRAM在掉电的时候均会失去保存的数据。RAM 类型的存储器易于使用、性能好,可是它们同样会在掉电的情况下会失去所保存的数据。非易失性存储器在掉电的情况下并不会丢失所存储的数据。然而所有的主流的非易失性存储器均源自于只读存储器(ROM)技术。所有由ROM技术研发出的存储器则都具有写入信息困难的特点。这些技术包括有EPROM(几乎已经废止)、EEPROM和Flash。这些存储器不仅写入速度慢,而且只能有限次的擦写,写入时功耗大。

铁电存储器能兼容RAM的一切功能,并且和ROM技术一样,是一种非易失性的存储器。铁电存储器在这两类存储类型间搭起了一座跨越沟壑的桥梁--一种非易失性的RAM。

当一个电场被加到铁电晶体时,中心原子顺着电场的方向在晶体里移动。当原子移动时,它通过一个能量壁垒,从而引起电荷击穿。内部电路感应到电荷击穿并设置存储器。移去电场后,中心原子保持不动,存储器的状态也得以保存。铁电存储器不需要定时更新,掉电后数据能够继续保存,速度快而且不容易写坏。

铁电存储器

铁电存储器

铁电材料——主要性质
铁电材料由于自身结构的原因,具有很多性质, 同时具有了压电性,热释电性等,此外一些铁电晶体还 具有非线性光学效应,电光效应,声光效应,光折变效 应等。铁电材料这些功能使它们可以将声,光,电,热 联系起来,成为一类很具潜力的功能材料。 其中研究比较多主要有电滞回线,居里温度,介电常数 等与铁电存储器紧密联系的特性 。
因此,我们日常生活中使用的十进制数必须转换成等值的二 进制数才能存入存储器中。
存储器在我们现代社会生活中发挥着巨大的作用。如果说 信息处理技术是信息时代的心脏的话,那么存储器就是信息 时代的细胞。 1.它是计算机系统中的记忆设备,用来存放程序和数据。计 算机中的全部信息,包括输入的原始数据、计算机程序、中 间运行结果和最终运行结果都保存在存储器中。有了存储器, 计算机才有记忆功能,从而才能保证机器正常工作。
传统存储器现状:随着人们对于存储容量越来越高需求,科 研人员也在不断的提高存储密度,但存储密度的提高使得浮 动栅与导电沟道之间绝缘介质层厚度减到 2.5nm 左右,这已 经很接近它的极限厚度。再进一步减薄绝缘介质层的厚度将 无法保证数据的存储寿命。
为了满足市场需求,开发新一代具有存储密度高、功耗低、写 入/擦除速度快、抗疲劳能力强、数据保持能力强、与传统 CMOS工艺相兼容等特点的新型非易失性存储器则成为必然 趋势。 因此,科研人员对包括电荷俘获型存储器、铁电存储器 (FeRAM)、磁存储器(MRAM)、相变存储器(PCRAM)和阻变存 储器(ReRAM)在内的一些新型存储器进行了广泛的研究。

铁电存储器工作原理和器件结构

铁电存储器工作原理和器件结构

铁电存储器工作原理和器件结构

摘要:铁电存储器与传统的非易失性存储器相比,具有功耗小、读写速度快、抗辐照能力强等优点,因此在一些特殊应用领域具有很好的市场。文章介绍了铁电存储器的基本工作原理,并介绍了两种主流的铁电材料。文章还介绍了铁电存储器的电路结构,包括2T2C、1T1C、1T2C以及链式结构,并说明了铁电存储器的读写过程。铁电存储器的器件结构主要有Planar 结构和Stacked 结构两种。Planar 结构制作工艺相对简单,但是集成度不高。Stacked 结构的集成度更高,对工艺的要求也更高。

1 铁电存储器简介

随着IT 技术的不断发展,对于非易失性存储器的需求越来越大,读写速度要求越来越快,功耗要求越来越小,现有的传统非易失性存储器,如EEPROM、FLASH 等已经难以满足这些需要了。

