镀膜工艺介绍
pcb镀膜工艺技术
pcb镀膜工艺技术
PCB镀膜工艺技术是指将一层薄膜涂覆在PCB（Printed
Circuit Board，印刷电路板）的表面，用于保护电路板免受环
境污染和氧化腐蚀。
常见的PCB镀膜工艺技术包括喷涂、浸涂、浸镀、喷镀等。
1. 喷涂：直接用喷枪将防腐膜涂覆在PCB表面。
该工艺简单，但效果较差，易产生浮白和脱落现象。
2. 浸涂：将PCB放入含有防腐膜的槽中，通过液力将膜涂覆
在PCB表面。
该工艺需要控制液体的温度和浓度，以保证膜
的均匀性和质量。
3. 浸镀：将PCB放入含有金属材料（如锡、银）的浸涂槽中，通过电化学反应使金属材料镀到PCB表面。
该工艺可以提高PCB的导电性和抗氧化能力。
4. 喷镀：类似于喷涂工艺，将金属材料（如锡、银）以液态喷射到PCB表面。
喷镀工艺可以在不使用电流的情况下进行，
适用于一些对电流敏感的电路板。
通过PCB镀膜工艺技术，可以增加PCB的抗氧化能力，减少PCB与环境因素的接触，延长电路板的使用寿命。
不同的镀
膜工艺技术适用于不同的应用场景，制造商需要根据自身需求和要求选择适合的工艺技术。
镀膜工艺流程
镀膜工艺流程镀膜工艺流程是指将一层特殊材料加在被镀物表面的工艺过程。
该工艺可以提高被镀物的硬度、耐磨性和防腐蚀性能，常用于光学镜片、汽车零部件、电子器件等领域。
一般而言，镀膜工艺流程可以分为以下几个步骤：1. 表面处理：被镀物的表面必须进行充分的清洁和处理，以确保镀层具有良好的附着力。
常用的表面处理方法包括化学清洗、机械打磨、酸洗等。
2. 蒸发或溅射：选择合适的镀膜材料，将其以蒸发或溅射的方式在被镀物表面沉积。
蒸发镀膜通过将镀膜材料加热至其沸点，使其蒸发并沉积在被镀物表面；溅射镀膜则是通过将镀膜材料靶材以高速撞击的方式喷射到被镀物表面。
3. 衬底材料：为提高镀膜的质量和性能，常常在被镀物表面先涂覆一层衬底材料。
衬底材料可以增加镀层与被镀物的结合力，同时也能减少镀层的孔洞和缺陷。
4. 温度和气氛控制：在镀膜过程中，要控制镀膜的温度和气氛条件。
温度的控制可以影响镀层的致密性和结晶度，而气氛的控制可以影响镀层的成分和结构。
5. 制备复合镀膜：根据不同的工艺要求，有时需要制备复合镀膜。
复合镀膜可以通过多次镀膜、多种镀膜材料的组合或多层衬底材料的涂覆来实现。
6. 后处理：完成镀膜过程后，可以进行一些后处理工艺以改善镀层的性能。
例如，通过热处理可以提高镀层的硬度和致密性；通过机械抛光可以提高镀层的光洁度。
在整个镀膜工艺流程中，质量控制是非常重要的一环。
通过对每个步骤的参数和指标进行严格的监控和调节，可以确保最终的镀膜质量符合要求。
同时，对于复杂的镀膜工艺流程，也需要关注工艺的稳定性和可重复性，以确保批量生产时的一致性。
总之，镀膜工艺流程是一项复杂而关键的工艺，它涉及到材料、设备、工艺参数等多个方面。
只有通过科学合理的流程设计和精确的质量控制，才能保证最终的镀膜质量和性能达到预期目标。
《镀膜工艺》课件
电子束蒸发镀膜：利用电子束加热靶材， 使其在真空环境下蒸发，在基材表面形 成薄膜
化学镀膜工艺
化学镀膜工艺简介 化学镀膜工艺的分类 化学镀膜工艺的应用领域 化学镀膜工艺的发展趋势
复合镀膜工艺
原理：通过在基材表面沉积多层不同性质的薄膜，形成复合膜层 特点：具有多种功能，如耐磨、耐腐蚀、抗反射等 应用：广泛应用于光学、电子、机械等领域 工艺流程：包括预处理、沉积、后处理等步骤
固化阶段：通过加热、光 照等方法使镀膜材料固化
检测阶段：检查镀膜层的 厚度、均匀性等性能指标
后处理阶段：对镀膜后的 工件进行清洗、抛光等处 理，提高其表面质量
后处理
清洗：去除残留 的化学物质和杂 质
干燥：去除水分， 防止腐蚀和氧化
抛光：提高表面 光洁度，改善外 观
检验：检查镀膜 质量，确保符合 标准要求
研发方向：环保、 节能、高效、多功 能
应用领域：电子、 光学、生物、医疗、 航空航天等
研发成果：新型纳 米材料、有机无机 复合材料、生物材 料等
未来展望：新材料 的研发和应用将推 动镀膜工艺的发展 ，提高产品质量和 性能，拓展应用领 域。
