石墨烯的表征方法 (1)
石墨烯的表征
石墨烯的表征方法拉曼光谱分析拉曼光谱是碳材料分析与表征的最好工具之一。
图1是石墨、氧化石墨和石墨烯的拉曼光谱。
从图中看出石墨仅在1576 cm-1处存在一个尖而强的吸收峰(G 峰),对应于E2g光学模的一阶拉曼散射,说明石墨的结构非常规整。
当石墨被氧化后,氧化石墨的G峰已经变宽,且移至1578 cm-1处,并且还在1345 cm-1处出现一个新的较强的吸收峰(D峰),表明石墨被氧化后,结构中一部分sp2杂化碳原子转化成sp3杂化结构,即石墨层中的C=C双键被破坏。
此外G带与D带的强度比也表示sp2/sp3碳原子比。
这进一步说明氧化石墨中sp2杂化碳层平面长度比石墨的减小。
当氧化石墨被还原后,还原氧化石墨即石墨烯的拉曼光谱图中也包含有类似氧化石墨的峰位。
石墨烯拉曼光谱图中两个峰(D与G)的强度比高于氧化石墨的,表明石墨烯中sp2杂化碳原子数比sp3杂化碳原子数多,也就是说石墨烯中sp2杂化碳层平面的平均尺寸比氧化石墨的大。
这说明了在本实验条件下氧化石墨被还原时,它只有一部分sp3杂化碳原子被还原成sp2杂化碳原子,即氧化石墨的还原状态结构不可能被完全恢复到原有的石墨状态,也就是说石墨烯的结构和石墨结构还是有差别的。
图1. 石墨(a)、氧化石墨(b)、石墨烯(c)拉曼光谱X-射线衍射分析图2是石墨、氧化石墨和石墨烯的XRD图。
从图中可以看出石墨在2θ约为26°附近出现一个很尖很强的衍射峰,即石墨(002)面的衍射峰,说明纯石墨微晶片层的空间排列非常规整。
石墨被氧化后,石墨(002)面的衍射峰非常小,但在2θ 约为10.6°附近出现很强的衍射峰,即氧化石墨(001)面的衍射峰。
这说明石墨的晶型被破坏,生成了新的晶体结构。
当氧化石墨被还原成石墨烯,石墨烯在2θ约为23°附近出现衍射峰,这与石墨的衍射峰位置相近,但衍射峰变宽,强度减弱。
这是由于还原后,石墨片层尺寸更加缩小,晶体结构的完整性下降,无序度增加。
石墨烯表征方法
石墨烯表征方法石墨烯是一种由碳原子构成的二维材料,具有极高的导电性和热导性,以及出色的机械强度和柔韧性。
由于石墨烯的独特性质,人们对其进行了广泛的研究和应用。
为了更好地理解和表征石墨烯材料,科学家们开发了多种表征方法。
一、原子力显微镜(AFM)原子力显微镜是一种常用的石墨烯表征方法之一。
它通过探测表面的力与距离关系,可以获得石墨烯的拓扑结构和力学性质。
AFM可以实现纳米级的分辨率,可以直接观察到石墨烯的原子级结构。
同时,AFM还可以测量石墨烯的厚度,从而确定其层数。
二、扫描电子显微镜(SEM)扫描电子显微镜是一种常用的表面形貌表征方法。
通过聚焦电子束,扫描样品表面,并测量电子的反射或散射信号,可以获得石墨烯的表面形貌和微观结构。
SEM具有高分辨率和大深度视场的优点,可以对大面积的石墨烯样品进行观察和分析。
三、透射电子显微镜(TEM)透射电子显微镜是一种常用的石墨烯表征方法之一。
它通过透射电子束,并测量透射电子的衍射图样,可以获得石墨烯的晶体结构和晶格参数。
TEM具有极高的分辨率,可以实现原子级的观察和分析。
同时,TEM还可以通过能谱分析等技术,获得石墨烯的化学成分和元素分布信息。
四、拉曼光谱(Raman)拉曼光谱是一种非常重要的石墨烯表征方法。
它通过测量石墨烯材料散射的光子能量差,可以获得石墨烯的振动模式和结构信息。
拉曼光谱可以用来确定石墨烯的层数、缺陷和应变等物理性质。
同时,拉曼光谱还可以用来研究石墨烯与其他材料之间的相互作用。
五、X射线衍射(XRD)X射线衍射是一种常用的晶体结构表征方法。
通过石墨烯材料对X 射线的衍射效应,可以获得石墨烯的晶体结构和晶格参数。
X射线衍射可以用来确定石墨烯的层数、晶胞尺寸以及晶体取向等信息。
同时,X射线衍射还可以用来研究石墨烯的结晶性质和晶格缺陷情况。
六、核磁共振(NMR)核磁共振是一种常用的石墨烯表征方法之一。
通过测量石墨烯材料中核自旋的共振信号,可以获得石墨烯的化学成分和分子结构信息。
