巨磁电阻效应及其传感器的原理..

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巨磁阻效应及其传感器的原理和应用

一、概述

对于物质磁电阻特性的研究由来已久,早在20世纪40年代人们就发现了磁电阻效应。所谓磁电阻是指导体在磁场中电阻的变化,通常用电阻变化率Δr/r 描述。研究发现,一般金属导体的Δr/r很小,只有约10-5%;对于磁性金属或合金材料(例如坡莫合金),Δr/r可达(3~5)%。所谓巨磁电阻(GMR)效应,是指某些磁性或合金材料的磁电阻在一定磁场作用下急剧减小,而Δr/r急剧增大的特性,一般增大的幅度比通常的磁性与合金材料的磁电阻约高10倍。利用这一效应制成的传感器称为GMR传感器。

1、分类

GMR材料按其结构可分为具有层间偶

合特性的多层膜(例如Fe/Cr)、自旋阀多层膜

(例如FeMn/FeNi/Cu/FeNi)、颗粒型多层膜(例

如Fe-Co)和钙钛矿氧化物型多层膜(例如

AMnO3)等结构;其中自旋阀(spin

valve)多层膜又分为简单型和对称型两

类;也有将其分为钉扎(pinning)和非钉扎型两类

的。

2、巨磁电阻材料的进展

1986年德国的Grunberg和C.F.Majkrgak

等人发现了Y/Gd、Y/Dy和Fe/Cr/Fe多层膜中

的层间偶合现象。1988年法国的M.N.Baibich

等人首次在纳米级的Fe/Cr多层膜中发现其Δ

r/r在4.2K低温下可达50%以上,由此提出了

GMR效应的概念,在学术界引起了很大的反

响。由此与之相关的研究工作相继展开,陆续

研制出Fe/Cu、Fe/Ag、Fe/Al、Fe/Au、Co/Cu、

Co/Ag、Co/Au……等具有显著GMR效应的层

间偶合多层膜。自1988年发现GMR效应后仅

3年,人们便研制出可在低磁场(10-2~10-6T)

出现GMR效应的多层膜(如

[CoNiFe/CoFe/AgCu/CoFe/CoNiFe]n)。

1992年人们利用两种磁矫顽力差别大的

材料(例如Co和Fe20Ni80)制成Co/Cu/

Fe20Ni80/Cu多层膜,他们发现,当Cu

层厚度大于5nm时,层间偶合较弱,此时利用

磁场的强弱可改变磁矩的方向,以自旋取向的

不同来控制膜电阻的大小,从而获得GMR效

应,故称为自旋阀。

与此同时,1992年A.E.

Berkowitz和Chien等人首次发现了Fe、Co与Cu、Ag分别形成二元合金颗粒膜中的磁电阻效应,在低温下其Δr/r可达(40~60)%。随后陆续出现了Fe-Ag、Fe-Cu、CoxAg1-x/Ag等颗粒多层膜。

1993年人们在钙钛矿型稀土锰氧化物中发现了比GMR更大的磁电阻效应,即colossal magneto-

resistance(CMR)庞磁电阻效应,开拓了GMR研究的新领域。

GMR效应的理论是复杂的,许多机理至今还不清楚;对于这些理论也分为层间交换偶合(IEC)、磁性多层膜的GMR、隧道磁电阻(TMR)等类型,详情可参阅有关文献。

3、巨磁电阻传感器的进展

在发现低磁场GMR效应之后,1994年C.Tsang等研制出全集成化的GMR 器件—自旋阀。同年,美国的IBM公司研制出利用自旋阀原理的数据读出磁头,它将磁盘记录密度提高了17倍,达5Gbit/6.45cm2(in2),目前已达11Gbit/6.45cm2(in2)。这种效应也开始用于制造角度、位置传感器;用于数控机床、汽车测速、非接触开关、旋转编码器等领域。作为传感器它具有功耗小、可靠性高、体积小、价格便宜和更强的输出信号等优点。最近已研制出利用CMR效应的位置传感器。2000年7月在德国的德雷斯顿举行的第3届欧洲磁场传感器和驱动器学术会议上,关于GMR传感器的论文占论文总数的1/3以上,可见人们的关注程度。

表1自旋阀GMR代表值特性表

二、磁性多层膜的巨磁电阻效应

1、磁性层间偶合多层膜

图4 Cu-Co合金颗粒膜GMR效应图5钙钛矿氧化物的CMR效应特性曲线图6 La-Y-Ca-Mn-OCMR

效应曲线磁性层间偶合多层膜和自旋阀多层膜的主要区别是:前者采用层间偶合方

式进行信号传递;后者采用控制磁矩取向方式进行信号传递。

层间偶合多层膜结构通常由铁磁金属(FM)层和非磁性金属(NM)层交替生成,其通式为:CM/FM/NM…/FM/CM(1)

式中:CM—上下两侧的覆盖层(或称缓冲层)为金属材料,有无皆可。

1988年法国的M.N.Baibich等人在美国物理学会主办的Physical Review

Letters上发表了有关Fe/Cr巨磁电阻效应的著名论文,首次报告了采用分子外延生长工艺(MBE)制成Fe(100)/Cr(100)规则型点阵多层膜结构。在这种(Fe/Cr)n结构中,Fe为强铁磁性金属,Cr为反铁磁性金属,n为Fe和Cr的总层数。它是采用MBE工艺将Fe(100)/Cr(100)生长在GaAs芯片上,其工艺条件是,保持MBE室内剩余压力为6.7´10-9Pa,芯片温度约20°C,淀积速率:对于Fe为0.06nm/s;对于Cr为0.1nm/s。它们每层的厚度约(0.9~9)nm,通常为30层。为获得上述淀积速率,还专门设计了坩埚蒸发器。经实验发现,当Cr的厚度小于(0.9~3)nm时,它与Fe层之间偶合的一个反向铁磁特性(AF)的磁滞回线斜率逐渐增大。图1显示了Fe层为3nm,Cr层分别为0.9nm、1.2nm和1.8nm,磁感应强度B在±2T范围内,热力学温度T=4.2K,n=30、35、60时,3个不同样本的特性。随着Cr厚度的增加和总层数的降低,Δr/r也升高,而且高斯磁场强度HS越弱,Δr/r越高,当HS≈2T时,[Fe(3nm)/Cr0.9nm]60膜的Δr/r

可达50%以上。实验还发现,即使温度升至室温,HS降低了30%,Δr/r 也可达到低温值的一半,这一结论具有十分大的实用价值。

随后人们发现了大量层间偶合多层膜中GMR效,如(Co/Cu)n、(Co/Ru)n、(CoFe/Co)n、(Co/Ag)n、(NiFe/Cu)n、(NiCo/Cr)n、(NiFeCo/Cu/Co)n、(NiFeCo/Cu/Co)n和(NiFeCo/Al+Al2O3/Co)n等材料。这些材料在室温下的Δr/r也都达到10%以上甚至更高。

2.自旋阀多层膜

简单型自旋阀通常是由一层NM(例如Cu)和两层FM组成。与多层结构不同,具有扎钉磁化取向特性的第一FM层作为参考层,适当的选择Cu层的厚度,使它仅将微弱的磁场信号偶合到作为敏感层的第二FM层。通常的扎钉功

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