镀膜工艺的绿色化与可持续发展
绿色镀膜：采用 环保材料，减少 对环境的污染
镀膜工艺流程
前处理
目的：去除工件表面的油污、锈迹等杂质 步骤：清洗、除油、除锈、除氧化皮等 设备：清洗机、除油机、除锈机等 材料：清洗剂、除油剂、除锈剂等 注意事项：确保工件表面清洁，避免污染后续镀膜过程
镀膜
准备阶段：选择合适的镀 膜材料和设备
清洗阶段：去除工件表面 的油污、锈迹等
镀膜阶段：将镀膜材料均 匀地涂覆在工件表面
PVD镀膜工艺简介
PVD镀膜工艺简介PVD镀膜（Physical Vapor Deposition）是一种利用物理气相沉积的技术，在高真空环境下，通过蒸发、溅射等方式将金属、合金、化合物等材料以薄膜的形式沉积到基材表面的一种工艺。
PVD镀膜工艺被广泛应用于各个领域，如光学、电子、机械、汽车、建筑等。
蒸发是PVD镀膜中最早应用的一种工艺。
通过加热源将材料加热至蒸发温度，使其转变为气态，然后在真空室内的基板上形成薄膜。
蒸发工艺可以通过电阻加热、电子束加热等方式来进行。
这种工艺的特点是操作简单，成本较低，但适用于蒸发温度较低的材料。
溅射是PVD镀膜中应用较广泛的一种工艺。
通过高能粒子的轰击使靶材表面的原子或离子脱落，然后被沉积在基板表面上形成薄膜。
溅射工艺一般可分为直流溅射、射频溅射、磁控溅射等不同方式。
这种工艺具有较高的沉积速率和较好的膜层均匀性，适用于多种材料的沉积。
离子镀是一种利用离子轰击作用在基材表面上形成薄膜的工艺。
通过向沉积膜层的材料供应高能离子，使其在基板表面发生化学反应并沉积形成薄膜。
离子镀工艺能够提高薄膜的致密性和附着力，适用于复杂形状的基板和高精密要求的镀膜。
在PVD镀膜过程中，需要注意以下几个关键环节。
首先，要确保真空室内的气压稳定，并保持高真空状态，以避免杂质对薄膜质量的影响。
其次，镀膜前需对基材进行表面处理，如清洗、抛光等，以提高薄膜的附着力。
再次，镀膜材料的纯度和均匀性对薄膜性能起着重要影响，因此需要对材料进行精细的处理和选择。
最后，要通过适当的加热、冷却以及离子轰击等方式，使沉积的薄膜具有良好的致密性和均匀性。
PVD镀膜工艺具有许多优点。
首先，它可以在室温下进行，避免了高温对基材产生的热应力和变形。
其次，沉积的薄膜具有较高的质量和均匀性，具有良好的机械性能和化学稳定性。
再次，PVD镀膜可用于多种材料的沉积，如金属、合金、化合物等，具有较大的灵活性和可扩展性。
此外，PVD镀膜还具有低污染性、无溶剂使用、高效节能等环保优势。
镀膜工艺简介AF,AG,AR 20190601
涂层硬度： 测试条件：使用7H三菱铅笔，1KG压力，摩擦速度60次/分钟，摩擦行程40mm，摩 擦次数1次 表面无划痕
人工汗液
摩擦测试仪
摩擦测试仪
AR抗（减）反射增透膜简介
• AR膜又称减反射膜又称增透膜，
• 主要功能:减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光，从而增加这些元 件的透光量。
AF镀膜产品应用领域：
手机、平板、车载、电视、LED等玻璃显示屏
AF生产工艺简介
真空蒸镀：在真空条件下，采用一定的加 热蒸发方式蒸发镀膜材料（或称膜料）并 使之气化，粒子飞至基材表面凝聚成膜的 工艺方法。
真空溅镀：利用辉光放电将氩气(Ar)离子 撞击靶材表面，靶材的原子被弹出而堆积 在基板表面形成薄膜。
AG防炫膜简介
AG镀膜产品特性： 1、反射红外线：降低红外线在玻璃表面的通透率来减少入室红外线光； 2、增强透光率：在反射红外线光线的同时增强其他光源的透过，不影响室内采 光效果 3、防眩光：将光源发出的光通过漫反射改变反射强光对观察者的视觉刺激
AG镀膜产品应用领域： 1、手机、车载导航、电子黑板、电视屏幕、电脑屏幕、精密仪器仪表屏幕、医 疗设备窗口、液晶显示器视窗、电子产品视窗、笔记本触板、无线鼠标触板等； 2、高级画廊和美术馆的名贵字画的镜框，使字画和图片长期保存，永不褪色； 3、博物馆、档案馆等贵重文物保护。
• 减反射膜是应用最广、产量最大的一种光学薄膜，因此，它至今仍是光学薄膜技 术中重要的研究课题.
