横向电场对平面织构胆甾相液晶螺距及反射特性的影响
横向交变磁场作用下的等离子体弧特性分析
第31卷第1期2010年1月焊 接 学 报T RANS ACTI O NS OF T HE CH I N A W E LD I N G I N STI T UTI O NVol .31 No .1January 2010收稿日期:2008-09-03基金项目:国家自然科学基金(50775019)横向交变磁场作用下的等离子体弧特性分析 孟建兵, 徐文骥, 王续跃, 宋文庆 (大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室,辽宁大连 116024)摘 要:以外加横向交变磁场作用下的等离子体弧为研究对象,建立了等离子体弧摆动幅度和热流密度分布的数学模型.对横向交变磁约束下的等离子体弧射流特性进行理论研究,并分析工艺参数和励磁强度对横向交变磁约束等离子体弧形态和特性的影响规律.结果表明,横向交变磁场可有效控制等离子体弧形态和位置,等离子体弧在横向交变磁场作用下,分布范围增大、热流密度梯度减小.其摆动幅度随磁场强度的增加而增大,但过高的磁场强度会使等离子体弧变得不稳定;相同励磁强度下,气流量和弧电流越小、喷嘴到工件的距离越大,则摆动幅度越大;而工件表面的等离子体弧热流密度分布随励磁强度的增强趋于平坦化;相同励磁条件下,热流密度峰值随气体流量和弧电流的增大而增大、随喷嘴到工件距离的增大而减小.关键词:横向交变磁场;等离子体弧;摆动幅度;热流密度分布中图分类号:TG403 文献标识码:A 文章编号:0253-360X (2010)01-0075-05孟建兵0 序 言近年来,、切割、喷涂等材料加工领域得到广泛应用,其射流特性直接影响着上述工艺的加工效果.由于气体放电的雪崩效应和等离子体弧柱的自磁压缩,可使能量集中在很小的区域内,且弧柱中的电流密度和温度分布具有较大的梯度变化.对于等离子体弧清洗[1]、等离子体弧柔性成形、大面积表面改性处理等工艺来说,则不希望热源过分集中,而是需要形态和位置(加热区域宽度)可控的等离子体弧来获得较高的工艺质量和效率.为此,一些学者尝试引入外加横向磁场,通过扩展等离子体弧柱横截面、使弧柱内电流密度和温度的分布平坦化,以获得热流密度和加热区域可控的等离子体弧(“软”等离子体弧).文献[2]通过定量分析阳极弧根随励磁强度变化而变化的轨迹方程,给出横向磁场作用下的焊弧不是直线形状而是弯弧状的结论;文献[3]通过试验发现横向磁约束下等离子体弧存在加速和偏转减速两个阶段,并分析了产生偏转减速的原因;文献[4]通过数值模拟的方法分析了外加横向恒定磁场作用下电弧气动力学特性,发现偏转角度与射流长度成正比,与弧电流成反比.可见,目前对“软”等离子体弧的研究工作主要侧重于采用外加横向恒定磁场作用方式,而对横向交变磁场作用方式下的等离子体弧研究鲜有报道.文中在上述研究的基础上,通过分析横向交变磁场作用等离子体弧的原理和特点,分别建立等离子体弧摆动幅度和热流密度分布的数学模型,为分析横向交变磁场作用下弧电流、气体流量、悬距等相关工艺参数和励磁强度对等离子体弧形态和特性的影响规律提供有效途径.1 基体原理当如图1所示的试验装置工作时,平行的两个线圈在电流的激励下产生横向交变磁场(励磁电流取正弦波形),而喷嘴与工件间的转移型等离子体弧受磁靴导入的垂直横向交变磁场作用,以同样的频率作往复摆动.其原理为:与外加磁场具有可作用性的等离子体弧是由大量带电粒子组成的,因而通过研究单个带电粒子在外加横向交变磁场中的运动,就可推断宏观上即等离子体弧在相应磁场中的摆动规律.忽略粒子间的相互作用以及粒子运动所产生的自感应磁场,则带电粒子在横向交变磁场中受到洛伦兹力作用而做回转运动,其回转半径为r =m v QB(1)式中:m 为粒子质量(kg );v 为粒子速度(m /s );Q 为76 焊 接 学 报第31卷粒子电量(C );B 为磁感应强度(T ).图1 横向交变磁约束等离子体弧发生装置F i g 11 Gene ra t o r de vi ce o f p l a sm a a rc i n ET AM F2 数学模型2.1 摆动幅度模型设等离子体从喷嘴出口运动到工件表面所需时间为t,当励磁频率f <1/2t 时,等离子体弧的摆动幅度与励磁频率无关.交变磁场的方向平行与图2中的“y ”轴,由于带电粒子受洛伦兹力作用而发生回转,使得等离子体弧在横向交变磁场作用下作同样频率的往复摆动,此时任意一段等离子体弧的电磁力可表示为F =B Id(2)式中:I 为等离子体弧电流(A );d 为任意一段等离子体弧长度(m ).由牛顿第一定律可知,电磁力F 也可表示为F =m d a sin α(3)式中:m d 为此段等离子体弧的质量(kg );a 为此段等离子体弧的加速度(m /s 2).t 时刻等离子体弧对应质量m d 结合式(1),式(2)并考虑α较小时α≈sinα,则回转半径表示为r =m d a sin αB I α=ρqta 60B I =ρqv60B I(4)式中:q 为气体流量(L /m in ).设横向交变磁场频率为f,等离子体从喷嘴喷射到工件表面的时间为t 0,当1/2f µt 0时,则任意时刻,横向交变磁场作用下等离子体弧在工件表面的摆动幅度可表示为l =r -r 2-D2(5)式中:D 为喷嘴到工件表面间的距离(m ).当回转半径r <D 时,等离子体弧将变得不稳定,为了使交变磁场作用下等离子体保持稳定,回转半径r µD.当r ≥D 即tg α≈sin α时,通过上述公式联立,则等离子体弧在工件表面摆动的最大幅度可近似表示为l 0=60I BD2ρQv(6)图2 横向交变磁场作用下摆动幅度示意图F i g 12 Mo vem en t o f p l a sm a a rc i n e xte rna l T AM F2.2 热流密度分布模型为建立工件表面热流密度分布数学模型,对施加横向交变磁场前后的等离子体弧作如下假设:扣除对流、辐射散热的影响(约占10%),则工件表面等离子体弧有效热量W (W )全部转移到工件中;无外加磁场作用时,投射在工件表面上的等离子体弧近似为圆状分布,分布半径为R 0;施加横向交变磁场,等离子体弧在工件表面的形态近似为椭圆,其短轴为R 0、长轴为(R 0+l 0),如图3所示;此外,dR 、d x 环面上等离子体弧热流密度均匀分布.图3 工件表面等离子体弧形态分布近似图F i g 13 Fo r m d is tri bu ti o n o f p l a sm a a rc o n ano de su rfa ce则工件表面等离子体弧平均热流密度分布可表示为J r =WπR 20(7)设摆动等离子体弧在工件表面上的一点到弧中心O 的距离为R ,则d t 时刻,d S 面积微元流过的热第1期孟建兵,等:横向交变磁场作用下的等离子体弧特性分析77 量为d Q J=J[πR0(R+d R)-πR0R]d t(8)励磁电流波形为正弦波形,则横向交变磁场作用下,等离子体弧在工件表面上任一点移动位移为x=l0sinωt+R(9)分别对式(9)两边求关于时间t的导数,把d t代入式(8)并联立式(9),则QJ可表示为Q J=∫∫WωR0・d R・d xl20-(x-R)2(10)定义等离子体弧摆动的1/2周期内,单位时间内工件表面等离子体弧流入工件的热量为W′,并考虑工件表面等离子体弧热流密度与热功率存在如下关系,即J=W′S=d W′πR(x+d x)-πR0x(11)通过上述公式的联立,则横向交变磁场作用下,在1/2个摆动周期内,阳极工件表面上等离子体弧从(-l-R0)运动到(l0+R0),其中任意x点处的热流密度分布数学模型为当-l-R0<x<-l0+R0时J(x)=W(πR)2π2+arcsinR0+xl0(12)当-l+R0≤x≤l0-R0时J(x)=W(πR)2arcsinR0-xl0+arcsinR0+xl0(13)当l-R0<x<l0+R0时J(x)=W(πR)2arcsinR0-xl0+π2(14)3 计算结果与分析整个系统包括等离子体弧发生装置和横向交变磁场励磁装置,如图1所示.其中前者的工艺参数如表1所示,后者的磁感应强度由HT102交直流特斯拉计测得.实际采用的励磁频率50Hz,半个励磁周期所用时间10m s,远大于等离子体运动到工件表面的最长时间0.78m s,即上述试验条件下的等离子体弧摆动幅度与励磁频率无关.3.1 工艺参数对摆动幅度的影响3.1.1 气体流量对摆动幅度的影响当其它试验参数保持不变,即I=15A,D= 7mm,在不同氩气流量作用下(q=4,5,6L/m in),等离子体弧摆动幅度的变化规律如图4所示.等离子体弧摆动幅度随励磁磁场强度的增加而增加,当磁场强度达到临界值后,摆动幅度将达到极大值.表1 等离子体弧发生装置的工艺参数Tab l e1 P a ram e te rs o f p l a sm a a rc gene ra t o r de vi ce 工作电流I/A氩气流量q/(L・m in-1)喷嘴悬距D/mm弧速度v1/(mm・s-1) 155712.5205725.8255736.315478.95156713.3155611.9155813.2而在相同励磁强度位置处(B=10mT),等离子体弧摆动幅度随氩气流量的增大而减小.这是因为:其它工艺参数不变,工作气体流量的增加导致喷嘴出口处等离子体速度升高,而速度的升高将缩短等离子体经过横向交变磁场区域的时间,从而使得等离子体弧的摆幅随之减小.图4 氩气流量对摆动幅度的影响F i g14 Effe c t o f q o n o sc ill a ti ng am p litude3.1.2 工作电流对摆动幅度的影响当其它试验参数保持不变,即q=5L/m in,D= 7mm时,不同弧电流作用下(I=15,20,25A),等离子体弧摆动幅度的变化规律如图5所示.在相同励图5 弧电流对摆动幅度的影响F i g15 Effec t o f Io n o sc ill a ti ng am p litude78 焊 接 学 报第31卷磁强度位置处(B =15mT ),等离子体弧摆动幅度随弧电流的增大而减小.这是因为:其它工艺参数不变时,一方面等离子弧电流的增加有使摆动幅度加大的趋势;另一方面,等离子弧电流的增加导致喷嘴出口处等离子体速度急剧升高,而速度剧增导致等离子体弧摆动幅度减小的趋势要强于工作电流增加所引起的摆动幅度增大的趋势,最终使得等离子体弧的摆幅随弧电流的增大而减小.3.1.3 喷嘴悬距对摆动幅度的影响当其它试验参数保持不变,即I =15A ,q =5L /m in,则不同喷嘴出口与工件间距离下(D =6,7,8mm ),等离子体弧摆动幅度的变化规律如图6所示.在相同励磁强度位置处(B =15mT ),等离子体弧摆动幅度随喷嘴出口到工件悬距的增加而增大.这是因为:喷嘴出口到工件间悬距的加大,意味着弧长的增加.一方面,弧长的增大对出口处的等离子体速度影响很小;另一方面,弧长的增大使得横向交变磁场作用下的等离子体从喷嘴运动到工件表面的时间增加,移动轨迹的长度变大,在工件表面上的投影变长,即摆动幅度随喷嘴出口到工件距离的加大而显著增加.图6 喷嘴悬距对摆动幅度的影响F i g 16 Effe c t o f D o n o sc ill a ti ng am p litude3.2 工艺参数对热流密度的影响3.2.1 气体流量对热流密度的影响当其它试验参数不变,即I =15A,D =7mm ,B =15mT,R 0=2mm ,在不同氩气流量(q =4,5,6L /m in )下,横向交变磁场作用下等离子体弧在工件表面上的热流密度分布情况如图7所示:随气体流量的加大,等离子体弧在工件表面的热流密度分布半径减小,而弧柱中心的热流密度随之增大;并且弧中心附近区域的热流密度分布随气流量的增加而越来越集中.3.2.2 工作电流对热流密度的影响当其它试验参数不变,即q =5L /m in,D =7mm,图7 气体流量对热流密度的影响F i g 17 Effe c t o f q o n d is tri bu ti o n o f hea t fl ux de n s ityB =15mT,R 0=2mm ,在不同弧电流(I =15,20,25A )下,横向交变磁场作用下等离子体弧在工件表面上的热流密度分布情况如图8所示:随弧电流的增大,等离子体弧在工件表面的热流密度分布半径减小,在弧中心的热流密度随之增大;并且弧中心附近区域的热流密度分布随电流的增加而越来越集中.图8 弧电流对热流密度的影响F i g 18 Effec t o f I o n d is tri bu ti o n o f he a t fl ux den sity3.2.3 喷嘴悬距对热流密度的影响当其它试验参数不变,即q =5L /m in,I =15A,B =15mT,R 0=2mm ,则不同悬距(D =6,7,8mm ),横向交变磁场作用下等离子体弧在工件表面上的热流密度分布情况如图9所示:随喷嘴出口与工件间图9 喷嘴悬距对热流密度的影响F i g 19 Effec t o f D o n d istri bu ti o n o f he a t fl ux de n s ity第1期孟建兵,等:横向交变磁场作用下的等离子体弧特性分析79 距离的增大,等离子体弧在工件表面的热流密度分布半径增加,在弧中心处的热流密度随之减小;并且弧中心附近区域的热流密度随悬距的增大而越来越平坦化.4 试验验证当I =15A,q =5L /m in,D =6mm 时,施加横向交变磁场作用前后的等离子体弧形态见图10.其中,B =15mT 时,等离子体弧摆动幅度的试验测量值为3.0mm ,与上述条件下的摆动幅度模型计算值2.8mm 相比,误差小于7%.上述试验条件下,施加横向交变磁场作用前后,等离子体弧在工件表面的热流密度分布见图11.