背散射研究生课用

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角度的散射(背散射),会引起在峰值位置与表面一侧有 较多的离子堆积;重离子散射得更深。
卢瑟福背散射谱的分析
RBS是利用带电粒子与靶核间的大角度库 仑散射的能谱和产额确定样品中元素的质 量数、含量及深度分布。该分析中涉及最 主要的三个基本物理量,即:
运动学因子—质量分析 背散射微分散射截面—含量分析 能量损失—深度分析
1967年,美国宇航飞机首次用背散射完成了月亮表面的 元素分析。
Rutherford Backscattering Spectrometry (RBS)
什么是卢瑟福背散射
当一束高能离子入射到靶片上,由于库仑排斥作用,
与靶核发生弹性碰撞。发生碰撞后,散射离子与靶原子的 速度、能量分别变为1,E1和2、E2,为散射离子的散 射角。第二章讨论过,在其他条件都固定不变时, 与碰 撞参数P有关, P大,小, 反之P小,大。
在背散射分析中,一般探测的散射离子的散射角均大 于90度,大约在160-170度最佳。
•这种散射可能发生在表面,也可 能发生在表面以下的一定深度范围 内。背散射离子在碰撞的大量离子 中占的比例很小,然而它却是背散 射分析技术的基础。
卢瑟福背散射分析的原理
•物理基础:中心力场中的经典散射理论,即入射离子于靶原子核之间 的大角度库仑散射。 •当入射能量和散射方向固定时,背散射离子的能量取决于靶原子的质 量及碰撞靶原子在靶表面下的深度。
P Z1Z2e2 ctg
v12
2
P Z1Z2e2 v12
P

Z1Z2e2 v12
<90º ﹥90º 背散射
入射离子中总有一部分足够靠近靶核(P足够小), 与靶核发生大角度的弹性散射,使散射粒子几乎沿着入射 反方向从样品表面返回,这种现象叫做背散射现象,这样 的离子称为背散射离子。
• RBS是使用最为普遍的一种“非破坏性”分析方法。
离子束分析概述
粒子与离子的概念差异
在微观领域,粒子是离子、电子、光子和亚核粒子等的总称
离子束分析的概念
总的来说:以离子束作为工具,通过它与物质相互作用来判断物质 中元素组成及结构的一门学科
具体来说:利用具有一定能量的离子(如:质子、alpha离子及其 它重离子)束去轰击样品,使样品中的元素发生电离、激发、发射 和核反应以及自身的散射等过程,通过测量这些过程中所产生的射 线的能量和强度来确定样品中元素的种类和含量的一门学科
第四章ຫໍສະໝຸດ Baidu
离子束分析固态材料的组分和结构 ———背散射技术与沟道分析
荷能粒子与固体表面的相互作用包括一系列的各种不同的基本过程。
用粒子束作为微探针轰击固态靶材料表面后,如果从真空端用不同的 探测器进行探测,可以观察到:
入射粒子

被散射出来的入射粒子 表面溅射原子、原子团 离化的表面原子或原子团(分子)二次离子SIMS 电子 光(X射线) PIKE(质子入射,质子荧光分析)
为了对其概念有一深入的理解,大家来看离子束作用机制图
离子束分析作用机制图
次级离子质谱
离 子
--
Secondary Ion Mass Spectrometry(SIMS)
俄歇电子谱
原 子
Auger Electron Spectrometry(AES)

粒子诱发X射线荧光分析
用 范
Particle Induced X-ray Emission(PIXE) 畴
缺点
设备复杂、成本较高
背散射研究的发展史
1909年,盖革(H. Geiger)和马斯顿(E. Marsden)使 用离子背散射进行了物质分析
1911年,卢瑟福(Lord Ernest Rutherford)解释了该现 象,并确立了原子的核式结构模型
1957年,茹宾(Rubin)首次利用质子和氘束分析收集在 滤膜上的烟尘粒子的成份
假如一个离子与表面相互作用的总截面小于10nm2,当入射离子 束流密度低于1μA/cm2时,不同离子对表面的作用不会重叠或互 相干扰。因此,这种情况下,对于离子束与表面的作用总可以用 单个离子与表面的作用来处理,这对于表面分析技术有时非常重 要。
离子束分析方法的优缺点
优点
灵敏度高、分析时间短、不破坏样品、分析范围广 和取样量少等优点,因此特别适用于痕量元素的分 析
弹性反冲分析
离 子
--
Elastic Recoil Detection(ERD)
核反应分析
原 子
Nuclear Reaction Analysis(NRA)


卢瑟福背散射分析


Rutherford Backscattering Spectrometry(RBS) 畴
粗略地估计,一个离子与固体表面相互作用引起的各种过程的总 驰豫时间一般低于10-12秒;
纵向分布
• 硼比硅原子质量轻得 多,硼离子注入就会 有较多的大角度散射。 被反向散射的硼离子 数量也会增多,因而 分布在峰值位置与表 面一侧的离子数量大 于峰值位置的另一侧, 不服从严格的高斯分 布。
• 砷等重离子和硼轻离 子的分布正好相反。
注入离子的真实分布

• 真实分布非常复杂,不服从严格的高斯分布 • 当轻离子硼(B)注入到硅中,会有较多的硼离子受到大
通过对散射离子能量的测量,可以确定靶原子的质量。 发生碰撞时,靶的原子浓度及散射截面决定了散射离子的多少。通过 对散射产额的测量,可以定量的确定靶原子的含量。 离子碰撞前、后穿透靶物质的深度决定了离子能量损失的大小,通过 对离子能谱的测量,可以确定靶原子的深度分布。
背散射的离子由探测器接收,得到背散射离子的能谱图。因此,测得 散射离子的能谱就可以获得上述信息,从而可以对靶中所含元素作定 性和定量分析。
每种发射出来的粒子都可以说携带了一定的表面成分或结构的信息, 探测和分析这些不同粒子的信号(能谱、质谱或光谱),就形成了不 同的离子束表面分析技术。
通过分析这些特征信号得到固态材料的组分和结构信息。
常见的以离子束为探针的分析方法有: 卢瑟福背散射谱学(RBS) 离子感生X射线发射谱(PIXE) 二次离子质谱(SIMS)
运动学因子—质量分析
运动学因子 的定义:
K=E1/E0,
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