• 在很多应用领域中，增透膜是不可缺少的，否则，无法达到应用的要求。 就拿一 个由18块透镜组成的35mm的自动变焦的照相机来说，假定每个玻璃和空气的界 面有4%的反射，没有增透的镜头光透过率为27%，镀有一层膜（剩余的反射为 1.3%）的镜头光透过率为66%，镀多层膜（剩余的反射为0.5%）的为85%。
镀膜工艺流程
镀膜工艺流程
《镀膜工艺流程》
镀膜工艺是一种常用的表面处理技术，旨在为材料表面增加一层膜，从而改善其性能和外观。
镀膜工艺可以应用于金属、塑料、陶瓷等各种材料上，用途广泛。
下面将介绍镀膜工艺的主要流程。
1. 表面处理：在进行镀膜之前，首先需要将材料的表面进行处理，以确保膜层能够牢固地附着在其上。
通常，表面处理包括去油、除锈、打磨、清洗等步骤。
2. 镀前处理：将经过表面处理的材料放入镀前处理液中进行处理，以增强膜的附着性。
镀前处理一般包括清洗、酸洗、活化等步骤。
3. 镀膜：将经过镀前处理的材料放入镀膜槽中进行镀膜。
镀液中通常含有金属离子，通过电化学方法将金属离子还原成金属层，从而在材料表面形成一层金属膜。
4. 后处理：对镀膜后的材料进行清洗、干燥、抛光等后处理工艺，以确保膜层光滑、均匀、无缺陷。
以上就是镀膜工艺的主要流程。
通过上述步骤，可以为材料表面增加一层薄膜，提升其耐腐蚀性、硬度、光泽度等性能。
镀膜工艺不仅可以用于美化产品外观，还可以增强材料的使用寿命和耐用性，因此在工业生产中具有重要的应用价值。
镀膜工艺技术
镀膜工艺技术镀膜工艺技术是一种将膜物质涂覆在工件表面的方法，使工件具有特定的性能或外观效果的技术。
镀膜工艺技术广泛应用于电子、航空航天、光学、汽车等领域。
一、镀膜工艺技术的分类根据涂覆物的不同，镀膜工艺技术可以分为化学镀膜、物理镀膜和电化学镀膜三种。
1. 化学镀膜技术化学镀膜是利用化学反应将膜物质溶解在化学溶液中，通过反应物分子在工件表面形成一层薄膜，从而改善工件表面的性能。
常用的化学镀膜技术有镀金、镀铬、镀镍等。
2. 物理镀膜技术物理镀膜是利用物理方法将膜物质蒸发或溅射到工件表面，形成一层薄膜。
常见的物理镀膜技术有真空蒸发、物理气相沉积等。
3. 电化学镀膜技术电化学镀膜是利用电解溶液中的阳离子在阳极处发生离子化，经过电场作用，将离子在阴极处还原，形成一层薄膜。
常见的电化学镀膜技术有镀锌、镀铜、镀锡等。
二、镀膜工艺技术的应用1. 保护性镀膜镀膜可以在工件表面形成一层保护性膜，防止工件与外界环境接触，延长其使用寿命。
例如，汽车零部件镀锌可以防止钢铁零件锈蚀，延长其使用寿命。
2. 装饰性镀膜镀膜可以使工件表面具有金属质感或其他特殊效果，提高其装饰性。
例如，首饰镀金可以使首饰更加闪亮、美观。
3. 功能性镀膜镀膜可以赋予工件特定的功能，如增加工件的导电性、耐磨性或降低摩擦系数等。
例如，光学镀膜可以使镜片具有优良的透光性和抗反射性能。
三、镀膜工艺技术的发展趋势1. 绿色环保化随着环保意识的提高，镀膜工艺技术向着绿色环保化的方向发展。
例如，采用无铬镀膜工艺替代传统的六价铬镀膜，可以减少对环境的污染。
2. 高效节能化工艺技术的不断创新，使得镀膜过程中的能源消耗大大减少，提高了工艺的效率和节能性。
3. 自动化智能化镀膜工艺技术在自动化和智能化方面的应用越来越广泛，大大提高了生产效率和产品质量。
例如，采用机器人来进行膜物质的涂覆，可以保证涂覆的均匀性和一致性。
总之，镀膜工艺技术是一项重要的表面处理技术，具有广泛的应用前景。
PVD镀膜工艺简介
生物医疗
用于制造具有生物相容性和耐 腐蚀性能的医疗器械和人工关
节等。
02
PVD镀膜工艺流程
前处理
清洗
去除工件表面的污垢、油脂和杂 质，确保工件清洁，以便进行后 续镀膜。
干燥
将清洗后的工件进行干燥处理， 以去除残留的水分，避免对镀膜 效果产生影响。
真空镀膜
蒸发源选择
根据需要镀制的膜层材料，选择相应 的蒸发源，如电子束蒸发、激光脉冲 蒸发等。
PVD镀膜工艺简介
目 录
• PVD镀膜技术概述 • PVD镀膜工艺流程 • PVD镀膜材料 • PVD镀膜工艺的特点与优势 • PVD镀膜工艺的应用实例
Байду номын сангаас1
PVD镀膜技术概述
PVD镀膜技术的定义
物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，简称PVD）是一 种表面处理技术，利用物理方法将固体材料转化为气态原子或 分子，并将其沉积在基材表面形成薄膜。
