PCB干膜制程工艺培训
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PCB干膜培训资料
殷田化工有限公司
Yan Tin Chemicals Co.,Ltd
干膜介绍及干膜工艺详解
主要内容安排：
1.干膜介绍及发展趋势 2.线路板图形制作工艺(以SES流程为
例)
3.基本工艺要求 4.各工序注意事项 5.常见缺陷图片及成因 6.讨论
1. 干膜介绍及发展趋势
干膜(Dry Film)的用途： 干膜是一种感光材料，是PCB生产中的重要 物料，用于线路板图形的转移制作。近几 年也开始广泛应用于选择性化金、电镀金 工艺。
去膜点
：1.0~3.0kgf/cm2
：50~60％
SES工艺流程详细介绍 蚀刻：
蚀刻的作用：
用蚀刻液将非线路图形部分的铜面蚀 刻掉，而在锡或锡铅下的铜则不能被蚀刻。
SES工艺流程详细介绍 去锡/锡铅：
去锡/锡铅的作用：
用去锡/锡铅药液将锡/锡铅去掉，露出 需要的线路。
基本工艺要求
蚀刻、去锡/锡铅
基本工艺要求
前处理 水洗 : 多过3个缸(循环水)喷淋压力：13Kgf/cm2 吸干: 通常用2支海绵吸水辘 烘干:热风吹风量为 4.0～9.0m3/min 热风的温度为70～90℃ 其它控制项目 :水裂点：>15s 粗糙度1.5<Rz<3.0
工序注意事项
前处理
磨痕宽度均匀一致； 各段喷嘴无堵塞；
脱锡或锡/铅
显影
电镀铜＋锡 或铜＋锡/铅
碱性蚀板
去膜
SES工艺流程详细介绍 前处理：
前处理的作用：去除铜表面的氧化,油污,清洁、 粗化铜面，以增大干膜在铜面上的附着力。 前处理的种类：化学微蚀、物理磨板、喷砂处 理（火山灰、氧化铝）。 典型前处理工艺流程： 除油——水洗——磨板——水洗——微蚀— —水洗——酸洗——水洗——烘干
Yan Tin Chemicals Co.,Ltd
干膜介绍及干膜工艺详解
主要内容安排：
1.干膜介绍及发展趋势 2.线路板图形制作工艺(以SES流程为
例)
3.基本工艺要求 4.各工序注意事项 5.常见缺陷图片及成因 6.讨论
1. 干膜介绍及发展趋势
干膜(Dry Film)的用途： 干膜是一种感光材料，是PCB生产中的重要 物料，用于线路板图形的转移制作。近几 年也开始广泛应用于选择性化金、电镀金 工艺。
去膜点
：1.0~3.0kgf/cm2
：50~60％
SES工艺流程详细介绍 蚀刻：
蚀刻的作用：
用蚀刻液将非线路图形部分的铜面蚀 刻掉，而在锡或锡铅下的铜则不能被蚀刻。
SES工艺流程详细介绍 去锡/锡铅：
去锡/锡铅的作用：
用去锡/锡铅药液将锡/锡铅去掉，露出 需要的线路。
基本工艺要求
蚀刻、去锡/锡铅
基本工艺要求
前处理 水洗 : 多过3个缸(循环水)喷淋压力：13Kgf/cm2 吸干: 通常用2支海绵吸水辘 烘干:热风吹风量为 4.0～9.0m3/min 热风的温度为70～90℃ 其它控制项目 :水裂点：>15s 粗糙度1.5<Rz<3.0
工序注意事项
前处理
磨痕宽度均匀一致； 各段喷嘴无堵塞；
脱锡或锡/铅
显影
电镀铜＋锡 或铜＋锡/铅
碱性蚀板
去膜
SES工艺流程详细介绍 前处理：
前处理的作用：去除铜表面的氧化,油污,清洁、 粗化铜面，以增大干膜在铜面上的附着力。 前处理的种类：化学微蚀、物理磨板、喷砂处 理（火山灰、氧化铝）。 典型前处理工艺流程： 除油——水洗——磨板——水洗——微蚀— —水洗——酸洗——水洗——烘干
PCB制造工艺流程培训课件
PCB是为完成第一层次的元件和其它电子电路零件接合提供的一个组装基地，组装成一个具特定功能的模块或产品。所以PCB在整个电子产品中，扮演了连接所有功能的角色。
PCB制造工艺流程
一. PCB简介
3. PCB的历史
早於1903年Mr. Albert Hanson（阿尔伯特.汉森）首创利用“线路”(Circuit)观念应用于电话交换系统上。它是用金属箔切割成线路导体，将之粘于石蜡纸上，上面同样粘上一层石蜡纸，成了现今PCB的构造雏形。如下图：
半固化片
半固化片生产车间
PCB制造工艺流程
