实验报告-半导体泵浦激光原理
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激光器主要有:工作物质、谐振腔、泵浦源组成。工作物质主要提供粒子数反转。
泵浦过程使粒子从基态E1抽运到激发态E3,E3上的粒子通过无辐射跃迁(该过程粒子从高能级跃迁到低能级时能量转变为热能或晶格振动能,但不辐射光子),迅速转移到亚稳态E2。E2是一个寿命较长的能级,这样处于E2的粒子不断累积,E1上的粒子又由于抽运过程而减少,从而实现E2与E1能级间的粒子数反转。
激光产生必须有能提供光学正反馈的谐振腔。处于激发态的粒子由于不稳定性而自发辐射到基态,自发辐射产生的光子各个方向都有,偏
离轴向的光子很快逸出腔外,只有沿轴向的光子,部分通过输出镜输出,部分被反射回工作物质,在两个反射镜间往返多次被放大,形成受激辐射的光放大即产生激光。
光的倍频是一种最常用的扩展波段的非线性光学方法。激光倍频是将频率为ω的光,通过晶体中的非线性作用,产生频率为2ω的光。
当光与物质相互作用时,物质中的原子会因感应而产生电偶极矩。单位体积内的感应电偶极矩叠加起来,形成电极化强度矢量。电极化强度产生的极化场发射出次级电磁辐射。当外加光场的电场强度比物质原子的内场强小得多时,物质感生的电极化强度与外界电场强度成正比。
P=ε0χE
在激光没有出现前,当有几种不同频率的光波同时与该物质作用时,各种频率的光都线性独立地反射、折射和散射,满足波的叠加原理,不会产生新的频率。
当外界光场的电场强度足够大时(如激光),物质对光场的响应与场强具有非线性关系:
P=αE+βE2+γE3+⋯
式中α,β,γ,…均为与物质有关的系数,且逐次减小。
考虑电场的平方项
E=E0cosωt
P(2)=βE2=βE02cos2ωt=βE02
(1+cos2ωt)
出现直流项和二倍频项cos2ωt,直流项称为光学整流,当激光以一定角度入射到倍频晶体时,在晶体产生倍频光,产生倍频光的入射角称为匹配角。
倍频光的转换效率为倍频光与基频光的光强比,通过非线性光学理论可以得到:
η=I2ω
ω
∝βL2Iω
sin2(Δkl/2)
式中L为晶体长度,Iω、I2ω分别为入射的基频光、输出的倍频光光强。
在正常色散情况下,倍频光的折射率n2ω总是大于基频光的折射率,所以相位失配,双折射晶体中的o光和e光折射率不同,且e光的折射率随着其传播方向与光轴间夹角的变化而改变,可以利用双折射晶体中o光、e光间的折射率差来补偿介质对不同波长光的正常色散,实现相位
匹配。
【实验装置】
图4 实验装置示意图
实验使用808nm LD泵浦晶体得到1.064μm 近红外激光,再利用KTP晶体进行腔内倍频得到0.53μm的绿激光,长度为3x3x1mm掺杂浓度3at% α轴向切割Nd:YVO4晶体作为工作介质,入射到内部的光约95%被吸收,采用ΙΙ类相位匹配2x2x5mmKTP晶体作为倍频晶体,它的通光面同时对1.064μm、0.53μm高透,采用端面泵浦以提高空间耦合效率,用等焦距为3mm 的梯度折射率透镜收集808LD激光聚焦成
0.1μm的细光束,使光束束腰在Nd:YVO4
晶体内部,谐振腔为平凹型,后腔片受热后弯曲。输出镜用K9玻璃,R为50mm,对808.5,1.604高反,0.53增透。用632.8nmHe-Ne激光器作为
准直光源。
【操作步骤】
1、将808nmLD固定在二维调节架,将He-Ne
632.nm红光通过白屏小孔聚到折射率梯度
透镜上。让He-Ne激光和小孔及808nmLD在
同一轴线上。
2、将Nd:YVO4晶体安装在二维调节架,将红光
通过晶体并将返回的光点通过小孔。
3、将输出镜固定在四维调节架上。调节输出镜
使返回光点通过小孔。对于有一定曲率的输
出镜,会有几个光斑,应区分从球心返回的
光斑。
4、在Nd:YVO4晶体和输出镜之间插入KTP晶
体,接通电源,调节多圈电位器。
5、产生532nm倍频绿激光。调节输出镜,LD调
节架,使532nm绿光功率最大。
【实验数据记录与分析】
表1 光源电流与光功率关系 可调光源电
流I/mA 20 40 60 80 100 120 140 160
180 200 808nmLD 激光光功率P/mW 0.04 0.10 0.20 1.95 7.03 13.3 20.1 27.5 35.4
43.1 可调光源电
流I/mA 220 240 260 280 300 320 340 360 380 400
808nmLD 激光光功率P/mW 49.0 53.7 59.0 63.9 69.5 75.4 82.1 91.2 101.3 110.5
将数据导入Origin8.5,并拟合为平滑曲线如下:
20
40
6080
100
120激光功率P /m W 可调电源输出电流I/mA
半导体激光LD 的PI 特性曲线
图4 实验测得LD 的PI 特性曲线
由激光原理可知:工作物质一定时,LD 输出激光频率与谐振腔长度和激励源强度有关,即输出频率取决于PN 结温度和注入电流大小。
一般半导体激光器的发光特性如图5所示。可以看出在温度一定时,驱动电流低于阈值电流(门限电流)时,激光器输出功率趋近于零,此即为LD 荧光区;只有当驱动电流高于阈值电流时才能产生激光,即为激光区,在这个区域内,输出功率随电流I 的增大而迅速呈似线性式增大。 024681012
510
1520
25
输出功率P 正向电流I 门限电流荧光区
激光区
图5 半导体LD 一般PI 特性曲线
对比图5,从图4可看出实验测得PI 曲线大致符合理论,一定程度说明数据正确性。可容