类金刚石镀膜
具有极高的硬度和优良的 耐磨性，常用于机械零件、 光学元件、医疗器械等领 域的表面处理。
碳化物镀膜
具有高硬度、高耐磨性等 特点，常用于切削工具、 模具等领域的表面处理。
复合镀膜材料
氧化铝/氮化钛镀膜
氧化锆/类金刚石镀膜
具有高硬度、优良的耐磨性和耐腐蚀 性等特点，广泛用于切削工具、刀具 等领域的表面处理。
适用范围广
PVD镀膜工艺适用于各种金属材料， 如不锈钢、钛、铝、钴等，也可应用 于陶瓷、玻璃等非金属材料。
优良的结合力
PVD镀膜层与基材之间具有优良的结 合力，不易剥落，提高了产品的可靠 性和安全性。
长寿命
PVD镀膜层具有较长的使用寿命，可 大幅减少维修和更换的频率，降低生 产成本。
塑料镀膜工艺技术
塑料镀膜工艺技术
塑料镀膜工艺技术是一种在塑料表面形成一层保护膜的工艺。
通过镀膜，可以提高塑料表面的耐磨性、抗化学腐蚀性和外观质量，延长其使用寿命。
以下是塑料镀膜工艺技术的简要介绍。
首先，塑料镀膜的前处理非常重要。
在进行镀膜之前，需要对塑料表面进行清洁、去污、除油等处理，以确保膜层与塑料表面的粘结力。
这可以通过物理或化学方法实现，如用溶剂擦拭或光束等。
其次，选择合适的镀膜材料。
常用的塑料镀膜材料包括金属、陶瓷和聚合物等。
选择合适的镀膜材料需要考虑到塑料表面的性质和应用环境等因素。
例如，如果需要提高塑料的导电性，可以选择金属镀膜材料。
然后，进行镀膜过程。
塑料镀膜的方法有很多种，例如真空蒸发镀膜、电镀、喷涂等。
选择合适的镀膜方法需要考虑到塑料材料的特性和要求。
例如，真空蒸发镀膜适用于高温塑料和对温度敏感的塑料；电镀适用于要求膜层均匀、厚度可控的塑料。
最后，进行后处理。
镀膜完成后，需要对塑料进行后处理以提高镀膜层的表面质量和性能。
常用的后处理方法包括烘干、热固化、抛光等。
这些后处理方法可以提高镀膜层与塑料表面的结合力和耐磨性。
总结起来，塑料镀膜工艺技术是一种重要的表面处理技术，可以提高塑料的表面性能和外观质量。
在实际应用中，我们需要
根据具体情况选择合适的镀膜材料和方法，并进行前处理和后处理以确保镀膜层的质量和效果。
随着科技的发展，塑料镀膜技术将不断进步和改进，为塑料制品的应用提供更多的可能性。
镀膜工艺简介ppt课件
8
9
4.热蒸发原理及特点
������ 热蒸发是在真空状况下，将所要蒸镀的材料利用电阻加热达到熔化温 度，使原子蒸发，到达并附着在基板表面上的一种镀膜技术。
特点：装置便宜、操作简单广泛用于Au、Ag、Cu、Ni、In、Cr等导体 材料。
10
5.E-Beam蒸发原理 热电子由灯丝发射后，被加速阳极加速，获得动能轰击到 处于阳极的蒸发材料上，使蒸发材料加热气化，而实现蒸发镀 膜。 特点：多用于要求纯度极高的膜、绝缘物的蒸镀和高熔点 物质的蒸镀
3
2.PVD的基本过程
从原料中发射粒子（经过蒸发、升华、溅射和分解等过程）； 粒子输运到基片（粒子之间发生碰撞，产生离化、复合、反应， 能量的交换和运动方向的变化）； 粒子在基片上凝结、成核、长大和成膜。
4
3.PVD的分类
真空蒸发镀膜 真空溅射镀膜 真空离子镀膜
5
二、真空蒸发镀膜
6
17
3.辉光放电的定义 辉光放电是指在稀薄气体中，两个电极之间加上电压时产 生的一种气体放电现象。
18
直流溅射：适用于金属材料
射频溅射：是适用于各种 金属和非金属材料的一种 溅射沉积方法
19
4.真空溅射镀膜的优缺点
20
三、真空离子镀膜
21
1.真空离子镀膜的定义
在真空条件下，利用气体放电使气体或蒸发物质离化，在气体离 子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物蒸镀在 基片上。
1.真空的定义
泛指低于一个大气压的气体状态。与普通大气压状态相比，分子密度较为稀薄， 从而气体分子和气体分子、气体分子和器壁之间的碰撞几率要低一些。
2.真空蒸发镀膜的定义
真空蒸发镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质使之汽化，蒸发粒子流 直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。
金属镀膜工艺
金属镀膜工艺金属镀膜工艺简介•金属镀膜工艺是将一层金属覆盖在另一种金属或非金属表面的一种加工方法。