石墨烯的制备及表征
石墨烯的制备及表征李亮;胡军;班兴明;陈郁勃【摘要】为了得到高性能的石墨烯材料,采用水合肼、茶多酚与抗坏血酸3种不同的还原剂将氧化石墨烯还原制备得到石墨烯.通过红外光谱、X射线衍射、接触角对产物的结构进行表征,采用四探针法测试电导率,循环伏安法和计时电位法测试电化学性能.水合肼、茶多酚与抗坏血酸这3种还原剂都能有效地将氧化石墨烯结构中的亲水基团去除,得到疏水的石墨烯.通过比较3种还原剂制备的石墨烯的电化学性能,发现通过茶多酚还原得到的石墨烯的导电性能最好,当电流密度为3 A/g时,茶多酚还原得到的石墨烯电容性能达到609 F/g,保持率达到87.71%.这表明由茶多酚还原得到的石墨烯具有更为优良的电化学性能.【期刊名称】《武汉工程大学学报》【年(卷),期】2014(036)008【总页数】5页(P46-50)【关键词】石墨烯;茶多酚;电化学性能【作者】李亮;胡军;班兴明;陈郁勃【作者单位】武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北武汉430074;武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北武汉430074;武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北武汉430074;武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北武汉430074【正文语种】中文【中图分类】O633石墨烯因其优异的电学﹑光学和机械性能被科学界称作奇迹材料[1-2],吸引了众多科学家和大量科研资金的投入,石墨烯的发现更是获颁 2010年度诺贝尔物理学奖[3-5].石墨烯最常用的制备方法是氧化还原法,步骤是先将石墨氧化成氧化石墨,再将氧化石墨剥离成氧化石墨烯,最后将氧化石墨烯还原成石墨烯.过程中常用到的氧化剂为高锰酸钾,高氯酸等,常用的还原剂为水合肼,联氨等.本文分别采用传统的水合肼,茶多酚,抗坏血酸作为还原剂,将氧化石墨烯还原成石墨烯,并将不同还原剂还原得到的石墨烯产物的电化学性能进行对比研究.1 实验部分1.1 石墨烯的制备方法a.水合肼作为还原剂:取一定量氧化石墨烯放入30 mL蒸馏水中,超声分散30 min后加水稀释至100 mL.用25%的氨水调节pH=10.向氧化石墨烯悬浮液中加入2 mL水合肼,使其混合均匀.加热至90 ℃,搅拌5 h.将所得产物过滤,用蒸馏水洗涤,真空60 ℃干燥24 h.密封保存,备用.b.茶多酚作为还原剂:取2 g绿茶粉加入到100 mL蒸馏水中,煮沸.过滤掉剩余茶叶粉末,绿茶水备用.取一定量氧化石墨烯加入到上述绿茶水中,加热至90 ℃,搅拌10 h.将产物过滤,用蒸馏水洗涤,真空60 ℃干燥24 h.密封保存,备用.c.抗坏血酸作为还原剂:取一定量氧化石墨烯放入30 mL蒸馏水中,超声分散30 min后加水稀释至100 mL.取一定量维生素C片研磨成粉末,加入氧化石墨烯悬浮液中,搅拌使其混合均匀.加热至90 ℃,搅拌24 h.将所得产物过滤,用蒸馏水洗涤,真空60 ℃干燥24 h.密封保存,备用.1.2 石墨烯的表征红外光谱(FT-IR)测试采用TJ270红外光谱仪,X射线衍射(XRD)测试采用BrukerD8 X射线粉末衍射仪.电化学性能测试是以1 moL/L KCl溶液为电解液,将产物固定在铂盘电极上作为工作电极,铂丝为对电极,Ag/AgCl电极为参比电极的三电极体系中进行.2 结果讨论与分析2.1 红外光谱分析(FT-IR)图1为采用不同还原剂还原氧化石墨制备的石墨烯的红外光谱图.从图中可以看出不同还原剂制备的石墨烯光谱图均在3 450 cm-1和1 632 cm-1处出现吸收峰,这与石墨原料的红外光谱图基本一致[6],而未出现氧化石墨中一些极性基团的吸收峰,说明在还原剂的作用下,石墨烯中的含氧官能团大大减少,还原效果较好. 