其中,B =0时的热流密度模型计算峰值95.5W /mm 2,与无励磁作用的热流密度高斯分布[5]的理论峰值101.6W /mm 2的误差小于6%.而B =15mT 时的热流密度分布,与无励磁作用下的高斯分布值和模型计算值相比,其分布范围更广,内部热流梯度较小,即热流密度分布更加均匀.5 结 论(1)建立了等离子体弧摆动幅度和热流密度分布模型,从而掌握了气体流量、弧电流等参数对横向交变磁场作用下等离子体弧特性的影响规律.(2)随横向交变励磁强度的增大,等离子体弧的摆动幅度增加.当磁感应强度相同时,摆动幅度随弧电流和气体流量的增加而减小,随喷嘴悬距的增大而增大.(3)弧电流和气流量越大,热流密度分布半径越小,而内部梯度和中心处的热流密度值增加;增大喷嘴出口到工件的距离,则工件表面上的热流密度分布半径随之加大,而中心处的热流密度值和内部梯度减小,即等离子体弧内的热流密度分布随悬距的增加而更加平坦化.参考文献:[1] Meng J B,Xu W J,Song W Q.Modeling of reactive kinetics inthe metal surface conta m inant cleaning using at m os pheric p ressure p las ma arc[J ].App lied Surface Science,2008,254(21):6826-6830.[2] Takeda K,Nakamura Y .Plas ma behavi or under an altrnatingmagnetic field 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steel,and rati onality of assu med material p r operties under high te mperature in calculati on was verified by consistency of experi m ental results and nu merical si m ulati on re2 sults.On this basis,ther mal elastic2p lastic FE M was app lied t o welding of dome and cylinder shell of independent liquid tank of 304L stainless steel LNG carrier,and structural welding defor m2 ati on was p redicted successfully.Key words: 304L stainless steel;material p r operties un2 der high te mperature;ther mal elastic2p lastic FE M;welding de2 for mati on;large comp licated structureW eld i n g behav i or of two curren t pha se rel a ti on s for tw i n2 w i re pulsed M AG weld i n g W E N Yuan mei1,2,HUANG Sh2 isheng1,WU Kaiyuan1,LAO Zhengp ing1(1.School ofM echan2 ical Engineering,South China University of Technol ogy,Guang2 zhou510640,China;2.Faculty of I nf or mati on Engineering, Guangdong University of Technol ogy,Guangzhou510006,Chi2 na).p59-62,66Abstract: Based on the high2s peed video system with e2 lectrical signals analyzer in synchr onous,the electrical signals and the phot ographs of molten dr op let under certain welding pa2 rameters were collected,the electrical arc shape and dr op let transfer pattern of welding p r ocess in t w in2wire pulsed MAG welding were studied.It is observed that when the pulse current exerted on the fr ont wire and rear wire by turns,the shape of arcs p resents the cl ock cover f or m,and has no influence on each other.W hen the pulse current exerted on the fr ont wire and the rear wire in phase,the arcs attract each other and the arc is in2 cor porated as a peach.The weld appearance of the synchr onous pulse current is good and the concom itant is great noise and s mog.The weld appearance of the alternating pulse current is t olerable.Key words: pulsed MAG welding;t w in2wire;dr op let transfer;shape of arcI n terpol a ti on a lgor ith m and si m ul a ti on of auto2weld i n g s ad2 dle2shaped nozzle of heavy pressure vessels DUAN Tiequn1,SH I Guangyuan1,Y U Dan2,Y ANG Kefei2(1.Harbin University of Science and Technol ogy,Harbin150080,China;2.Harbin W elding I nstitute,Harbin150080,China).p63-66Abstract: According t o the welding p r ocesses of nozzle of heavy p ressure vessels,this paper intr oduced the structure and p rinci p le of the aut omatic welding machine,and als o p resenteed the math metical model and si m p lified inter polati on algorith m which used t w o collaborative axis t o f or m a s pace fitting saddle2 shaped welding bead.The si m ulati on results indicate that the t w o2axis inter polati on algorith m can meet the require ments of the aut omatic welding.Key words: heavy p ressure vessels;aut omatic welding machine;inter polati on algorith m;si m ulati on M i crostructure and m echan i ca l property of Ag2Cu2T i f illers added w ith rare earth l an thanu m Y ANG Changyong,XU J iuhua,D I N G W enfeng,F U Yucan,CHE N Zhenzhen(J iangsu Key Laborat ory of Precisi on and M icr o2manufacturing Technol o2 gy,Nanjing University of Aer onautics&A str onautics,Nanjing 210016,China).p67-70,74Abstract: The effect of lanthanu m(La)on the m icr o2 structure,m icr ohardness of Ag2Cu2Ti filler app lied in brazed CBN t ools and the shear strength of brazed j oint bet w een Ag2Cu2 Ti filler and0.45%C steel substrate were researched.The re2 sults indicated that the additi on of La could accelerate the all o2 ying of filler all oy,i m p r ove the m icr ohardness of Ag2Cu2Ti filler all oy and shear strength of brazed j oint bet w een Ag2Cu2Ti filler and0.45%C steel substrate.The content of La added in Ag2Cu2 Ti all oy filler should be less than0.5wt%.Key words: rare earth La;Ag2Cu2Ti filler;m icr ostruc2 ture;mechanical p r opertyEffects of appli ed long itud i n a l magneti c f i eld on pl a s ma arc hardfac i n g m i crostructure and property L I U Zhengjun, S ONG Xingkui,SHAO Da wei,ZHAO Q ian,ZHANG Shixin, CHE NGM inghua(Materials Science and Engineering Acade my, Shenyang University of Technol ogy,Shenyang110023,China). p71-74Abstract: T o contr ol the shape and distributi on of hard phase,l ongitudinal magnetic field was app lied during p las ma hardfacing of Fe5all oy.The hardness,wearing,m icr ostructure and X2ray diffracti on analysis of the hardfacing layer were tested as well as the structure and p r operty of the handfacing layer of the powder.The results showed that the layer had higher hard2 ness and better wearing with magnetic field than the layer for med without magnetic field.The p r operties of hardfacing layer were op ti m u m when the magnetic field current was3A and the m icr o2 structures of all oy hardfacing layer obtained ideal hard phase such as Cr7C3,Cr B ect and s olid s oluti onαandγwere refined sufficiently.Key words: p las ma arc surfacing welding;magnetic field;hard phasePerfor mance of DC pl a s ma arc i n externa l tran sverse a lter2 na ti n g magneti c f i eld M E NG J ianbing,XU W enji,WANG Xuyue,S ONG W enqing(Key Laborat ory f or Precisi on and Non2 traditi onal Machining Technol ogy of M inistry of Educati on, Dalian University of Technol ogy,Dalian116024,L iaoning,Chi2 na).p75-79Abstract: T wo mathe matical models are devel oped