半固化片又称“PP片”，粘结片，是基板生产中的主要材料之一，主要由树脂和增强材料组成，增强材料又分为玻纤布、纸基（木浆纸）、复合材料等几种类型，而制作多层印制板所使用的半固化片（黏结片）大多是采用玻纤布做增强材料。
四. PCB基材说明
3. 半固化片
铜箔 按照铜箔的不同制法可分为压延铜箔和电解铜箔两大类。（1）压延铜箔是将铜板经过多次重复辊轧而制成的原箔（也叫毛箔），根据要求进行粗化处理。由于压延加工工艺的限制，其宽度很难满足刚性覆铜板的要求，所以在刚性覆铜板上使用极少；由于压延铜箔耐折性和弹性系数大于电解铜箔，故适于柔性覆铜箔上。 （2）电解铜箔是将铜先溶解制成溶液，再在专用的电解设备中将硫酸铜电解液在直流电的作用下，电沉积而制成铜箔，然后根据要求对原箔进行表面处理、耐热层处理和防氧化等一系列的表面处理。
PCB制造工艺流程
四. PCB基材说明
9.环氧玻纤布基板（FR-4,FR-5)
①FR-4:阻燃覆铜箔环氧玻纤布层压板
特点:机械强度高基板通孔可以镀金属用途广泛耐热性好抗吸湿性强用途:通讯,移动通讯,电脑,数字电视,数控音响等常规电源板
PCB制造工艺流程
一. PCB简介
3. PCB的历史
早於1903年Mr. Albert Hanson（阿尔伯特.汉森）首创利用“线路”(Circuit)观念应用于电话交换系统上。它是用金属箔切割成线路导体，将之粘于石蜡纸上，上面同样粘上一层石蜡纸，成了现今PCB的构造雏形。如下图：
半固化片
半固化片生产车间
PCB制造工艺流程
半固化片又称“PP片”，粘结片，是基板生产中的主要材料之一，主要由树脂和增强材料组成，增强材料又分为玻纤布、纸基（木浆纸）、复合材料等几种类型，而制作多层印制板所使用的半固化片（黏结片）大多是采用玻纤布做增强材料。
四. PCB基材说明
3. 半固化片
铜箔 按照铜箔的不同制法可分为压延铜箔和电解铜箔两大类。（1）压延铜箔是将铜板经过多次重复辊轧而制成的原箔（也叫毛箔），根据要求进行粗化处理。由于压延加工工艺的限制，其宽度很难满足刚性覆铜板的要求，所以在刚性覆铜板上使用极少；由于压延铜箔耐折性和弹性系数大于电解铜箔，故适于柔性覆铜箔上。 （2）电解铜箔是将铜先溶解制成溶液，再在专用的电解设备中将硫酸铜电解液在直流电的作用下，电沉积而制成铜箔，然后根据要求对原箔进行表面处理、耐热层处理和防氧化等一系列的表面处理。
PCB制造工艺流程
四. PCB基材说明
9.环氧玻纤布基板（FR-4,FR-5)
①FR-4:阻燃覆铜箔环氧玻纤布层压板
特点:机械强度高基板通孔可以镀金属用途广泛耐热性好抗吸湿性强用途:通讯,移动通讯,电脑,数字电视,数控音响等常规电源板
某电子有限公司PCB生产工艺培训
某电子有限公司PCB生产工艺培训一、背景介绍某电子有限公司致力于研发和生产高品质的PCB（Printed Circuit Board，印刷电路板）产品，为满足市场需求和提升生产效率，公司决定开展PCB生产工艺培训，以提升员工的技能水平和生产质量。
二、培训目的1.提升员工对PCB生产工艺的理解和掌握程度；2.加强员工的生产过程管理能力；3.提高生产效率和产品质量；4.优化PCB生产流程。
三、培训内容1. PCB基础知识•PCB的定义及作用；•PCB的结构和种类；•PCB的主要材料及特性。
2. PCB生产流程•PCB设计原理；•印制→挂阻→铜穿→影像→削铜→钻孔→插件→外线→成品；•PCB生产过程中的关键环节和技术要点。
3. PCB质量控制•PCB生产中的常见质量问题；•质量检验标准和方法；•应对质量问题的应急措施和解决方案。
4. 在线设备操作与维护•PCB生产所需设备的操作方法；•设备的日常维护和保养；•设备故障排除和处理方法。
5. 安全生产知识•PCB生产过程中的安全事项；•紧急情况处理和应急预案；•个人防护措施和安全意识培养。
四、培训方式和形式1.理论教学：授课方式结合案例分析，让学员深入理解PCB生产工艺；2.操作演示：通过实时操作演示，让学员掌握关键操作技巧；3.实地实践：安排学员进行实地操作练习，增强实际操作能力；4.互动讨论：开展互动讨论环节，促进学员间的经验交流和共同进步。
五、培训效果评估1.考核方式：笔试和实操考核结合，评估学员对PCB生产工艺的掌握情况；2.评估指标：考核内容涵盖理论知识、操作技能、质量管理等方面；3.奖惩机制：根据考核结果给予奖励或惩罚，激励学员提高学习积极性。
