光学镀膜自动设计实验
光学镀膜设备研究报告
光学镀膜设备研究报告光学镀膜设备是一种广泛应用于光学薄膜领域的设备，主要用于对光学元件进行镀膜处理。
本研究报告旨在对光学镀膜设备的技术进行深入研究和分析。
首先，光学镀膜设备的工作原理是利用蒸发或溅射技术将材料蒸发或溅射到基底表面，形成薄膜。
蒸发镀膜是将材料加热至其蒸发温度，在真空环境中蒸发到基底表面上。
溅射镀膜是利用离子束轰击或电子束激发材料，使其溅射到基底表面上。
这些方法可以实现不同种类的薄膜镀膜。
其次，光学镀膜设备的主要组成部分包括真空腔体、材料源、基底架和控制系统。
真空腔体是装载基底和材料源的空间，具有良好的真空密封性能，以保证镀膜过程的稳定性。
材料源是提供镀膜材料的装置，可以是固态源、蒸发源或溅射源等。
基底架用于支撑和定位基底，以确保薄膜均匀性和一致性。
控制系统负责监控和调节设备的各项参数，如温度、压力、电流等。
然后，光学镀膜设备的关键技术包括真空技术、材料选择和镀膜工艺。
高质量的真空环境是保证镀膜质量和稳定性的基础，因此需要具备良好的真空腔体设计和维护能力。
材料的选择对于光学薄膜的性能至关重要，例如硅氧化物、氮化硅等常用材料可用于光学增透膜、反射膜的制备。
镀膜工艺包括蒸发温度、溅射能量、基底预处理等，对于薄膜的光学、电学和机械性能有着重要影响。
最后，光学镀膜设备的应用领域广泛，包括光学元件、显示器件、太阳能电池等。
在光学元件领域，光学镀膜设备可以用于制备增透膜、反射膜、分束器等。
在显示器件领域，光学镀膜设备可用于制备透明电极、陶瓷颗粒等。
在太阳能电池领域，光学镀膜设备可以制备光吸收层、反射层等。
总之，光学镀膜设备是一种重要的技术设备，具有广泛的应用前景。
通过深入研究和分析，可以进一步提高设备性能和应用范围，促进光学薄膜技术的发展。
光学眼镜镀膜智能化制造案例
光学眼镜镀膜智能化制造案例
随着科技的进步，光学眼镜的制造工艺也在不断发展。
其中，镀膜技术是提高眼镜镜片光学性能的重要手段。
以下是一个光学眼镜镀膜智能化制造的案例：
制造公司采用先进的自动化生产线，对镜片进行镀膜处理。
在生产线上，首先对镜片进行表面处理，去除油渍、灰尘等杂质，确保镜片表面光滑、洁净。
接下来，将镜片放置在镀膜机内，利用真空蒸发技术在镜片表面沉积一层薄薄的膜层。
这一过程中，通过精确控制膜层的厚度和成分，可以获得不同的光学性能，如增强镜片的透光率、减少反射光等。
为了实现智能化制造，制造公司采用了机器视觉技术对镜片进行质量检测。
通过高分辨率相机和图像处理算法，可以自动识别镜片表面的缺陷、污渍等问题，确保每一片镜片都符合质量要求。
同时，通过与生产线的传感器数据集成，可以实时监控生产线的运行状态，及时调整工艺参数，确保生产的稳定性和一致性。
此外，制造公司还采用人工智能技术对镀膜工艺进行优化。
通过收集大量的生产数据，利用机器学习算法分析、建模，可以预测镀膜的质量和性能，并
提供相应的优化方案。
这样不仅可以提高生产效率，还可以降低成本、减少浪费。
总之，光学眼镜镀膜智能化制造是一个复杂的过程，需要结合先进的工艺技术和智能制造技术。
通过不断的研究和创新，我们可以推动光学眼镜制造业的进步，为人们提供更好的视觉体验。
光学镀膜机的反射率测试与校准方法
光学镀膜机的反射率测试与校准方法光学镀膜技术在当今科技领域中扮演着重要的角色，它通过在光学元件表面上镀上不同材料薄层，以改变光的传播、透射和反射特性，从而实现对光的控制和调整。
反射率是评估光学镀膜效果的重要指标之一，准确测量和校准光学镀膜机的反射率具有重要意义。
本文将介绍光学镀膜机的反射率测试与校准方法。
一、反射率测试方法1. 光源与探测器的选择：在进行反射率测试时，合适的光源和探测器的选择对结果的准确性至关重要。
一般来说，常用的光源有白炽灯、激光器等，而选择探测器则需根据具体实验需求选取，比如光电二极管、光电倍增管等。
2. 样品制备与安装：样品制备时需要确保表面光洁、无污染、无划痕等，以保证测试结果的准确性。
安装样品时要避免产生光学间隙，确保样品与光源、探测器之间的光路能保持稳定。
3. 精确的光路设计：光学镀膜机的反射率测试需要精确的光路设计，确保光线的入射角、传输路径和探测角等参数的准确控制。
可以在设计中引入准直镜、狭缝等元件来保证光路的精确传输。
4. 测量数据处理：反射率测试完成后，需要进行数据的处理和分析。
可以使用光谱仪、反射计等设备获取反射率数据，并通过相应软件进行数据处理，例如拟合、平滑等，以获得更准确的结果。
二、反射率校准方法1. 校准光源和探测器：在反射率校准过程中，首先需要对光源和探测器进行校准，以确保它们的输出和响应符合要求。
可以使用标准光源和探测器进行比对，或者参考国际标准进行校准。
2. 校准样品的选择：为了进行反射率校准，需要准备具有已知反射率的标准样品。
这些样品应具有稳定的光学性质，反射率值已经准确测量和记录。
3. 校准光路设计：在进行反射率校准时，需要设计一个稳定、准确的光路。
可以使用准直镜、狭缝等元件来控制光线的传输和入射角，确保光路中各元件的位置和角度的稳定性。
4. 数据比对和修正：在反射率校准过程中，将测量得到的样品反射率与标准样品反射率进行比对，计算偏差，并根据偏差修正测量结果，以实现反射率的准确校准。
光学薄膜与技术实验报告
实验一：AUTOFILM光学薄膜设计软件的功能模块和使用一、实验目的1.熟悉并掌握AUTOFILM光学薄膜设计软件的组成模块和基本功能；2.会使用AUTOFILM光学薄膜设计软件进行简单的薄膜特性计算。