t o de2 scribe the oscillating a mp litude of the p las ma arc al ong the metal surface and the heat fl ow density distributi on of p las ma arc on the metal surface res pectively.The behavi or of p las ma arc jet under an external transverse sinus oidal alternating magnetic field i m2 posed per pendicular t o the p las ma current is analyzed theoretical2 ly,and the effect of p r ocess para meters such as gas fl ow rate, arc current,magnetic fl ow density and the distance fr om the noz2 zle outlet t o the anode workp iece on the f or m and distributi on of2010,Vol.31,No.1T RANS ACTI O NS OF T HE CH I N A W ELD I N G I N STI T UTI O NⅤp las ma arc are als o in vestigated.The results show that it is fea2 sible t o contr ol the shape and heat fl ow density of the p las ma arc for the transverse alternating magnetic field,which can expand the area of p las ma arc ther mal treat m ent and flat the heat fl ow density upon the workp iece.Further more,the oscillating amp li2 tude of p las ma arc increases and the heat fl ow density gradient upon the workp iece decreases with the magnetic fl ow density en2 hancing.However,an overly str ong magnetic field coil results in the p las ma arc unstable.Under the same magnetic fl ow density, less gas fl ow rate and arc current,l onger distance fr om the nozzle outlet t o the anode causes the oscillating a mp litude t o increase. Contrarily,the more gas fl ow rate and arc current,the more heat fl ow density peak increases.Moreover,l onger distance fr om noz2 zle outlet t o workp iece descends the heat fl ow density peak.Key words: transverse alternating magnetic field(T A MF); p las ma arc;oscillating a mplitude;heat fl o w density distributi onExper i m en t a l i n vesti ga ti on on i m pact toughness i n h i gh2te m2 pera ture of BH W35steel welded jo i n t WANG Xian2 gyun1,2,WANG W enxian1,L I J ie mu2,WANG Baodong3(1. College ofM aterials Science and Engineering,Taiyuan University of Technol ogy,Taiyuan030024,China;2.Taiyuan Boiler Gr oup Co.L td.,Taiyuan030021,China;3.Shanxi Zhongt ong High2 Technol ogy Co.,Taigu030008,Shanxi,China).p80-84 Abstract: Aut omatic submerged2arc welding and shielded metal arc welding were e mp l oyed by H10M n2N i M oA welding wires,E70152D2electr ode foll owed by the post w eld heat2treat2 ment syste m s of nor malizing,dra wing te mper and stress relief an2 nealing.I m pact tests on welded j oint and base metal at20℃、100℃、200℃and350℃were carried out.Further more,SE M fract ograph,metall ograph and che m ical compositi ons of welding sea m were analyzed.The results indicate that the highest hard2 ness of HAZ was:270.5HV in S AW;235.2HV in S MAW,the t oughness increases greatly compared with conditi ons at r oom te mperature.Peak value of i m pact t oughness of S AW is at100℃,S MAW is at200℃,which is cl ose t o that of base metal. The i m pact t oughness in HAZ is better than that in welding sea m,and it is better in S MAW than that in S AW.The i m pact t oughness of welded j oint is upward96.33J at r oom te mperature, it is upward120J in welded j oint at350℃,and186J in base metal,which indicate that the t oughness of welded j oint and base metal ars in their best at r oom and high2te mperature.SE M frac2 t ograph indicates that all i m pact fractures exhibit ductile di m p le, the better t oughness,the more obvi ous tearing feature of ductile di m p le.The larger the ductile di m p le is,the more obvi ous non2 unif or m distributi on is.Key words: BH W35steel;welded j oint;metall ograph and hardness;i m pact t oughness;fract ographFuzzy P I speed con trol for weld i n g w i re feed syste m ba sed on st a te observer and feedforward DU Hong wang1,3,L I U Zheng2,ZHAO Yanan1,XU J ian wei1,L I U Gang1(1.College of Mechanical and Electrical Engineerin,Harbin Engineering Uni2 versity,Harbin150001,China;2.College of Computer Science and Technol ogy,Harbin Engineering University,Harbin 150001,China;3.College of Aut omati on,Harbin Engineering University,Harbin150001,China).p85-88Abstract: W elding wire feeding device is an i m portant component of welding r obot,stabilizati on and reliability of weld2 ing wire feed is the essential for welding quality.The resistance was highly nonlinear and both wire feed rate and welding quality are severely affected by the resistance.A state observer was a2 dop ted t o evaluate the resistance,and then the observed resist2 ance was for ward fed in order t o increase s peed res ponse and e2 li m inate the i m pact of resistance on the welding wire feed sys2 te m.Because of DC mot or da mp ing,the steady2state characteris2 tics can be i m p r oved and the steady2state err or can be inhibited when conventi onal P I contr ol is adop ted.The fuzzy contr ol and P I contr ol arc organically intr oduced by means of dyna m ic re2 s ponse of fuzzy contr ol and steady2state perfor mance of P I con2 tr ol,it is reliable t o achieve stable weld wire feeding.The si m u2 lati ons indicate that there are fast s peed res ponse,s mall over2 shoot and str ong r obustness with state observer and f or ward feed, the dyna m ic and static characteristics of fuzzy P I contr ol are bet2 ter than P I contr ol.Key words: wire feed device;sub merged2arc welding; state observer;feedfor ward;fuzzy P I contr olEffect of hybr i d2pulse square2wave curren t frequency on m i2 crostructure and m echan i ca l properti es of5A06a lu m i n u m a lloy welds CONG Baoqiang,Q I Bojin,ZHOU Xingguo, LUO Jun(School of Mechanical Engineering and Aut omati on, Beihang University,Beijing100191,China).p89-92 Abstract: A novel ultrafast2convert hybrid2pulse square2 wave variable polarity arc welding technol ogy f or alu m inu m all oy is devel oped.Based on the hybrid2pulse variable polarity TI G welding technique,the effect of hybrid2pulse square2wave current frequency on the m icr ostructure and mechanical p r operties of 5A06welds is researched.The