过氧化氢系列化学抛光铜与铜合金工艺

铜及铜合金化学及电化学抛光

铜及铜合金化学及电化学抛光：化学抛光(1)普通型化学抛光溶液配方及工艺规范见表1。

(2)清洁型化学抛光溶液①工艺流程。

上夹具一超声波脱脂一热水洗一三级逆流漂洗一除膜一化学抛光一流动水洗一无铬钝化一流动水洗一封闭干燥一成品下架。

②清洁型化学抛光溶液配方及工艺规范硫酸(H2S04)450mL／L③抛光液各成分对抛光质量的影响a·硫酸。

主要作用是溶解剥离铜及其合金表面的氧化膜，与抛光添加剂A配合使用，可起到光亮整平作用。

硫酸浓度高时，抛光速度快，表面光亮度好。

但浓度过高时，抛光效果会变差。

硫酸浓度低时，抛光速度慢，光亮度差。

b·抛光添加剂。

抛光添加剂分为A、B两组分。

A为添加剂，B为调整剂。

添加剂A是抛光液的主要组成部分，能起到促进反应速度和提高光亮度的作用。

添加剂A含量高时，抛光速度快，光亮度好，但含量再高时，无明显作用。

含量低时，抛光速度慢，抛光表面达不到镜面光泽。

在添加时，抛光添加剂A：H2S04—1：10(体积比)，混合后再加入。

抛光添加剂B为调整剂，用于抛光液性能的调整。

当抛光表面亮度下降、只加入H2S04和抛光剂A也无法解决时，应适当加入抛光添加剂B，但应注意不要过量，否则，抛光表面会出新。

c·OP乳化剂。

0P乳化剂是表面活性剂，具有降低铜基体与抛光液间表面张力的作用，阻止工件凹处化学反应的进行，从而能起到整平作用。

d．工艺条件对抛光质量的影响(a)温度。

溶液温度对抛光质量影响很大，温度升高，抛光速度加快，表面光亮度好，但是温度过高会对表面光亮度产生一定影响。

当温度低时，抛光速度慢，表面光亮度容易控制。

(b)时间。

抛光时间随着温度的升高而缩短，但抛光时间过短，工件表面光亮度不够。

在实际生产中，为了获得镜面般光亮的表面，应坚持短时、多次抛光的原则。

(c)搅拌。

在化学抛光过程中，要求对抛光液进行搅拌或抖动工作，否则，化学反应产生的气泡沿工件表面逸出，形成不规则条纹或痕迹，影响抛光质量。

化学镀铜的目的及工艺流程介绍

化学镀铜的目的及工艺流程介绍化学镀铜（Eletcroless Plating Copper）通常也叫沉铜或孔化（PTH）是一种自身催化性氧化还原反应。

首先用活化剂处理，使绝缘基材表面吸附上一层活性的粒子通常用的是金属钯粒子（钯是一种十分昂贵的金属，价格高且一直在上升，为降低成本现在国外有实用胶体铜工艺在运行），铜离子首先在这些活性的金属钯粒子上被还原，而这些被还原的金属铜晶核本身又成为铜离子的催化层，使铜的还原反应继续在这些新的铜晶核表面上进行。