二、实验预习及设计要求预习单层光学薄膜光学特性的计算及相关理论三、所用软件AUTOFILM光学薄膜设计软件四、实验内容及要求1. 掌握AUTOFILM光学薄膜设计软件的五大模块的功能，特别是输入、优化和显示三大模块的基本功能及简单的特性特性设定；1.1文件模块中共有五个菜单项：(1)新建：删除所有现存数据，包括结构，特性等；(2)打开：打开已有的数据文件，文件扩展名为*.afd；(3)保存：保存已有的数据；(4)另存：用新的名字保存文件；(5)打印：打印光谱特性及膜系结构。
1.2输入模块有八个菜单项：（1）设置：在此对话框中输入与计算有关的各项数据，包括设计波长，设计角度，计算范围等；（2）优化设置：确定优化时的折射率和光学厚度范围；（3）特性：输入要求达到的光谱特性，可以用各种形式，如固定波长按角度变化，固定角度按波长变化，且可优化R，T，等各种值；（4）结构：可以用两种方法输入结构，表格形式或1/4波长形式；（5）评价函数类型：本程序有两种评价函数形式供选择，一种是平方和平均形式，评价函数为M=（((QTi－Qi)/Qi)2）1/2，其中i=1ton,QTi是要求的特性Qi是当前的特性，Qi是特性偏差。
本程序中Qi定为0.01。
另一种为最大值形式，评价函数为M=max( (QTi－Qi)/Qi).（6）优化参数：在此决定需要优化的各层参数，T代表优化厚度，N代表优化折射率，A代表两者同时优化，F代表不优化。
（7）更新结构：在此对话框中输入一个参数，以便于将现在的优化所得结构乘上此系数，作为新的初始结构。
如果此参数输入为负数，则将膜系结构整体翻转，例如S/HL/A，参数为-1，则结果变化为S/LH/A。
物理实验技术使用中如何进行光学薄膜实验
物理实验技术使用中如何进行光学薄膜实验物理实验技术是物理学研究中不可或缺的一部分，而光学薄膜实验则是其中一种重要的实验方法。
本文将从实验的目的、实验所需材料和仪器以及实验步骤等方面进行探讨。
光学薄膜实验的目的是通过对薄膜的光学性质进行研究，从而获得有关光学薄膜的一些重要参数。
例如，我们可以通过实验了解薄膜的反射率、透射率、相位厚度等指标。
这些参数不仅对于理论研究有重要意义，也在实际应用中具有广泛的应用价值。
在进行光学薄膜实验之前，首先需要准备一些实验所需的材料和仪器。
在材料方面，我们通常会使用具有一定折射率的基片，如玻璃片。
同时，还需要制备相应的薄膜样品，可以使用不同材料进行制备，如二氧化硅、氮化硅等。
至于仪器方面，实验室通常会配备光学光谱仪、反射率测量装置、透射率测试设备等。
具体的实验步骤可以分为多个环节，首先是薄膜样品的制备。
在实验中，可以选择蒸镀法、溅射法、磁控溅射法等不同的制备方法。
薄膜的制备过程需要控制好温度、压力和沉积速率等参数，以确保获得满足实验要求的薄膜。
制备好薄膜样品之后，接下来是样品的表征和测试。
我们可以使用光学光谱仪对薄膜的光学性质进行测量，得到反射谱、透射谱等数据。
在测量过程中，我们通常会控制入射光的角度和波长等参数，并记录相应的数据。
通过对这些数据的分析与处理，我们可以得出薄膜的光学参数。
除了常规的光学性质测试，我们还可以通过其他一些实验手段来研究薄膜的特性。
例如，我们可以使用椭偏仪来测量薄膜的偏振特性，以及对光的旋光度进行测量。
这些实验手段的应用可以进一步拓展对薄膜性质的研究深度和广度。
总的来说，光学薄膜实验是一种重要的物理实验技术，可以为我们提供大量有关薄膜性质的有用信息。
通过合理选择实验材料和仪器，并按照一定的实验步骤进行操作，我们可以准确有效地得到所需的实验数据。
这些数据可以进一步加深对光学薄膜性质的理解，也为相关研究和应用提供了必要的支持。
光学薄膜实验作为一种常见的物理实验技术，具有广泛的研究领域和应用前景。
光学镀膜材料的理论与实践
光学镀膜材料的理论与实践光学镀膜是一种在光学器件表面上镀上一层薄膜的技术，用于改变光学器件的光学性能。
光学镀膜材料的理论与实践是指通过理论模型和实验验证来解释和优化光学镀膜材料的特性和性能。
光学镀膜材料的理论研究主要基于光的电磁理论和量子力学原理。
光的电磁理论认为光是电磁波，可以通过电磁波方程来描述其传播规律。
量子力学原理则认为粒子的能量是量子化的，光是由光子组成的，每个光子具有能量和动量。
光学镀膜材料的理论研究主要是通过分析电磁波在材料中的传播和反射、折射等行为，以及光子与材料之间的相互作用，来预测和解释光学镀膜的特性和性能。
光学镀膜材料的实践研究主要包括材料的制备和测试。
在制备方面，首先需要选择合适的材料作为镀膜材料，通常选择的材料有金属、半导体和介质等。
然后，通过物理气相沉积、化学气相沉积、溅射等方法将材料沉积在光学器件表面上，形成薄膜。
在过程控制方面，需要控制沉积速率、沉积时间、沉积温度等参数来控制薄膜的质量和厚度。
在测试方面，需要使用光谱测试仪、电子显微镜等测试设备来表征薄膜的光学性能、结构和形貌等。
光学镀膜材料的理论与实践研究在光学器件的设计和应用中起着重要的作用。
通过理论研究，可以优化镀膜材料的组分、厚度和结构等参数，来实现特定的光学性能和应用需求，如增透膜、反射镜、滤光片等。
而实践研究则可以验证和改进理论模型，优化沉积工艺，提高薄膜的质量和性能。
总之，光学镀膜材料的理论与实践研究是光学镀膜技术的重要组成部分，通过理论解释和实验验证来优化镀膜材料的特性和性能，为光学器件的设计和应用提供科学依据。
随着科学技术的不断进步，光学镀膜材料的理论与实践研究将继续推动光学器件的发展和应用。
光学镀膜膜系设计
光学镀膜膜系设计光学镀膜是一种将硅、氮、氧和金属等材料通过真空蒸发、溅射或化学反应等方式沉积在光学器件表面的制造技术，以改善或增强光学器件的传输、反射、吸收或分散光线的特性。