experi m ental results show that, compared with no hybrid2pulse current,the weld mechanical p r operties are decreased when the pulse current frequency is less than20kHz.Under the conditi on of pulse current frequency up t o40kHz,the size of crystal grains and degree of welds s often2 ing are decreased,tensile strength of weld j oints is i m p r oved ob2 vi ously.The rates of weld tensile strength and percentage el onga2 ti on t o base metal are95.8%and84.8%,res pectively.Key words: ultrafast convert;hybrid high2frequency pulse;pulse frequency;variable polarity;alu m inu m all oyW avelet detecti on a lgor ith m of short2c i rcu it si gna l i n CO2 arc weld i n g ba sed on D SP TI A N Songya,G U Haitao,F U W eiliang,SH I Rusen,XU Huizhe(College ofM echanical&E2 lectrical Engineering,Hohai University,Changzhou213022, J iangsu,China).p93-96Abstract: According t o algorith m a’tr ous and analysis of CO2arc voltage characteristic byW avelet Toolbox in M atlab,the wavelet algorith m which is suitable for detecti on of short2circuit signal in p ractical CO2welding p r ocess is derived.D ifferent。
胆甾相液晶的光学性质
•一、胆甾相液晶的光学性质胆甾相液晶同其他液晶态物质一样,既有液体的流动性、形变性、粘性,又具有晶体光学各向异性,是一种优良的非线性光学材料。
较一般液晶不同的是它具有螺旋的状的分子取向的排列结构,因此,它除了具有普通液晶具有的光学性质外还具有它本身特有的光学特性。
(1)选择性反射有些胆甾相液晶在白光的照射下,会呈现美丽的色彩。
这是它选择反射某些波长的光的结果。
实验表明,这种反射遵守晶体衍射的布拉格(Bragg)公式。
一级反射光的波长为:λ=2nPsinφ其中:λ为反射波的波长,P为胆甾相液晶的螺距,n为平均折射率,φ为入射波与液晶表面的夹角。
(2)旋光效应在液晶盒中充入向列相液晶,把两玻璃片绕于他们相互垂直的轴相对扭转90°角度,这样向列相液晶的内部就发生了扭曲,于是形成一个具有扭曲排列的向列相液晶的液晶盒。
这样的液晶盒前后放置起偏振片和检偏振片,并使其偏振方向平行。
在不加电场时,一束白光射入,液晶盒使入射光的偏振光轴顺从液晶分子的扭曲而旋转了90°。
因而光进入检偏振片时,由于偏振光轴相互垂直,光不能通过检偏片,液晶盒不透明,外视场呈暗态,增加外电压,超过某一电压值时,外视场呈亮态,由此就可以得到黑底白像若起偏片与检偏片的偏振方向互相垂直,可得到白底黑像。
(3)圆二色性圆二色性指材料选择性吸收或反射光束中两个旋向相反的圆偏振光分量中的一个。
如果一束入射光照射在液晶盒上,位于反射带内与盒中液晶旋向相同的圆偏振光几乎都被反射出去,而旋向相反的圆偏振光几乎都透射过去,这是一个非常罕见的性质,荷兰菲利浦实验室的两位科学家1998年在Nature上撰文说,利用凝胶态液晶(liquid-crystal gels)的圆二色性,可以实现镜面状态和透明状态之间的切换。
二、胆甾相液晶的电光效应液晶的电光效应很多,由于本文主要研究胆甾相液晶,所以下面仅介绍几种常见的胆甾相电光效应。
(1)退螺旋效应对于介电各向异性>0的液晶当垂直于螺旋轴的方向对胆甾相液晶施加一电场时,会发现随着电场的增大,螺距也同时增大,当电场达到某一阈值时,螺距趋于无穷大,胆甾相在电场的作用下转变成了向列相。
选择性反射胆甾相液晶研究进展
选择性反射胆甾相液晶研究进展1. 引言1.1 背景介绍选择性反射胆甾相液晶是一种在液晶领域备受关注的新型材料,具有多种潜在应用价值。
胆甾相液晶在不同温度下会呈现出不同的相态,这种特性使其被广泛应用于光学显示器件、智能材料等领域。
随着科技的发展和对新材料需求的增加,对选择性反射胆甾相液晶的研究也愈加引起人们的关注。
胆甾相液晶的研究意义主要体现在其在光学和电子方面的潜在应用价值。
该材料的特殊结构和性能使其具有较高的光学透明性和反射性能,可用于制备高清晰度、高对比度的液晶显示器。
选择性反射胆甾相液晶还具有快速响应、低功耗等优点,有望在可穿戴设备、智能手机等电子产品中得到广泛应用。
选择性反射胆甾相液晶的研究具有重要的科学意义和应用前景,对其特性和性能的深入探究将有助于推动液晶材料领域的发展,并为相关领域的技术创新提供新的思路与可能性。
1.2 研究意义选择性反射胆甾相液晶是一种特殊的液晶相,具有独特的结构和性质。
对其进行深入研究可以揭示液晶相的形成机制,为新型液晶材料的设计和合成提供理论依据。
选择性反射胆甾相液晶还具有广泛的应用前景,可以用于光学显示器件、光电器件、生物传感器等领域。
研究选择性反射胆甾相液晶的意义在于推动液晶科学的发展,促进技术创新和产业升级。
通过对其特性和性能的深入了解,我们可以更好地利用其优异的光学和电学性质,开发出更加高效、稳定和环保的液晶材料,为人类社会的进步做出贡献。
选择性反射胆甾相液晶的研究具有重要的科学意义和应用价值。
2. 正文2.1 选择性反射胆甾相液晶的特点选择性反射胆甾相液晶是一种在液晶领域具有重要应用前景的新型材料。
其主要特点包括:1. 具有优异的热稳定性:选择性反射胆甾相液晶在高温环境下依然能保持稳定的液晶结构,具有良好的热传导性能,适用于高温条件下的显示器件。
2. 具有高度选择性反射性能:选择性反射胆甾相液晶在特定波长的光线入射时能够实现高度选择性的反射,具有良好的抗干扰能力,适用于各种光学传感器和光学设备。
反射式胆甾相液晶显示器件双稳特性的研究
各个领 域 , 曲 向列 相 液 晶显 示 ( N L 扭 T — CD)超扭 曲 、 向列相 液 晶显示 ( T L D)薄膜 晶体 管液 晶显示 S N— C ,
胆 甾相液 晶显 示器 件。
反射 式胆 甾相 液 晶显 示器 件是 利用 胆 甾相 液晶
件 无法 比拟 的优 点 : 采 用零场 双 稳态显 示 , ① 无需刷
新 , 且不 需要 背光 源 , 并 真正 发挥 了液 晶显示微 功耗 的优 点 i 采用 B a g反射 光 显 示 , ② rg 易于 实现 彩 色 ,
胆 甾相 液 晶具 有三 种 不 同的 分子 排列 结 构 ( 如 图 1, 种 是 平 面 织 构 态 ( l a e t r , 为 P )一 pa r xue)称 n t 态; 第二 种是 焦锥 织构 态 ( c l o i txue)称 为 f a c nc e t r , o
L n - o 一 V Gu - in HU J n to , U Ho g b ,L o qa g 2 u — a ’ HU Yu - u’ , ENG — i z 2 e h i F 一 Qibn ・ GAO e- ig , W iq n ’
(.e a oaoyo p ca Ds l e h oo y Mii r o d c t n H f i 3 0 9 1K ynsy f u ai , ee 2 0 0 ; S py t E o
Ke a e s a b a u g 一ywor s:bi获 l 一 ly;plnart xt r ;f calconi ext r ;r bbig l nm ent d st术 di 一 e一 e o ct u e u n ai 究p 流
选择性反射胆甾相液晶研究进展
选择性反射胆甾相液晶研究进展选择性反射胆甾相液晶是一种特殊的胆甾相液晶,在光学和电学领域具有广泛的应用前景。
本文将从其结构与特性、制备方法、应用方面综述其研究进展。
一、结构与特性选择性反射胆甾相液晶具有胆甾相液晶的双层子结构,第一层是胆甾酯层,第二层是胆甾相层。
其中,胆甾酯层的分子具有强极性和大的正光学旋光度,而胆甾相层则具有高度复杂的结构,其中含有大量氢键和范德华力。
在红外区域的吸收带谱表现出强烈的吸收峰,且在选择性反射天然光中表现出极强的反射性能。
选择性反射胆甾相液晶还具有多种特殊的光学和电学性质,如能在其中固定不变的空间方向,保持其振荡状态;能够显示双向观察效应,即观察者在不同位置看到的图案不同;还能根据外界电场的改变而改变其所反射波的颜色和光强度。
二、制备方法选择性反射胆甾相液晶的制备方法有多种,如单晶生长法、拉伸自组装法、毛细膜扩散法、挤出法等。
其中,单晶生长法是最常用的制备方法之一。
该方法是在温度控制的条件下,通过慢慢降低温度使物质从完全熔化的状态逐渐形成液晶晶体核心,生长为单一的晶体。
这种方法制备的选择性反射胆甾相液晶具有高纯度和优异的光学性能。
同时,采用拉伸自组装法制备的选择性反射胆甾相液晶又具有优异的单一晶体结构和优异的行列性。
毛细膜扩散法在制备过程中,物质经简单的蒸发和扩散后,便能够自发地形成液晶涂层,具有相对简便的操作过程。
挤出法则能够在瞬间制备大量的选择性反射胆甾相液晶。
三、应用方面选择性反射胆甾相液晶由于其独特的结构和特性,使其在生物医学、显示技术、激光技术、光学检测、传感器等领域具有广泛的应用前景。
例如,在生物医学领域,可以利用其特殊的光学性能,制成光学调控的纳米机器人,实现针对细胞的精准操作;在显示技术领域,选择性反射胆甾相液晶能够制成优良的光学显示器,有望替代目前的LED电视。
在激光技术方面,选择性反射胆甾相液晶可以作为光纤激光器的工作介质,在激光成像和激光刻蚀等领域发挥重要作用;而在传感器等领域,它又可以作为光学离子探测器、气体探测器等高灵敏度的检测器。
胆甾相液晶的光学性质
•一、胆甾相液晶的光学性质胆甾相液晶同其他液晶态物质一样,既有液体的流动性、形变性、粘性,又具有晶体光学各向异性,是一种优良的非线性光学材料。
较一般液晶不同的是它具有螺旋的状的分子取向的排列结构,因此,它除了具有普通液晶具有的光学性质外还具有它本身特有的光学特性。
(1)选择性反射有些胆甾相液晶在白光的照射下,会呈现美丽的色彩。
这是它选择反射某些波长的光的结果。
实验表明,这种反射遵守晶体衍射的布拉格(Bragg)公式。
一级反射光的波长为:λ=2nPsinφ其中:λ为反射波的波长,P为胆甾相液晶的螺距,n为平均折射率,φ为入射波与液晶表面的夹角。
(2)旋光效应在液晶盒中充入向列相液晶,把两玻璃片绕于他们相互垂直的轴相对扭转90°角度,这样向列相液晶的内部就发生了扭曲,于是形成一个具有扭曲排列的向列相液晶的液晶盒。
这样的液晶盒前后放置起偏振片和检偏振片,并使其偏振方向平行。
在不加电场时,一束白光射入,液晶盒使入射光的偏振光轴顺从液晶分子的扭曲而旋转了90°。
因而光进入检偏振片时,由于偏振光轴相互垂直,光不能通过检偏片,液晶盒不透明,外视场呈暗态,增加外电压,超过某一电压值时,外视场呈亮态,由此就可以得到黑底白像若起偏片与检偏片的偏振方向互相垂直,可得到白底黑像。
(3)圆二色性圆二色性指材料选择性吸收或反射光束中两个旋向相反的圆偏振光分量中的一个。
如果一束入射光照射在液晶盒上,位于反射带内与盒中液晶旋向相同的圆偏振光几乎都被反射出去,而旋向相反的圆偏振光几乎都透射过去,这是一个非常罕见的性质,荷兰菲利浦实验室的两位科学家1998年在Nature上撰文说,利用凝胶态液晶(liquid-crystal gels)的圆二色性,可以实现镜面状态和透明状态之间的切换。
二、胆甾相液晶的电光效应液晶的电光效应很多,由于本文主要研究胆甾相液晶,所以下面仅介绍几种常见的胆甾相电光效应。
(1)退螺旋效应对于介电各向异性>0的液晶当垂直于螺旋轴的方向对胆甾相液晶施加一电场时,会发现随着电场的增大,螺距也同时增大,当电场达到某一阈值时,螺距趋于无穷大,胆甾相在电场的作用下转变成了向列相。
胆甾相液晶的光学特性_李昌立
第17卷 第3期2002年6月 液 晶 与 显 示Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays Vol .17,No .3 Jun .,2002文章编号:1007-2780(2002)03-0193-06胆甾相液晶的光学特性李昌立,孙 晶,蔡红星,翁占坤,高俊杰(长春光学精密机械学院,吉林长春 130022)摘 要:基于胆甾相液晶的特殊分子结构,综合阐述了胆甾相液晶的旋光性、选择性光散射和偏振光二色性等光学特性,揭示了它的光学特性主要源于它螺旋状的分子结构及其光学各相异性。
关键词:胆甾相液晶;选择性光散射;螺距;布喇格反射中图分类号:O753.2 文献标识码:A 收稿日期:2001-12-02;修订日期:2001-12-261 引 言胆甾相液晶同其他液晶态物质一样,既有液体的流动性、形变性、粘性,又具有晶体的光学各向异性,是一种优良的非线性光学材料[1],具有明显的热光效应、电光效应、电热光效应[2]、磁光效应[3]、压光效应[4,5]等。