传统的主流半导体存储器可以分为两类:易失性和非易失性。易失性存储器包括静态存储器SRAM(Static RandomAccessMemory)和动态存储器DRAM(Dynamic RandomAccessMemory)。SRAM和DRAM在掉电的时候均会失去保存的数据。RAM 类型的存储器易于使用、性能好,可是它们同样会在掉电的情况下失去所保存的数据。

非易失性存储器在掉电的情况下并不会丢失所存储的数据。然而所有的主流非易失性存储器均源自于只读存储器(ROM)技术。正如你所猜想的一样,被称为只读存储器的东西肯定不容易进行写入操作,而事实上是根本不能写入。所有由ROM技术研发

出的存储器则都具有写入信息困难的特点。这些技术包括有EPROM、EEPROM和Flash。这些存储器不仅写入速度慢,而且只能有限次的擦写,写入时功耗大。相对于其他类型的半导体技术而言,铁电存储器具有一些独一无二的特性。铁电存储器能兼容RAM的一切功能,并且和ROM技术一样,是一种非易失性的存储器。铁电存储器在这两类存储类型间搭起了一座跨越沟壑的桥梁——一种非易失性的RAM。同传统的非易失性存储器相比,铁电存储器具有功耗小、读写速度快、抗辐照能力强等优点,因此受到很大关注。

铁电存储器的原理及应用

铁电存储器的原理及应用

Ramtron推出首款2兆位串行F-RAM存储器FM25H20

类别:新品推荐发布时间:2008-4-17 阅读:879

Ramtron推出首款2兆位串行F-RAM存储器,采用8脚TDFN (5.0 x 6.0 mm) 封装。FM25H20采用先进的130纳米CMOS工艺生产,是高密度的非易失性F-RAM存储器,以低功耗操作,并备有高速串行外设接口(SPI)。该3V、2Mb串行F-RAM器件以最大的总线速度写入,具有几乎无限的耐用性,通过微型封装提供更大的数据采集能力,使系统设计人员能够在计量和打印机等高级应用中减少成本和板卡空间。

FM25H20是串行闪存的理想替代产品,用于要求低功耗和最小板卡空间的精密电子系统中,包括便携式医疗设备如助听器等,它们实际上是微型数据处理器,但受到空间有限及功耗低的限制。与闪存相比,F-RAM的优势包括大幅降低工作电流、写入速度更快、写入耐用性更比闪存高出多个数量级。

Ramtron 战略市场拓展经理Duncan Bennett 解释道:“对于那些需要在其新一代应用中提高数据采集能力,却不增加板卡空间的计量和打印机客户而言,这款2Mb 串行F-RAM 是自然的产品延伸。FM25H20以相同的小占位面积,为半兆位串行F-RAM 客户提供高达四倍的存储能力。除提升现有系统外,这种技术发展还推动F-RAM 进入多个需要低功耗存储器而空间严重受限的新兴市场,如便携式医疗设备。”

FM25H20是256K x 8位非易失性存储器,以高达40MHz的总线速度进行读写操作,具有几乎无限的耐用性、10年的数据保存能力,以及低工作电流。该器件设有工业标准SPI接口,优化了F-RAM的高速写入能力。FM25H20还备有软件和硬件写保护功能,能避免意外的写入与数据损坏。

铁电存储器介绍

铁电存储器介绍

一、什么是铁电存储器(F-RAM)

相对于其它类型的半导体技术而言,铁电随机存储器(F-RAM)具有一些独一无二的特性。已经确定的半导体存储器可以分为两类:易失性和非易失性。易失性存储器包括静态随机存取存储器(SRAM)和动态随机存取存储器(DRAM)以及其他类型存储器。RAM类型存储器易于使用,高性能,但它们有着共同的弱点:在掉电的情况下会失去所保存的数据。