在现代光学领域中，光学镀膜已成为一种广泛应用的技术，可用于制造各种光学器件，如分光镜、反射镜、磨镜片、滤光片等。
在设计光学镀膜膜系时，需要考虑的因素较多，包括基片类型、材料选择、厚度分配、膜层结构和沉积方法等。
下面将对这些因素进行详细说明。
1、基片类型基片是进行光学镀膜的基础，因此选择合适的基片类型对光学器件的性能与质量至关重要。
一般来说，可以选择的基片有玻璃、晶片、塑料等。
玻璃基片是光学器件最常用的基片材料，其优点是表面平整、稳定、化学惰性好，不易变形与老化。
而晶片基片则适用于高精度镜片，如石英晶体、纳米结构膜等，其优点是在某些高精度应用中具有特殊的物理和化学性质。
塑料基片则通常用于低成本的光学器件制造。
2、材料选择光学镀膜所用的材料应满足以下条件：在适当的波长下吸收低、折射率与透明度、化学惰性和而且结构稳定。
常用于光学镀膜的材料包括置换锗、锗氧化物、氧化铝、氮化硅、氧化硼等非金属元素材料，以及金属元素材料，如铬、钴、铜、铝、银、金、钛等。
在选择材料时，还需要考虑其沉积方式、化学性质、物理特性以及与基片的化学反应等因素。
3、厚度分配膜层的厚度是光学器件性能的重要因素之一。
膜层的厚度分配应考虑到所需的光学性能和机械性质之间的平衡。
通常情况下，不同波长下的光波反射和透射性能要求不同，因此膜层的厚度分配也不同。
在设计膜层厚度分配时，应还需考虑复合反射膜的加工容差。
4、膜层结构膜层结构也是光学器件性能的重要因素之一。
膜层的结构可以通过控制沉积速度、厚度、材料选择、沉积温度、气氛等参数来实现。
最常用的膜层结构包括单层、多层、反射镜、吸收体和复合反射膜。
不同的膜层结构可以产生不同的光学特性，因此，需要根据实际需求选择适当的膜层结构。
5、沉积方法在光学镀膜膜系设计中，还需要考虑沉积方法的选择。
镀膜实验报告
多层介质膜滤光片的镀制摘要：本实验以蒸发真空镀膜机对滤光片镀膜，采用干涉原理对膜厚进行监控。
使用单色仪把光源透过滤光片并有反射镜反射回来到单色仪上的光，经由单色仪原理被分成不同的光束，再由光电倍增管将光信号放大并转化为电信号。
通过理论模拟和实际实验结果进行比较，分析实验误差产生的原因。
关键词：干涉滤光片、高真空镀膜、光学极值法测膜厚、真空检验引言：当光线进入不同传递物质时（如由空气进入玻璃），大约有5% 会被反射掉，在光学瞄准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30%至40%。
现代光学透镜通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜，单层增透膜可使反射减少至 1.5%，多层增透膜则可让反射降低至 0.25%，所以整个瞄准镜如果加以适当镀膜，光线透穿率可达 95%。
镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色。
通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。
这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。
蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。
待系统抽至高真空后，加热使其中的物质蒸发。
蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。
薄膜厚度可由数百埃至数微米。
膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。
对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。
从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。
蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。
本实验通过蒸发真空镀膜设备对滤光片镀膜。
原理：1、真空技术“真空”是指气压低于一个大气压的气体状态。
在真空状态下，单位体积中的气体分子数大大减少，分子平均自由程增大，气体分子之间、气体分子与其他粒子之间的相互碰撞也随之减少。
这些特点被广泛应用于科学研究和生产的许多领域中，例如：电子器件、大规模集成电路、加速器、表面物理、热核反应、空间环境模拟、真空冶炼和真空包装等。
光学减反射膜设计实验
光学减反射膜设计实验一、实验目的：1、学习并初步掌握Macleod光学薄膜设计、分析软件的功能与使用方法；2、用常用材料设计远红外减反射膜二、实验原理：光学镀膜原理与意义三、实验内容：1、练习内容：在玻璃介质的两面镀单层膜（可更换不同膜），观察其在可见光范围内的反射、透射曲线（曲线仅供观察，不保存）;2、主要实验内容：（1）选择材料，了解相应的光学常数（折射率等）；（2）按一定顺序和一定要求在介质上镀两层膜，观察在远红外范围内的透射曲线，保存曲线；（3）对该膜层进行优化处理，得出经优化后的透射曲线与相应膜系，保存设计结果（曲线图形与膜系数据）；（4）再用上述设计好的膜系创建一个膜堆。
在基底两边都镀上前面设计的膜系，进行优化，得出经优化后的透射曲线，保存结果。
（5）所有设计数据与曲线均以屏幕截图形式保存。
图形也可用origin生成（6）可根据个人的情况选作其他的内容四、实验报告要求：实验报告除按正常格式要求的内容外，还应有以下内容：需对各个图、表的设计过程与软件的具体操作进行简要的说明；对上述多膜层与膜堆的设计结果进行比较与分析。