较一般液晶不同的是它具有螺旋状分子取向的排列结构,因此,它除了具有普通液晶具有的光学性质外还具有它本身特有的光学特性。
2 胆甾相液晶胆甾相液晶也称螺旋状液晶,是一种在一定温度范围内呈现液晶相的胆甾醇衍生物(酯化物或卤代物)以及分子内具有不对称碳原子的高分子化合物,它具有层状的分子排列结构,层与层间相互平行,其分子细长,长轴具有沿某一优先方向取向,相邻两层分子间的取向不同,一般相差15°左右,且该优先方向取向在空间沿螺旋轴(光轴方向)螺旋状旋转。
因此,各层间的取向渐变可连成一条空间扭曲的螺旋线,该液晶整体形成螺旋结构(如图1)。
设胆甾相液晶的优先方向(指向矢)为n ,螺距为p ,由于在液晶相中,胆甾相结构沿指向矢方向呈周期性变化,且n 和-n 具有等价性,所以,其螺距周期为p 2,其典型值约为0.3μm ,远远大于分子线度,为可见光波长数量级。
胆甾相液晶光子晶体效应的研究
1.2.1 光子晶体概念............................................................................................................................ 1 1.2.2 光子晶体特性............................................................................................................................ 2 1.2.3 光子晶体制备方法 .................................................................................................................... 3 1.2.4 光子晶体的应用........................................................................................................................ 4 1.3 液晶光子晶体及其研究进展 ............................................................................................................... 6 1.4 本文主要研究内容和意义.................................................................................................................... 8
表面性能对胆甾相液晶显示性能的影响
均 可稳定 存 在 , 时 的反射 态 和 F P态 C态 时 的散 射态 形成对 比态 , 这就是 反射式胆 甾相液 晶的工作原理[ 4 1 。
李 英杰 , 陆红波 。 韩少 飞 。 吕国强 ・ 。 ( . 种显 示技 术教 育部 重点 实验 室 , 1特 安徽合 肥 2 0 0 3 0 9; 2 合肥 工业 大学 仪器 科学 与光 电工 程学 院 , 徽合 肥 2 0 0 ; . 安 3 0 9
3 合肥 工业 大学光 电技术研 究 院 , 徽合 肥 2 0 0 ) . 安 3 0 9
摘
要: 文章 主要 通过 胆 甾相 液 晶显 示 器件在 P态和 F 态 的反射 特征 谱 线 和微 观 结构 来研 究 C
表 面性 能对 显 示器件 的反 射 率 、 多畴结 构及 阈值 电压 的影 响 。 果表 明 , 结 摩擦 取 向促使 胆 甾相 液 晶形 成 比较 规整 的 多畴 结 构 , 而增 大显 示 器件 的反 射 率 , 面材料 的性 能会 影 响 显示 器件 的 从 表
L Yi -i’ L o g b ’, A h o fi, V Gu - i g, I n j 一 U H n - o H N S a -e’ L o q n ’。 g e, a 2
液晶盒边界效应对胆甾相液晶电控螺距的影响
示
D
印
Hale Waihona Puke Y U A N e — a M ng y o。DEN G — e IUO g n
( p rme t f P y is c o l f S in e Be i g I si t o eh oo y,BP ig 1 0 8 , h n ) De a t n h s ,S h o o ce c , i n n t u e f T c n l g o c j t i n 0 0 l C ia j
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O73 2 晶 中 图 分 类 号 : 5 一.
文 献 标 识 码 :A
Ef e t f Li u d Cr s a l’ u da y Co dii ns f c s o q i y t lCe lSBo n r n to o e t i ni fCho e t rc Li i y t lS r l Pic n El c r c Tu ng o l s e i qu d Cr s a pi a t h
fe d c n t ne c ntnuo l h e l c e i htc o he c o e t rc lq d c y t lu e he i l a u o i usy t e r fe t d lg ol roft h l s e i i ui r s a nd rt i p a wic n o e,a he s r a ea ho i t t ft i ui r s a e lh s a g e t n— l ne s t hi g m d nd t u f c nc rng s a eo he lq d c y t lc l a r a
第 2 5卷 第 l 期
21 O O年 2月
选择性反射胆甾相液晶研究进展
选择性反射胆甾相液晶研究进展1. 引言1.1 胆甾相液晶的概念胆甾相液晶(cholesteric liquid crystals)是一种特殊的液晶相态,其分子排列呈现螺旋状结构。
在胆甾相液晶中,分子的排列沿着一个共同的轴线呈现螺旋结构,这种排列方式与普通液晶相不同,使得胆甾相液晶具有特殊的光学性质和物理特性。
胆甾相液晶的分子排列结构可以通过改变温度、外加电场或是其他外界条件来调控,从而实现对液晶性质的调控。
胆甾相液晶具有可逆性和响应性强的特点,使得其在光电领域、生物医学领域、光学传感领域等方面展现出广阔的应用前景。
1.2 选择性反射胆甾相液晶研究意义选择性反射胆甾相液晶是一种特殊的液晶形态,具有结构独特、性质特殊的特点。
由于其在光学、生物医学和显示领域的潜在应用价值,引起了广泛的研究兴趣。
选择性反射胆甾相液晶具有高度的选择性反射性能,可以根据不同波长的光线选择性地反射或透射,具有潜在的光学器件应用前景。
选择性反射胆甾相液晶在生物医学领域也具有重要的应用价值,可以用于制备高灵敏度、高分辨率的生物传感器或药物释放系统。
在液晶显示领域,选择性反射胆甾相液晶的高对比度、快速响应速度和低功耗特性,使其成为下一代高画质、低功耗液晶显示技术的有力竞争者。
对选择性反射胆甾相液晶的研究不仅可以拓展液晶材料的应用领域,还能为光电子学和传感器技术的发展提供新的思路和方法。
通过深入研究选择性反射胆甾相液晶的形成机制和性质特点,可以为该领域的进一步发展提供重要的理论基础和实验依据。
2. 正文2.1 选择性反射胆甾相液晶的形成机制选择性反射胆甾相液晶的形成机制是指在特定条件下,胆甾相液晶中的分子在光的作用下出现反射性质的现象。
这种反射性质的形成主要是由于液晶分子的排列结构和光的入射角度等因素相互作用所致。
胆甾相液晶是一种特殊的液晶相,其分子结构具有一定的对称性和有序性。
在液晶相中,分子通常会以一定的方式排列成特定的结构,形成有序的分子排列。
选择性反射胆甾相液晶研究进展
选择性反射胆甾相液晶研究进展选择性反射胆甾相液晶(Cholesteric Liquid Crystals, CLCs)是一种特殊的液晶材料,具有独特的光学性质和结构特征。
近年来,随着液晶显示技术的发展和液晶材料研究的深入,对选择性反射胆甾相液晶的研究也得到了越来越多的关注。
本文将对选择性反射胆甾相液晶的研究进展进行综述,并展望未来可能的应用前景。
选择性反射胆甾相液晶是由螺旋状排列的分子组成的,其分子在空间上呈现出螺旋排列的结构。
由于其分子排列具有周期性,因此在可见光范围内会发生布拉格反射现象,从而呈现出独特的反射光学性质。
选择性反射胆甾相液晶具有宽广的反射波长范围和优异的光学性能,因此在光电子学、显示技术、光学传感器等领域具有广阔的应用前景。
在液晶显示技术领域,选择性反射胆甾相液晶由于其特殊的反射光学性质,在全彩色反射式液晶显示(Reflective LCD)和反射式显示技术(Reflective Display)中显示出了巨大的潜力。
选择性反射胆甾相液晶可以利用其自然的反射光学特性,消除传统液晶显示中需要背光源的缺点,可以节能减排,延长显示屏寿命,同时也可以实现更高的对比度和更鲜艳的色彩表现。
除了在液晶显示技术领域,选择性反射胆甾相液晶在光学传感器、光学滤波器、光学调制器等方面也具有广泛的应用前景。
选择性反射胆甾相液晶可以通过改变外界环境的温度、压力、电场等参数来实现其反射波长的调控,从而可以用于温度传感器、压力传感器等物理量测量方面。
选择性反射胆甾相液晶还可以被设计成具有特定波长的光学滤波器,用于光学成像、光学通信等领域。
在光学调制器方面,选择性反射胆甾相液晶也可以实现光学信号的调制和控制,用于激光调制、光学开关等应用。
在选择性反射胆甾相液晶的研究方面,近年来取得了一些重要的进展。
在材料合成方面,研究人员不断优化选择性反射胆甾相液晶的材料设计和结构构建,以提高其稳定性和光学性能。
在制备工艺方面,研究人员通过控制温度、压力等参数,优化选择性反射胆甾相液晶的自组装过程,提高其制备效率和质量。
胆甾相液晶织构光谱特性
胆甾相液晶织构光谱特性王佳菱;杜鑫;吕加;于天池;范志新【摘要】胆甾相液晶具有特殊的光学性质,因此在液晶显示和光电子器件方面有特殊的应用.实验制备出稳定的平面态和焦锥态织构样品,用偏光显微镜观察织构并拍摄了各个织构的照片,用分光光度计测试了不同织构时的透射光谱,发现大晶畴焦锥态样品也有比较好的透光性,这对胆甾相液晶光学性质的进一步研究及应用具有重要的意义.【期刊名称】《哈尔滨商业大学学报(自然科学版)》【年(卷),期】2010(026)002【总页数】5页(P235-239)【关键词】胆甾相液晶;平面织构;焦锥织构;透射光谱【作者】王佳菱;杜鑫;吕加;于天池;范志新【作者单位】哈尔滨商业大学,基础科学学院,哈尔滨,150028;哈尔滨商业大学,基础科学学院,哈尔滨,150028;哈尔滨商业大学,基础科学学院,哈尔滨,150028;大连交通大学,数理系,辽宁,大连,116028;河北工业大学,应用物理系,天津,300130【正文语种】中文【中图分类】O436胆甾相液晶是向列相液晶的一种特殊形式,现在还常用手性向列相来称呼它.把胆甾相液晶装在液晶盒内,一般说来会呈现平面织构、焦锥织构和场致向列相三种状态的织构[1-5].由于胆甾相液晶特殊的分子结构以及光学的各向异性,决定了它具有晶体的旋光性、偏振光二色性和它本身特有的可见光布拉格选择性反射等性质,因为胆甾相液晶具有特殊的光学性质使其在显示领域和光电子器件方面具有特殊的应用[6].研究胆甾相液晶的织构和光学性质无论是对于液晶物理理论和显示应用都具有一定的基础意义和实用价值.平面织构最容易实现,人们对胆甾相液晶的了解基本上是从对平面织构的研究中认识到的,对焦锥织构的认识是不清楚的,有些结论是联想过来的.这是由于制备大晶畴焦锥织构稳定样品的困难,小晶畴样品散射现象严重掩盖了其他性质,因而对于胆甾相液晶焦锥织构光学性质研究的报道不多.本文制备出了大晶畴焦锥态稳定样品,因此有条件进行胆甾相液晶织构光学性质的实验研究.1 胆甾相液晶织构胆甾相液晶处于哪种织构通常由螺距和边界条件等决定.一般条件下平面织构为稳定状态,施加电场可使液晶盒进入方格栅织构、焦锥织构和场致向列相以及一些瞬态等状态.胆甾相液晶的平面织构是在液晶盒中,螺旋轴方向平均而言垂直于基板表面,而液晶分子的指向矢总是垂直于螺旋轴,平行于基板表面.对于胆甾相液晶的平面织构,当可见光垂直入射到液晶盒表面时,发生选择波长的布拉格反射,反射波长与胆甾相液晶双折射率的平均值和胆甾相液晶的螺距P的关系是:波长带宽为:如果不是垂直入射,入射角和反射角同为θ时,反射波长为在正交偏光场中观察平面态液晶盒呈布拉格反射光的补色.当增加电场时胆甾相可以排列成方格栅织构:胆甾相液晶每一层平面的互相垂直的方向指向矢有周期性.缓慢的小幅度变化的波纹,叠加结果形成方格栅状图案.外电场电压小的UH扰动的结果,使螺旋平面微倾斜.焦锥织构同平面织构一样,也有其固有的扭转螺距,但是在液晶盒中,螺旋轴方向在液晶盒内呈二维(或三维)随机分布,且液晶分子的指向矢方向总是与螺旋轴相垂直.由于在液晶盒中焦锥态总是多畴结构,晶畴又很小,一般仅有微米尺寸大小,光在晶界处因折射率的突变而造成光散射,使得焦锥态液晶盒看上去如同一片“毛玻璃”.在正交偏光场中观察焦锥态液晶盒,呈现一定的双折射干涉着色.偏光显微镜观察,会发现不同螺旋轴方向的液晶晶畴呈现不同的颜色,有非常丰富多彩又奇特的织构图案. 场致向列相只有在液晶盒处在外电场中才能看到,这种状态时没有了扭转,螺旋轴被解旋,而液晶分子的指向矢都垂直于基板表面.在正交偏光场中观察场致向列相液晶盒呈完全黑场.电场引起织构突变的相变电压值,可以根据液晶的弹性形变的连续体理论进行计算,结果如下[5].