•通过金属镀膜可以改善材料的外观、增加耐腐蚀性、提高导电性等特性。
常见的金属镀膜工艺1.电镀–电镀是利用电解的原理，在材料表面上析出金属层的工艺。
–可以使用金属离子在电解质溶液中通过外加电流沉积在工件表面。
–常见的电镀金属包括铬、镍、银等。
2.热镀–热镀是通过将金属材料加热到高温，使金属粒子在材料表面重新结晶形成金属层的工艺。
–热镀常用的金属包括锌、镍等。
3.静电喷涂–静电喷涂是利用静电原理，使金属粉末在电场作用下沉积在材料表面的工艺。
–静电喷涂常用的金属粉末有铝、铜等。
4.水镀–水镀是利用化学反应，在水溶液中析出金属层的工艺。
–水镀常用的金属包括银、金等。
金属镀膜的应用领域•电子行业：金属镀膜可以提高电路板的导电性能，增加耐腐蚀性，保护电子元件的稳定性。
•汽车行业：金属镀膜可以提高汽车零部件的耐腐蚀性能，延长使用寿命。
•建筑行业：金属镀膜可以改善建筑物外观，提高耐候性，增加防火性能。
•饰品行业：金属镀膜可以提升饰品的外观质感，增加其价值和吸引力。
金属镀膜工艺的发展趋势1.环保性–近年来，对于化学物质的使用越来越受到关注，未来的金属镀膜工艺将更加注重环保，在减少有害物质的使用上进行改进。
2.高性能–随着科技的不断发展，对于金属镀膜的要求也越来越高，未来的金属镀膜工艺将更加注重提高质量、耐用性和功能性。
3.创新技术–随着科技的进步，可能会出现新的金属镀膜工艺，如纳米镀膜技术、等离子体镀膜技术等，这些创新技术将为金属镀膜带来更多可能性。
总结•金属镀膜工艺是一种重要的加工方法，可以改善材料的性能和外观。
•不同的金属镀膜工艺有不同的应用领域和特点。
•未来的金属镀膜工艺将更加注重环保、高性能和创新技术的发展。
以上是关于金属镀膜工艺的相关文章，希望对您有所帮助！金属镀膜工艺的优势1.提高耐腐蚀性：金属镀膜能够在材料表面形成一层保护层，有效防止材料受到外界的腐蚀侵袭。
oar镀膜工艺
OAR镀膜工艺是一种光学镀膜技术，具有减少反射、增加透光度和提高成像质量等优点。
下面是对OAR镀膜工艺的详细介绍：
镀膜材料：OAR镀膜工艺采用特殊的镀膜材料，通常是由多层不同折射率的介质组成。
这些介质通过精确控制其厚度和折射率，能够实现对入射光的有效控制，减少反射并增加透光度。
镀膜结构：OAR镀膜结构通常由多层介质组成，每层介质的折射率都不同。
通过精确控制各层介质的折射率和厚度，可以实现对入射光的最佳控制。
具体而言，在OAR镀膜中，通常使用具有高折射率的第一层介质来反射入射光的大部分能量，然后使用具有低折射率的第二层介质来将剩余的能量透射出去。
镀膜过程：OAR镀膜过程通常采用物理气相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD）技术。
在PVD技术中，镀膜材料被蒸发成气体并沉积在基片上形成薄膜。
而在CVD技术中，镀膜材料在高温下与基片反应生成薄膜。
无论采用哪种技术，都需要精确控制镀膜材料的成分、厚度和折射率，以确保获得最佳的OAR性能。
应用领域：OAR镀膜工艺广泛应用于各种光学器件中，如镜头、窗口、棱镜等。
通过在光学器件表面应用OAR镀膜，可以减少反射并增加透光度，从而提高成像质量、降低
噪声和提高信噪比。
此外，OAR镀膜还可以应用于太阳能电池、LED照明等领域，以提高光能利用率和照明效果。
总之，OAR镀膜工艺是一种具有广泛应用前景的光学镀膜技术，能够提高光学器件的性能和成像质量。
镀膜工艺技术说明
镀膜工艺技术说明
镀膜工艺技术是一种在各种材料表面上形成保护层或改变材料外观的技术。
镀膜工艺技术被广泛应用于各个行业，例如电子、汽车、航空航天等领域。
首先，镀膜工艺技术的前期准备工作非常重要。
在进行镀膜之前，需要对材料的表面进行处理，以确保膜层能够牢固地附着在材料表面上。
通常的处理方法有磨光、除污、除油等。
此外，还需要准备合适的镀液和镀膜设备。
接下来是镀膜工艺的具体操作步骤。
首先，将准备好的镀液倒入镀膜设备中。
然后，将材料放入设备中，并调整设备的操作参数，如温度、电流等。
接着，通电使镀膜设备工作，电流通过液体中的镀液引发化学反应，形成膜层。
此过程中，还可通过控制电流密度和时间来控制膜层的厚度和质量。
在具体的材料表面处理过程中，有多种镀膜工艺可供选择。
例如，电镀工艺适用于金属材料，使用电解液中的金属离子在材料表面上形成金属膜层；喷涂工艺适用于非金属材料，通过将喷雾液体喷射到材料表面上，形成薄膜。