以及实验心得与体会等打印出设计的远红外减反射膜的透射曲线与相应膜系、膜堆的透射曲线、1.打开Macleod软件，点击file—new—design，再点击edit—insert layers，或者delete layers，调整到介质有两个，如下图所示：2.点击paramaeter—performance，做出修改，如下图所示：3.点击parameters—refinement—targets—edit—generate，进行数据修改，再点击new，如下图所示：修改后targets文件为：4.点击performance—plot，生成图表：5.进行优化，parameter—refinement—optimac，如下图所示：选择优化后最好数据：点击performance—plot，生成图片：6.将所有数据进行保存7.重新设计膜堆，点击file—new—stack，在基地上镀上刚才设计好的膜系，具体表格如下：8.重复步骤2，3和4，生成图片：9.膜堆优化，重复步骤5，生成图形如下：。
镀膜机实验报告
一、实验目的1. 熟悉镀膜机的基本结构和工作原理。
2. 掌握镀膜机的基本操作步骤和注意事项。
3. 学习使用镀膜机进行薄膜制备。
4. 了解薄膜性能的检测方法。
二、实验原理镀膜机是一种用于制备薄膜的设备，通过物理气相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD）等手段，将靶材蒸发或化学转化成薄膜，沉积在基板上。
本实验采用蒸发法进行薄膜制备。
蒸发法的基本原理是：将靶材加热至一定温度，使其蒸发，蒸汽分子在真空环境中向基板运动，沉积在基板上形成薄膜。
三、实验仪器与材料1. 镀膜机：DM-450型2. 真空系统：机械泵-涡轮分子泵真空系统3. 靶材：金（Au）4. 基板：玻璃板5. 真空计：热偶真空计6. 温度计：热电偶温度计7. 薄膜性能检测设备：紫外-可见分光光度计、扫描电子显微镜（SEM）四、实验步骤1. 开启镀膜机，预热至设定温度。
2. 启动真空系统，抽真空至设定真空度。
3. 将靶材放置在蒸发源处，调整靶材与基板之间的距离。
4. 启动蒸发源，使靶材蒸发。
5. 调整蒸发速率和蒸发时间，制备所需厚度的薄膜。
6. 关闭蒸发源，逐渐释放真空，取出基板。
7. 使用紫外-可见分光光度计检测薄膜的透过率。
8. 使用SEM观察薄膜的形貌。
五、实验结果与分析1. 薄膜透过率：通过紫外-可见分光光度计测量薄膜在特定波长下的透过率，可以得到薄膜的透过率曲线。
2. 薄膜厚度：根据蒸发速率和蒸发时间，可以计算出薄膜的厚度。
3. 薄膜形貌：使用SEM观察薄膜的形貌，可以分析薄膜的均匀性、颗粒大小等。
六、实验结论1. 通过本次实验，掌握了镀膜机的基本操作步骤和注意事项。
2. 成功制备了所需厚度的薄膜，并通过紫外-可见分光光度计和SEM进行了性能检测。
3. 实验结果表明，薄膜的透过率和厚度符合预期，薄膜形貌良好。
七、实验讨论1. 影响薄膜质量的因素：靶材纯度、蒸发源温度、蒸发速率、蒸发时间、真空度等。
2. 薄膜制备过程中的注意事项：避免空气污染、保持真空度、控制蒸发速率等。
眼镜片研发中心的镜片镀膜加工之实验教学设计
９ ２
９ ０
式 。教 师可 以 从 眼镜 片 镀 膜 对 膜 厚 控 制 精 度 的 要 求方 面 瓣杂鞲 进 行 分 析 ，得 出结 论 ：膜 厚 控 制 精 度 要 求 不 高 ， 而且 是
２ ８ ６ ４
统 性地 学 习了应 用 光 学和 眼 镜 学这 两 门专业 基 础 课程 ， 具 备一 定 的 专业 基础 理 论 知 识 ，对 眼镜 片 设计 、加 工 以
２ １年 １ 下 第 ３ （ 第２ ５ ） ０１ 月 期 总 ２期
— 一
实验教 学 ６教学过程
６ １ 目标 分析 ．
ｌ ｌ ｌ
Ｗ ａ ｅｅ ｇｈ Ｖ ｎ ｖ ｌｎ ｔ ｍ
小 批量 试 制 ，磁 控 溅 射 的工 艺 稳 定 性 很 好 。 学 生作 出 决
图 １ 眼镜 片减 反膜 膜 系设 计和 理论 计算 的透 过 率曲线
定 ：采用 时 间监控 法进 行膜 厚 的控 制 。 在 确 定 膜 层 材 料 和 监 控 方 式 之 后 ， 引 导 学 生对 下 一
ｔ ａｉ ｎ ｉ ｐ ａ ｉ ａｌ ｋｉ １Ｓ ｎｄ ｒ ｎｉ ｇ ｎ ｒ ｃｔ ｃ ｓ ｌ ａ ｅｎ ｉ ｅｅ ｎ ｔ ｎ ｎｇ ｏ ｔ ｅ ｎ ｒ ｒ ｕ ｔ ． Ｔ ｅ ｅ ｈ ｎ ｃ ｎｔ ｎ ｇ ｎ ｒｉ ｇ ｈｉ ｋｉ ｆ ｒ ｈ ｕ ｄｅ ｇ ａｄ ａ ｅｓ ｈ ｔ ａｃ ｉ ｇ ｏ ｅ ｔ
程 ，学生 能够 参 与包 括 膜系 设 计 、制 备 与 性 能检 测 在 内
的整个实 验流 程 。
１教学设计理念
把握 高等 院 校培 养 视 光 专业 科 研 与 技 能型 人才 的方 向，注 重 理 论知 识 的 实践 应 用 ，通 过 项 目式教 学 方法 ，
玻璃板镀膜实验报告单
玻璃板镀膜实验报告单实验目的：本实验旨在通过给玻璃板进行镀膜，探究不同材料的镀膜对玻璃板性能的影响，并对比各种镀膜材料的效果。
实验器材：1. 玻璃板2. 镀膜材料（例如二氧化硅、二氧化钛等）3. 镀膜设备4. 电源5. 量角器6. 光谱仪实验步骤：1. 准备工作：a. 清洗玻璃板：将玻璃板用温水洗净，并使用纯净水彻底冲洗干净，保证表面无油渍和杂质。
2. 实验操作：a. 镀膜材料制备：根据实验要求选择镀膜材料，并按照说明书或教师指导进行配制。
将镀膜材料倒入镀膜设备中，确保设备的封闭程度。
b. 镀膜过程：将准备好的玻璃板放入镀膜设备中并关闭设备。
