LCD生产流程
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LCD生产流程
作者:41233X01 蔡晓烨
一、摘要
LCD 的构造是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶盒,下基板玻璃上设置TFT(薄膜晶体管),上基板玻璃上设置彩色滤光片,通过TFT上的信号与电压改变来控制液晶分子的转动方向,从而达到控制每个像素点偏振光出射与否而达到显示目的。一般地,TFT-LCD由上基板组件、下基板组件、液晶、驱动电路单元、背光灯模组和其他附件组成,其中:下基板组件主要包括下玻璃基板和TFT阵列,而上基板组件由上玻璃基板、偏振板及覆于上玻璃基板的膜结构,液晶填充于上、下基板形成的空隙内。LCD的制造工艺有以下几部分:在TFT 基板上形成TFT阵列;在彩色滤光片基板上形成彩色滤光图案及ITO导电层;用两块基板形成液晶盒;安装外围电路、组装背光源等的模块组装。
二、目录
1、前言
2、LCD流程介绍
(1)LCD显示基本结构和原理
(2)工艺流程简介
3、LCD的主要制造工序
1、前言
一般地,TFT-LCD由上基板组件、下基板组件、液晶、驱动电路单元、背光灯模组和其他附件组成,其中:下基板组件主要包括下玻璃基板和TFT阵列,而上基板组件由上玻璃基板、偏振板及覆于上玻璃基板的膜结构,液晶填充于上、下基板形成的空隙内。在下玻璃基板的内侧面上,布满了一系列与显示器像素点对应的导电玻璃微板、TFT半导体开关器件以及连接半导体开关器件的纵横线,它们均由光刻、刻蚀等微电子制造工艺形成。
在上玻璃基板的内侧面上,敷有一层透明的导电玻璃板,一般为氧化铟锡(Indium Tin Oxide, 简称ITO)材料制成,它作为公共电极与下基板上的众多导电微板形成一系列电场。若LCD 为彩色,则在公共导电板与玻璃基板之间布满了三基色(红、绿、蓝)滤光单元和黑点,其中黑点的作用是阻止光线从像素点之间的缝隙泄露,它由不透光材料制成,由于呈矩阵状分布,故称黑点矩阵(Black matrix)。
2、LCD流程介绍
工艺流程简述
前段工位:ITO玻璃的投入—玻璃清洗与干燥—涂光刻胶—前烘烤—曝光显影—蚀刻—去膜—图检—清洗干燥—TOP涂布—烘烤—固化—清洗—涂取向剂—固化—清洗—丝网印刷—烘烤—喷衬垫料—对位压合—固化
后段工位:切割—Y轴裂片—灌注液晶—封口—X 轴裂片—磨边一次清洗—再定向—光台目检—电测图形检验—二次清洗—特殊制程—背印—干墨—贴片—热压—成检外观检判—上引线—终检—包装—入库
一、LCD显示基本结构和原理:
一般TN型液晶显示器结构如图所示。
1、偏光片:偏光片有一个固定的偏光轴。偏光片的作用是只允许振动方向与其偏光轴方向相同的光通过,而振动方向与偏光轴垂直的光将被其吸收。这样,当自然光通过液晶盒的入射偏光片(称为起偏器)后,只剩下振动方向与起偏器偏光轴相同的光,即成为线性偏振光。
2、ITO玻璃:在平整的玻璃基板上镀了一层氧化铟锡层。
3、液晶:具有类似晶体的各向异性的液态物质。
4、取向层:液晶盒中玻璃片内侧的整个显示区覆盖着一层有机物聚酰亚胺取向薄层,这个取向层经用毛绒布定向摩擦,在薄层上会形成数纳米宽的细沟槽,从而会使长棒型的液晶分子沿沟槽平行排列。而上下两片玻璃的取向层是相互垂直的。故在液晶层中间的液晶分子是逐渐扭曲的。
扭曲向列相液晶显示的工作原理
如下图:
无外加电压()
排列盒
有外加电压()
液晶旋转了90度。故无外加电压时光能透过,图5-2-2(a),而在施加一定电压时,由于液晶分子发生了偏转,分子长轴方向与电场方向一致,光的旋光性消失,光被遮断,图5-2-2(b)。如果把电极制作成图形,即实现了显示。
但如果在平行偏光片之间设置TN排列液晶盒,则光的透过与遮断关系就恰好与上述情形相反。这种TN效应已成为目前正在广泛普及的TN型液晶显示元件的工作原理并获得实际应用,可以用于实现白色背景上黑色图案或者黑色背景上白色图案的显示。
二、工艺流程简介:
液晶显示器主要由ITO导电玻璃、液晶、偏光片、封接材料(边框胶)、导电胶、取向层、衬垫料等组成。液晶显示器制造工艺流程就是这些材料的加工和组合过程。
液晶显示器制造全部过程大体分为40多道工序,其中实际TN-LCD制程有20多道工序。实际STN-LCD制程有30多道工序。有些工序是特殊制程,只当客户有特殊要求才实施。这些工序又可分为ITO图形刻蚀(光刻)、取向排列、空盒制作、液晶灌注和成品检测与包装五个阶段。下面按顺序具体介绍液晶显示器的制造过程。
1、ITO图形刻蚀(光刻):
本阶段是在导电玻璃上刻蚀出显示所需要的ITO电极图形。在流程图上它包括的工艺步骤是①~②。
①ITO玻璃投入(GRADING)
根据产品要求,选择合适的ITO玻璃装入传递篮具中,它要求ITO玻璃的规格型号符合产品要求。装篮要切记ITO层面一定朝上插入篮具中,如图1所示。
ITO膜
玻璃基板
图1 ITO玻璃结构图
②玻璃清洗与干燥(CLEANING)
工序的第一步是将符合后产规格的ITO玻璃用清洗剂、去离子水(DI水)等清洗干净,并用物理或化学的方法将ITO玻璃表面的杂质、油污洗净,然后把水除去并干燥,保证下道工序的加工质量。
③涂光刻胶(PR COA T)
在洁净的ITO玻璃的导电层表面上均匀涂上一层光刻胶。涂过胶的玻璃要在一定温度下做预烘处理,如图2所示。
光刻胶
ITO膜
玻璃基板
图2 ITO玻璃上涂光刻胶
④前烘(PREBAKE)
在一定的温度下将涂有光刻胶的玻璃烘一段时间,以使光刻胶中溶剂挥发,增加与玻璃表面的粘附性。
⑤曝光(EXPOSURE)
有紫外光通过预先制作好的电极图形掩模版照射光刻胶表面,使被照部分的光刻胶层发生反应。在涂有光刻胶的玻璃上覆盖光刻掩模版,在紫外光灯下对光刻胶进行选择曝光,如图3所示。