最后，需要进行膜层的后续处理和检测。
一般来说，镀膜后的材料需要进行清洗和干燥处理，以提高膜层的质量。
此外，还需要对膜层进行检测，以确保其质量和性能是否符合要求。
常用的检测方法有厚度测量、硬度测试、耐腐蚀性检测等。
总的来说，镀膜工艺技术是一项复杂的工艺，需要精细的操作
和完善的设备。
它具有提高材料表面性能、保护材料表面以及改变外观的功能。
随着科学技术的不断进步，镀膜工艺技术也在不断创新和发展，为各行各业提供了更多的应用和可能性。
镀膜工艺
第一节镀膜玻璃一、镀膜工艺镀膜工艺是用不同的材料在基片表面形成新表面的方法，镀膜方法有真空蒸发、真空溅射、化学还原、溶胶凝胶等。
我公司采用的是阴极真空磁控溅射法，通过磁控溅射，在优质浮法玻璃的表面镀一层或多层金属、或金属化合物薄膜。
通过镀膜可以改变基片的某些属性，如光学性能、电学性能、机械性能、化学性能、装饰性能等。
1．镀膜原理阴极真空磁控溅射的特点：膜层厚度均匀、镀膜速度快、基板温度低。
溅射镀膜利用2个原理：辉光放电、连续撞击。
溅射过程是建立在气体放电基础上的，放电从低压下开始的，气体离子与靶材相互作用，离子不断的撞击靶表面，靶材从靶表面被轰击下来然后在靶附近的基片（玻璃）上沉积下来，凝结成一层薄膜。
当气体通入真空室后，气体在低气压高电压的情况下迅速被电离，Ar原子电离为Ar+和e-，带正电的Ar+离子在电场的作用下向阴极运动，最终撞击靶材，把能量传递给靶材。
当较多的Ar+离子撞击靶材，靶材表面原子所受到的撞击力大于靶材内部应力时，靶表面原子就从靶表面析出。
带负电的电子e-在电场作用下向带正电的阳极运动，而阴极上是装有磁体的，真空室内同时具有磁场，电子在电磁场的作用下作圆周运动，而真空室内不断的在补充气体，电子会撞击补充的气体分子，加速气体分子的电离，电子撞击气体分子后能量减小，运动半径减小，多次撞击后能量消失，故电子的运动轨迹是螺旋形。
常见的溅射有两种：不反应溅射和反应溅射。
不反应溅射指溅射气体和镀膜材料之间不发生化学反应。
因此不反应溅射所使用的气体为惰性气体，一般使用氩气（Ar），称为工作气体。
不反应溅射一般都用在镀金属膜层上，导电性能越好的材料，溅射速率越高。
反应溅射就是在反应气体环境中镀膜，溅射过程中靶材会与溅射气体发生化学反应。
反应溅射一般沉积不导电的膜层，例如：SnOx，ZnOx，SiOx，SiNx等。
在反应溅射系统中，一般都加入Ar加速反应速度，即提高溅射速率。
在反应溅射气氛中，加入工作气体越多，溅射速率越高，当加入的工作气体过多时，反应气体来不急将所有溅射出来的原子反应掉，膜层内就会含有金属，我们把这种状态叫翻转。
镀膜工艺方案
镀膜工艺方案背景介绍镀膜工艺是一种将金属材料或其他表面涂覆上薄膜的工艺。
镀膜工艺可以提高材料的表面硬度、耐腐蚀性、防磨损性、光学透过率等性能，从而改善材料的性能。
应用广泛，如在电子、航天、航空、医疗器械、机械制造等行业都有着非常广泛的应用。
镀膜工艺分类根据不同的镀膜材料和特点，可以将镀膜工艺大致分为以下几类：1.金属镀膜：包括镀铬、镀镍、镀金等常见的金属镀膜。
2.合金镀膜：包括合金化铬、合金化硝酸镍等。
3.陶瓷/氧化物涂层：包括氮化硅、碳化钨等。
4.光学镀膜：包括各种光学薄膜。
5.生物医用镀膜：如生物医用涂层。
主要工艺流程镀膜工艺的主要流程包括：基材表面处理、预处理、表面处理、镀膜、后处理等。
1.基材表面处理：对金属或其他材料进行清洗、去污、去油等处理，以保证表面无杂质，有利于后续工艺的进行。
2.预处理：对表面进行一些物理和化学处理，以提高表面的粗糙度。
3.表面处理：将表面经过活化处理，使其能够与膜材料结合到一起，实现膜材料的粘附。
4.镀膜：将膜材料通过各种方法，如物理气相沉积、化学气相沉积、电化学沉积等，沉积到基材上。
5.后处理：对镀膜进行检验、包装以及质量控制等相应的处理过程。
选择合适的镀膜工艺方案选用合适的镀膜工艺方案，不仅可以大幅提高材料的性能，还可以降低成本，提高生产效率，具有非常重要的意义。
在选择合适的镀膜工艺方案时，我们应该考虑以下几个因素：1.材料的特性：根据材料的特性，我们可以选择合适的镀膜材料以及合适的镀膜工艺。
2.镀膜各项性能的要求：比如硬度、耐腐蚀性、光学透过率等，我们要根据实际的要求进行对应的选择。
3.生产效率和成本控制：我们要平衡生产效率和成本控制，选择适合自己实际情况的工艺方案。