六、总结与展望某电子有限公司PCB生产工艺培训旨在提升员工的技能水平和生产效率，通过系统的培训内容和多样的培训方式，使员工在PCB生产领域更加专业和优秀。
未来，公司将继续定期开展此类培训活动，不断提升企业核心竞争力。
希普励干膜制程培训
SHIPLEY
A ROHM AND HAAS COMPANY
干膜的工艺运用与控制
贴膜 贴膜需控制的要素： 贴膜需控制的要素： 需控制的要素
温度 压力 速度 压辘的状态 基板的状态 SHIPLEY
A ROHM AND HAAS COMPANY
干膜的工艺运用与控制
贴膜
温度
> 进板温度: 20 - 50 ℃ 进板温度: > 压辘温度: 100 - 125 ℃ 压辘温度: > 出板温度: O/L 43 - 60 ℃ 出板温度: I / L 63 - 71 ℃ 进、出板温是指距压辘 前、后3“ 位置处板面 的 温度。 温度。 SHIPLEY
干膜的化学构成
其它成分
> 流动改性剂 > 防氧化剂 > 去膜增进剂
SHIPLEY
A ROHM AND HAAS COMPANY
干膜的工艺运用与控制
SHIPLEY
A ROHM AND HAAS COMPANY
干膜 - 内层工艺流程顺序
基板 表面处理 贴膜 曝光
蚀刻 退膜
SHIPLEY
A ROHM AND HAAS COMPANY
A ROHM AND HAAS COMPANY
干膜的工艺运用与控制
贴膜
Cu++与羧酸基团作用 Cu++与未饱和的有机化合物作用 (生成双键 生成双键) 生成双键
R R O C O H2O O CO Cu Cu O OH2 O C O C O R
OL ClO Cu O Cl o O O O OL Cu O Cu O O Cl Cu LO O OCl O L Cl OCl
A ROHM AND HAAS COMPANY
PCB工艺流程培训教材
PCB工艺流程培训教材
去毛刺
目的: 去除板面的氧化层、钻孔产生的粉尘、毛刺使板面孔内清洁、干 净。 流程： 放板 调整压力 出板 流程原理：
利用机械压力与高压水的冲力,刷洗,冲洗板面与孔内 异物达到清洗作用。 注意事项:
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PCB工艺流程培训教材
磨板边冲定位孔
目的： 将三个定位孔周边铜皮磨掉，用打靶机将钻孔用的定位孔
冲出。 流程：
打磨板边、校正打靶机 打定位孔 流程原理：
利用内层板边设计好的靶位，在cc d作用下，将靶形投 影于机器，机器自动完成对正并钻孔。 注意事项：
偏位、孔内毛刺与铜屑
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段，在退膜液的作用下，将膜去掉，露出内层线路图形。
注意事项： 显影不净、显影过度、线路撞伤、蚀刻残铜、线变小、线变宽 去膜不净、保护膜没扯净
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PCB工艺流程培训教材
内层DES
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PCB工艺流程培训教材
打靶位
目的： 将内层板板边层压用的管位孔（铆钉孔）冲出
用于层压的预排定位。 流程：
PCB工艺流程培训教材
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2020/11/3
PCB工艺流程培训教材
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目录
印制电路板简介 原材料简介
工艺流程介绍 各工序介绍
PCB工艺流程培训教材
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PCB
PCB 全称print circuit board, 是在覆铜板上贴上干膜，经曝光 显影、蚀刻形成导电线路图形在 电子产品起到电流导通与信号传 送的作用,是电子原器件的载体.