平面织构到方格栅织构:方格栅织构到焦锥织构焦锥织构到场致向列相其中:k11、k22、k33分别为展曲、扭曲、弯曲弹性常数,d为盒厚,P0为胆甾相液晶固有螺距,Δε为介电常数各向异性值.长螺距的胆甾相液晶在电场作用下容易进入指纹织构,其条状指纹织构是很自然的电控光栅元件,用激光束入射会看到有规律的衍射效应.2 实验部分胆甾相液晶盒的盒厚d=6μm,液晶盒边界条件分2种,一种是采用低预倾角取向材料,以制备平面织构液晶盒;另一种是高预倾角取向材料,以制备焦锥织构液晶盒.灌注向列相液晶加手性剂配置的胆甾相液晶,螺距分别有P=3μm、P=0.44 μm和0.36μm,双折射差Δn=0.15,平面织构时布拉格反射红光波长λ=0.66μm和绿光λ=0.66 μm.样品先经过热处理,放到干燥箱中升温到液晶清亮点温度,之后以不同的降温速度冷却到室温,快速降温得到小晶畴焦锥织构样品和平面织构样品,在比清亮点温度低几度温度下恒温数小时再降温到室温,得到大晶畴焦锥织构样品.用偏光显微镜观察样品的液晶织构,用数码相机拍摄各种织构的照片.用紫外可见光分光光度计测试样品的透射光谱.对几种样品施加电场,观测织构变化过程并测试不同电压下的透射光谱.3 实验结果和讨论图1给出胆甾相液晶平面织构与焦锥织构的偏光显微镜照片.图2给出用分光光度计测试的螺距P=0.44μm的几种胆甾相液晶不同织构的透射光谱.图3给出的是加电场螺距P=0.36μm的胆甾相液晶平面织构向场致向列相转变过程呈现不同织构的透射光谱.图1 胆甾相液晶平面结构与焦锥织构的偏光显微镜照片由于照片是用透射光拍摄的,所以平面织构呈补色颜色.从图1(A)可以看到平面织构晶畴很大,晶界向错线为细线条,起保持盒厚均匀作用的衬垫料小珠子往往是晶界线的起点和终点.从图1(B)可以看到,小晶畴的焦锥织构样品,晶畴尺寸很小,在微米水平.图1(C)表现的是大晶畴的焦锥织构样品,晶畴尺寸在数十到上百微米水平.图1(D)表现的是场致向列相照片,正交偏光场则会看到的是完全暗场.图1(E)表现的是长螺距电致指纹织构样品,不加电场时是平面织构,加电场看到指纹线一条接一条地生成,直到充满整个视场.这种指纹线的宽度等于半个螺距,是直接测试胆甾相液晶螺距的一种方法.继续增加电场会看到指纹线再一条接一条地消失,原地转变为场致向列相,没有螺距随电压增加而变长的现象.图1(F)表现的是大晶畴的焦锥织构样品加电压,原来光滑均匀的织构上出现了随电压变化的条纹.从图2(A)的透射光谱曲线可以看到,平面织构时,由于布拉格反射现象,透射光谱在(0.660±0.035)μm范围出现最低值,表明布拉格选择反射光波长满足关系,反射光波长带宽满足关系Δλ=ΔnP.另外最低值不为零,原因是胆甾相液晶的螺旋结构有左手性和右手性之分,使可见光布拉格选择反射还有左旋光和右旋光之分,只有把左旋光和右旋光都反射掉透射光最低值才会很低.从图2(B)可以看出,小晶畴的焦锥织构样品由于散射严重,透射光谱强度比较弱,但也不是一致的弱,在兰光450 nm波长处却有比较高的透光率,对红光的透光率比较低.图2(C)表明,大晶畴的焦锥织构样品在可见光范围是还比较透明的,这一点与以往人们对焦锥织构光学性质的认识是不同的.在以往的研究报道中提起焦锥织构,认为就是光的散射[2-3].其实大晶畴焦锥织构还具有双折射等光学性质,有待于人们进一步深入研究并加以应用.图2(D)表明,进入完全场致向列相的胆甾相液晶盒样品的透光性已经很好,没有多少散射损失.图2 几种胆甾相液晶不同织构光谱图3 胆甾相液晶平面织构向场致向列相转变过程透射光谱图3(A)表明螺距P=0.36μm的胆甾相液晶平面织构时具有布拉格反射现象,与图2(A)的区别在于反射波长中心位置不同.图3(B)表明,加电场平面织构被破坏,大的平面织构晶畴变成细碎的三维焦锥织构小晶畴,对光的散射很严重,透射光谱强度比较弱.图3(C)表明,继续增加电压焦锥织构晶畴有所长大,变成二维性的焦锥织构,但电场短时间内驱动生成的晶畴仍然不够大,对光的散射现象仍然很严重.在对液晶盒直接观察就能看到一加上电场,原来呈绿色的液晶盒马上变成了“毛玻璃”.图3(D)表明,当外加电场达到场致向列相电压时,液晶盒又变得比较透明,这时的透射光谱强度比较高.4 结语胆甾相液晶具有特殊的光学性质,在液晶显示和光电子器件领域有十分特殊的应用.晶畴焦锥织构样品以光散射为主要特点,大晶畴焦锥织构样品和场致向列相样品却有比较好的透光性.对于研究其电光性质具有重要的意义.参考文献:[1]李昌立,孙晶,蔡红星,等.胆甾相液晶的光学特性[J].液晶与显示,2002,17(3):193-198.[2]杨登科.双稳态螺旋相液晶显示器[J].现代显示,1994(1):17-23.[3]才勇,黄锡珉,马凯.双稳反射式螺旋相液晶显示器[J].液晶与显示,1997,12(3),196-205.[4]产启林.胆甾相液晶在彩色显示技术中的应用[J].现代显示,2004(5):17-22.[5]施善定.液晶与显示应用[M].上海:华东华工学院出版社,1993:119-120.[6]AKSENOVA E V,YU A,VALKOV.LightScattering in Cholesteric Liquid Crystals with a Large Pitch[J].Journal of experimental and theoretical physics,2004,98(1):62-92.。
LDMOS横纵向电场同时优化及关键技术
LDMOS横纵向电场同时优化及关键技术LDMOS横纵向电场同时优化及关键技术LDMOS(Laterally Diffused Metal Oxide Semiconductor)是一种常用于功率放大器的半导体器件。
它具有高电压处理能力和低电流漏泄的特点,广泛应用于射频功率放大、调制、天线开关等领域。
然而,LDMOS器件在工作过程中还存在一些问题,如电场集中、漏电流增加等。
为了优化LDMOS器件的工作性能,需要同时优化横向和纵向电场分布。
横向电场集中导致电导丧失,纵向电场集中会导致漏电流增加。
因此,要同时优化这两者是非常重要的。
在优化LDMOS器件的横向电场分布时,可以采用多种方法。
一种方法是通过改变多晶硅的浓度分布来调整电场分布。
这可以通过在表面引入P型离子来完成,从而降低表面电导率,减少横向电流。
另一种方法是在晶体管的表面加上掺杂剂层,形成渐变掺杂电场,使电场均匀分布。
对于纵向电场的优化,常用的方法是采用隔离结构和结阻控技术。
隔离结构可以将漏电流限制在所需的范围内,减少电场集中。
结阻控技术包括增加漏结电阻和优化源漏结电容,以降低漏电流的影响。
除了以上的优化方法,还有一些关键技术可以提高LDMOS器件的性能。
一种关键技术是缩小LDMOS器件的结构尺寸。
通过缩小尺寸,可以提高器件的开关速度和功耗。
另一个关键技术是改善接触电阻。
接触电阻会导致能量损失和热耗散,所以改善接触电阻对于提高LDMOS器件的效率非常重要。
此外,制造工艺的改进也是提高LDMOS器件性能的关键。
对于LDMOS器件来说,源漏电极和栅极之间的电极距离、掺杂浓度和材料选择等都会影响器件的性能。
因此,优化这些工艺参数对于提高LDMOS器件的性能非常重要。
综上所述,LDMOS横纵向电场的同时优化是提高器件性能的关键。
通过采用适当的技术和工艺,我们可以有效地改善LDMOS器件的横向和纵向电场分布,并提高器件的电导能力和降低漏电流。
在继续深入研究中,我们可以进一步探索新的方法和技术,以进一步提高LDMOS器件的性能和应用综合以上所述,采用隔离结构和结阻控技术是优化LDMOS 器件纵向电场分布的常用方法。
基于电子元器件下的胆甾相液晶织构分析
孙静
无 论胆 甾相液 晶处 于平 面织 构还 是焦 锥 织构 , 当施加 电场时它们具有相同的转变特 征。 当施加一个平 行于螺旋轴 的电场 E时 ,它是一
2 . 1 介 电各 向 异 性 为 正 , 即 A £> O
当胆 甾相液 晶在零 场 下处 于平面 织 构, 螺旋轴垂直于液 晶盒 的玻璃基板 ,它可 以进行 选择性反射 。当给平面织构施加一个够大 的外 电场 ,其将变成焦锥织构 。在焦锥 织构 中,螺
电子元器件 ● E l e c t r o n i c C o mp o n e n t
基于 电子 元器件下 的胆 甾相液晶织构分析
文/ 赵静
同织构的光学特性。 实验 发现 胆 甾相 液 晶有 两个 稳 定 态, 因此 在 显 示应 用方 面, 胆 甾相 液 晶具 有双 稳 态的优 点。 本 论 文 主 要 介 绍 胆双 稳 态的
2各种织构的光学特性
为 了研 究胆 甾相 液晶 的 电光 特性 ,常常 将其置于两块具有透明 电极 ( I T O1 的玻璃之 间。
V I - l e l f r i e h  ̄ : ( 丝
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两个分量,从而一个分量透过另一个被反射 。 透射 的光被覆盖于底部基板上 的吸光板吸收 。 在开态 电压作用下 ,胆 甾相液 晶由平面 织构 转
液晶转变成垂直织构。 域被压小 。在所涉及 的能量 中,弹性 能随着波 破坏;螺距 变得无限大,
动 的振幅而增加 , 电能随着波动的振幅而减小。 电能的减 小可以补偿 弹性能的增加,因此产 生
He l f r i c h形 变 。V №l m c h 由下 式 给 出 :
横向电场对平面织构胆甾相液晶螺距及反射特性的影响
横向电场对平面织构胆甾相液晶螺距及反射特性的影响∗赵找栗,邓罗根(北京理工大学 理学院物理系,北京 100081)摘要:详细阐述一种理论模型,讨论共面转换(IPS )模式下横向电场对平面织构胆甾相液晶螺距及扭曲角的影响。
利用琼斯矩阵法计算了光正入射情况下未加电场时胆甾相液晶的反射谱。
在上述模型基础上,计算了施加电场后胆甾相液晶的反射峰值波长以及反射带宽随场强的变化关系。
探讨了忽略锚定与强锚定两种边界条件下横向电场对平面织构胆甾相液晶螺距及反射特性的影响。
所得结论在理论上证实:共面转换模式下电场可以调谐胆甾相液晶的反射光颜色,从而为基于电控螺距原理的胆甾相液晶反射式彩色显示方案提供了理论上的依据。
关键词:胆甾相液晶,电控螺距,共面转换,琼斯矩阵法PACC: 6130, 4270D, 7820W, 4270Q1. 引言胆甾相液晶的光反射是过去十几年来人们广泛研究的课题之一[1-3]。
由于胆甾相液晶具有独特的光学性质而被广泛应用于显示领域[4-5]。
胆甾相液晶具有螺旋结构,指向矢沿垂直于它的螺旋轴扭转排列。
指向矢扭转π2时螺旋轴上通过的距离称为一个螺距,记作0P 。
与胆甾相液晶具有相同旋向的一定带宽内的圆偏振光能被完全反射。
布拉格反射带宽为0P n ⋅∆=∆λ,n ∆为胆甾相液晶的介电双折射。
反射的中心波长为0P n =λ,平均折射率2/)(e o n n n +=,o n 、e n 分别为液晶中寻常光和非常光的折射率。
1968年Meyer 证实[6],施加垂直于螺旋轴方向的电场会使胆甾相液晶的螺距增加,由布拉格定律可知反射光颜色可以改变。
1970年Kahn 在实验中观察到横向电场作用下胆甾相液晶螺距改变的现象[7]。
2004年Li 小组在实验中观察到横向电场作用下胆甾相液晶反射光颜色改变的现象[8]。
基于上述现象,本文详细阐述一种理论模型,讨论共面转换模式[9-11]下横向电场对平面结构胆甾相液晶螺距以及扭曲角的影响。
横向自旋角动量对纳米粒子光操控特性的影响
横向自旋角动量对纳米粒子光操控特性的影响丁卫强;付泽宇;孟祥东【摘要】光场的横向自旋是近年来发现的一种光场新效应,该效应表明光场不仅具有沿光传播方向的自旋角动量,而且还有垂直于传播方向的横向白旋角动量,这一发现为光学微操控提供了一个新的自由度.本文以聚焦的涡旋拉盖尔-高斯光束作为光源,利用偶极近似模型计算了金纳米粒子在该紧聚焦光场中受到的光力和横向自旋力矩,得出金纳米粒子在该光场中的捕获状态,阐明了横向白旋效应对粒子捕获特性的影响,分析了拓扑电荷数、粒子半径、折射率、吸收牢等参数对横向自旋的影响.结果表明,在光束拓扑电荷数为零时,纵向自旋能够完全转化为横向白旋.该研究结果在光操控领域具有重要的理论意义和应用价值.【期刊名称】《吉林师范大学学报(自然科学版)》【年(卷),期】2018(039)004【总页数】8页(P1-8)【关键词】横向自旋角动量;紧聚焦矢量涡旋光束;光操控【作者】丁卫强;付泽宇;孟祥东【作者单位】哈尔滨工业大学物理系,黑龙江哈尔滨150001;哈尔滨工业大学物理系,黑龙江哈尔滨150001;吉林师范大学物理学院,吉林四平136000【正文语种】中文【中图分类】O4370 引言光场不仅具有能量,同时还具有动量.光被物质散射过程中,光的动量会传递给物质,表现为物质受到辐射力作用,并在该力作用下发生移动,利用这个特性我们可以对微粒进行捕获和操控.基于此,1970年Ashkin首次利用单光束光势阱实现了对微小物体的捕获[1].由于利用光束对物体的这种操控具有非物理接触、无损伤等优点,因此引起了人们的广泛关注.目前光操控已在生物[2]、纳米[3]、物理[4-5]、化学[6]、量子[7]等众多技术领域中得到广泛应用.除了对物体的捕获,利用光束控制粒子旋转,即光致旋转,在实际的光学系统中也具有重要作用[8].光致旋转可以通过多种方式实现,例如利用非对称粒子[9],或通过双折射来实现[10-11].还可以利用携带角动量的光束,通过角动量从光传递到粒子的过程实现光致旋转[8,12-13].光的角动量分为两类:自旋角动量(SAM)[14-15]和轨道角动量(OAM)[16-17].前者与光的偏振有关,导致粒子绕自身的轴旋转,而后者源自光的相位结构,导致粒子绕光轴转动.一般来说,这两种角动量产生的旋转轴是平行于光束传播方向的,即为纵向角动量.