结论镀膜工艺方案是一个相对复杂的技术问题，在实际应用中需要根据实际情况做出合理的选择。
我们在进行镀膜工艺设计的时候，应该充分考虑到各种因素，以达到最佳的效果。
手机玻璃镀膜工艺流程
手机玻璃镀膜工艺流程如下：
1.镀膜工艺：使用镀膜设备，用物理或化学的方式将所需材质沉
积到玻璃基板上。
2.曝光工艺：采用光学照射的方式，将光罩上的图案通过光阻转
印到镀膜后的基板上。
3.蚀刻工艺：使用化学或者物理的方式，将基板上未被光阻覆盖
的图形下方的膜蚀刻掉，最后将覆盖膜上的光阻洗掉，留下具有所需图形的膜层。
4.蒸镀工艺：通过高精度金属掩膜板将有机发光材料以及阴极等
材料蒸镀在背板上，与驱动电路结合形成发光器件。
5.封装工艺：在无氧环境中，用高效能阻绝水汽的玻璃胶将其与
保护板进行贴合，以起到保护作用。
镜头镀膜工艺
镜头镀膜工艺
镜头镀膜工艺是一种对光学镜头进行表面处理的技术。
主要目的是减少镜片反射、提高透明度和增加镜头的耐磨性能。
镜头镀膜工艺一般包括以下步骤：
1. 清洗准备：首先，将镜头放入特定的清洗剂中进行清洗，以去除表面的杂质和油脂。
2. 真空膜层沉积：清洗完毕后，将镜头放入真空膜层沉积设备中。
真空膜层沉积设备通常由真空室、加热装置和沉积源组成。
沉积源通常是稀土金属或金属氧化物的靶材。
在真空室中，将沉积源加热至一定温度，使其蒸发并沉积在镜头表面。
3. 镀膜材料选择：根据具体需要和镜头设计要求，选择适当的镀膜材料。
常见的镀膜材料有镀膜玻璃、金属氧化物和金属镀膜等。
4. 反射率调节：通过调节镀膜材料的种类和厚度，可以控制镜头的反射率。
一般来说，多层膜镀膜能够有效减少反射率。
5. 硬度处理：为了增加镜头的耐磨性能，还可以对镜头进行硬度处理。
常见的方法是在镀膜层上再进行一层保护层的沉积。
总的来说，镜头镀膜工艺有助于改善镜头的光学性能和耐久性能，使得镜头在使用过程中能够更好地减少反射、提高透明度和增加耐磨性。
镀膜制备工艺技术
镀膜制备工艺技术镀膜制备工艺技术是一种常见的表面处理方法，可以提高材料的耐腐蚀性、耐磨性和美观度。
下面将介绍镀膜制备工艺技术的步骤和注意事项。
镀膜制备工艺技术的步骤如下：1. 表面清洁：在开始镀膜制备之前，首先要对待镀材料进行表面清洗，以去除表面的油污、尘埃和杂质。
常用的清洗方法有碱洗、酸洗和机械打磨。
清洁完成后，要用蒸馏水冲洗干净，以确保表面干净无污染。
2. 预处理：在表面清洁完成后，需要对待镀材料进行预处理，以提高镀膜的附着力和均匀度。
常见的预处理方式包括化学处理、机械处理和热处理。
其中化学处理是最常用的方法，通过浸泡在特定的化学液中，可以去除表面氧化物和有机杂质，增加表面活性，提高银层的附着力。
3. 镀膜操作：镀膜操作是整个制备工艺中最关键的一步。
镀液的选择、镀液的配方和控制、镀液的搅拌和循环等都会对镀膜质量产生重要影响。
在镀液的选择上，一般根据材料的具体要求选择合适的镀液。
常见的镀液有电镀、化学镀、热镀和真空镀等。
在镀液中添加一定浓度的添加剂，可以控制镀膜的均匀度和附着力，提高镀膜的性能。
4. 镀膜后处理：在镀膜制备完成后，还需要对镀膜进行后处理，以提高镀膜的光亮度和附着力。
常见的后处理方法有退火、抛光和封闭等。
退火可以提高镀膜的晶界结构和织构，增加镀膜的硬度和耐磨性。
抛光可以去除表面的瑕疵和杂质，使镀膜更加光洁。
封闭可以提高镀膜的耐腐蚀性和耐磨性，增加镀膜的寿命。
镀膜制备工艺技术的注意事项如下：1. 环境要求：镀膜制备需要在特定的环境中进行，要求温度、湿度和洁净度都要在一定的范围内。
不同的材料和镀液对环境要求不同，操作时要根据具体情况进行调整。
2. 镀液的控制：镀液的配方和控制对镀膜质量产生重要影响，要根据具体要求对镀液进行调整。
在镀膜过程中，要不断监测镀液的温度、浓度和PH值，及时调整镀液的配方和控制参数。
3. 安全操作：镀膜制备过程中要注意安全操作，避免接触镀液和化学品时发生化学反应或对人体造成伤害。
ag镀膜工艺
ag镀膜工艺AG镀膜工艺是一种常见的表面处理技术，广泛应用于光学领域、电子领域、汽车领域等多个行业。
AG镀膜工艺主要是通过在物体表面形成一层微细的颗粒状结构，从而实现抗反射和抗指纹功能。
在本文中，将详细介绍AG镀膜工艺的原理、工艺流程以及应用领域。
一、AG镀膜工艺的原理AG镀膜工艺主要基于光学干涉原理和表面纳米结构的形成。
通过在物体表面形成一层特殊的纳米结构，可以改变光的传播方式，从而实现非常低的反射率和抗指纹的效果。