卷 尺 2，3 底片 放大镜 测量工具 板厚、线宽、间距、铜厚
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PCB干膜培训教材(完整)PPT课件
1.有较高的分辨率，一般线宽可做4mil； 2.干膜应用在图形电镀工艺中，电镀加厚在高而 垂直的夹壁间进行，在镀层厚度小于抗蚀剂厚 度时，可以防止产生镀层突延和防止去膜时抗 蚀剂嵌入镀层下面，保证线条精度；
3.干膜的厚度和组成一致，避免成像时的不连 续性，可靠性高； 4.应用干膜，大大简化了印制板制造工序，有利 于实现机械化、自动化。
干膜工艺流程详细介绍
磨板 贴膜 曝光
显影
蚀刻或电镀
褪膜
干菲林 Cu
基材 底片
一、磨 板
磨板的作用：基板前处理主要是解决表面清洁度和表 面粗糙度的问题。粗化铜面，便于菲林附着在铜面上 。 磨板的种类：化学磨板、机械磨板。 机械磨板工艺：
酸洗 水洗 磨板 水洗 水洗 吸干 热风干
以上关键步骤为酸洗和磨板段。
四、 显 影
显影的作用：
是将未曝光部分的干菲林去掉，留下感光的部分 。
显影的原理：
未曝光部分的感光材料没有发生聚合反应，遇弱 碱Na2CO3（0.8-1.2%)溶解。而聚合的感光材料则留在 板面上，保护下面的铜面不被电镀或蚀刻药水溶解。
• 6.干膜起皱 • 7.干膜与基板铜表面之间出现气泡
干膜的类型
• v 1.溶剂型干膜
使用有机溶剂作显影剂和去膜剂，例如用 1．1．1三氯乙烷显影，二氯甲烷去膜，这两种溶 剂遇
火不燃烧。醋酸丁酯等有机溶剂也可用作显影和去膜， 但易燃烧，很不安全。 溶剂型干膜是美国最早研制并投 入大量生产的一种干膜，我国早期也研制过。它的优点 是 技术成熟，工艺稳定，耐酸耐碱，应用范围广。但是， 使用这种干膜需要消耗大量的有机溶剂，需 要价格昂贵 的显影和去膜设备及辅助装置，生产成本高，溶剂有毒， 污染环境，所以日趋以水溶 性干膜所取代，仅在特殊要 求时才使用。
PCB工艺流程培训教材(更新)
第三章棕化与层压工序
第四章光成像工序
第五章化学沉铜
第六章DES与SES线
第七章热风整平工序
第八章阻焊及字符
第九章实验室
第十章AOI
第十一章电测试
应用范围：孔电阻测试，线圈电阻测试，电感型线路测试，嵌入式电阻测试
第十二章外形
培训（实习）需掌握内容
外形工序一般工艺流程为：前工序→作业准备
板→（金手指倒角）→（成品清洗）→
（1）铣床---铣外形；（
第十三章镀金手指线
第十四章板镀与图镀
第十五章图形电镀镍、金线
第十六章成品检验工序
第十七章综合部分。
干膜培训教材(SES)
以电镀供应商工艺要求为准。
3. 基本工艺要求
去膜
去膜液浓度 ：2.0~3.0%（NaOH浓度） 去膜液温度 ：45~55 ℃ 去膜压力 水洗压力 去膜点 ：2.0~3.0kgf/cm2 ：1.0~3.0kgf/cm2 ：50~60％
3. 基本工艺要求
蚀刻、去锡/ 蚀刻、去锡/锡铅
以蚀刻药水和去锡药水供应商工艺要求为准。
3. 基本工艺要求
前处理
水洗 吸干 烘干 : 多过3个缸(循环水)喷淋压力：1～3Kgf/cm2 循环水 喷淋压力： ～ 个 循环 喷淋压力 : 通常用2支海绵吸水辘 通常用 支海绵吸水辘 吸水 :热风吹风量为 4.0～9.0m3/min 热风吹 热风 ～ 热风的温度为80～ ℃ 热风的温度为 ～90℃ 其它控制项目 水裂点： 其它控制项目 :水裂点：>20s 粗糙度1.5<Rz<3.0 粗糙度
AQ-4088 AQSPGSPG-152 ADVADV-401
40 15 40
2. 线路板图形制作工艺
两种镀通孔线路板制作的比较 两种镀通孔线路板制作的比较 通孔线路板制作的
Tenting制程
研磨 贴膜
SES制程
全板电镀铜 基铜 玻璃纤维底料 曝光原件 干膜
曝光
显影
蚀板
电镀铜/锡或锡/铅 碱性蚀板
C O O－ C O O H－ ＋ N a
＋ N a
C O O－ ＋ N a COO － ＋ N a
－ COO
N a O H /H 2 O
－ COO ＋ N a
C OOH
C OOH
COOH
C O O－ ＋ N a
C O O－ ＋ N a
C O O－ ＋ N a
PCB干膜制程工艺培训(ppt 77页)
第二类干膜
> 阻焊干膜 ---- Conformask 2515
第三类：先进的感光绝缘材