F-RAM芯片技术采用一种锆钛酸铅[Pb(Zr,Ti)O3,简称为PZT的铁电薄膜材料,该铁电材料的晶体微结构如图1所示。在铁电晶体中位于晶胞中心的Ti(或Zr)原子在外电场作用下,向上或向下产生物理偏移,撤掉外电场后,仍表现出一定的电极性,铁电存储器就是利用这两个稳定态来代表数字逻辑中的“1”和“0”,从而来存储信息。与传统RAM器件不同,F-RAM在电源被关闭或中断时,由于PZT 晶体具有剩余极化的特性,所以能够保留其所存储的数据。这种独特的性质使F-RAM成为一个低功耗、非易失性存储器。同时由于在离子辐照情况下,铁电电容所存储“1”和“0”时的两个态,很难被改变,所以具有很好的抗辐射性能。

图1 具有钙钛矿结构PZT薄膜结构图

铁电存储器技术和标准的CMOS制造工艺相兼容。铁电薄膜被放置于CMOS基层之上,并置于两电极之间,使用金属互连并钝化后完成铁电制造过程,器件结构如图2所示。

图2 铁电存储器存储单元剖面图

F-RAM、ROM都属于非易失性存储器,在掉电情况下数据不会丢失。新一代ROM,像EEPROM(可擦可编程只读存储器)和Flash存储器,可以被擦除,并多次重复编程,但它们需要高电压写入且写入速度非常慢。基于ROM技术的存储器读写周期有限(仅为1E5次),使

基于铁电存储器的双机串行的通信技术

基于铁电存储器的双机串行的通信技术

基于铁电存储器的双机串行的通信

技术

基于铁电存储器的双机串行通信技术可以说是一种非常高效、稳定的通信方式。铁电存储器作为一种新型的非易失性存储介质,其存储过程是通过电场的变化来实现的。由于电场不会因为外界电磁干扰而消失,所以铁电存储器的数据可靠性非常高。因此,铁电存储器逐渐成为了双机串行通信技术的首选存储介质。

在双机串行通信技术中,使用了两个计算机(简称主机)通过串行线路进行通信。这种通信方式的优点在于传输数据的速度相对较快,且通信距离远。而且串行通信具有可靠性高、数据传输稳定等特点。因此,本文将从以下几方面介绍和分析基于铁电存储器的双机串行通信技术。

一、双机串行通信技术的工作原理

双机串行通信技术的工作原理可以简单描述为:主机1将要传输的数据通过串行线路发送给主机2,主机2收到数据后进行处理,然后将结果返回给主机1。这个过程一般是循环进行的,直到所有的数据传输完毕。在这个过程中,数据是通过串行线路逐个传输的,传输速率一般较快,数据传输的稳定性和可靠性也比较高。

二、铁电存储器的优势

铁电存储器的存储速度非常快,甚至可以与闪存相比。铁电存储器的特点是电容可以改变,电容值的改变可以反映出芯片的存储状态。存储能力非常强,同一块铁电存储器可以被反复写入和擦除,其数据持久性与已有的存储器相比,具有更强的稳定性。而且铁电存储器还具有抗辐射、环保等特点,因此在航天、军事等领域得到了广泛的应用。

三、基于铁电存储器的双机串行通信技术的优点

基于铁电存储器的双机串行通信技术具有以下几个优点:

1、数据传输稳定

铁电存储器的数据持久性非常高,不容易受到外部环境的影响。同时,在双机串行通信过程中,数据也是逐个传输的,数据传输的稳定性非常高,不容易出现丢失等情况。

铁电存储器的原理和应用

铁电存储器的原理和应用

铁电存储器的原理和应用

1. 铁电存储器简介

铁电存储器是一种非挥发性存储器,可以在断电后仍能保留数据。它基于铁电

材料的特殊性质实现数据的存储和读取。铁电存储器具有快速读写速度、低功耗、高可靠性等优点,因此在许多电子设备中得到广泛应用。

2. 铁电存储器的工作原理

铁电存储器的工作原理基于铁电材料的特殊性质。铁电材料具有一种被称为铁

电效应的特性,即在外加电场的作用下,它们可以产生永久性的电极极化。这意味着铁电材料可以用不同的电场极化方向表示逻辑值“0”和“1”。

铁电存储器主要由两个部分组成:电容和晶体管。每个存储单元由一个铁电电

容和一个晶体管连接组成。当写入数据时,通过对晶体管施加恒定电压来选择存储单元。然后,根据所需的数据,将电压施加到铁电电容上以改变其极化方向表示数据。在读取数据时,通过测量铁电电容的电压来确定数据。