将电源接通，按照设备说明进行镀膜处理，控制好镀膜时间和温度。
c. 镀膜结束后，取出玻璃板。
3. 测量与观察：a. 使用量角器测量不同角度的光的入射和反射角度。
b. 使用光谱仪分析不同镀膜材料的光谱特性。
c. 对比不同镀膜材料的效果，例如透过率、反射率等。
实验结果与讨论：通过实验操作和测量，我们得到了不同材料镀膜的玻璃板的光学性能数据，并进行了对比分析。
根据实验结果，我们可以得出以下结论：1. 不同镀膜材料会对玻璃板的透明度、反射度和折射率产生不同的影响。
2. 镀膜后的玻璃板能够在一定程度上改变光的入射和反射特性。
3. 镀膜材料的选择和处理条件的控制对于获得理想的镀膜效果非常重要。
结论：通过本次实验，我们成功地对玻璃板进行了镀膜，并且通过测量和分析得出了不同材料的镀膜对其光学性能的影响。
这对于理解镀膜技术的基本原理和应用有重要的意义。
同时，也为进一步研究和应用镀膜技术提供了基础。
参考文献：(列出实验中参考的文献)。
光学镀膜设计
为了减少表面反射光．最简单的途径是在玻璃表面上镀一层低折射率的薄膜．如图2-1所示，在界面1和2上的振幅反射系数为r1和r2：从矢量图上可以看到，舍振幅矢量r随着r1和r2之间的夹角而变化．合矢量端点的轨迹为一圆周．当膜层的光学厚度为某一波长的四分之一时，则两个矢量的方向完全相反，合矢量成为最小．这时如果矢量的模相等，则对该波长而言，两个矢量将完全抵消，出现零反射率．欲使|r1|=|r2|，则有：如果n0=1，则有n1=sqr(n2),目此，理想的单层增遗膜的条件是，膜层的光学厚度为四分之一波长．其折射率为入射介质和基片折射率乘积的平方根。
在可见区，使用得最普遍的是折射率为1.62左右的冕脾玻璃．理想的增透膜的折射率为1.28，但是至今能利用的薄膜的最低折射率是1.38(氟化镁)．这虽然不很理想，但也得到了相当的改进．非理想情形的最低反射率，也可以用特征矩阵简单地算出．对于中心波长:因而：当n2=1.52，n1=1.38，n0=1时，由上式可得最低反射率为1%，即对于折射率为1.52的玻璃，镀单层氟化镁后，中心波长的反射率从4.2%为降至1.3%为左右．整个可见区平均反射率约为1.5%．同样可计算出，对于折射率为1.65的基片，中心波长的表面反射从6%降至0.5%左右，可见区的平均反射率约为0.96%.显然，愈是接近于满足n1=sqr(n2)的条件的折射率较高的玻璃，中心波长的增透效果愈显著．图2-2显示对于不同基片材料的单层氟化镁减反射膜的分光反射率曲线。
以上仅仅考虑了垂直入射的情况．在倾斜入射时，情况与上述相类似，只是膜层的有救厚度减小了，因而最低反射的渡长更短些．同时应该用更普遍的修正导纳来代替折射率．由于P-分量和S-分量的修正导纳不同，所以偏振效应是一目了然的．计算表明，对于不大于石50o的入射角，反射率随入射角的增加可以忽略。
单层增透膜的出现，在历史上是一个重大的进展。
直至夸天仍广泛地用来满足一些简单的用途。
镀膜实验报告
多层介质膜滤光片的镀制摘要：本实验以蒸发真空镀膜机对滤光片镀膜，采用干涉原理对膜厚进行监控。
使用单色仪把光源透过滤光片并有反射镜反射回来到单色仪上的光，经由单色仪原理被分成不同的光束，再由光电倍增管将光信号放大并转化为电信号。
通过理论模拟和实际实验结果进行比较，分析实验误差产生的原因。
关键词：干涉滤光片、高真空镀膜、光学极值法测膜厚、真空检验引言：当光线进入不同传递物质时（如由空气进入玻璃），大约有5% 会被反射掉，在光学瞄准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30%至40%。
现代光学透镜通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜，单层增透膜可使反射减少至 1.5%，多层增透膜则可让反射降低至 0.25%，所以整个瞄准镜如果加以适当镀膜，光线透穿率可达 95%。
镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色。
通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。
这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。
蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。
待系统抽至高真空后，加热使其中的物质蒸发。
蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。
薄膜厚度可由数百埃至数微米。
膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。
对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。
从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。
蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。
本实验通过蒸发真空镀膜设备对滤光片镀膜。
原理：1、真空技术“真空”是指气压低于一个大气压的气体状态。
在真空状态下，单位体积中的气体分子数大大减少，分子平均自由程增大，气体分子之间、气体分子与其他粒子之间的相互碰撞也随之减少。
这些特点被广泛应用于科学研究和生产的许多领域中，例如：电子器件、大规模集成电路、加速器、表面物理、热核反应、空间环境模拟、真空冶炼和真空包装等。