化学镀铜在我们PCB制造业中得到了广泛的应用，目前最多的是用化学镀铜进行PCB的孔金属化。

化学镀铜的主要目的是在非导体材料表面形成导电层，目前在印刷电路板孔金属化和塑料电镀前的化学镀铜已广泛应用。

化学镀铜层的物理化学性质与电镀法所得铜层基本相似。

化学镀铜的主盐通常采用硫酸铜，使用的还原剂有甲醛、肼、次磷酸钠、硼氢化钠等，但生产中使用最普遍的是甲醛。

化学镀铜的工艺流程：一、镀前处理1．去毛刺钻孔后的覆铜泊板，其孔口部位不可避免的产生一些小的毛刺，这些毛刺如不去除将会影响金属化孔的质量。

最简单去毛刺的方法是用200～400号水砂纸将钻孔后的铜箔表面磨光。

机械化的去毛刺方法是采用去毛刺机。

去毛刺机的磨辊是采用含有碳化硅磨料的尼龙刷或毡。

一般的去毛刺机在去除毛刺时，在顺着板面移动方向有部分毛刺倒向孔口内壁，改进型的磨板机，具有双向转动带摆动尼龙刷辊，消除了除了这种弊病。

2．整孔清洁处理对多层PCB有整孔要求，目的是除去钻污及孔微蚀处理。

以前多用浓硫酸除钻污，而现在多用碱性高锰酸钾处理法，随后清洁调整处理。

孔金属化时，化学镀铜反应是在孔壁和整个铜箔表面上同时发生的。

如果某些部位不清洁，就会影响化学镀铜层和印制导。

电化学抛光铜箔

电化学抛光铜箔引言：电化学抛光是一种常用的表面处理技术，可用于提高铜箔的平整度和光洁度。

本文将介绍电化学抛光铜箔的原理、过程和应用。

一、电化学抛光铜箔的原理电化学抛光是利用电化学反应来去除铜箔表面的杂质和不均匀性，从而实现平整和光洁的效果。

其原理基于铜箔与电解液之间的反应，在电化学抛光过程中，电解液中的化学物质与铜箔表面发生氧化还原反应，使杂质离子被移除，同时产生气泡和热量。

二、电化学抛光铜箔的过程电化学抛光铜箔的过程一般包括以下几个步骤：1. 清洗：在进行电化学抛光之前，需要对铜箔进行彻底的清洗，以去除表面的污垢和油脂等杂质。

清洗可以使用溶剂、超声波或机械刷洗等方法。

2. 预处理：预处理是为了提高铜箔表面的均匀性和增加电化学反应的效果。

预处理方法包括化学处理、机械处理或热处理等。

3. 电化学抛光：将处理过的铜箔放入电化学抛光槽中，与电解液接触。

电解液一般由盐酸、硫酸等酸性溶液组成，其中含有特定的添加剂，如过氧化氢、氯化物等。

通电后，铜箔表面的杂质被氧化还原反应去除，同时产生气泡和热量。

4. 冲洗：在电化学抛光完成后，需要对铜箔进行冲洗，以去除电解液和残留的杂质。

冲洗可以使用纯水或去离子水等。

5. 干燥：将冲洗后的铜箔进行干燥，以防止水分对其表面质量的影响。

三、电化学抛光铜箔的应用电化学抛光铜箔在电子行业中有广泛的应用。

主要应用领域包括：1. 半导体制造：电化学抛光铜箔可用于半导体制造过程中的衬底材料。

通过抛光，可以提高衬底的平整度和光洁度，从而提高半导体器件的性能和可靠性。

2. 高频电路：电化学抛光铜箔可用于制造高频电路板。

抛光后的铜箔表面平整度高，电流传导性能好，适用于高频信号传输。

3. 手机和平板电脑：电化学抛光铜箔在手机和平板电脑的制造中起着重要作用。

抛光后的铜箔可以用于制造导电板和互连结构，提高设备性能和信号传输速度。

4. 其他领域：电化学抛光铜箔还广泛应用于光伏电池、液晶显示器、电子封装等领域。

铜及铜合金化学抛光及钝化的研究

２００１年４月表面技术第３０卷第２期．３５．０引言铜及铜合金化学抛光及钝化的研究郭贤烙。

肖鑫。

易翔，钟萍（湖南工程学院，湖南湘潭４１１１０１）［摘要］研究了铜及铜合金化学抛光液及其钝化液的组成和工艺参数，讨论了抛光液各组分和抛光温度、时间、搅拌方式等工艺条件的影响。

介绍了一种铜及铜合金的化学抛光和钝化工艺。

［关键词】铜及其合金；化学抛光；钝化［中图分类号］ＴＧｌ４６．１＋１［文献标识码］Ａ［文章编号】１００１—３６６０（２００１）０２一００１３—０３ＳｔｕｄｙｏｎＣｈｅｍｉｃａｌＰｏＩｉｓｈｉｎｇａｎｄＰａｓｓｉＶａｔｉｏｎｏｆＣｏｐｐｅｒａｎｄＣｏｐｐｅｒＡＵｏｙＧＵｏ）【ｉ粕一ｈｍ，ⅪＡｏｘｉｎ，Ⅵｘｉ粕ｇ，ＺＨＯＮＧＰｉＩｌｇ（ＨｕｎａｎＥｎ西ｎｅｅｒｉｎｇＣｏＵｅｇｅ，ＸｉａＪ】ｇｔａｌｌ４１１１０１）［Ａｂｓ咖ｃｔ】ＣｈｅｍｉｃａＩｐｏＩｉｓｈｉｎｇｓｏＩｕｔｉｏｎａｎｄｐａｓｓｉｖａｔｉｏｎｓｌｏｕｔｉｏｎｏｆｃｏｐｐｅｒａｎｄｃｏｐｐｅｒａｌｌｏｙｗｅｒｅｓｔｕｄｉｅｄ．，ｒｈｅｅｆ‰ｔｓｏｆＶａＩｉ叫ｓｃｏｍｐｏｎｅｎｔｏｆ‰Ｓｏｌｕｔｉ叩ａｎｄｔｅｃｈｎｏ崦ｉｃａｌｐ籼ｅｔｅｒｓｉｎｃｌｕｄｉｎｇｐｏｌｉｓｈｉｎｇｔｅｍｐｅｍｔｕｒｅ，ｐｏｌｉｓｈｉｎｇｔｉｍｅａｎｄｔｈｅⅡｌｏｄｅｏｆａ西ｔａｔｉｏｎｅｔｃａｒｅｄｉｓｃｕｓｓｅｄ．１１１出ｉｓｐ印ｅｒ，ａｎｅｗｐｒｏｃｅｓｓｏｆｃｏｐｐｅｒａｎｄｃｏｐｐｅｒａｌｌｏｙｃｈｅｍｉｃａｌｐｏｌｉｓｈｉｎｇａｎｄｐａｓｓｉｖａｔｉｏｎｉｓｉｎｔｒｏｄｕｃｅｄ．［ＫＩ羽傩］Ｃ叩ｐｅｒａＩｌｄｃ叩ｐｅｒａｌｌｏｙ；Ｃｈ锄ｉｃａｌｐｏｌｉｓｈｉＩｌｇ；Ｐ鹳ｓｉｖａｔｉｏｎ铜及铜合金以优良的装饰性在仪表、医疗设备、轻工产品等领域得到越来越广泛的运用。

通过抛光和钝化可以提高铜及铜合金的装饰效果和表面性能。

化学抛光与电化学抛光和机械抛光相比具有成本低、效率高、操作等简便等特点，因而得到广泛运用。

过氧化氢在化学抛光中的应用

过氧化氢在化学抛光中的应用何家康（中国振华集团科技股份有限公司宇光分公司，５５００１８）【摘要】过氧化氢作为一种强氧化剂，在金属的化学抛光中有十分广泛的作用【关键词】过氧化氢化学抛光应用１前言过氧化氢（俗名双氧水，H 2O 2）是一种无色透明的液体，属于强氧化剂，有较强的腐蚀性。

过氧化氢不稳定，受热、见光、遇重金属离子或其它杂质都会使过氧化氢分解，放出氧气，同时产生大量的热量，过氧化氢在酸性介质中比较稳定。

工业使用的过氧化氢浓度分为27.5%、31.5%、35%、50%等几种。

过氧化氢在金属的化学抛光中有极为广泛的应用。

化学抛光在金属表面处理中用途很广，例如：不锈钢、铜（铜合金）、钢铁、可伐合金、银铜焊料等材料的抛光。

２过氧化氢的化学抛光２．１　铜及铜合金的化学抛光　铜及铜合金的化学抛光在电子工业、工艺品制作、电冰箱、五金制品、精密仪器仪表中有十分广泛的应用，采用过氧化氢对铜及铜合金进行化学抛光的配方很多，这里介绍２个比较典型的配方。