3. 铁电存储器的应用

铁电存储器由于其快速读写速度、低功耗以及非挥发性的特点,在许多领域得

到了广泛应用。

3.1 电子设备

铁电存储器在电子设备中应用广泛。它可以用于各种存储需求,包括个人电脑、平板电脑、智能手机等。由于其非挥发性的特性,即使在断电后也可以保留数据,所以在这些设备中用作操作系统和应用程序的主存储器非常适合。

3.2 物联网

在物联网领域,铁电存储器也有重要应用。物联网设备通常需要具备非挥发性

存储器以保留传感器数据、配置信息等重要数据。铁电存储器可以提供快速读写速度和低功耗,同时具备高可靠性,非常适合用于物联网设备的存储需求。

3.3 军事和航天领域

铁电存储器在军事和航天领域也发挥着重要作用。由于其快速读写速度和高可

铁电存储器的原理特点

铁电存储器的原理特点

铁电存储器的原理特点

铁电存储器的基本原理和特点概括如下:

1. 铁电存储器利用了铁电材料在电场作用下极化方向可反复翻转的特性。

2. 根据极化方向不同,代表了存储的“0”和“1”二进制数据。

3. 典型结构是1transistor 1capacitor,选用铁电薄膜作为电容的介质。

4. 根据读写电路施加的电场方向,使薄膜中铁电域的方向翻转,完成数据写入。

5. 读出电路可以检测电容两端的饱和极化电荷,判断储存的数据值。

6. 每个存储单元可实现非易失性数据存储,断电后不会丢失,且写入速度快。

7. 与DRAM相比,铁电存储器不需要刷新电路,结构更简单。

8. 铁电材料也可以制成铁电晶体,应用在非易失性存储器中。

9. 利用铁电储存的数据读取速度快,可用于缓存或寄存器。

10. 铁电材料可实现比电容大得多的极化量,有利于多位数据的存储。

11. 但存储容量受限于单元尺寸难以继续缩小。

12. 也有小容量的铁电快闪存储器用于可穿戴设备中。

13. 铁电存储器成本较高,难以替代主流存储器,常用于专用领域。

14. 其非易失性和高速特点适合工控、医疗等对可靠性要求高的应用。

15. 铁电材料和制程技术的改进,也是未来研究的重点。

铁电材料在储能技术中的应用研究

铁电材料在储能技术中的应用研究

铁电材料在储能技术中的应用研究随着现代科学技术的发展和人们生活水平的提高,对能源的需求不断增加。然而,传统的能源使用方式不仅导致环境污染,还面临着能源不足等问题。因此,研究和开发储能技术成为解决能源问题的重要途径之一。在众多储能技术中,铁电材料具有广泛的应用前景。本文主要介绍铁电材料在储能技术中的应用研究。

一、铁电材料的基本概念

铁电材料指的是具有铁电性质的材料。铁电性质是指在外加电场的作用下,铁电材料产生极化,而且在去掉电场后极化仍然存在。在复摆论证中,第一次提出关于铁电的假说。1964年,英国物理学家D. Jaffe首次制备出了铌酸锂晶体,这一材料同时也是第一种完全符合铁电定义的材料。

铁电材料的结构与普通的材料有所不同。铁电材料中有一些偏差离子,其在材料晶格中的位置不是完全对称的,这些离子和晶格中的其他离子之间形成了偶极场,当材料中的阳离子向外移动时,阴离子会向材料内部移动,从而产生一个电场。这一电场会引起电荷的分离和电荷的积累,从而形成极化。