> LDI干膜 ---- UitraDirect 630 UltraDirect 730/740
> 运用于HDI及封装制造的干膜 ---- NIT200 (25, 30 um), NIT1025
PLUSCO COMPANY
Shipley 干膜产品的应用
产品
801Y30 801Y40 102J30 102J40 FL08/FL13 1420/1430 KE 7738 5038 7338 UltraDirect 730 UltraDirect 740
NIT200 Series
应用
适用于一般 PCB/FPCB I/L 酸性蚀刻制程，L/S=2-3 mils Limited 适用于一般 PCB O/L 掩孔/酸性蚀刻制程，L/S=2-3 mils Limited 适用于细线 PCB/FPCB I/L 酸性蚀刻制程，L/S=1-2 mils Limited 适用于细线 PCB O/L 电镀/掩孔/酸性蚀刻制程，L/S=1-2 mils Limited 适用于一般 PCB/FPCB I/L 碱性蚀刻制程，L/S=2 mils Limited 适用于细线 PCB/FPCB I/L 碱性蚀刻制程，L/S=1-2 mils Limited 适用于一般 PCB O/L 电镀Cu/Sn/Sn&Pb制程，L/S=3 mils Limited
第二类：如阻焊干膜 - 此类干膜在制造中将成为最终成品的一部 分而永久性粘附在板面上。
第三类：先进的感光绝缘材 - 用于镭射直接成像 (LDI) 的运用 - 或作为绝缘材用于HDI及封装方面的运用
PLUSCO COMPANY
> 阻焊干膜 ---- Conformask 2515
第三类：先进的感光绝缘材
> LDI干膜 ---- UitraDirect 630 UltraDirect 730/740
> 运用于HDI及封装制造的干膜 ---- NIT200 (25, 30 um), NIT1025
PLUSCO COMPANY
Shipley 干膜产品的应用
产品
801Y30 801Y40 102J30 102J40 FL08/FL13 1420/1430 KE 7738 5038 7338 UltraDirect 730 UltraDirect 740
NIT200 Series
应用
适用于一般 PCB/FPCB I/L 酸性蚀刻制程，L/S=2-3 mils Limited 适用于一般 PCB O/L 掩孔/酸性蚀刻制程，L/S=2-3 mils Limited 适用于细线 PCB/FPCB I/L 酸性蚀刻制程，L/S=1-2 mils Limited 适用于细线 PCB O/L 电镀/掩孔/酸性蚀刻制程，L/S=1-2 mils Limited 适用于一般 PCB/FPCB I/L 碱性蚀刻制程，L/S=2 mils Limited 适用于细线 PCB/FPCB I/L 碱性蚀刻制程，L/S=1-2 mils Limited 适用于一般 PCB O/L 电镀Cu/Sn/Sn&Pb制程，L/S=3 mils Limited
第二类：如阻焊干膜 - 此类干膜在制造中将成为最终成品的一部 分而永久性粘附在板面上。
第三类：先进的感光绝缘材 - 用于镭射直接成像 (LDI) 的运用 - 或作为绝缘材用于HDI及封装方面的运用
PLUSCO COMPANY
PCB全制程培训教材
EXPOSURE
LAMINATION
蝕
多層板內層流程
INNER LAYER PRODUCT
銅
蝕 銅
ETCHING
顯
影
I/L ETCHING
STRIPPING
DEVELOPING
AO I 檢 查
AOI INSPECTION
預疊板及疊板
LAY- UP
預疊板及疊板 LAY- UP
棕化處理
BLACK OXIDE
製作規 範
RUN CARD
DRAWING
开
料
LAMINATE SHEAR
非技术类
11
PCB流程
(2)多層板內層製作流程
开 MLB 內層乾膜
INNERLAYER IMAGE
料 DOUBLE SIDE 曝 去 光 膜 涂 膜 前處理
PRELIMINARY TREATMENT
LAMINATE SHEAR
Hardness 硬度性能
Hole Throught Status 孔的导通状态
Soldersurface 表面制作
单 面 板
双 面 板
多 层 板
硬 软 板 板
软 硬 结 合 板
埋 孔 板
盲 孔 板
