单晶硅太阳能电池的性能研究

目录

第一章绪论................................................... 错误!未定义书签。

1.1 太阳能是人类最理想的能源............................... 错误!未定义书签。

1.2 太阳能发电是最理想的新能源技术......................... 错误!未定义书签。

1.3 太阳能发电的应用....................................... 错误!未定义书签。

1.4 太阳能发电的前景....................................... 错误!未定义书签。第二章单晶硅太阳能电池的理论基础............................. 错误!未定义书签。

2.1 关于P-N结............................................. 错误!未定义书签。

2.2 光电流................................................. 错误!未定义书签。

2.3 光电压................................................. 错误!未定义书签。

2.4 太阳电池的等效电路..................................... 错误!未定义书签。第三章单晶硅太阳能电池的性能分析............................. 错误!未定义书签。

3.1 硅太阳电池的结构....................................... 错误!未定义书签。

3.2 单晶硅太阳电池的主要性能参数........................... 错误!未定义书签。

3.2.1 输出特性与光强关系............................... 错误!未定义书签。

3.2.2 光照角特性....................................... 错误!未定义书签。

3.2.3 响应时间......................................... 错误!未定义书签。

3.2.4 光反射持性....................................... 错误!未定义书签。

3.2.5 温度特性......................................... 错误!未定义书签。

3.2.6 热性质........................................... 错误!未定义书签。

3.2.7 使用寿命......................................... 错误!未定义书签。

3.3 温度和光照强度对电池性能的影响......................... 错误!未定义书签。

3.3.1 温度影响......................................... 错误!未定义书签。

3.3.2 光照强度影响..................................... 错误!未定义书签。

3.3.3 温度和光照强度的综合影响......................... 错误!未定义书签。

3.4 辐照对电池性能的影晌................................... 错误!未定义书签。

3.4.1 辐照损伤......................................... 错误!未定义书签。

3.4.2 提高光电抗辐射能力的方法......................... 错误!未定义书签。第四章工艺参数对电池性能的影响............................... 错误!未定义书签。

4.1 硅片的表面处理......................................... 错误!未定义书签。

4.1.1 表面损伤层....................................... 错误!未定义书签。

4.1.2 表面织构化....................................... 错误!未定义书签。

4.2 扩散................................................... 错误!未定义书签。

4.2.1 扩散温度和时间................................... 错误!未定义书签。

4.2.3 常规P扩型对于性能的影响......................... 错误!未定义书签。

4.3 减反射膜............................................... 错误!未定义书签。

4.3.1 氮化硅膜厚度..................................... 错误!未定义书签。

4.3.2 折射率........................................... 错误!未定义书签。

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4.3.4 H含量............................................ 错误!未定义书签。

4.3.5 硅氮比例......................................... 错误!未定义书签。

4.3.6 薄膜的折射率随Si/N的变化........................ 错误!未定义书签。

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4.4 电极加工及烧结中的影响因素............................. 错误!未定义书签。