二、铁电材料在储能技术中的应用

铁电材料在储能技术中具有广泛的应用前景,在以下几个方面

都有不同程度的应用。

1.钨酸铁钾晶体的应用

钨酸铁钾晶体是一种由钨酸铁二钾和水分子组成的储能材料,

其化学结构为KH2[Fe(WO4)2]·H2O。这种储能材料由于其在高温

高压下的相变性质,使得人们可以通过调节温度和压力,控制其

在相变过程中释放出的能量,从而实现储能和能量释放的可控性。此外,钨酸铁钾晶体还具有高温稳定性和较高的储能密度等特点,因此被广泛应用于功率电子、太阳能电池、电动汽车等领域。

铁电存储器的三个典型应用

铁电存储器的三个典型应用

铁电存储器的三个典型应用

2009-07-24 09:46:51 来源:与非网

摘要:铁电存储器(FRAM)以其非挥发性,读写速度块, 擦写次数多,和低功耗等特点被广泛应用各行各业. 文章首先介绍铁电的原理, 之后分别介绍铁电储存器在电表, 税款机, 和电子道路收费系统的典型应用.

关键词: 铁电储存器, 应用

1 铁电储存器的原理

上图是铁电的原子结构图. 当一个电场施加到铁电晶体时, 中心原子会顺着电场的方向在晶体里移动. 当原子移动通过一个能量壁垒时, 会引起电荷击穿. 内部电路感应到电荷击穿并设置储存器. 移去电场后, 中心原子保持不动, 储存器的状态也得以保存.铁电储存器不需要定时更新, 调电后数据却能够继续保存, 速度快而且不容易写坏. 铁电储存器就是根据该原理设计而成.

2 铁电储存器的典型应用

2.1 铁电存储器在电表存储中的应用

2.1.1 概述

在电子技术日新月异、新型多功能电能表层出不穷的今天,电能表中存储器的选择也是多种多样,存储器的好坏直接关系到电能表的正常使用

和测量精度。目前应用最多的方案仍是SRAM加后备电池、EEPROM、NVRAM 这三种。但这三种方案均存在着缺陷。其中SRAM加后备电池的方法增加了硬件设计的复杂性,同时由于加了电池又降低了系统的可靠性;而EEPROM的可擦写次数较少(约100万次),且写操作时间较长(约10 ms);而NVRAM的价格问题又限制了它的普及应用。因此,工程人员在设计电能表的存储模块时,往往要花很大的精力来完善方案,才能使电表数据准确无误的写入存储器中。由于所有的非易失性记忆体均源自ROM技术。你能想象到,只读记忆体的数据是不可能修改的。所有以它为基础发展起来的非易失性记忆体都很难写入,而且写入速度慢,它们包括EPROM(现在基本已经淘汰),EEPROM和Flash,它们存在写入数据时需要的时间长,擦写次数低,写数据功耗大等缺点。