通 孔 板
喷 镀 沉 锡 金 金 板 板 板 板
碳 金 油 手 板 指 板
OSP
沉 锡 板
沉 银 板
非技术类
非技术类
24
流程简介-压合
5、裁边：根据MI要求，将压板后的半成品板的板边切到需要 的尺寸
非技术类
25
流程简介-钻孔
1、目的： 在板料上钻出客户要求的孔，孔的位置及大小均需满足客 户的要求。 实现层与层间的导通，以及将来的元件插焊。 为后工序的加工做出定位或对位孔 钻嘴
PCB工艺流程培训教材ppt课件
粗化板面,增强二次镀铜的结合力。 微蚀/双水洗
3.酸洗:剥除板面氧化层，清除粗化后残留于
板面的铜粉，使镀层牢固均匀,同时保 酸洗/双水洗 护铜缸硫酸液浓度不被水稀释。
4.镀铜:通过高酸低铜,同时通过电解,使镀层具
镀铜/双水洗
有半光泽性、延展性、抗拉性，增加沉 铜后镀铜厚度,最终使线路的导通能力
更好。
烘干/出货
烘干,确保板面及孔内保持干燥，以利 后制程作业及储存。
厚铜电镀线 镀铜槽 烘干机
线路(干膜)制程讲解：
作业流程
流程概述
设备图
外层前处理 1.磨刷:通过 尼龙轮的高速旋转，粗化基板表 面去除氧化脏物,从而增强干膜附着力
压膜 曝光 显影 检验
2.压膜:利用机器机械运作将磨刷后的板面上压 上一种光聚合物的干膜;
检验
5.显影:无曝光之板在经过有一定温度压力浓度 的显液喷洒,使未感光油墨区域均匀冲 洗掉露出铜面之过程。
数量移转
线路烘箱 线路曝光机 线路显影机
二次铜制程讲解：
作业流程
流程概述
设备图
线路来料上挂 1.除油:去除铜表面之轻度油脂及氧化物,以使表
面活化及清洁,以提升镀铜层的结合力; 除油/双水洗
2.微蚀:利用H2SO4、SPS、CU相互发生反应,
粗化板面，使镀层牢固均匀,同时保护
酸洗
铜缸硫酸液浓度不被水稀释。
3.镀铜:通过高酸低铜,同时通过电解,使镀层
镀铜/双水洗,最终使线路的导通
能力更好。
下挂 4.硝挂:利用硝酸与挂架上的铜发生反因,将挂夹
具上的残铜全部进行清除,
硝挂/双水洗
5.烘干:以自来水清洗板面，另经吸干、吹干、
3.曝光:通过5kw紫外线光的照射,透过菲林透 明区散射到感光干膜区使其发生质变 之过程;
3.酸洗:剥除板面氧化层，清除粗化后残留于
板面的铜粉，使镀层牢固均匀,同时保 酸洗/双水洗 护铜缸硫酸液浓度不被水稀释。
4.镀铜:通过高酸低铜,同时通过电解,使镀层具
镀铜/双水洗
有半光泽性、延展性、抗拉性，增加沉 铜后镀铜厚度,最终使线路的导通能力
更好。
烘干/出货
烘干,确保板面及孔内保持干燥，以利 后制程作业及储存。
厚铜电镀线 镀铜槽 烘干机
线路(干膜)制程讲解：
作业流程
流程概述
设备图
外层前处理 1.磨刷:通过 尼龙轮的高速旋转，粗化基板表 面去除氧化脏物,从而增强干膜附着力
压膜 曝光 显影 检验
2.压膜:利用机器机械运作将磨刷后的板面上压 上一种光聚合物的干膜;
检验
5.显影:无曝光之板在经过有一定温度压力浓度 的显液喷洒,使未感光油墨区域均匀冲 洗掉露出铜面之过程。
数量移转
线路烘箱 线路曝光机 线路显影机
二次铜制程讲解：
作业流程
流程概述
设备图
线路来料上挂 1.除油:去除铜表面之轻度油脂及氧化物,以使表
面活化及清洁,以提升镀铜层的结合力; 除油/双水洗
2.微蚀:利用H2SO4、SPS、CU相互发生反应,
粗化板面，使镀层牢固均匀,同时保护
酸洗
铜缸硫酸液浓度不被水稀释。
3.镀铜:通过高酸低铜,同时通过电解,使镀层
镀铜/双水洗,最终使线路的导通
能力更好。
下挂 4.硝挂:利用硝酸与挂架上的铜发生反因,将挂夹
具上的残铜全部进行清除,
硝挂/双水洗
5.烘干:以自来水清洗板面，另经吸干、吹干、
3.曝光:通过5kw紫外线光的照射,透过菲林透 明区散射到感光干膜区使其发生质变 之过程;
PCB生产流程培训
水洗 → 水洗 → 预浸 → 活化 →水洗 → 水洗 → 沉铜 → 水洗 → 水洗→ 下板 ）
3、工序控制要点：
1）磨板：磨痕宽度（磨刷负荷电流）、传送速度、高压水洗压力
2）沉铜参数： A 各药缸的药水浓度、温度 B 程序：即板在各药水缸的浸泡时间 C 药液均匀性及洁净度 D 性能实验 ：背光9级以上
2、流程：（双面板）分料→圆角→烘板→出板 （多层芯板）分料→圆角→烘板→ 除胶渣或磨板→出板
3、工序控制要点： 1）板料规格：板料型号、板厚、铜厚、尺寸 2）烘板参数：（分普通板料及高TG板料）温度、时间 3）除胶渣参数：各药水缸浓度、温度、时间