　配方１　过氧化氢３５％（H 2O 2） 280~350ml/L 硝酸（HNO 3） 30~50ml/L 乙醇（C 2H 5OH ） 50~80ml/L OP-10 0.5~1ml/L温度 50~60℃ 时间 0.5~1min 配方２过氧化氢３５％（H 2O 2） 480~500ml/L 硝酸68%（HNO 3） 5~15ml/L 硫酸（H 2SO 4） 30~40ml/L 乙醇（C 2H 5OH ） 50~80ml/LOP-10 0.5~1ml/L温度 40~45℃时间 0.5~1min２．２　不锈钢的化学抛光　过氧化氢（H2O2） 380~450ml/L盐酸（HCl） 180~220ml/L氢氟酸（HF） 180~220ml/L温度室温时间 3~5min２．３　纯铁的化学抛光　配方１　过氧化氢３０％（H2O2） 70~80ml/L尿素〔CO（NH2）2〕 20g/L氟化氢铵（NH5F2） 20g/L苯甲酸（H2O2） 1~1.5 g/LOP-10 0.05 ml /L温度：15～30℃时间：0.5~2min配方２　过氧化氢３０％（H2O2） 230ml/L尿素〔CO（NH2）2〕 20g/L氟化氢铵（NH5F2） 50g/L硫酸（H2SO4） 0.5 g/LOP-10 0.2 ml /L温度 15～40℃时间 3~5min２．４　银铜焊料的化学抛光　过氧化氢（H2O2） 220~300ml/L磷酸（H3PO3） 50~80ml/L硫酸（H2SO4） 350~420ml/L乙醇（C2H5OH） 50~60ml/LOP-10 0.5~1ml/L温度室温时间 0.5~1min脱膜硫酸（H2SO4） 20~50ml/L２．５　镉、锌的化学抛光过氧化氢（H2O2） 70ml/L硫酸（H2SO4） 3ml/L温度室温时间 15~20s２．６　铅的化学抛光过氧化氢３０％（H2O2） 20ml/L乙酸（CH2COOH） 80ml/L温度 20℃时间 5~10s 在上述溶液中抛光以后迅速在60～70ml/L 乙酸溶液中浸泡。

双氧水氧化黄铜矿-概述说明以及解释

双氧水氧化黄铜矿-概述说明以及解释1.引言1.1 概述：双氧水氧化黄铜矿是一种重要的化学反应过程，通过利用双氧水对黄铜矿进行氧化，可以实现黄铜矿的有效分解和转化。

双氧水是一种无色液体，具有强氧化性和杀菌消毒作用，因此在很多领域都有广泛的应用。

黄铜矿则是一种常见的铜矿石，含有较高比例的黄铜成分。

通过双氧水的氧化作用，可以将黄铜矿中的黄铜氧化成高铜含量的氧化铜，进而提高矿石的纯度和价值。

本文将探讨双氧水氧化黄铜矿的反应机理、实验结果分析以及未来的应用前景展望，以期为相关研究和工程实践提供参考和启发。

1.2 文章结构文章结构部分包括了本文的组织架构和各部分内容的安排方式。

本文章结构分为引言、正文和结论三部分。

引言部分主要分为三个方面：概述双氧水氧化黄铜矿的背景和意义、介绍文章结构及各部分内容、明确本文研究的目的和意义。

接下来是正文部分，将分为三个小节：1. 双氧水的性质：介绍双氧水的化学性质、物理性质和应用领域。

2. 黄铜矿的特点：描述黄铜矿的矿物组成、物理性质和在工业上的应用。

3. 双氧水氧化黄铜矿的反应机理：探讨双氧水与黄铜矿反应的化学机理和过程。

最后是结论部分，将分为三个小节：1. 实验结果分析：对实验数据和观察结果进行分析和解读。

2. 应用前景展望：展望双氧水氧化黄铜矿的应用前景和发展趋势。

3. 结论总结：总结本文的观点和研究结果，强调本文的重要性和创新性。

1.3 目的:本文的目的在于探究双氧水氧化黄铜矿的反应机理，并分析其在实验中的表现和应用前景。

通过深入研究双氧水和黄铜矿的性质及特点，我们将探讨双氧水在氧化黄铜矿过程中的作用机制，并通过实验结果分析，展望其在黄铜矿处理和利用中的潜在价值。

我们希望通过本文的研究，为更好地理解双氧水氧化黄铜矿的方法和机理提供参考，为相关领域的研究和应用提供理论支持和实践指导。

2.正文2.1 双氧水的性质双氧水（H2O2）是一种无色液体，具有特殊的化学性质。

其分子结构中包含两个氧原子和两个氢原子，是一种氧化剂。

铜及铜合金化学及电化学抛光

铜及铜合金化学及电化学抛光：化学抛光(1)普通型化学抛光溶液配方及工艺规范见表1。

(2)清洁型化学抛光溶液①工艺流程。

上夹具一超声波脱脂一热水洗一三级逆流漂洗一除膜一化学抛光一流动水洗一无铬钝化一流动水洗一封闭干燥一成品下架。

②清洁型化学抛光溶液配方及工艺规范硫酸(H2S04)450mL／L表1铜及铜合金化学抛光工艺规范配方工艺规范12345硫酸(H2S04，密度1.84g／mL)／(mL／L)250～280400～500硝酸(HN03，密度1.50g／mL，质量分数)／％40～50 mL／L106～829.5～6.440～60g／L磷酸(H3P04，密度1.70g／mL，质量分数)／％5440～5070.5～95.6冰醋酸(CH3CO OH)／％3035～45铬酐(Cr03)／(g／L)180～200盐酸(HCl，密度1.19g／mL)／(mL／L)3尿素／(g／L)40～60明胶／(g／L)1～2聚乙二醇／(g／L)1～2温度／℃20～4055～6540～6025～45<40时间／min0.2～33～53～101～215～30s用途适用于比较精密度高的制品适用于钢及黄铜制品适用于铜和黄铜制品，降低温度至20℃，可抛光白铜制品适用于铜铁组合制品适用于黄铜制品添加剂70mL／LO P乳化剂1．0mL／L温度40℃时间l5s③抛光液各成分对抛光质量的影响a·硫酸。