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铁电存储器原理及应用比较摘要:介绍铁电存储器(FRAM)的一般要领和基本原理,详细分析其读写操作过程及时序。将FRAM与其它存储器进行比较,分析在不同场合中各自的优缺点。最后以FM1808为例说明并行FPGA与8051系列单片机的实际接口,着重分析与使用一般SRAM的不同之处。关键词:铁电存储器 FRAM原理 8051 存储技术1 背景铁电存储技术最在1921年提出,直到1993年美国Ramtron国际公司成功开发出第一个4Kb的铁电存储器FRAM产品,目前所有的FRAM产品均由Ramtron公司制造或授权。最近几年,FRAM又有新的发展,采用了0.35μm工艺,推出了3V产品,开发出“单管单容”存储单元的FRAM,最大密度可在256Kb。2 FRAM原理FRAM利用铁电晶体的铁电效应实现数据存储,铁电晶体的结构如图1所示。铁电效应是指在铁电晶体上施加一定的电场时,晶体中心原子在电场的作用下运动,并达到一种稳定状态;当电场从晶体移走后,中心原子会保持在原来的位置。这是由于晶体的中间层是一个高能阶,中心原子在没有获得外部能量时不能越过高能阶到达另一稳定位置,因此FRAM保持数据不需要电压,也不需要像DRAM一样周期性刷新。由于铁电效应是铁电晶体所固有的一种偏振极化特性,与电磁作用无关,所以FRAM存储器的内容不会受到外界条件(诸如磁场因素)的影响,能够同普通ROM存储器一样使用,具有非易失性的存储特性。FRAM的特点是速度快,能够像RAM一样操作,读写功耗极低,不存在如E2PROM的最大写入次数的问题;但受铁电晶体特性制约,FRAM仍有最大访问(读)次数的限制。2.1 FRAM 存储单元结构FRAM的存储单元主要由电容和场效应管构成,但这个电容不是一般的电容,在它的两个电极板中间沉淀了一层晶态的铁电晶体薄膜。前期的FRAM的每个存储单元使用2个场效应管和2个电容,称为“双管双容”(2T2C),每个存储单元包括数据位和各自的参考位,简化的2T2C存储单元结构如图2(a)所示。2001年Ramtron设计开发了更先进的“单管单容”(1T1C)存储单元。1T1C的FRAM所有数据位使用同一个参考位,而不是对于每一数据位使用各自独立的参考位。1T1C的FRAM产品成本更低,而且容量更大。简化的1T1C存储单元结构(未画出公共参考位)如图2(b)所示。2.2 FRAM的读/写操作FRAM保存数据不是通过电容上的电荷,而是由存储单元电容中铁电晶体的中心原子位置进行记录。直接对中心原子的位置进行检测是不能实现的。实际的读操作过程是:在存储单元电容上施加一已知电场(即对电容充电),如果原来晶体中心原子的位置与所施加的电场方向使中心原子要达到的位置相同,中心原子不会移动;若相反,则中心原子将越过晶体中间层的高能阶到达另一位置,在充电波形上就会出现一个尖峰,即产生原子移动的比没有产生移动的多了一个类峰。把这个充电波形同参考位(确定且已知)的充电波形进行比较,便可以判断检测的存储单元中的内容是“1”或“0”。[!--empirenews.page--]无论是2T2C还是1T1C的FRAM,对存储单元进行读操作时,数据位状态可能改变而参考位则不会改变(这是因为读操作施加的电场方向与原参考位中原子的位置相同)。由于读操作可能导致存储单元状态的改变,需要电路自动恢复其内容,所以每个读操作后面还伴随一个“预充”(precharge)过程来对数据位恢复,而参考位则不用恢复。晶体原子状态的切换时间小于1ns,读操作的时间小于70ns,加上“预充”时间60ns,一个完整的读操作时间约为130ns。图2 写操作和读操作十分类似,只要施加所要的方向的电场改变铁电晶体的状态就可以了,而无需进行恢复。但是写操作仍要保留一个“预充”时间,所以总的时间与读操作相同。FRAM的写操作与其它非易失性存储器的写操作相比,速度要快得多,而且功耗小。2.3 FRAM的读写时序在FRAM读操作后必须有个“预充电”过程,来恢复数据位。增加预充电时间后,FRAM一个完整的读操作周期为130ns,如图3(a)所示。这是与SRAM和E2PROM不同的地方。图3(b)为写时序。3 FRAM与其它存储技术比较目前Ramtron公司的FRAM主要包括两大类:串行FRAM和并行FRAM。其中串行FRAM 又分I2C两线方式的FM24××系列和SPI三线方式的FM25xx系列。串行FRAM与传统的24xx、25xx型的E2PROM引脚及时序兼容,可以直接替换,如Microchip、Xicor公司的同型号产品;并行FRAM价格较高但速度快,由于存在“预充”问题,在时序上有所不同,不能和传统的