但是,最近人们发现物体的旋转轴可以与光轴方向垂直,即出现所谓的横向自旋效应[18-19].这是一个非常有趣的现象,因此受到了极大关注[20].该横向自旋效应可以出现在倏逝波[21],干涉场[22]以及聚焦光束中[23-25].由于该动量可以实现粒子沿着横向(垂直光轴方向)旋转,为光操控提供了新的自由度,因此在光学微操控领域有重要意义.具有涡旋相位的矢量拉盖尔-高斯光束具有独特的相位和偏振特性,具有独特的传播特性和应用价值.本文研究该光束通过聚焦后的横向自旋特性及其对物体操控特性的影响.通过研究金纳米粒子在光场中受到的光力和自旋力矩,得出金纳米粒子的运动图像,从粒子受到的横向自旋力矩可以得出光场的自旋特性.研究拓扑电荷数、粒子半径、粒子折射率和吸收率对横向自旋的影响,从而得出紧聚焦矢量涡旋光束的横向自旋特性,得到了一种完全横向自旋的特殊情况,此时光束拓扑电荷数为零.1 矢量涡旋光束的聚焦场拉盖尔-高斯光束是一种具有独特偏振和相位分布的光束.如图1所示,假设入射场在入射光瞳处是平面波,经过非球面透镜后会产生会聚的球面波,光束从入射光瞳处的准直源经会聚之后成为衍射受限的光斑.图1 紧聚焦径向偏振涡旋光束捕获粒子示意图(A)和焦点处的光强分布(B)Fig.1 Schematic of particle trapping by a tightly focused vortex beam with radialpolarization (A) and intensity pattern at the focalspot (B)焦点处光场分布可利用矢量衍射积分求解.假设单位矢量g0为物空间的径向单位矢量,在笛卡尔坐标系中表示为(1)其中φ表示与x轴的方位角,即极角.角向单位矢量可表示为其中是沿传播方向z 轴的单位矢量.入射区域中的电场可以分解为径向和角向分量:(2)其中l0表示场的相对幅值,假设场的幅值呈径向变化,但在光轴上保持柱面对称.根据Richards-Wolf的理论,我们可以将焦点附近的电场表示为在聚焦半径为f1的球面孔径上对矢量场振幅a1一个衍射积分(3)振幅a1与物空间电场有关,即(4)单位矢量g1位于光束和光轴构成的平面内,并且垂直于光线的传播方向如果θ代表极角,折射后的径向单位矢量可以表示为(5)在像空间引入柱坐标系r=(ρs,φs,zs),焦点为原点,此时ρs=zs=0.在焦点附近的点可以表示为(6)通过选择特定的场振幅a1(θ,φ),可以得到焦点附近的电场矢量.对于径向偏振光入射的情况,令方程(2)中那么焦点附近的电场矢量可以表示为如下形式:(7)通过直角坐标到柱坐标转换,可得焦点附近的电场分布如下:(8)其中Jn(kρPsinθ)表示n阶第一类贝塞尔函数.在傍轴近似情况下,径向偏振光入射光会产生光轴附近光场为零的中空光束.综上,径向偏振的涡旋光束入射,紧聚焦后在焦点附近其电场分量表达式为:(9)其中Y(θ,φ)表示涡旋光束在入射光瞳处的电场分量,假设入射涡旋光束的拓扑电荷数为m,那么在入射光瞳处的电场分量可以表示为Y(θ,φ)=y(θ)exp(imφ).也就是说入射光除了具有柱对称的偏振状态以外,角向相位也在发生变化.那么在电场分量表达式中对φ积分的部分可以表示为:(10)为了方便,我们用β来代替kρssinθ,然后利用第一类贝塞尔函数的变换公式(11)将方程(10)转化为:(12)最终,得到径向偏振涡旋光束经过紧聚焦后,焦点处的电场矢量为:(13)得到光场之后,我们可以计算得到该光场的横向自旋角动量密度:(14)同时,根据光场的分布,还可以研究物体在该光场中的捕获情况.当粒子尺寸远小于波长时,粒子在光场中所受的力和力矩用偶极近似来计算.偶极子的极化矢量为p=αE,受到的光力为(15)自旋力矩表达式为Γ=p×E.(16)对力和自旋力矩进行时间平均得到:(17)(18)其中(19)2 粒子在紧聚焦光场中的受力和横向力矩为了获得金纳米粒子在聚焦光场中的运动情况,我们计算了金纳米粒子所受到的光力和自旋力矩.图2为金纳米粒子在径向偏振涡旋光场中的不同位置所受光力的x 分量Fx,y分量Fy以及所受合力Ft的示意图.由Fx的结果可知,粒子在x轴方向受到的力存在零点,而且在零点的两侧 Fx 的方向相反.这就说明金粒子在 x 方向可以被稳定捕获.Fy的分布恰好与Fx正交,因此,金粒子在y轴方向也可以被稳定捕获.粒子所受的合力呈环形分布,图中的小箭头表示力的方向,由图可知,金粒子会被捕获在一个环形区域,在该区域内绕轴顺时针转动.(A)光力的x分量Fx/(pN/mW);(B)光力的y分量Fy/(pN/mW);(C)合力F/(pN/mW),其中箭头表示力的方向图2 金纳米粒子在径向偏振涡旋光场中不同位置所受光力Fig.2 Optical forces on the gold particle in the radial polarization vortex beam为了分析粒子的自旋运动情况,我们计算了金粒子受到的自旋力矩,结果如图3所示.图3(A)、3(B)、3(C) 分别为自旋力矩的径向,角向和纵向分量在不同位置的分布.结果表明横向自旋角动量是存在的,而且其径向分量和角向分量的分布都是由四个瓣状部分组成,角向分量分布相当于将径向分量分布旋转45°得到.在图中自旋力矩的正负表示方向,对于径向分量来说,大于零表示方向沿半径方向向外,小于零表示方向沿半径并指向圆心.对于角向分量来说,大于零表示沿逆时针切线方向,小于零表示沿顺时针的切线方向.我们将径向分量和角向分量合成得到横向总力矩的大小和方向,结果如图3(D)所示,金纳米粒子在不同的位置的自旋方向是不同的.粒子在绕光轴作圆周运动的同时也在做绕自身旋转轴的自旋运动,而且自转轴还会随着位置的变化而变化.为了进一步研究横向自旋的特性,我们计算了不同条件下粒子所受到的光力和自旋力矩.(A)径向Γρ/(pN·nm);(B)角向Γφ/(pN·nm);(C)纵向Γz/(pN·nm);(D)横向Γ/(pN·nm)图3 粒子受到的自旋力矩Fig.3 Spin torques on the particle首先,光场本身的性质是光力和自旋力矩分布的决定性因素.拉盖尔-高斯光束的拓扑电荷数及其符号的改变会引起光场分布的改变,从而引起横向自旋特性的改变.因此我们研究了一系列不同拓扑电荷数光束的横向自旋特性,使用1 550 nm的拉盖尔-高斯光束,经过数值孔径为1.26的透镜聚焦后入射到折射率为n2=1.7+10i 的纳米粒子上,只改变拓扑电荷数,得出光力和自旋力矩随拓扑电荷数的变化情况,结果如图4所示.由4(A)可以看出,对于符号相反而数值相同的拓扑荷来说,辐射力的大小是相同的,而且力的大小会随着拓扑电荷数的数值增大而减小,但是在l=1时会发生突变,力的大小突然出现显著增加.图4(B)表示横向自旋力矩和纵向自旋力矩随着拓扑电荷数变化的曲线,横向自旋力矩是关于l=0对称分布的,在l=0处横向自旋力矩最大,向两侧逐渐减小.纵向自旋力矩是非对称分布,l=0处纵向自旋为零,l=1处取到最大值.l>1,纵向自旋力矩随着拓扑电荷数的增大而减小.l<-1时,纵向自旋力矩随着l的增大而增大.图4 光力(A)和自旋力矩(B)与拓扑电荷数的关系Fig.4 Relations between (A) optical forces and (B)optical torques with the topological charge其次,由于光场对粒子的作用力和力矩实际上是通过动量和角动量的传递实现的,而不同性质的粒子对光的吸收和散射是有差别的,粒子对光的吸收和散射越强,受到的力和力矩越大.粒子的尺寸和折射率会影响粒子对光的吸收与散射,因此我们选用不同半径和折射率的粒子进行研究,从而得出横向自旋对粒子尺寸和折射率的响应.在数值模拟的过程中,我们还是使用1 550 nm的拉盖尔-高斯光束,经过数值孔径为1.26的透镜聚焦后入射到折射率为n2=1.7+10i的金纳米粒子上,只改变粒子的半径,得出光力和自旋力矩随粒子半径的变化情况,结果如图5所示.显然,粒子在光场中受到的力和自旋力矩都会随着粒子半径的增大而增大,半径增大时,粒子对光场的散射增强,从而引起力和力矩的增加.图5 光力和自旋力矩与粒子半径的关系Fig.5 Relations betwwen the optical force and spin torque with the radius of the particle在同样的光场中,我们计算了半径为50 nm,折射率取值不同的情况下粒子所受的光力和自旋力矩.作为研究对象的吸收性粒子的复折射率由实部和虚部组成,实部是吸收性介质的折射率,取决于光在介质中的传播速度,虚部是吸收系数,决定于介质对光能的吸收.因此我们分别对粒子复折射率的实部和虚部进行了研究,探究了粒子的折射率和吸收性能对光力和横向自旋的影响.当粒子的复折射率虚部取值为10i,实部在0.2~3.5之间变化时,光力和自旋力矩随折射率实部的变化关系如图6(A)所示,当粒子的复折射率实部取值为1.7,虚部的取值在0到10i之间变化时光力和自旋力矩随折射率虚部的变化关系如图6(B)所示.由图可知,当折射率虚部取值一定时,随着折射率实部的增大,粒子所受的力和横向自旋力矩都在增大,而且增幅也在逐渐增加.当折射率实部取值一定时,随着折射率虚部的增大,粒子所受的力和横向自旋力矩也在增大,但是当虚部增加到一定程度时力和力矩的增幅减小,趋于稳定.折射率实部和虚部对光力和横向自旋力矩的影响都是通过影响极化率来实现的,对于瑞利粒子来说,在光场中受到的辐射力和自旋力矩都与极化率有关,改变粒子的半径和折射率都会引起极化率的变化,所以辐射力和自旋力矩也会随之变化.图6 光力和自旋力矩与折射实部(A)、折射率虚部(B)的关Fig.6 Relations between the optical force and spine torque with the real part (A) and imaginary part (B) of refractive index经过研究影响光力矩的因素,我们发现一个非常有趣的现象.虽然紧聚焦的矢量涡旋光束确实存在横向的自旋角动量分量,但是在大多数情况下同时存在纵向的自旋角动量.也就是说,置于紧聚焦矢量涡旋光场中的粒子会沿着一个既不平行于光轴又不垂直于光轴的方向自转.但是我们研究了光束的拓扑电荷数对自旋力矩的影响之后发现在特殊的情况下,即拓扑电荷数为0时,纵向力矩变为零,此时粒子只受到横向力矩的作用,在垂直于光轴的方向自旋.因此,我们重点研究了m=0时粒子受到的光力和力矩,结果如图7和8所示.结果表明在m=0的情况下,紧聚焦径向偏振光只携带横向自旋角动量.这是因为m=0时,聚焦光场不再是中空结构,而是在光轴处强度最大.(A)光强I(x,y);(B)光力/(pN·nm);(C)光力矩/(pN·nm)图7 m=0时粒子受到的光力和力矩Fig.7 Optical force and torque on the particle at the case ofm=0(A)Tρ/(pN·nm);(B)Tφ/(pN·nm);(C)Tz/(pN·nm)图8 m=0时粒子受到的自旋力矩的径向、角向和纵向分量Fig.8 The radial,azimuthal and longitudinal components on the particle at the case of m=03 结论本文研究了紧聚焦拉盖尔-高斯光束的横向自旋特性.通过研究金纳米粒子在光场中受到的力和自旋力矩,得出金纳米粒子的运动图像,从粒子受到的横向自旋力矩得出光场的自旋特性.利用Richard-Wolf 理论推导出了m阶拉盖尔-高斯光束经过高数值孔径的透镜聚焦后在焦平面处的电场分量表达式.利用偶极近似模型计算了金纳米粒子在上述紧聚焦光场中受到的光力和横向自旋力矩,并通过分析推断出金纳米粒子在紧聚焦矢量涡旋光场中的运动状态.然后我们考虑了各种因素如拓扑电荷数、粒子半径、粒子折射率和吸收率对横向自旋的影响,从而得出紧聚焦矢量涡旋光束的横向自旋特性.最后,找到了一种完全横向自旋的情况,即光束拓扑电荷数为零时.参考文献【相关文献】[1]ASHKIN A,GORDON J P.Stability of radiation-pressure particle traps:An optical Earnshaw theorem[J].Opt Lett,1983,8(10):511-513.[2]FAZAL F M,BLOCK S M.Optical tweezers study life under tension[J].Nat Photonics,2011,5(6):318-321.[3]JUAN M L,RIGHINI M,QUIDANT R.Plasmon nano-opitcal tweezers[J].Nat Photonics,2011,5(6):349-356.[4]BARKER P F.Doppler cooling a microsphere[J].Phys Rev Lett,2010,105(7):073002-1-073002-5.[5]CHEUK L W,ANDEREGG L,AUGENBRAUN 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静电场中多畴结构胆甾相液晶的物理变化过程
静电场中多畴结构胆甾相液晶的物理变化过程
李青;张旭苹;张健;王琛;张志远
【期刊名称】《东南大学学报(自然科学版)》
【年(卷),期】2000(030)001
【摘要】反射型胆甾相液晶显示具有许多传统液晶显示(LCD)不可比拟的优点,称为第3代LCD,本文分析了构成这类显示的多畴胆甾相液晶在静电场下各状态的物理变化过程.文中以单畴为研究对象,根据胆甾相液晶的Frank弹性连续体理论,建立了静电场中单畴从平面织构态(P态) 到焦锥织构态(FC态)以及FC态到场致向列相态(H态)各状态间转化的物理方程.为进一步研究多畴胆甾相液晶相变的动力学变化规律打下了基础.