主要作用是溶解剥离铜及其合金表面的氧化膜，与抛光添加剂A配合使用，可起到光亮整平作用。

硫酸浓度高时，抛光速度快，表面光亮度好。

但浓度过高时，抛光效果会变差。

硫酸浓度低时，抛光速度慢，光亮度差。

b·抛光添加剂。

抛光添加剂分为A、B两组分。

A为添加剂，B为调整剂。

添加剂A是抛光液的主要组成部分，能起到促进反应速度和提高光亮度的作用。

添加剂A含量高时，抛光速度快，光亮度好，但含量再高时，无明显作用。

含量低时，抛光速度慢，抛光表面达不到镜面光泽。

铜合金表面处理工艺

铜合金表面处理工艺一、引言铜合金是一种常见的金属材料，具有良好的导电性、导热性和耐腐蚀性。

然而，由于其表面容易受到氧化、腐蚀和污染等影响，需要进行表面处理以提高其性能和延长使用寿命。

本文将介绍几种常见的铜合金表面处理工艺。

二、化学镀铜化学镀铜是一种常用的铜合金表面处理方法。

其原理是在铜合金表面通过化学反应沉积一层薄膜以增加其耐腐蚀性和导电性。

化学镀铜工艺主要包括清洗、活化、镀铜和清洗四个步骤。

首先，通过酸洗和碱洗将铜合金表面的污染物清洗干净；然后，通过活化处理提高表面的反应活性；接着，将铜离子溶液浸入铜合金表面，通过还原反应将铜离子沉积在表面形成铜层；最后，再次清洗以去除残留的化学药剂。