SRAM直接替换。FRAM产品具有RAM和ROM优点,读写速度快并可以像非易失性存储器一样使用。因铁电晶体的固有缺点,访问次数是有限的,超出限度,FRAM就不再具有非易失性。Ramtron给出的最大访问次数是100亿次(10 10),但是并不是说在超过这个次数之后,FRAM 就会报废,而是它仅仅没有了非易失性,但它仍可像普通RAM一样使用。(1)FRAM与E2PROMFRAM 可以作为E2PROM的第二种选择。它除了E2PROM的性能外,访问速度要快得多。但是决定使用FRAM之前,必须确定系统中一旦超出对FRAM的100亿次访问之后绝对不会有危险。图3 (2)FRAM与SRAM从速度、价格及使用方便来看,SRAM优于FRAM;但是从整个设计来看,FRAM 还有一定的优势。假设设计中需要大约3KB的SRAM,还要几百个字节用来保存启动代码的E2PROM配置。非易失性的FRAM可以保存启动程序和配置信息。如果应用中所有存储器的最大访问速度是70ns,那么可以使用1片FRAM完成这个系统,使系统结构更加简单。(3)FRAM 与DRAMDRAM适用于那些密度和价格比速度更重要的场合。例如DRAM是图形显示存储器的最佳选择,有大量的像素需要存储,而恢复时间并不是很重要。如果不需要下次开机时保存上次内容,使用易失性的DRAM存储器就可以。DRAM的作用与成本是FRAM无法比拟的。事实证明,DRAM不是FRAM所能取代的。[!--empirenews.page--](4)FRAM与Flash现在最常用的程序存储器是Flash,它使用十分方便而且越来越便宜,程序存储器必须是非易失性的,并且要相对低廉,还要比较容易改写。而使用FRAM会受访问次数的限制。4 FRAM与单片机接口下面介绍并行FRAM——FM1808与8051/52—的实际应用。4.1 预充电信号的产生在大多数的8051系统中,对存储器的片选信号CE通常允许在多个读写访问操作时保持为低。但这对FM1808不适用,必须在每次访问时CE由硬件产生一个正跳变。标准8051核的一个机器周期包括12个时钟周期,ALE信号在每个机器周期中有效两次,除了对外部[1][2]下一页数据存储器访问时仅有效一次。8051对外部存储器的读或写操作需要两个机器周期。快速型8051如DS87C520或W77E58的一个机器周期仅需4个时钟周期,而在一些新的,如Philips 的8051中,一个机器周期为6个时钟周期,在任何一个机器周期中ALE信号都有效两次。尽管有这些不同,仍可以用ALE信号和地址片选来产生可用作FRAM访问的CE信号。要保证对FM1808的正确访问,必须注意两点:第一,FRAM的访问时间必须大于70ns;第二,ALE的高电平宽度必须大于60ns。对于标准的8051/52,ALE信号的宽度因不同厂家略有不同。一些快速的8051/52系列,如Dallas的DS87C520,Winbond的W77E58则更窄一些。图4 根据前面的介绍,要实现对FM1808的正常操作,对于标准8051/52来说,主频不能高于20MHz;而对于高速型的8051/52,主频不应高于23MHz。4.2 FM1808与8051的接口电路FM1808与8051接口电路如图4所示。这里使用8051的ALE信号和由地址产生CE的片选信号相“或”来产生CE的正跳变。2片32K×8的FRAM存储器,A15与ALE通过74FC32相“或”作为U2的片选,取反后作为U3的片选。所以,U2的地址为0~7FFFH,U3的地址为8000H~FFFFH。8051的RD信号与PSEN信号相“与”后作为U3的输出允许,所以U3作为程序或数据存储器使用。当J1跳接块在右边时,U2与U3用法相同;而J1跳接在左边时,U2仅作为程序存储器。要保证代码不会意外地被改写,仅需断开J2即可。需要注意的是,由于逻辑门电路都有6~8ns的延时时间,在主频较高时对应使用快速型逻辑芯片(F系列)。结语FRAM产品为我们提供了可使用的存储器的一种新选择,在原来使用E2PROM的应用中表现会更出色,为某些原来认为需要使用SRAM的E2PROM的应用系统找到一种新的途径。但是由于最大访问次数的限制,要成为理想的通用存储器,FRAM还有很长的路要走。

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