注:(a)水合肼,(b)茶多酚,(c)抗坏血酸图1 采用不同还原剂制备的石墨烯的红外光谱图 Fig.1 FTIR spectrum of graphene2.2 X-射线衍射分析(XRD)图2为产物的X射线衍射谱图,图中在2θ角为22.4°和7.2°出现了衍射峰,22.4°处的衍射峰对应石墨的(002)晶面,说明部分氧化石墨中的含氧官能团被除去了,同时说明石墨烯微晶排列较为无序或者存在较大的晶格缺陷,无法回到有序排列的状态.7.2°可能对应未氧化完全的氧化石墨(001)晶面的衍射峰.注:(a)水合肼,(b)茶多酚,(c)抗坏血酸图2 采用不同还原剂制备的石墨烯的XRD图 Fig.2 XRD patterns of graphene2.3 电导率表1为3种不同还原剂制备的石墨烯的电阻率和电导率数据.石墨在强氧化剂的作用下,其结构中的sp2结构和共轭π键被破坏,形成羟基,羧基及环氧基等极性官能团,形成sp3杂化的氧化石墨.结构层中的共轭π键被破坏,导致氧化石墨是绝缘体.氧化石墨经过还原剂还原后,其结构中的极性官能团被除去,恢复表面共轭结构,从而恢复期导电性.图中数据也说明了这一点,石墨烯(茶多酚)的电导率为2.604 S/cm,其导电性最好.表1 3种不同还原剂制备的石墨烯的电导率数据Tabel 1 Conductivities of graphene prepared by three different reducing agents样品电阻率/(Ω/cm)电导率/(S/cm)石墨烯(水合肼)0.5961.678石墨烯(茶多酚)0.3842.604石墨烯(抗坏血酸)0.472.1282.4 接触角从表2中可以看出,3种还原剂制备的石墨烯的接触角都大于90°,说明产物是完全疏水的,氧化石墨烯GO层状结构中含有大量的极性基团,例如羟基,羧基,羰基以及环氧基等,大大增强了GO的亲水性能,所以GO是完全溶于水的,可见还原过程GO结构中极性基团还原了,得到了疏水的层状石墨烯.表2 3种不同还原剂制备的石墨烯的接触角数据Tabel 2 Water contact angles of graphene prepared by three different reducing agents样品接触角/(°)石墨烯(水合肼)123.87石墨烯(茶多酚)92.62石墨烯(抗坏血酸)101.992.5 电化学性能测试石墨烯是由碳原子紧密堆积成的准二维层状结构物质,具有优异的电学性质,光学性质以及力学性质等.其结构中未成键的电子可以在晶格中自由移动,使其具有很好的导电性和电容性质,本文通过循环伏安法和恒电流充放电法对石墨烯的电容性质进行研究.图3为通过不同还原剂(分别为水合肼,茶多酚和抗坏血酸)还原氧化石墨制备石墨烯的循环伏安图,扫描速率分别为a:0.01 V/s,b:0.02 V/s,c:0.05 V/s,d:0.1 V/s.石墨烯(水合肼)的循环伏安曲线没有明显的氧化还原峰,并且曲线呈现近似的矩形形状,石墨烯(茶多酚)的循环伏安曲线有微弱的氧化还原峰,但是曲线整体也呈现矩形形状,对于石墨烯(抗坏血酸)曲线呈现规则的矩形,没有明显的氧化还原峰,说明3种还原剂制备的石墨烯材料都具有很好的电容性质.从图3(Ⅳ)中可以看出,石墨烯(水合肼)的循环伏安图面积最小,说明其电容最小,其次电容较小的是石墨烯(抗坏血酸),循环伏安面积最大的是石墨烯(茶多酚),说明其比电容最大,电化学性能最好.(Ⅰ)水合肼(Ⅱ)茶多酚(Ⅲ)抗坏血酸(Ⅳ)3种还原剂图3 不同还原剂合成石墨烯的循环伏安图Fig.3 Cyclic voltammograms of graphene reduced由图4(Ⅰ)、(Ⅱ)、(Ⅲ)中可以看出,3种石墨烯材料的充放电曲线呈现良好的线性关系,并且对称性良好,说明这3种石墨烯材料的充放电可逆性良好,具有良好的电容特性.当电流密度为3 A/g时,根据计算石墨烯(茶多酚)的电容性能最好,其比容量最大,值为609 F/g,石墨烯(抗坏血酸)最大比容量为237.15 F/g,石墨烯(水合肼)的最大比容量为82.5 F/g,这也与循环伏安图计算的结果相一致.