具体来说，AG镀膜工艺的原理如下：1. 反射理论：根据光的干涉原理，当光从一个介质进入另一个介质时，会发生反射和透射。
如果两个光波的相位差为λ/4，那么反射光的干涉将会发生抵消，从而达到减少反射的目的。
2. 表面纳米结构：通过在物体表面形成一层纳米级的凹凸结构，可以改变光的传播路径，使得光线在表面凹凸结构之间发生多次反射和散射，从而实现抗反射和抗指纹效果。
二、AG镀膜工艺的工艺流程AG镀膜工艺的主要工艺流程包括基板清洗、溶液制备、涂敷、烘干、固化等步骤。
1. 基板清洗：首先，需要对待加工的基板进行清洗，以去除表面的油污、灰尘等杂质，保证涂敷效果和附着力。
2. 溶液制备：制备镀膜溶液是AG镀膜工艺的关键步骤之一。
通常采用有机硅和有机溶剂混合而成的溶液，通过调整溶液的成分和浓度，可以控制镀膜的厚度和表面形貌。
3. 涂敷：将制备好的镀膜溶液均匀涂敷在基板表面，可以采用旋涂、喷涂等不同的涂敷方式，确保镀膜在整个表面都能够均匀分布。
4. 烘干：涂敷完毕后，需要将基板放入烘干设备中进行烘干处理。
烘干的温度和时间可以根据具体的工艺要求进行调整，一般采用较低的温度和较长的时间，以避免镀膜的热变形和气泡生成。
5. 固化：经过烘干后，镀膜会形成一层坚固的结构，但还需要进行固化处理以增加其附着力和耐久性。
固化可以采用紫外线照射、热固化等方式进行。
三、AG镀膜工艺的应用领域AG镀膜工艺由于其抗反射和抗指纹的特性，在光学领域、电子领域、汽车领域等多个行业有着广泛的应用。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
字4
字5
字6
数 基片 数字 反射 数字 透过 字
字 颜色
色
率母
1 白玻 1
中性 色
2 F绿 2
银色
3 灰玻 3 4 茶玻 4
蓝色 8-85 8%- S
灰色
85%
字7
含字 义母
TS
TB
字8
特殊
新结 构
可钢 化
南 玻
Y 耀皮
5 蓝玻
V Varicon
注意
1、字8缺省表示老结构Low-e，但现在有时后新结构 后也不加“TS”。新老结构颜色只是近似。
影响装载率的因素:玻璃规格、上片效率、均匀性 设备限制
8点开始调试CEF16-50，走片速度为4m/min，调片3 次，装载率为60%,生产完4000平米要到几点?
生产用时为: 任务单量/每小时产能 =4000/(4×2.44×0.6×60) =11 hours
调试时间为: 单次调片时间×调片次数+试镀时间+出片时间 =(12×3+12+17)/60=1.1 hours
镀膜工艺介绍
内容
1、溅射原理 2、镀膜工艺过程 3、产量和产能 4、镀膜生产组织 5、膜系标号
1、溅射原理
2、镀膜工艺过程
进口室 缓冲室 输送室
溅射室
输送室 缓冲室 进口室
溅射室内部结构
平面靶
旋转靶
3、产量和产能
前提:以S=4m/min走速计算
一次单银调片时间约为12分钟 试镀时间约为12分钟 产品从上片到出片时间约为17分钟 连续生产时的产能=S×2.44×装载率×60
总生产时间:生产用时+调试时间=11+1.1=12.1 hours
答案: 晚上8点可以生产完毕
单次产量与设备利用率的关系
设备利用率
100.00% 90.00% 80.00% 70.00% 60.00% 50.00% 40.00% 30.00% 20.00% 10.00% 0.00% 50
100
200
1、钢化前和钢化后的颜色不一样 2、SuperⅠ和SuperⅠ+钢化颜色变化规律不一样
2、同一编号的TS系列仅是对应钢化后的TB系列，和 钢化前的TB系列颜色会相差很多。即使是钢化后TB系列 与TS相比也只是近似，原则上不能混用。
TB系列与Super系列对应关系
Super系列 TB系列
SuperⅠ
SuperⅢ
SuperⅣ
SuperⅤ
Ces11-80/TB Ceb14-60/TB Ceb14-50/TB Cef16-50/TB
400
800
1600
3200
6400
12000
单次产量(m2)
调片1次
调片3次
双银
4、镀膜生产组织Leabharlann 1、集中生产2、领补单优先
3、均匀性类似集中生产
4、装载率
5、膜系标号
C E S 11 — 80 S / TS
字1
字含 母义
C南 玻
字2
字母 含义 字 母
S
B
F
E
Low
-E
D
字3
特殊
高透
中低透 光 多数高 反 双银