镀膜实践总结报告
镀膜实践总结报告1. 引言本文档是关于镀膜实践的总结报告。
在实践过程中，我们通过使用不同材料和方法进行镀膜，并对实验结果进行分析和总结，以提供一份详细且系统的总结报告。
2. 实验目的和背景镀膜是一种常用的表面处理技术，在实际应用中有着广泛的应用。
通过在物品表面形成一层薄膜，可以改善其表面性能，例如增加耐腐蚀性、提高光学透明性等。
本次实验的目的是了解不同材料和方法对镀膜效果的影响，并通过实践学习镀膜技术的基本步骤和要点。
3. 实验步骤本次实验分为以下几个步骤：3.1 准备工作在进行实验之前，需要准备所需材料和设备。
具体包括： - 待镀膜的物品 - 镀液和相关试剂 - 镀膜设备（如镀膜槽、电源等） - 实验室安全设备（如手套、护目镜等）3.2 清洗物品首先，需要对待镀膜的物品进行清洗。
清洗的目的是去除表面的污染物，以确保镀膜的效果。
我们可以使用适当的清洗剂和工具进行清洗，例如使用去离子水和溶剂。
3.3 镀膜实验接下来，将待镀膜的物品放入镀膜槽中，并根据实验要求选择合适的镀液。
镀液可以根据需求选择不同材料，例如金属、陶瓷或聚合物等。
将镀液倒入槽中，然后根据设备要求设置电压、温度和时间等参数。
3.4 完成镀膜在设定好相应参数后，开始进行电镀过程。
通过向电解质中加电，使金属离子在电极表面还原，从而在物品表面形成薄膜。
注意在镀膜过程中要控制好电流和时间，以确保薄膜的均匀性和厚度。
3.5 薄膜处理镀膜完成后，需要对薄膜进行适当的处理。
例如，可以使用酸性或碱性溶液进行清洗去除表面杂质，或者进行热处理以增强薄膜的结晶性和硬度等。
4. 实验结果与分析经过一系列的实验，我们获得了一些关于不同材料和方法对镀膜效果影响的实验结果。
下面是一些关键点的总结：•镀膜材料的选择对最终的镀膜效果有显著影响。
不同材料有不同的化学性质和晶格结构，会导致不同的表面性质。
•镀膜方法的选择也很重要。
常见的镀膜方法包括电镀、化学气相沉积、物理气相沉积等。
镀膜干涉原理
镀膜干涉原理1. 引言镀膜干涉原理是光学干涉的一种重要实验现象，广泛应用于光学薄膜技术、反射镜和透镜的制造、光学仪器的精密加工等领域。
本文将详细解释镀膜干涉原理的基本原理，并给出实际应用中的例子。
2. 光的干涉现象光的干涉现象是指两束或多束光在空间的叠加 interference 后形成明暗相间的干涉条纹的现象。
根据光线传播的路径和相位差的变化情况，干涉分为薄膜干涉、双缝干涉、等厚干涉等多种类型。
其中，薄膜干涉是指光在厚度很薄的薄膜上反射或透射时产生的干涉现象。
3. 薄膜干涉薄膜干涉是指光在薄膜两个界面之间反射或透射时产生的干涉现象。
在镀膜干涉中，通过向玻璃等透明材料表面镀膜，形成了一个厚度为几百纳米到几微米的薄膜。
当光线从这个薄膜上反射或透射时，会发生干涉现象。
4. 干涉光程差在薄膜干涉中，光线在薄膜两个界面之间传播时会形成两条波阵面。
当这两条波阵面相遇时，如果它们的相位差满足某个条件，就会产生干涉现象。
光程差是指两条波阵面所经过的光程之差。
在薄膜干涉中，光程差可以通过以下公式计算：光程差 = 2 * 薄膜厚度 * 折射率* cosθ其中，薄膜厚度是指薄膜的实际厚度，折射率是指薄膜材料的折射率，θ是指入射角。
通过调节薄膜厚度、折射率和入射角，可以控制光程差的大小，从而调节干涉条纹的位置和形状。
5. 干涉条纹当两束光在薄膜两个界面之间发生干涉时，会形成明暗相间的干涉条纹。
这些干涉条纹的位置和形状与光程差有关。
当光程差为奇数倍的半波长时，两束光相长 interference ，产生明条纹；当光程差为偶数倍的半波长时，两束光相消 interference ，产生暗条纹。
通过在薄膜表面观察这些干涉条纹，可以推测出薄膜的厚度、折射率等参数。
6. 实际应用薄膜干涉原理在实际应用中有着广泛的应用。
以下是一些典型的应用示例：6.1 反射镜反射镜是一种应用薄膜干涉原理的重要光学元件。
在反射镜中，薄膜被镀在基底材料上，用于增强光的反射效果。
大型镀膜机中涂层光学特性的模拟与分析
大型镀膜机中涂层光学特性的模拟与分析在大型镀膜机中，涂层的光学特性模拟与分析是一项重要的任务。
涂层的光学特性直接影响着涂层的透射、反射和吸收等光学性能，因此准确模拟和分析涂层的光学特性对于优化涂层制备工艺和设计高性能光学器件至关重要。
首先，模拟大型镀膜机中涂层的光学特性需要考虑涂层的物理结构和光学参数。
涂层通常由多层膜或者非均匀材料组成，因此需要根据涂层的结构参数进行合适的光学模拟。
常用的方法包括传统的薄膜光学模型和电磁场模拟方法。
薄膜光学模型可以通过计算膜层的光学厚度、折射率和消光系数等参数来得到涂层的光学特性。
而电磁场模拟方法则可以更接近真实情况，通过求解波动方程来计算涂层对于入射光的传播和反射情况。
其次，分析大型镀膜机中涂层的光学特性需要考虑不同光学性能的评价指标。
常见的评价指标包括透过率、反射率、吸收率、相位和色散等。
这些指标可以用于评价涂层的透明度、反射率、能量损耗和相位延迟等光学性能。
分析涂层的光学特性可以通过光谱分析、显微镜观察、激光干涉仪和激光光学常见方法等多种技术手段来实现。
同时，涂层光学特性的模拟和分析也需要考虑涂层材料的选择和制备工艺的优化。
涂层的材料选择直接影响涂层的折射率、消光系数和吸收率等光学参数。
制备工艺的优化则可以改善涂层的光学均匀性和精度，进而提高涂层的光学特性。
例如，通过优化膜层材料的混合比例、选择合适的制备温度和真空度等因素，可以获得更好的涂层光学特性。