说明石墨烯(茶多酚)最适合做超级电容器电极材料.(Ⅰ)水合肼(Ⅱ)茶多酚(Ⅲ)抗坏血酸图4 不同还原剂合成石墨烯的充放电图Fig.4 Constant current charge/discharge curves图5为根据充放电图计算的石墨烯比电容与电流密度关系图.从图5可以看出随着电流密度的增大,比容量值逐渐减小.主要是因为在电流较小的情况下,石墨烯内部较深的孔洞都能发挥双电层电容的性质,使整个电路中的阻抗较小;当电流升高时,由于受扩散控制,石墨烯内部较深的孔不能被完全利用,电路中的阻抗增加,导致比电容下降.图5 根据充放电图计算的石墨烯比电容Fig.5 Constant currentcharge/discharge curves of graphene图6为石墨烯(水合肼)(a)石墨烯(抗坏血酸)(b)和石墨烯(茶多酚)(c)的循环次数图,从图中可以看出3种还原剂制备的石墨烯材料的循环性能很好.石墨烯(茶多酚)的初次放电容量为480.25 F/g,前200圈的比容量有相对较大幅度的损耗,损耗率约为4.14%,循环1 000圈后的放电比容量为451.33 F/g,总容量损耗率为6.02%,说明制备的石墨烯(茶多酚)的稳定性很好,具有很好的循环性能.而石墨烯(抗坏血酸)的初次放电容量为130.7 F/g,循环1 000圈后,放电比容量为114.63 F/g,总容量损耗为12.29%,石墨烯(水合肼)的初次放电比容量为80.4 F/g,循环1 000圈后,放电比容量为70.125 F/g,总容量损耗为12.77%.说明制备的石墨烯材料的电化学性能很好,稳定性良好,具有较好的循环性能.注:(a)水合肼,(b)抗坏血酸,(c)茶多酚图6 还原的石墨烯的循环圈数-电容保持率曲线比较图Fig.6 Comparison of cycle number and retention rate of capacitance of graphene3 结语分别用水合肼,抗坏血酸和茶多酚还原得到石墨烯,并分别测试了它们的性能,茶多酚还原得到石墨烯的导电性能最好,电容性能也最好.石墨烯具有很好的导电性,化学稳定性及热力学稳定性,有望被用于电子器件构造.致谢此研究受到国家自然科学基金委员会资助和武汉工程大学资金资助,特表感谢!参考文献:[1] LI D,MULLERr M B,GILJE S.Processable aqueous dispersions of graphene nanosheets[J].Nat Nano,2008,3:101-105.[2] JUNG I,DIKIN D A,PINER R D.Tunable electrical conductivity ofindividual graphene oxide sheets reduced at low temperatures[J].Nano Lett,2008,8:4283-4287.[3] GUO S J,DONG S J,WANG E K.Polyaniline/Pt hybrid nanofibers:high-efficiency nanoelectrocatalysts for electrochemicaldevices[J].Small,2009,5:1869-1876.[4] WANG H L,ROBINSON J T,LI X L.Solvothermal reduction of chemically 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石墨烯的氧化还原法制备及结构表征
石墨烯的氧化还原法制备及结构表征近年来,石墨烯受到了越来越多的关注,它被认为是一种具有优异性能的二维纳米材料,可以用于电子学、光学学和材料学等多个领域。
石墨烯的制备技术是研究石墨烯特性的基础,氧化还原法是最近几年广泛研究的制备方法之一。
氧化还原法是一种以氧化物为原料,经过高温氧化和还原步骤而得到的石墨烯材料。