化学镀铜工艺简单、成本较低，可以得到均匀的铜层，适用于各种形状的铜合金。

三、电镀电镀是一种常见的表面处理方法，通过电解沉积金属薄膜在铜合金表面以改善其性能。

电镀铜的原理是将金属阳极和铜合金阴极浸入电解液中，施加电流使金属离子在阴极表面沉积形成铜层。

电镀铜工艺需要控制电流密度、温度和电解液成分等参数，以确保获得均匀、致密的铜层。

电镀铜具有较好的附着力和耐腐蚀性，适用于各种形状和尺寸的铜合金。

四、喷涂喷涂是一种简便易行的铜合金表面处理方法，通过将含有铜颗粒的喷涂剂喷洒在铜合金表面形成一层铜膜。

喷涂铜膜可以提高铜合金的耐腐蚀性和导电性，同时还可以修复已经受损的表面。

喷涂工艺简单，适用于各种复杂形状和大面积的铜合金表面。

然而，喷涂的铜层较厚，可能会影响细节的清晰度，并且涂层的附着力较弱，容易剥落。

五、化学氧化化学氧化是一种改善铜合金表面性能的常见方法，通过在铜合金表面形成氧化层来提高其耐腐蚀性和装饰性。

化学氧化工艺主要包括清洗、氧化和封闭三个步骤。

首先，通过酸洗和碱洗将铜合金表面清洗干净；然后，将铜合金浸入含有氧化剂的溶液中，在一定的温度和时间下形成氧化层；最后，通过封闭处理，使氧化层更加稳定和耐久。

化学氧化可以产生不同颜色的氧化层，使铜合金具有更多的装饰性。

双氧水型铜材化学抛光液使用方法以及废水处理方法

双氧水型铜材化学抛光液使用方法以及废水处理方法一、双氧水型铜材化学抛光液使用方法1. 准备工作在使用双氧水型铜材化学抛光液之前，首先要做好准备工作。

包括穿戴好防护服和手套，确保操作环境的通风良好，避免抛光液挥发对人身造成危害。

2. 表面清洁在使用双氧水型铜材化学抛光液之前，需要确保铜材表面清洁。

可以使用清洁剂或者酒精棉球彻底擦拭铜材表面，清除油污和杂质。

3. 涂抛光液将双氧水型铜材化学抛光液均匀涂抹在铜材表面，可以使用化工专用的刷子或者布均匀涂抹，确保每个角落都被覆盖到。

4. 等待反应涂抹好双氧水型铜材化学抛光液之后，需要等待一定时间，让抛光液和铜材表面发生化学反应，起到去除氧化层和抛光的作用。

5. 清洗待反应时间结束之后，用清水彻底清洗铜材表面，确保抛光液全部被清除干净，避免对下一步工序的影响。

6. 烘干清洗干净的铜材表面需要进行烘干处理，可以将铜材放置在通风良好的地方自然晾干，也可以使用风扇或者吹风机进行辅助。

7. 检查效果最后一步是对抛光后的铜材表面进行检查，确保抛光效果满意，无残留抛光液或者水渍。

二、双氧水型铜材化学抛光液废水处理方法1. 分离固液在使用双氧水型铜材化学抛光液后，所产生的废水中会含有铜离子等化学物质。

首先需要进行固液分离处理，将废水中的固体沉淀物与液体分离，采用过滤等方式将固体沉淀物分离出来。

2. 酸碱中和将分离出来的废水液体进行酸碱中和处理，使其达到中性。

可以根据废水中的化学成分添加适量的碱性物质进行中和处理，同时监测废水的酸碱度，确保中和效果达标。

3. 沉淀处理经过酸碱中和处理后的废水，会产生一定量的沉淀物。

需要对废水进行沉淀处理，通过添加沉淀剂促使残留的金属离子等物质沉淀到废水底部。

4. 过滤经过沉淀处理后的废水，还会含有一定的悬浮物和微粒。

需要通过过滤的方式将废水中的悬浮物和微粒过滤掉，使废水更加清澈。

5. 活性炭吸附对过滤后的废水进行活性炭吸附处理，去除废水中的有机物和色泽物质，提高废水的透明度和净化度。

铜门着色工艺流程及铜门着色问题

铜门着色工艺流程及铜门着色问题诸多人不明白铜门，是怎样着色旳，目前就让上海高爵门窗旳技术人员来告诉大家铜门着色工艺流程及铜门着色问题。

通过着色旳铜门，由于更具有美感，且其使用、欣赏价值比较高，因而受到人们旳普遍欢迎。

着色铜除有漂亮旳外观，作为装饰外，还可以提高铜旳耐磨性和耐蚀性，因此，着色技术开发了表面处理又一新领域。

一1、处理工艺：除油除锈除氧化皮——水洗——酸洗抛光——水洗——中和——水洗——着色处理——水洗——干燥及其他后处理2、酸洗抛光推荐使用铜材酸洗抛光液进行处理。

目旳是使黄铜表面具有光泽。

3、本品为工作液，将工件浸泡于本品中，2分钟左右黄铜表面即变成黑青色，根据试验成果。

浸泡时间为20－25分钟时，表面变色质量最佳，可获得很好旳防锈性能。

工件可反复浸泡，增长变色层厚度，可获得满意效果。

4、如想抵达古铜色，经上述环节处理后，可用砂纸摩擦，方可抵达理想旳效果。

二注意事项1、勿入眼口，勿触皮肤。

如勿触立即清水冲洁净。

施工现场尽量通风良好，远离光热，单独寄存2、本品有挥发旳也许，提议在通风厨或通风良好环境下生产操作3、本品有腐蚀性，操作时戴好防护用品;勿食勿饮;孩童勿触。

4、着古铜色，用砂纸摩擦后防氧化效果会有所下降。

三1.古铜绿——孔雀绿着色法铜在自然界大气中旳二氧化硫、碳酸气和水份旳长期作用下生成旳铜绿——孔雀绿，构造致密、结合强度高，经得起数百年旳日晒雨淋。

从古代寺庙、文物、工艺品中还能见到。

这些铜绿旳化学构造是碱式硫酸铜和碱式碳酸铜旳混合物。

目前为修复古代遗产、建筑装饰、工艺美术造就古色古香旳外观，需要研究迅速形成孔雀绿旳措施。

(1)化学法(1):铜常常规清洗后来，用下列溶液着色盐酸(HCl) 5～35克/升醋酸铜(Cu(AC)2) 5～120克/升起色调调整作用碱式碳酸铜(Cu2(OH)2CO3) 2～100克/升起青绿色作用硝酸铜(Cu(NO3)2) 5～30克/升保持良好结合力氯化铵(NH4Cl) 5～150克/升提高结合力氯化钠(NaCl) 30～180克/升提高结合和改善发色采用喷涂、麻布擦拭、浸渍均可。

过氧化氢在化学抛光中的应用

过氧化氢在化学抛光中的应用何家康（中国振华集团科技股份有限公司宇光分公司，５５００１８）【摘要】过氧化氢作为一种强氧化剂，在金属的化学抛光中有十分广泛的作用【关键词】过氧化氢化学抛光应用１前言过氧化氢（俗名双氧水，H 2O 2）是一种无色透明的液体，属于强氧化剂，有较强的腐蚀性。

过氧化氢不稳定，受热、见光、遇重金属离子或其它杂质都会使过氧化氢分解，放出氧气，同时产生大量的热量，过氧化氢在酸性介质中比较稳定。

工业使用的过氧化氢浓度分为27.5%、31.5%、35%、50%等几种。

过氧化氢在金属的化学抛光中有极为广泛的应用。

化学抛光在金属表面处理中用途很广，例如：不锈钢、铜（铜合金）、钢铁、可伐合金、银铜焊料等材料的抛光。

２过氧化氢的化学抛光２．１　铜及铜合金的化学抛光　铜及铜合金的化学抛光在电子工业、工艺品制作、电冰箱、五金制品、精密仪器仪表中有十分广泛的应用，采用过氧化氢对铜及铜合金进行化学抛光的配方很多，这里介绍２个比较典型的配方。

　配方１　过氧化氢３５％（H 2O 2） 280~350ml/L 硝酸（HNO 3） 30~50ml/L 乙醇（C 2H 5OH ） 50~80ml/L OP-10 0.5~1ml/L温度 50~60℃ 时间 0.5~1min 配方２过氧化氢３５％（H 2O 2） 480~500ml/L 硝酸68%（HNO 3） 5~15ml/L 硫酸（H 2SO 4） 30~40ml/L 乙醇（C 2H 5OH ） 50~80ml/LOP-10 0.5~1ml/L温度 40~45℃时间 0.5~1min２．２　不锈钢的化学抛光　过氧化氢（H2O2） 380~450ml/L盐酸（HCl） 180~220ml/L氢氟酸（HF） 180~220ml/L温度室温时间 3~5min２．３　纯铁的化学抛光　配方１　过氧化氢３０％（H2O2） 70~80ml/L尿素〔CO（NH2）2〕 20g/L氟化氢铵（NH5F2） 20g/L苯甲酸（H2O2） 1~1.5 g/LOP-10 0.05 ml /L温度：15～30℃时间：0.5~2min配方２　过氧化氢３０％（H2O2） 230ml/L尿素〔CO（NH2）2〕 20g/L氟化氢铵（NH5F2） 50g/L硫酸（H2SO4） 0.5 g/LOP-10 0.2 ml /L温度 15～40℃时间 3~5min２．４　银铜焊料的化学抛光　过氧化氢（H2O2） 220~300ml/L磷酸（H3PO3） 50~80ml/L硫酸（H2SO4） 350~420ml/L乙醇（C2H5OH） 50~60ml/LOP-10 0.5~1ml/L温度室温时间 0.5~1min脱膜硫酸（H2SO4） 20~50ml/L２．５　镉、锌的化学抛光过氧化氢（H2O2） 70ml/L硫酸（H2SO4） 3ml/L温度室温时间 15~20s２．６　铅的化学抛光过氧化氢３０％（H2O2） 20ml/L乙酸（CH2COOH） 80ml/L温度 20℃时间 5~10s 在上述溶液中抛光以后迅速在60～70ml/L 乙酸溶液中浸泡。

铜酸洗配方

铜酸洗配方1. 简介铜酸洗是一种常用的表面处理工艺，用于去除铜及其合金表面的氧化物、污垢和有机物，以提高金属表面的清洁度和附着力。

本文将介绍铜酸洗的配方及其使用方法，以帮助读者了解铜酸洗的原理和操作流程。

2. 配方2.1 配方一：硫酸-硝酸体系•硫酸：100 mL•硝酸：10 mL•水：890 mL2.2 配方二：硫酸-过硫酸钠体系•硫酸：100 mL•过硫酸钠：5 g•水：895 mL2.3 配方三：硫酸-过氧化氢体系•硫酸：100 mL•过氧化氢：10 mL•水：890 mL3. 原理铜酸洗的原理是利用强氧化剂（如硝酸、过硫酸钠、过氧化氢）对铜及其合金表面进行氧化反应，将表面的氧化物还原为可溶性的铜盐，从而达到清洁表面的目的。