此外，大型镀膜机中涂层的光学特性模拟与分析也可以应用于实际光学器件的设计和优化。
通过对涂层的光学特性进行模拟和分析，可以为光学器件的设计提供可靠的依据。
例如，在激光器器件中，设计合适的反射镜和透过镜的涂层可以提高激光器的效率和性能。
而在光学薄膜的应用中，涂层的光学特性模拟与分析也可以用于优化光学过滤器、波长选择器和光学传感器等器件的设计。
总之，大型镀膜机中涂层的光学特性的模拟与分析是一项重要且复杂的任务。
通过合适的模拟方法和分析手段，可以准确地评估涂层的光学性能，并为涂层制备工艺和光学器件的设计提供有益的指导。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
综合设计实验：光学镀膜自动设计实验实验一镀膜材料准备及膜层设计【实验目的】本实验通过发光二极管的制作过程完成对真空镀膜的学习。
【实验仪器】1、真空镀摸机；2、镀膜监测仪；3、旋涂机；4、干涉显微镜；5、直流电源。
【实验材料】1、导电玻璃；2、高纯铝丝；3、三芳胺聚西夫碱；4、8－羟基喹啉铝；5、氟化锂；6、丙酮；7、无水乙醇；8、脱脂棉；9、盐酸等。
【实验原理】真空镀膜是制作薄膜器件地常用方法，所谓真空镀膜是把待镀膜的基片或工件置于高真空室内，通过加热使蒸发材料气化（或升华）而沉积到某一温度的基片或工作表面上，从而形成一层薄膜，这一工艺过程称为真空蒸发镀膜。
在高真空环境中成膜，可防止膜的污染和氧化，便于得到洁净，致密，符合预定要求得薄膜，因此，这种制膜方法目前得到了广泛应用。
本实验利用真空镀膜技术制作一种有机薄膜发光二极管。
众所周知，无机发光二极管在视频，数字显示，仪器监控，广告等诸多领域已经得到了广泛的应用，并取得了令人注目的成就。
但是它们也存在着很多缺点：如体积大，发光材料品种较少，器件制作工艺复杂，成本高，能耗大，很难提供全色显示等。
相反，有机材料薄膜电致发光器件（TFELD）却克服了上述缺点，显示出很多无机电致发光器件无法比拟的优点。
有机薄膜电致发光器件具有可大面积彩色显示，驱动电压低，可直流驱动，发光效率和亮度高，发光颜色可覆盖整个光谱区，有柔软性，易加工，成本低廉等优点。
它已成为当前发光器件研究的热点，有机发光还具有材料来源广泛，颜色可调等优势。
因此，它在显示技术方面具有潜在的应用前景。
近年来，在寻找新的有机电致发光材料，延长有机电致发光显示寿命方面取得了突破性进展，正朝着实用化的方向迅猛发展。
1.发光二极管工作原理1.1发光二极管的基本机构典型发光二极管的结构为三明治结构如图一，阳极为透明的导电玻璃（ITO），具有较高的功函数（4～7ev），阴极为低功函数金属（3～4ev），阴极阳极之间加入一层发光薄膜，在工作电压（2～30v）便可发光。
为了改善其性能通常在阳极与有机发光物间加一层空穴传输层，在阴极与发光物间加一层电子传输层。
电致发光激发机构p-n结注入发光p-n结处于平衡时，存在一定的势垒区，如加一正向偏压，势垒便降低，势垒区内建电场也相应减弱。
这样继续发生载流子的扩散，即电子由n 区注入p区，同时空穴由p区注入到n区。
这些进入p区的电子和进入n区的空穴都是非平衡少数载流子。
在实际应用的p-n结中，扩散长度远远大于势垒宽度。
因此电子和空穴通过势垒区时因复合而消失的几率很小，继续向扩散区扩散。
因而在正向偏压下，p-n结势垒区和扩散区注入了少数载流子。
这些非平衡少数载流子复合而发光（辐射复合）。
这就是p-n结注入发光的基本原理。
1.3发光原理简述电致发光的基本原理由ITO(indium-tin-oxide)是一空穴导电为主的透明金属氧化膜。
金属背电极提供电子，空穴传输层和电子传输层之间存在势垒，阻挡电子和空穴逸出。
因为金属电极的功函数越低，束缚电子的能力越弱，电子越容易克服表面势垒在较低电压下注入。
故应取低逸出功材料的金属背电极来得出高效率的光输出。
电子传输层传输金属注入的电子，同时将空穴载流子阻挡在发光层内，与此相反空穴传输层传输ITO注入的空穴，同时将电子载流子阻挡在发光层内。
由于发光薄膜很薄（一般为几十nm），可产生410－510v／cm的高场，电子和空穴一旦形成了较高的注入密度，就会集中在发光层中复合形成大量的被称为激子的空穴—电子对。
这些激子是在界面处发光材料层一侧很窄的区域内产生的。
当激子进行复合时，其中很大一部分产生辐射而发光。
2．材料衬底材料选用ITO导电玻璃，铟锡氧化物薄膜ITO(Indium-tin-oxide)作为发光器件的正电极；三芳胺聚西夫碱（Schiff）作为空穴输送材料；Alq(8-羟基喹啉铝)，小3分子绿光发光材料，电子传输材料，具有良好的稳定性和成膜性。
电子迁移率为510cm2／vs,是有机电致发光器件中常用的电子传输发光材料。
由于ITO电极与三芳胺聚西夫碱之间的势垒比较低，空穴注入相对电子注入容易，由于Al的稳定性比较好，所以采用Al作为负电极，但Al电极功函数较高，导致电子注入势垒大，器件亮度和效率低。
为解决这一矛盾，在Al电极与Alq之间加3入一层超薄的LiF。
所以通常采用低脱出功函数的金属做负电极，以降低电子注入势垒，增强电子注入。
/LiF/Al.蒸发铝作为负电极。
器件结构为ITO/Schiff/Alq33、制备过程取玻璃基片为长方形状，生产过程如下所示，首先将刻好形状的不干胶粘在ITO玻璃上。
然后在40％盐酸中腐蚀10分钟后取出，清除不干胶。
用清水加洗衣粉擦洗后依次用丙酮（均为分析纯），乙醇，和超生波水清洗。
洗净晾干后，将其ITO面朝下，放在垫有干净滤纸的表面皿中，防止落灰，烘干置于干燥器中待用。
将所精致的聚西夫碱充分溶于氯仿（分析纯）之中，用旋涂机旋转涂膜。