在此方法中,以催化剂石墨烯母体(Graphene Oxide,GO)作为原料,然后通过高温的氧化和还原步骤,GO发生氧化和还原反应,使其形成石墨烯(Graphene,G)。
首先,GO必须通过电性溶液(例如,高温氨水)形成超细粉末(粒径小于100 nm),以增加其表面积,并便于进一步处理。
然后,将高温氨水处理的粉末经过一系列的氧化还原反应,最终形成石墨烯,其中包括进行高温氧化(150~200)、还原(250~350)以及石墨化(500~600)等步骤。
石墨烯在结构上具有平板形式,其构成单位只有一个原子,并具有良好的导电性和透明性。
氧化还原方法得到的石墨烯具有良好的均匀性,大部分石墨烯片段为单层和双层,且具有良好的相容性,能够持久稳定存在。
为了表征经过氧化还原法制备的石墨烯的结构,常用的表征技术包括X射线衍射(XRD)、旋转反射显微镜(Raman)和扫描电子显微镜(SEM)等。
其中,X射线衍射(XRD)可用于判断石墨烯的形貌、尺寸和结构等性质,其特征谱即X射线可以提供石墨烯的结构特征。
旋转反射显微镜(Raman)是研究石墨烯结构最为常用的技术之一,也是衡量石墨烯结构质量的重要方法,它能够对石墨烯的厚度、层数、热性质和几何结构进行表征。
最后,扫描电子显微镜(SEM)可以得到石墨烯的粒径、形貌和区域分布等特征,从而对石墨烯的表面形貌进行表征。
综上所述,氧化还原法是最近广泛研究的石墨烯制备技术之一,其具有良好的均匀性和稳定性,对石墨烯的表征技术可以提供结构特征。
X射线衍射(XRD)、旋转反射显微镜(Raman)和扫描电子显微镜(SEM)等可以检测出氧化还原法制备的石墨烯的结构特性,因此,这种制备方法将会成为石墨烯的发展的重要推动力。
石墨烯的表征方法
石墨烯的表征方法一、本文概述石墨烯,作为一种新兴的二维纳米材料,因其独特的物理、化学和机械性能,在科学研究和工业应用中均展现出巨大的潜力。
然而,要想充分发掘和利用石墨烯的这些特性,对其进行精确、全面的表征是至关重要的。
本文旨在探讨石墨烯的表征方法,包括其结构、电学性质、热学性质、力学性质以及化学性质等方面的表征技术。
我们将首先介绍石墨烯的基本结构和性质,以便读者对其有一个清晰的认识。
随后,我们将逐一分析并比较各种表征方法的优缺点,包括电子显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱、电学测量等。
这些方法的介绍将侧重于它们的原理、操作过程以及在石墨烯表征中的应用实例。
我们还将讨论这些表征方法在石墨烯研究中的最新进展,以及它们在未来可能的发展趋势。
我们期望通过本文,读者能够对石墨烯的表征方法有更深入的了解,为石墨烯的基础研究和应用开发提供有益的参考。
二、石墨烯的结构与性质石墨烯,这种由单层碳原子紧密排列构成的二维材料,自其被发现以来,便因其独特的结构和性质在科学界引起了广泛关注。
其结构特点主要表现为碳原子以sp²杂化轨道组成六边形蜂巢状的二维晶体,每个碳原子通过σ键与相邻的三个碳原子相连,剩余的p轨道则垂直于面形成大π键,π电子可在石墨烯层内自由移动。
这种独特的结构赋予了石墨烯许多引人注目的物理性质。
石墨烯在电学性质上展现出极高的电导率,甚至超过了铜和银等金属,是室温下导电性最好的材料。
其热导率也极高,远超其他已知材料,这使得石墨烯在电子器件和散热材料等领域具有巨大的应用潜力。
在力学性能上,石墨烯的强度也极高,是已知强度最高的材料之一,这使得石墨烯在复合材料、航空航天等领域有着广阔的应用前景。
除了以上基础性质,石墨烯还具有一些特殊的性质,如量子霍尔效应、半整数量子霍尔效应等,这些性质使得石墨烯在基础科学研究领域也具有极高的研究价值。
石墨烯还具有很好的透光性,单层石墨烯几乎是完全透明的,这使得石墨烯在透明导电材料、太阳能电池等领域也有潜在的应用价值。
石墨烯层数表征方法
石墨烯层数表征方法石墨烯是一种由碳原子组成的二维晶体结构,具有独特的物理、化学和电学性质。