不同的配方在反应过程中会产生不同的氧化副产物，因此选择合适的配方对于特定应用场景非常重要。

4. 使用方法以下是一般铜酸洗的使用方法：4.1 准备工作•确保操作区域通风良好，避免有害气体积聚。

•戴上防护手套、护目镜和防护服，确保安全操作。

4.2 配制铜酸洗液根据所选择的配方，按照比例将相应的化学品加入适量的水中，搅拌均匀。

4.3 清洗前处理•将待清洗的铜件进行机械除污，如打磨、去焊渣等。

•将铜件浸泡在酸性清洗剂（如稀硫酸）中进行预处理，以去除表面油脂和有机物。

4.4 铜酸洗处理•将铜件浸泡在铜酸洗液中，时间根据需要可调整。

•定期搅拌或翻动铜件，以确保均匀清洗。

•注意观察铜件表面的变化，如有异常情况及时处理。

4.5 清洗后处理•从铜酸洗液中取出铜件，用清水彻底冲洗。

•可使用酸性中和剂对铜件进行中和处理，以去除残留的酸性物质。

•最后用纯水进行最终冲洗，并用干燥剂吹干或自然风干。

5. 注意事项•铜酸洗液具有强腐蚀性，请佩戴防护装备并注意安全操作。

•配方选择应根据实际需求和材料特性进行调整。

•操作过程中应注意环境保护，避免将废液直接排入下水道。

6. 结论通过本文的介绍，我们了解了铜酸洗的配方、原理和使用方法。

铜化学抛光剂配方分析

铜化学抛光剂配方分析一.背景化学抛光液广泛应用于金属表面处理，科标技术专业从事化学抛光液配方分析、配方检测、配方还原、成分分析，科标技术为金属表面处理企业提供整套配方改进技术方案；化学抛光与机械抛光、电化学抛光相比,它不需要通电和挂具。

因此,可以抛光形状复杂的制品 ,并且生产效率高。

化学抛光得到光亮表面 ,提高了铜及铜合金的装饰效果和表面性能。

目前国内大多使用铬酐型和硝酸(盐)型的化学抛光液,危害人体健康 ,并污染环境。

因此,近年来国内外对铜及铜合金的抛光进行大量的研究,开发了各种污染小、抛光效果好的环保型抛光液。

通过对各种化学抛光工艺如三酸型、H2O2-H2SO4型、H2O2-HNO3型、H2O2-HAc型、以及K2CrO7-H2SO4型等抛光效果及环境影响的比较 ,找到了抛光效果好、污染小的化学抛光液 ,即以 H2O2-H2SO4型为基础配方 ,研究了化学抛光的添加剂,使抛光效果达到或接近镜面光亮的水平。

二.化学抛光液的开发2.1工艺流程化学除油-----热水洗-----冷水洗------化学抛光-----冷水洗-----5% H2SO4脱膜----冷水洗-----转入下道工序2.2抛光液基础配方通过对各种不同类型化学抛光液效果比较 ,并反复试验 ,获得了铜及铜合金光亮抛光新工艺 ,其工艺配方如下:H2O2 (30 %) ,ml/L 450纯水 490添加剂A 60T ,°C 45～50t ,s 30～100本工艺中无硝酸或硝酸盐 ,在酸洗过程中不产生 NOx黄烟 ,有利于操作和环保 ,对铜件腐蚀特别小 ,适用于各种铜基零件。

由于成份简单 ,控制方便 ,添加剂由 A、B两个组份组成 ,A为开缸剂 ,B为补充剂。

平时添加补充时 ,应按 B剂∶H2O2 = 1∶6(体积比)混合后 ,再加到槽液中 ,原则上应不亮即加 ,少加、勤加。

对于磷青铜件 ,可在抛光液中再加 10 %(体积比)的氟化氢铵。

铜及铜合金板带材表面清洗技术及装备

铜及铜合金板带材表面清洗技术及装备现代高精铜及铜合金带材必须具备光亮、平整、无污染、耐大气腐蚀的优良表面质量，以满足后续电镀、焊接、冲压等二次加工对铜带表面日益严格的技术要求。

铜及铜合金板带材表面质量控制涉及整个生产工艺流程中的各个生产环节，其中带材中间及成品清洗是提高带材表面质量最重要的生产工序。

现代高精铜及铜合金板带材生产线中，带材的清洗是在高度现代化、自动化、连续化的清洗机列上完成的，涉及脱脂、酸洗、研磨、钝化、烘干等多个环节，正确运用相关的清洗技术、选择工艺结构合理的装备是提高带材表面质量的关键，对推动我国以高性能、高精度、高表面质量为代表的高精铜及铜合金板带材发展具有重要的意义。

一、铜及铜合金带材表面清洗技术脱脂表面脱脂是改善表面质量、提高抗蚀能力的重要工序，在板带材生产中常用作退火前带材的清洗和硬态加工材成品表面清洗，既可单独与烘干装置组成脱脂清洗线，又可与酸洗、研磨、钝化、烘干组合成脱脂－酸洗表面处理线，提高酸洗、研磨等表面处理效果。

脱脂的目的是去除铜带表面残留的轧制工艺润滑液及各种油污，目前常用润滑油如表所示，实验表明由于不同油品碳氢链长短类型差异很大，导致残留物数量、挥发温度范围各不相同,同时由于添加剂类型、数量各不相同，退火残留物形态、颜色也不相同，不同退火温度下残留物形态及数量见表。

在铜及铜合金表面清洗中，脱脂工序是不可缺少的关键工艺环节，特别是纯铜、高铜类合金，带卷间如果残留润滑液，如果脱脂效果不好，即使采用带低温抽吸的真空高氢光亮退火也很难彻底消除润滑剂分解对带材表面的污染及退火膜，在金属表面形成云状的污迹不仅降低表面质量，也会加剧表面腐蚀影响二次加工性能；另外酸洗无法清除带材表面附着的残油及各种污物，没有脱脂清洗会严重影响带材的酸洗质量，因此脱脂效果的好坏决定了铜带退火、酸洗质量的高低。

目前铜及铜合金脱脂清洗方法及比较如表所示。

目前板带材成熟的脱脂方法是采用碱液脱脂，对于有机润滑剂，碱液具有良好的皂化作用，可以与饱和脂肪酸形成脂肪酸钠（肥皂）和甘油，同时饱和脂肪酸钠又是良好的清洗表面活性剂，具有良好的去除有机润滑剂的作用。