【总页数】4页(P58-61)
【作者】李青;张旭苹;张健;王琛;张志远
【作者单位】东南大学电子工程系,南京,210096;东南大学电子工程系,南
京,210096;东南大学电子工程系,南京,210096;东南大学电子工程系,南京,210096;东南大学电子工程系,南京,210096
【正文语种】中文
【中图分类】TN141
【相关文献】
1.P态刷新法在反射型多畴胆甾相液晶器件中的应用 [J], 傅伟涛;李青;韦静;张俊
2.胆甾相液晶的带隙结构及其在光电检测中的应用探讨 [J], 宋水泉
3.胆甾相液晶多重乳液微结构激光特性的研究进展 [J], 罗炜程;车凯军;李森森;陈鹭剑
4.实现反射型多畴胆甾相液晶器件字符显示的驱动研究 [J], 吴亚杰;李青
5.反射型胆甾相液晶显示器件多畴结构的形成及相变的研究 [J], 张俊;李青;韦静;傅伟涛;庞春霖
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横向电场对平面织构胆甾相液晶螺距及反射特性的影响∗赵找栗,邓罗根(北京理工大学 理学院物理系,北京 100081)摘要:详细阐述一种理论模型,讨论共面转换(IPS )模式下横向电场对平面织构胆甾相液晶螺距及扭曲角的影响。
利用琼斯矩阵法计算了光正入射情况下未加电场时胆甾相液晶的反射谱。
在上述模型基础上,计算了施加电场后胆甾相液晶的反射峰值波长以及反射带宽随场强的变化关系。
探讨了忽略锚定与强锚定两种边界条件下横向电场对平面织构胆甾相液晶螺距及反射特性的影响。
所得结论在理论上证实:共面转换模式下电场可以调谐胆甾相液晶的反射光颜色,从而为基于电控螺距原理的胆甾相液晶反射式彩色显示方案提供了理论上的依据。
关键词:胆甾相液晶,电控螺距,共面转换,琼斯矩阵法PACC: 6130, 4270D, 7820W, 4270Q1. 引言胆甾相液晶的光反射是过去十几年来人们广泛研究的课题之一[1-3]。
由于胆甾相液晶具有独特的光学性质而被广泛应用于显示领域[4-5]。
胆甾相液晶具有螺旋结构,指向矢沿垂直于它的螺旋轴扭转排列。
指向矢扭转π2时螺旋轴上通过的距离称为一个螺距,记作0P 。
与胆甾相液晶具有相同旋向的一定带宽内的圆偏振光能被完全反射。
布拉格反射带宽为0P n ⋅∆=∆λ,n ∆为胆甾相液晶的介电双折射。
反射的中心波长为0P n =λ,平均折射率2/)(e o n n n +=,o n 、e n 分别为液晶中寻常光和非常光的折射率。
1968年Meyer 证实[6],施加垂直于螺旋轴方向的电场会使胆甾相液晶的螺距增加,由布拉格定律可知反射光颜色可以改变。
1970年Kahn 在实验中观察到横向电场作用下胆甾相液晶螺距改变的现象[7]。
2004年Li 小组在实验中观察到横向电场作用下胆甾相液晶反射光颜色改变的现象[8]。
基于上述现象,本文详细阐述一种理论模型,讨论共面转换模式[9-11]下横向电场对平面结构胆甾相液晶螺距以及扭曲角的影响。
利用上述模型,用琼斯矩阵法计算了光正入射情况下胆甾相液晶的反射峰值波长(或是反射光颜色)以及反射带宽随场强的变 化关系。
处理过程中借助了变分法与椭圆积分数学工具。
国家自然科学基金(批准号:10474006)资助的课题。
E-mail: luogen@ 2. 理论模型A. 施加电场后胆甾相液晶的自由能表达式胆甾相液晶弹性能密度表达式为[12] 2320221)(21)(21)(21n n n n n ×∇×++×∇⋅+⋅∇=k q k k U EL , (1) 其中n 代表指向矢,1k 、2k 、3k 分别代表展曲、扭曲、弯曲弹性常数。
螺旋扭曲度00/2P q π=,0P 是未加电场时胆甾相液晶的螺距。
考虑一厚为d 的胆甾相液晶样品盒,指向矢平行于xoy 平面,直流电场沿x 轴方向,螺旋轴沿z 轴方向。
本文中,将胆甾相液晶分为很多层,每层近似认为是取向相同的向列相液晶层。
未施加电场时,胆甾相液晶相邻层之间的夹角是相同的。
施加横向电场后,胆甾相液晶两相邻层间的夹角不再是相同的固定值,有的夹角变大,有的夹角变小。
但平均而言,两相邻层间的夹角变小,因此,在一个2π周期内包含的液晶层数增加,致使螺距增加。
当场强进一步增大到某一临界值S E 时,胆甾相液晶就完全解旋为向列相液晶,如图1所示。
由于指向矢是位置z 的函数,因此在假设z 处的扭曲角为)(z ϕ前提下,指向矢可以表示为)0,sin ,(cos ϕϕ=n , (2)指向矢n 的散度和旋度分别是0=⋅∇n , (3))0,sin ,cos (dzd dz d ϕϕϕϕ−−=×∇n , (4) 由(1)(3)(4)式得到 20221⎟⎠⎞⎜⎝⎛−=q dz d k U EL ϕ。
(5) 根据电磁理论,静电场能量密度表达式为 E D ⋅=21ES U , (6) 当电极平行于x 轴放置时,场强E 与x 轴平行:)0,0,(E =E , (7)由于胆甾相液晶的各向异性,电位移矢量D 与场强E 是不平行的。
实验室坐标系中,液晶分子的电位移矢量)(E n n E D ⋅∆+=⊥εε。
⊥−=∆εεε//是绝对介电常数各向异性,//ε、⊥ε分别是平行与垂直于分子轴方向的绝对介电常数。
由上面的公式计算可得E D x )sin cos (22//ϕεϕε⊥+=,其中ϕ为液晶分子长轴与实验室坐标系x 轴之间的夹角。
(a )(b )(c )图 1 外加直流电场时胆甾相液晶样品发生的变化: (a )场强0=E ;(b )场强S E E <;(c )场强S E E ≥。
S E 为胆甾相液晶解旋为向列相液晶的临界场强。
S E E ≥S E E <由(6)式,静电场能量密度可进一步简化为E D U x ES 21)(=ϕ, 222//)sin cos (21E ϕεϕε⊥+=, (8) 因此,电场作用下胆甾相液晶静电场能量密度改变为2//222//S 21)sin cos (21E E U E εϕεϕεϕ−+=∆⊥)(, 22sin 21E ϕε∆−=, (9) 式中第一个等号右侧第一项为电场作用下液晶分子重新取向后的静电场能量密度,第二项为施加电场后液晶分子未曾发生扭转时的静电场能量密度。
由(5)(9)两式可以得到胆甾相液晶样品总自由能表达式为∫∫∫Ω⎥⎥⎦⎤⎢⎢⎣⎡∆−⎟⎠⎞⎜⎝⎛−=dxdydz E q dz d k U 22202sin 21ϕεϕ, ∫⎥⎥⎦⎤⎢⎢⎣⎡∆−⎟⎠⎞⎜⎝⎛−=d xy dz E q dz d k A 022202sin 21ϕεϕ, (10) 式中Ω为液晶盒体积,xy A 为液晶盒xoy 平面上的面积,d 为液晶盒厚度。
B. 横向电场对胆甾相液晶扭曲角及螺距的影响施加电场后取向分布函数)(z ϕ可以通过对自由能U 变分得到[13]。
为数学上的方便,此处认为ϕ是变量,并且有)(ϕz z =。
对(10)式z 变分可以推出ϕϕδϕεϕδϕδϕϕd d z d E d z d dz d k A U d xy ∫⎥⎥⎦⎤⎢⎢⎣⎡∆−⎟⎠⎞⎜⎝⎛−=)()0(2222sin 21, (11) 其中)0(ϕ是0=z 处的扭曲角,)(d ϕ是d z =处的扭曲角。
最小自由能条件0=U δ要求)sin 1(122222ϕγϕk k dz d −=⎟⎠⎞⎜⎝⎛, (12) 其中222/E k εγ∆=,2k 是常数项。
以下讨论中考虑多个螺距的情况并且忽略表面锚定,此时螺距连续变化[14]。
因此,施加电场后胆甾相液晶的螺距变为 ∫⎟⎟⎠⎞⎜⎜⎝⎛=πϕϕ20d d z d P , ∫−=2/02/122)sin 1(4πϕϕγk d k , (13) 式中[]∫−=2/02/1221)sin 1/(1)2/,(πϕϕπd k k F 是第一类完全椭圆积分[15]。
积分(10)式可得⎥⎦⎤⎢⎣⎡+−−=)2/,(4)2/,(2221221220220πγπγπk F k P d k k F k P d k P d k q d k q A U xy , (14) 式中d 是胆甾相样品盒厚度。
利用自由能最小化条件0/=∂∂k U 得出)2/,(220ππγk F k q =, (15) (15)式可进一步简化为 )2/,(2220πεπk F k k EP =∆, (16) 其中ϕϕππd k k F 2/12/0222)sin 1()2/,(∫−=是第二类完全椭圆积分[15]。
第一类与第二类完全椭圆积分均可调用Matlab 计算软件中的ellipke 函数求得。
推导出的(16)式即为场强E 与常数k 之间的关系。
(10)式积分与(14)式求偏导过程中用到[])2/,()2/,(1sin 1sin 122/0222ππϕϕϕπk F k F kk d k −=−−∫, (17) )2/,(42πγk F dkdP =, (18) 2224)2/,()2/,(kP k k F dk k dF γππ−=, (19) 由(13)(16)两式可以得到)2/,()2/,(42120πππk F k F P P =, (20) (20)式即为施加电场前后胆甾相液晶螺距之间的关系。
在给定场强E 的情况下,只要通过(16)式得到常数k 的值,就可以通过(20)式得到施加电场后胆甾相液晶的螺距值。
3. 计算结果与讨论A . 未加电场情况下胆甾相液晶的反射特性利用琼斯矩阵法[16]计算未加电场情况下不同胆甾相样品厚度的反射谱,如图2所示。
胆甾相液晶为右旋结构,螺距nm P 3000=,5.1=o n ,8.1=e n 。
胆甾相液晶的上下两端为各向同性的玻璃基板,折射率5.1=g n 。
入射光为平行于螺旋轴方向的右旋圆偏振光。
计算过程中将一个螺距分为200层,因未加电场情况下液晶分子均匀扭曲,所以两相邻液晶层之间的夹角为相同的固定值。
图 2 不同样品厚度胆甾相液晶的反射谱。
入射光为右旋圆偏振光。
当样品厚度为6个螺距时,布拉格反射中心波长为495.2nm ,布拉格反射带宽为91.2nm 。
所得结果与理论公式(0P n ⋅∆=∆λ,0P n =λ)完全吻合(见引言第一小节)。
从图2中可以看出,胆甾相样品螺距数超过6时,计算结果是准确的。
B . 施加电场后胆甾相液晶的反射特性接下来的内容分三部分加以论述:第一部分讨论施加电场后胆甾相液晶螺距的改变;第二部分探讨胆甾相液晶扭曲角随外加直流电场的变化关系;最后一部分计算电场作用下胆甾相液晶反射特性。
施加横向电场后,通过(13)(16)两式可以得到场强E 与胆甾相液晶螺距P 之间的关系,如图3(a )所示。
表1给出了相应的计算数据,表中E 代表场强,1F 、2F 代表第一类、第二类完全椭圆积分,P 代表施加电场后的螺距。
计算过程所采用的胆甾相液晶参数如下:螺距nm P 3000=,N k 122104−×=,0//7.15εε=,06εε=⊥。
0ε为真空中的介电常数。
当1=k 时,由(13)式积分得到螺距P 为无穷大,胆甾相液晶完全解旋为向列相液晶。
由(16)式,当1=k 时,2/12042)/(P k E E S επ∆==。
S E 即为胆甾相液晶—向列相液晶转变的临界场强值。
场强S E E ≥时,胆甾相液晶在电场作用下完全解旋为向列相液晶,如图1(c )所示。
在上述参数情况下,计算得到的m V E S µ/0998.7=。
图3 忽略表面锚定情况下胆甾相液晶螺距随场强的变化关系。
上面部分的计算是忽略表面锚定的情况下胆甾相液晶螺距随场强的变化关系,下面将讨论强锚定的情况。
在强锚定情况下,螺距值不再是连续的,而是离散化的。