取自于迈克尔逊干涉显微镜下观察发现，膜层表面均匀平整，颜色为黄色，几乎无气泡，将旋涂好的片子放于真空镀膜机中。
4、干涉显微镜的使用干涉显微镜是用来测量精密加工零件表面光洁度的仪器。
也可以用来测量零件表面刻线，刻槽镀层（透明）等深度。
仪器测量表面不平深度范围为0.01～0.03微米。
测量步骤：1. 量条纹之间的间隔；在白光工作时，用二条黑色条纹进行测量，条纹之间隔值用测微目镜上鼓轮分划数来表示。
移动测微目镜视场中十字线，使其与干涉条纹方向平行的一条刻线对准一黑色干涉条纹下凸缘的中间，得到第一个读数N 1,然后将同一条刻线对准另一条黑色干涉条纹下凸缘的中间，得到第二个读数N 2或单色光时，对准其他任一条纹的中间，得到第二个读数N 2，但此时必须记住测量的二个干涉条纹间所包含的间隔数n,为了提高测量精度，n 最好取3个以上。
2. 量条纹的弯曲量：干涉条纹的弯曲量，同样用测微鼓上分划数表示。
用一条刻线对准干涉条纹下凸缘的中间，此时读书为N 3，（同N 2）。
然后用同一条刻线对准同一条干涉条纹最大弯曲处的干涉条纹上凸缘的中间，得到第二个读数N 4。
弯曲值：n N N N N N 1243--=∆ 条干涉条纹 3. 计算不平深度：在白光工作时，一个干涉条纹的弯曲量相当于被测量表面不平深度为0.27微米，此时不平深度t 可用下式计算：n N N N N t 124327.0--= 微米 【实验步骤】1. 备材料：长方形的导电玻璃基片 三芳胺聚西夫碱 氯仿。
2. 膜腐蚀：将刻好形状的不干胶粘在导电玻璃的ITO 面上。
然后在40％盐酸中腐蚀10分钟后取出，清除不干胶。
永清数加洗衣粉擦洗后依次用丙酮（均为分析纸），乙醇，和超生波水清洗。
洗净晾干后，将其ITO 面朝下，放在垫有干净滤纸的表面皿中，防止落灰，烘干置于干燥器中待用。
3.旋涂：将所有精制的三芳胺聚西夫碱充分溶于氯仿（分析纯）之中，用旋涂机旋涂膜。
放在麦克尔逊干涉显微镜下观察，膜层表面均匀平整，颜色为黄色，几乎无气泡。
将旋涂好的片子放于真空镀膜机中。
实验二真空镀膜及膜测试实验【实验目的】本实验通过发光二极管的制作过程完成对真空镀膜的学习。
【实验仪器】1、真空镀膜机；2、膜后监测仪；3、旋涂机；4、干涉显微镜；5直流电源。
【实验材料】1、导电玻璃；2、高纯铝丝；3、三芳胺聚西夫碱；4、8－羟基喹啉铝；5、氟化锂；6、丙酮；7、无水乙醇；8、脱脂棉；9、盐酸等。
【实验原理】1、真空镀膜机简介本实验使用的是一台DMD－450 型光学多层镀膜机，带有聚焦式电子枪及两对电阻蒸发源可蒸镀各种高级低熔点的金属和氧化物材料。
本设备由主机，高压电控柜，光学膜厚控制仪三大部分组成。
主机包括镀膜室、电子枪、控制仪的光源及反光镜、真空系统提升机构，电气控制。
2、真空镀膜基本原理（1）真空蒸发真空镀膜的基本原理室在真空条件下加热金属或介质，在一定温度条件下发生汽化，使被加热的金属的介质的分子从本体逸出，而形成蒸气以直线形式向四周散射。
蒸发材料的分子在散射途中遇到被镀的基片，在基片上淀积一层该材料的薄膜。
（2）真空度对蒸发的影响一般真空镀膜中，蒸发距离约为20～40cm，故压强在10－4～10－8mm Hg级就可以了。
为了避免蒸发过程中因真空室温度升高而放出大量气体的影响，蒸发前真空度往往要选的高些，即应增大真空室中气体分子的平均自由程λ。
22σπλP KT＝式中，K 式玻耳兹曼常数，T 为绝对温度，σ为气体分子的有效直径，P 为气体压强。
由此可知，压强P 越小，气体分子的平均自由程越大。
空气分子的有效直径为3.7埃，温度为20摄氏度时按上式可得：)(/1053cm P －＝⨯λ式中P 的单位是托，λ的单位是厘米。
当P ＝10－3托时，cm 500＝λ。
当平均自由程等于蒸发源到基片的距离时，有63％的分子在途中发生碰撞；当平均自由程10倍于蒸发源到基片的距离时只有9％的分子发生碰撞。
（3）蒸发物质的加热如果蒸发物质的分子在蒸发后立即飞去，并不回到原来的物质上，那么蒸发的G （单位面积，单位时间飞去的蒸发物质）可由下式决定：1/2)TM ( Pv 058.0G ＝（克·厘米－2·秒－1） 式中Pv 为蒸气物质在温度T 时的蒸汽压，以托为单位，M 为蒸发物质的克分子量，T 为蒸发物质温度（K ）。
固体物质受热过程中将发生的释放气现象会造成镀膜室内的压强上升。
因此，要把蒸发物质加热的过程分为两段进行，先在一定的真空度下使蒸发物质温度略高于熔点作“预熔释气”。
从开始加热至“预熔释气”过程要挡板将待镀基片与蒸发源隔开，待真空镀达到要求后一开挡板，在提高蒸发物质的加热温度，做正式蒸发。
（4）基片的表面清洁度和温度这是影响膜层结构和牢固性的重要因素，镀膜前的基片必需经过严格清洗，烘干方能使用。
一般要将基片加热，使薄膜蒸镀在一定温度的热基片上。
先由低电压，大电流的电源供电，当大电流通过蒸发器时就产生高温，使盛放在蒸发器上的金属或介质汽化蒸发，最后淀积在基片的表面上，形成我们所需要的薄膜。
（5）镀膜材料的性质A、高纯铝丝，纯度为99.99%，熔点660℃，将铝丝V字形或半圆形，挂在钼舟上加热至700－900℃蒸发常被用来镀制膜片。
B、氟化锂无色立方晶体，熔点870℃，沸点1681℃，溶于酸，不溶于乙醇，丙酮。
3、实验操作步骤1．总电源2．开充气阀，开钟罩装ALq38mg，三芳胺西夫碱。
装洗好的ITO玻璃片，扣钟罩。
3．当高阀处关状态，低阀拉出状态时，先开循环冷却水，开机械泵对钟罩抽真空。
4．开热偶规管测真空度把热偶规管打到最左挡即加热，加热电流为108mA。
5．真空度为P＝10－1t，是推进低阀，后开高阀抽系统。