4、工序相关的工艺能力：
1）开料尺寸精度：+/-1mm
1）外层底铜厚度（最小1/3OZ、最大3OZ）
2）外层线宽／间距(最小) H/HOZ 3.5mil/3.5mil 1/1OZ 4mil/4mil 2/2OZ 5mil/5mil 3/3OZ 6mil/6mil
3）外层图形对孔位精度(最小) ±3mil
4）内(外)层阻抗(≥4mil线宽 >50Ω )±10%
（IMT）前处理（除油、微蚀、预浸）→沉锡→后处理→检验→出板
（பைடு நூலகம்MG）磨板→前处理（除油、微蚀、酸洗、预浸、活化）→沉镍→沉金→后处理→检验→出板
（IMS）前处理（除油、微蚀、预浸）→沉银→检验→出板
（OSP）前处理（除油、微蚀、酸洗）→OSP→检验→出板
3、工序控制要点：
1）HAL：微蚀量、浸锡时间 、锡槽温度、风刀压力 温度间距角度、印制板上升速度
2）IMT：各药缸的药水浓度温度、程序（即板在各药水缸的浸泡时间）、药液均匀性及洁净度
3）IMG：各药缸的药水浓度温度、程序（即板在各药水缸的浸泡时间）、药液均匀性及洁净度
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5038干膜的工艺运用与控制
表面处理
干膜的附着力强度取决于：
干膜的化学性质 板面的化学清洁度 板面的物理粗糙度
PLUSCO COMPANY
5038干膜的工艺运用与控制
表面处理
板面的化学清洁度:
水膜破裂试验是检验板面 化学清洁度的最佳方法
经前处理后的板面，水膜应保持 15 秒不破裂。
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适用于细线 PCB O/L 电镀Cu/Sn/Sn&Pb制程，L/S=1.5 mils Limited
适用于细线 PCB O/L 电镀Cu/Sn/Sn&Pb/Ni/Au制程，L/S=1.5 mils Limited 适用于细线 PCB O/L 电镀Cu/Sn/Sn&Pb/Ni/Au制程，L/S=1.5 mils Limited 适用于LDI I/L酸/碱性蚀刻制程，L/S=1.5 mil Limited 适用于LDI O/L 电镀Cu/Sn/Sn&Pb/Ni/Au，掩孔，酸/碱性蚀刻制程，
增色型感光系体：曝光前为浅兰色，曝光后为深兰色
性能
镀Cu-Sn/SnPb 镀Ni, Au
1993 应用方面
碱蚀
酸蚀
掩孔
优点
关注事项
慢
快
• 多用途干膜，在各流程中
运用具有操作范围宽的特点 • 具有优越的瞬间附着力 • 具有优异的抗化性 — 是碱蚀和蚀厚铜的最佳选择 — 具有优越的抗镀性 — 适于镀厚金的要求 — 可用于沉镍/金的应用 • 曝光后色差明显 • 可用于LDI的应用
第三类：先进的感光绝缘材 - 用于镭射直接成像 (LDI) 的运用 - 或作为绝缘材用于HDI及封装方面的运用
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Shipley 干膜简介
第一类：抗蚀或抗镀干膜
> 抗蚀干膜
抗酸蚀干膜 ---- 801Y30, 801Y40, 102J30, 102J40 抗碱蚀干膜 ---- FL(20, 33um), 1400(20, 30um)
Morton Shipley LeaRonal
成像系列 金属化系列
内层制造
外层制造
构形制造
电子 & 工业 表面处理
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Shipley 干膜简介
按最终用途干膜可分为以下几种类型：
第一类：如抗蚀干膜或抗镀干膜 - 此类干膜在制造中只起到某些特定作用而 暂时性地粘附在板面上。
第二类：如阻焊干膜 - 此类干膜在制造中将成为最终成品的一部 分而永久性粘附在板面上。
干膜制程工艺培训
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培训内容
Shipley 及其干膜简介 Laminar® 5038干膜的特性 Laminar® 5038干膜的工艺 运用与控制 实践中常见问题的解决
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Shipley 及其干膜简介