铜及铜合金光亮酸洗及钝化工艺

铜及铜合金光亮酸洗及钝化工艺铜制品光亮酸洗钝化无污染工艺铜制品经光亮酸洗，如不钝化，容易变色，防护性能降低。

然而传统的钝化离不开毒性很强的铬酸，这使铜的光亮酸洗始终不能摆脱Cr6+与氮氧化物的污染。

低硝酸无氮氧化物光亮酸洗液与不用铬酸钝化的新工艺已引起关注，简介如下：工艺流程化学除油——热水洗——水洗——预酸洗——水洗——热水洗——光亮酸洗——流动水洗——流动热水洗——钝化——热水洗——干燥各配方组成(1)化学除油 NaOH: 10~15g/1 Na2C03:20~30g/1 Na3P04: 50~70g/1 温度：80~95℃(2)预酸洗 H2S04: 100~150ml/1 HCl: 30~50ml/1 温度: 室温时间: 30~60%(3)光亮酸洗(体积百分比) H2S04: 32~42% HN03:4~8% C0(NH2)2:4~ 6% H20:47~56% 明胶: 1.5~2.5g/1 平平加 0.002~0.004g/1 ZH: 0.5~2.5g/1(4)钝化液 BTA:3~7g/1 十二烷基硫酸钠:0.5~1g/1 ZH1:0.3~0.5g/1 温度: 65~70℃时间: 1~3min以低硝酸、高硫酸为主体的光亮酸洗液是以化学抛光的粘液膜理论为指导的。

依据这一理论，当金属铜浸入化学抛光液中时，由于金属与化学抛光液中的酸作用，从而在金属表面附近形成一层粘液膜。

此粘液膜作为金属表面和本体溶液之间的扩散障碍层。

当溶液中的金属离子由金属表面向溶液内部扩散时，金属表面微观凸出部位溶解下来的金属离子容易扩散，粘液膜薄；凹处正好相反，粘液膜厚。

导致凸处基体优先溶解，达到了抛光整平的目的。

它的面市，为铜制品的光亮酸洗与钝化无污染开辟了新途径。

铜材双氧水化学抛光液

铜材双氧水化学抛光液产品简介：铜材化学抛光液ZJ-503是以双氧水为主剂，配合环保光亮剂、双氧水稳定剂、铜离子络合剂等原料合成，该产品不含硝酸、氢化物等有害、有毒物质，操作时无烟雾出现，无三废处理问题。

操作方便，使用成本低。

在许多较难的清洗工作上有显著效果显著产品亮点：（环保、高效、节能、无毒、无重金属）1、无三酸（盐酸、铬酸、硝酸）效果稳定而长久。

2、操作时无黄烟，属环保产品。

3、铜材抛光后色泽饱满，表面平整，可以达到镜面的效果。

4、直接浸泡。

5、超长的使用寿命。

主要用途：本产品适用于黄铜、紫铜（红铜）及铍铜表面抛光及防锈操作工艺：首次开槽需要将zj-503 1:2兑纯净水，并加热到 40-45度，然后将工件直接浸泡到该药液里面，紫铜保持3-5分钟，黄铜抛光液温度一般在 25-45度都可保持2-3分钟，然后拿出来冲水，在将工件继续放到退膜液里面进行 30-60S中时间退膜，然后拿出冲水即可达到光亮效果。

槽液维护：铜抛光抛光液ZJ-503初次建槽需要1:2兑水使用，待抛光效果降低，表面棕色膜层不亮或者不厚实的情况下，需要补充原液ZJ-503，添加量为槽液总体积的（10%-15%），使用注意：为达到最佳的清洗效果，建议清洗程序为酸洗除油去氧化→漂洗→ZJ-503 （1:2兑水）化学抛光（温度40-45度）→漂洗→退膜（30-60S时间）→漂洗→铜材防锈油或者钝化液----漂洗-------干燥1、本产品呈酸性，对皮肤有腐蚀性，操作时轻拿轻放，并且配戴胶手套。

倾倒时应缓慢，防止飞溅到人身上。

如果不慎与皮肤接触则立即用清水冲洗干净。

2、本品原液使用，使用过程中避免带水进入抛光液中。

包装储运：1、产品规格：环保桶，25kg/桶2、产品储运：存放于清洁、阴凉、干燥的库房中，避免阳光直射3、产品常温下保质期两年。

售后服务：根据客户工件具体情况，我公司工程部会出具相应的工艺操作说明，为客户提供标准化生产流程.从而大大降低成本，以最低的投资得到最高的回报。

铜及铜合金的电解抛光和化学抛光

铜及铜合金的电解抛光和化学抛光一、电解抛光铜及其合金的电解抛光，广泛采用磷酸电解液。

其工艺规范列于表2-2-4。

新配制的溶液，应进行通电处理。

配方1通电量为5A·h/L，此时溶液中的含铜量为3～5 g/L；配方2通电量约为10A·h/L。

表2-2-4 铜及其合金电解抛光工艺规范在使用过程中，溶液的密度和各组分含量将发生变化，应经常测定密度并及时调整。

配方2溶液中三价铬的含量（以Cr2O3计算）超过30g/L时，可以在阳极电流密度为10A/dm2和温度为40～50℃下，用大面积阳极通电处理，将三价铬氧化为六价铬。

不工作时，应将溶液盖严，以防溶液吸收空气中的水分而被稀释。

阴极表面的铜粉应经常除去。

二、化学抛光铜和单相铜合金，可以在磷酸-硝酸-醋酸或硫酸-硝酸-铬酸型溶液中进行化学抛光。

其工艺规范列于表2-2-5。

表2-2-5 铜及其合金化学抛光工艺规范红色时，可按配制量的1/3补充硝酸。

为防止过量的水带入槽内，零件应干燥后，再行抛光。

电解抛光与化学抛光电解抛光，是金属零件在特定条件下的阳极侵蚀。

这一过程能改善金属表面的微观几何形状，降低金属表面的显微粗糙程度，从而达到使零件表面光亮的目的。

电解抛光常用于钢、不锈钢、铝、铜等零件或铜、镍等镀层的装饰性精加工，某些工具的表面精加工，或用于制取高度反光的表面以及用来制造金相试片等。

在不少场合下，电解抛光可以用来代替繁重的机械抛光，尤其是形状比较复杂，用机械方法难以加工的零件。

但是，电解抛光不能去除或掩饰深划痕、深麻点等表面缺陷，也不能除去金属中的非金属夹杂物。

多相合金中，当有一相不易阳极溶解时，将会影响电解抛光的质量。

化学抛光，是金属零件在特定条件下的化学浸蚀。

在这一浸蚀过程中，金属表面被溶液浸蚀和整平，从而获得了比较光亮的表面。

化学抛光可以用于仪器、铝质反光镜的表面精饰，以及其它零件或镀层的装饰性加工。

同电解抛光比较，化学抛光的优点是：不需外加电源，可以处理形状更为复杂的零件，生产效率高等，但是化学抛光的表面质量，一般略低于电解抛光，溶液的调整和再生也比较困难，往往抛光过程中会析出氧化氮等有害气体。