石墨烯的层数表征方法是对石墨烯的层数进行定量描述的方法,下面将介绍几种常用的方法。
1. 扫描隧道显微镜(STM)方法扫描隧道显微镜是一种常用的表征石墨烯层数的方法。
通过在石墨烯表面扫描探针,可以观察到石墨烯的原子排列情况。
对于单层石墨烯,可以清晰地看到原子的周期排列;而对于多层石墨烯,由于层与层之间存在一定的相对位移,扫描隧道显微镜图像中会出现不同的原子排列模式。
通过分析和比较这些模式,可以确定石墨烯的层数。
2. 拉曼光谱方法拉曼光谱是一种非常常用的表征材料结构的方法,也可以用于表征石墨烯的层数。
不同层数的石墨烯在拉曼光谱上表现出明显的差异。
例如,单层石墨烯的G峰和2D峰之间的强度比值(IG/ID)约为2.2,而多层石墨烯的这个比值会显著增加。
通过测量石墨烯的拉曼光谱,可以根据这个比值来确定石墨烯的层数。
3. 透射电子显微镜(TEM)方法透射电子显微镜是一种高分辨率的显微镜,可以用于观察石墨烯的原子结构。
通过将石墨烯样品放置在透射电子显微镜中,可以获得高分辨率的石墨烯图像。
对于单层石墨烯,可以清晰地看到原子的排列;而对于多层石墨烯,可以观察到层与层之间的间隙。
通过对比这些图像,可以确定石墨烯的层数。
4. X射线衍射方法X射线衍射是一种常用的材料结构表征方法,也可以用于表征石墨烯的层数。
通过将石墨烯样品放置在X射线衍射仪中,可以获得石墨烯的衍射图样。
对于单层石墨烯,衍射图样中只会出现一个晶面的衍射峰;而对于多层石墨烯,由于不同层之间存在一定的相对位移,衍射图样中会出现多个晶面的衍射峰。
通过分析和比较这些衍射峰,可以确定石墨烯的层数。
扫描隧道显微镜、拉曼光谱、透射电子显微镜和X射线衍射是常用的石墨烯层数表征方法。
这些方法可以通过观察原子排列模式、分析拉曼光谱、观察原子结构和分析衍射图样来确定石墨烯的层数。
这些方法在石墨烯研究中具有重要的应用价值,可以帮助科学家深入了解石墨烯的特性和性质。
石墨烯的制备与表征研究
石墨烯的制备与表征研究
石墨烯是由碳原子组成的二维材料,其具有极高的强度、导电性和热导率等特性,在各个领域都有着广泛的应用前景。
为了更好地利用石墨烯,石墨烯的制备与表征研究也得到了广泛的关注和研究。
制备石墨烯主要有以下几种方法:
1.化学剥离法
将石墨材料分散在溶液中,通过化学方法分离出单层或少层石墨烯。
2.机械剥离法
利用粘胶带对石墨材料进行多次剥离,最终得到单层或少层石墨烯。
3.热剥离法
将高温下的石墨材料进行剥离,从中得到单层或少层石墨烯。
表征石墨烯主要有以下几种方法:
1.扫描电子显微镜(SEM)
通过对石墨烯的形貌和结构进行观察和分析,进而了解其表面形态特征和质量情况。
2.原子力显微镜(AFM)
通过测量样品表面的原子力,了解石墨烯的厚度、表面形貌等物理信
息。
3.光电子能谱(XPS)
通过分析样品表面的光电子能谱,了解石墨烯的元素组成和化学价态等信息。
综上所述,石墨烯的制备与表征是使用石墨烯的前提条件,只有了解这些基础性的知识才能更好地应用石墨烯进行各种研究和应用,包括电子学、能源、传感器等领域,对人类社会的科学技术发展有着重要的推动作用。
石墨烯的制备及表征
石墨烯制备及表征摘要本文采用液相氧化法制备氧化石墨烯,考察浓硫酸用量,高锰酸钾用量,室温氧化时间及90ºC下氧化时间对氧化石墨生成的影响,初步探讨了石墨的液相氧化过程。
研究结果表明:XRD可表征产物的氧化程度,氧化程度足够高的产物其XRD谱中出现尖锐的氧化石墨面的特征衍射峰。
制备氧化石墨烯的原料为天然鳞片石墨,浓硫酸,高锰酸钾,双氧水。
使用的设备仪器有电子分析天平,搅拌器,恒温水浴箱,真空干燥器,超声波震荡器,离心沉淀机,管式炉。
1 前言石墨在浓硫酸,硝酸,高氯酸等强酸和少量氧化剂的共同作用下可形成最低阶为1阶的石墨层间化合物,这种低阶石墨层间化合物在过量强氧化剂如高锰酸钾,高氯酸钾等的作用下,可继续发生深度液相氧化反应,产物水解后即成为氧化石墨,在制备的过程中浓硫酸等的用量室温,高温反应的时间都对最终产物有较大影响。
因此控制试剂的用量及反应的时间存在较大的难度。