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Shipley 简介
第二类干膜
> 阻焊干膜 ---- Conformask 2515
第三类：先进的感光绝缘材
> LDI干膜 ---- UitraDirect 630 UltraDirect 730/740
> 运用于HDI及封装制造的干膜 ---- NIT200 (25, 30 um), NIT1025
PLUSCO COMPANY• 由于其优越的抗源自性，故 退膜速度偏慢，需要加以 关注
曝光速度 显影速度 退膜速度
最小解像度. = 1x 膜厚
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Laminar® 5038干膜的 工艺运用与控制
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DF5038 - 内层工艺流程顺序
基板
表面处理
贴膜
蚀刻
显影
曝光
退膜
自动光学检查AOI
L/S=1.5 mil Limited 适用于PBGA，FCPBGA 制程，L/S<=1mil Limited
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Laminar® 5038干膜的特性
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Laminar 5000
膜厚: 1.0, 1.3, 1.5, 2.0, 3.0 (25, 33, 38, 50, 75)
• 抗镀干膜
抗镀铜/锡(锡铅)干膜 ---- KE(38, 50, 62um), 7700(30, 38, 50um)
抗镀镍金干膜 ---- 5000(25, 33, 38, 50, 75um), 7300(13, 20, 25, 30, 38, 50, 75um)
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Shipley 干膜简介
Shipley 干膜产品的应用
产品
801Y30 801Y40 102J30 102J40 FL08/FL13 1420/1430 KE 7738 5038 7338 UltraDirect 730 UltraDirect 740
NIT200 Series
应用
适用于一般 PCB/FPCB I/L 酸性蚀刻制程，L/S=2-3 mils Limited 适用于一般 PCB O/L 掩孔/酸性蚀刻制程，L/S=2-3 mils Limited 适用于细线 PCB/FPCB I/L 酸性蚀刻制程，L/S=1-2 mils Limited 适用于细线 PCB O/L 电镀/掩孔/酸性蚀刻制程，L/S=1-2 mils Limited 适用于一般 PCB/FPCB I/L 碱性蚀刻制程，L/S=2 mils Limited 适用于细线 PCB/FPCB I/L 碱性蚀刻制程，L/S=1-2 mils Limited 适用于一般 PCB O/L 电镀Cu/Sn/Sn&Pb制程，L/S=3 mils Limited
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DF5038 - 外层工艺流程顺序
基板
表面处理
贴膜
电镀
显影
曝光
退膜
蚀刻
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5038干膜的工艺运用与控制
内层基板
基板
> 板面：避免板面划伤、露基材(造成缺口/开路) > 板边：应磨边去除边缘毛刺、铜屑，减少划伤及对曝
光过程中的污染。
> 板角：应倒弧角以划伤。
外层基板
> 应与内层基板作同样处理。 > 板孔质量：孔边应平滑、无批锋及毛刺，否则应作必
要的处理，以避免掩孔穿破。
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5038干膜的工艺运用与控制
表面处理
作用：
除去板面上的氧化物、油脂、手印等， 并提供微观粗糙的表面以增强干膜的附着力 和填覆性。
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