铜材化学抛光处理方法_概述及解释说明

铜材化学抛光处理方法概述及解释说明1. 引言1.1 概述本文旨在对铜材化学抛光处理方法进行综述和解释说明。

化学抛光作为一种表面处理技术，在铜材领域具有广泛的应用。

通过有效地去除铜材表面的氧化层、污渍和不规则凸起等，能够提高铜材的表面质量，使其达到特定的要求，适用于多个工业领域。

1.2 文章结构本文将分为五个部分来讨论铜材化学抛光处理方法。

首先，在引言部分中我们将对文章的框架做简要描述。

接着，在第二部分中，我们将介绍铜材化学抛光前的准备工作以及常用的化学抛光方法，并探讨如何选择和优化抛光参数。

在第三部分中，我们将详细解析化学抛光过程及机理，并解释不同抛光液成分的作用机制，同时介绍表面质量评价的方法。

第四部分将以实际应用与案例研究为重点，介绍铜材化学抛光在工业界常见应用领域，并分享一些成功的系统优化案例。

最后，在第五部分中，我们将总结本文的核心发现，并展望未来铜材化学抛光处理方法的研究方向与挑战。

1.3 目的本文旨在全面介绍铜材化学抛光处理方法，通过对抛光前的准备工作、常用的化学抛光方法以及抛光参数的选择和优化等方面的探讨，帮助读者更好地理解这一表面处理技术。

同时，通过解析化学反应机理和不同抛光液成分的作用机制，提供关于铜材化学抛光过程的深入理解。

此外，通过实际应用与案例研究，读者将了解到铜材化学抛光在不同领域中的应用情况，并能够借鉴成功的系统优化案例。

最后，本文还将指出研究方向与挑战，并为未来进一步开展相关研究提供展望。

2. 铜材化学抛光处理方法：2.1 抛光前的准备工作：在进行铜材化学抛光之前，需要做一些准备工作以确保最佳抛光效果。

首先，需要清洗铜材表面，以去除油脂、污垢和氧化物等杂质。

常见的清洗方法包括机械清洗、超声波清洗和溶剂清洗等。

接下来，使用研磨纸或砂带对铜材表面进行打磨，以去除粗糙度和不均匀性。

2.2 常用的化学抛光方法：铜材化学抛光是一种通过与铜材表面发生化学反应来去除表面氧化物的方法。

铜件化学抛光配方

铜件化学抛光配方
1、三酸抛光液配方
三酸抛光液主要成分是硝酸、硫酸、盐酸。

三酸抛光液配方：硝酸20-30%、硫酸50%、盐酸0.3-0.8%、光亮剂1-5%、余量水。

这款三酸抛光液配方光亮度好，酸洗效率高，成本低，但对人体有伤害。

2、双氧水抛光液配方
双氧水抛光液主要成分是双氧水、硫酸、光亮剂。

这款双氧水抛光液配方抛光亮度极佳，可接近镜面光泽，环保无污染，但是成本比较高，而且双氧水易分解，抛光时间比较长。

3、新型环保铜抛光液配方
新型环保抛光液配方过硫酸盐60～140g，92.5wt%～98.0wt%的浓硫酸200～350ml，85.0wt%的浓磷酸0～60ml，柠檬酸1～10g，七合水的硫酸亚铁2～10g，氯化钠0～3g，尿素0～6g，十二烷基硫酸钠0.2～1.0g，余量为水。

这款新型环保化学抛光液配方效果更加稳定和长久，操作时基本无烟，对人无伤害，而且铜材抛光后色泽饱满、表面平整，甚至可以达到镜面的效果。

铜及铜合金的金相制备

FG MD-Largo DiaPro Allegro/Largo
150 180 4 分钟
抛光
步骤表面粒度*/ 悬浮液转速力(牛) 时间
DP MD-Mol* DiaPro Mol 150 150 3 分钟
OP OP-Chem OP-S** 150 90 1-2 分钟
* 备选：MD-Dac ** 96毫升OP-S，2毫升氨水（25％），2毫升过氧化氢（3％）
DP
OP
MD-Mol OP-Chem
DiaPro Mol 硝酸铁*
150
150
150
90
* 用水润湿抛光布，倒入数滴侵蚀剂抛光，不加抛光剂。配方：参见第6页中的表格。
4 分钟 1 分钟
铜合金研磨
步骤表面粒度*/ 悬浮液润滑剂转速力(牛) 时间
PG SiC薄片 220 或 320
水 300 180 根据需要
4. 电解精炼，电解铜，99.99% Cu: 阳极铜仍然夹带镍、铅、银、钯和金等杂质。在电解精炼过程中，杂质落到电解池的底部并回收，同时制出高纯度铜。硫酸和硫酸铜起电解液的作用。通入直流电，阳极发生氧化，溶解，纯铜沉积在纯粉阴极处和不锈钢始极片上，然后用机械方法取下。
冰铜约 75% Cu
应用铜、黄铜和青铜的晶粒区域侵蚀
所有类型的铜
侵蚀剂
100 毫升水 10 克过二硫酸铵使用新鲜溶液！
100-120 毫升水或乙醇 20-50 毫升盐酸 5-10 克氯化铁 (浓度可变)
25 毫升蒸馏水 25 毫升氨水 5-25 毫升过氧化氢, 3%
晶界晶粒区域
α-β黄铜
较少过氧化氢较多过氧化氢
铜及铜合金制备的建议