本文就浓硫酸,高锰酸钾的用量,室温及90℃高温的反应时间,和节约试剂等方面对该反应进行了进一步探究,找出了一套更完美的实验方案。
2 实验2.1 氧化石墨烯和石墨烯的制备将10g石墨和适当量浓硫酸和高锰酸钾依次加入500 mL三口烧瓶中,室温反应1h,加入约60ml蒸馏水,再升高温度至90ºC反应,反应一个半小时结束后倒出,加入40ml双氧水反应0.5h后加入大量蒸馏水终止反应。
再将其洗涤至中性后再低温(45°C左右)烘干,即得氧化石墨。
将氧化石墨置于通有氩气的石英管中于560°C膨胀约10min。
再将其缓慢加热(约2°C/min)至1100°C,将氧化石墨还原使其脱除含氧基团,并完全实现层间剥离,生成石墨烯片。
实验流程图如下:2.2 X射线衍射(XRD)X射线衍射分析(XRD)采用荷兰产PHILIPS X’ PERT MPD PRO型转靶X射线衍射仪,阳极Cu靶(CuKα),工作电压为40KV,电流为30mA。
石墨烯检测报告(一)
石墨烯检测报告(一)引言概述:石墨烯作为一种新兴的材料,在科学研究和工业应用领域得到了广泛关注。
本文将就石墨烯的检测方法进行深入探讨,包括石墨烯的制备和表征技术,以及常见的石墨烯探测手段。
正文内容:1. 石墨烯的制备技术- 机械剥离法:通过机械剥离石墨烯原料,如石墨,来获得单层或多层的石墨烯片段。
- 化学气相沉积法:在高温下,通过热解石墨烯前体气体,沉积在衬底上,实现石墨烯的制备。
- 液相剥离法:利用氧化剂或还原剂对石墨进行化学反应,使石墨烯分散在液体中,并通过过滤得到石墨烯材料。
2. 石墨烯的表征技术- 原子力显微镜(AFM):通过扫描样品表面,测量力的变化,获得石墨烯片层的拓扑结构和高度信息。
- 透射电子显微镜(TEM):利用电子束穿透样品,观察和分析石墨烯的晶体结构和缺陷情况。
- X射线光电子能谱(XPS):通过测量材料中的光电子能谱,分析材料的化学成分和电子结构。
- 拉曼光谱:利用激光与样品反射、散射和吸收的变化,分析石墨烯的结构和化学键的振动模式。
- 热重分析(TGA):通过测量材料随温度的质量变化,分析石墨烯的热分解过程和热稳定性。
3. 石墨烯的电学性质检测- 电导率测量:通过测量石墨烯样品的电阻,计算出其电导率,评估石墨烯的导电性能。
- 能带结构分析:利用光电子能谱等技术,研究石墨烯样品的能带结构,探究其导电机制。
- 场效应晶体管测量:利用场效应晶体管(FET)结构,测量石墨烯的电流-电压特性,评估其在电子器件中的应用潜力。
- 导电性显微镜:结合原子力显微镜,对石墨烯样品进行局部电流密度的测量,探究其导电特性的空间分布。
4. 石墨烯的力学性质检测- 纳米压痕测试:利用纳米压痕仪,测量石墨烯的硬度和弹性模量,评估其力学特性。
- 拉伸测试:通过拉伸试验机,对石墨烯进行拉伸破裂实验,获得其拉伸强度和断裂应变。
- 厚度测量:利用原子力显微镜等技术,测量石墨烯的厚度,评估其层间结构和单层特性的存在情况。
石墨烯的机械剥离法制备及表征
石墨烯的机械剥离法制备及表征石墨烯是由晶体石墨经过适当处理制备出来的二维碳简析结构,它在纳米技术领域具有重要地位和广泛的应用前景,因此研究其制备方法成为二维碳简析结构材料学研究的重要内容。
目前,石墨烯制备中有一种机械剥离法,它可以快速、简便地制备出高纯度的石墨烯,了解其制备方法、表征方法及机理对于石墨烯的应用具有重要的影响。
一、石墨烯的机械剥离法制备石墨烯的机械剥离法主要分为液相法和固相法,其中液相法即液体润滑剥离法,它是将原料石墨加入含有溶剂的混合液中,通过利用某种机械设备将石墨层层剥离,最终可以制备出纳米级的石墨烯;液体润滑下剥离法是在固相状态下,利用可溶性有机溶剂将原料石墨表面润湿,然后由机械装置将石墨剥离,最终可以制备出纳米级的石墨烯。
二、石墨烯的表征方法石墨烯表征主要包括密度法测定、X射线衍射法测定、透射电子显微镜电镜、描量子点描技等。
1.度法:用高分子材料构成的石墨烯的结构分析,其中的密度法是目前常用的一种定量测定方法,它可以用来测量石墨烯的平均厚度和薄片表面积。
2. X射线衍射法:X射线衍射法是活动碳原子在晶体结构中构成的类似“网状模型”,利用X射线衍射技术可以测定晶体结构的细微细节,确定石墨烯的碳原子组成、晶体结构以及晶粒尺寸等信息。
3.射电子显微镜:透射电子显微镜可以用来观察石墨烯的尺寸和形状,确定碳原子的排列和石墨烯的层状结构以及石墨烯表面的细节等信息。
4.描量子点技:描量子点技可以快速准确地测定石墨烯中碳原子的结构与形状,有助于识别石墨烯表面的表面区域结构异质性,进而获得完整的表面形貌信息。
三、石墨烯剥离机理机械剥离法制备石墨烯的机理,主要是利用石墨表面的剥离力与原料石墨表面的润湿性,把石墨表面的原子层剥离出来,形成石墨烯。
通常,转子研磨机由高速旋转的转子,高速旋转的转子将原料石墨的表面原子层剥离出来,在高速的旋转压缩作用下,表面原子层滑移,形成石墨烯薄膜。
综上所述,机械剥离法是一种快速、简便地制备出高纯度石墨烯的方法,可以有效提高石墨烯的制备效率,并可以利用X射线衍射法、透射电子显微镜、描量子点技等表征石墨烯的结构、形状和尺寸,为石墨烯的应用提供有力支持。
石墨烯的化学方法合成及其表征
S n he i n ha a t r z to fg a e e wih c e i a e h d y t ssa d c r c e i a i n o r ph n t h m c lm t o
W a g X i w e Ya g Ya n n i一, n n’ TinH o g i, e g W et o a n we Zh n ia
,
(. yL b rt yO A tm blMaei sMi& r E uai ,c o lf t ilS i c n 1Ke a oa r uo o i t a , n t o d c t n S h o Mae a c ne d o f e rl y f o o r s e a
E gn ei , inU i ri , h n c u 3 0 2 C i ; 2 S h o MaeilS i c dE gnei , n i r g Jl nv sy C a g h n10 1, h a e n i e t n .c o lf t a ce e n n ier g o r s n a n
2 长春 理 工 大 学材 料 科 学 与 工 程 学院 , 长春 1 0 2 ) . 3 0 2
摘 要 :修正 的H mme 法合成的氧化石墨, u r s 通过超声波振荡剥层,再利用水合肼还原即可描 电镜(E 、透射 电镜(E 以及红外光谱(TI ) S M) T M) F _ 、拉曼光谱( s、X 射线衍射( R ) R R) - X D 等测试方法对氧 化石墨烯和石墨烯的形貌、结构进行 了对 比分析。实验结果表 明,该方法合成 出了形貌上具有少量褶皱 的单层和较少
rt fg a h n a dD a ditn i e shg rt a rp i xd , a l h v rg ieo s h tr z g u ab n ai o rp e eG b o n n e s isi ihe n g a ht o ie n meytea ea esz f p eeo y o sc o n t h e r
石墨烯ftir表征方法
石墨烯ftir表征方法一、简介石墨烯是一种由单层碳原子构成的二维材料,由于其独特的电学、热学和力学性能,成为了近年来研究的热点。
FTIR(傅里叶变换红外光谱)是一种常用于材料表征的技术,可以提供分子结构和化学键的信息。
本文将介绍石墨烯的FTIR表征方法,包括其表征特点、关键参数、应用、局限性以及展望。
二、石墨烯的FTIR表征特点FTIR光谱可以提供分子振动和旋转的信息,因此可以用于研究石墨烯的化学结构和表面性质。
在FTIR光谱中,不同的化学键或基团会对应不同的特征峰,通过分析这些特征峰可以推断出石墨烯的结构和组成。
此外,FTIR光谱的优点还包括高灵敏度、无损检测以及对样品形状和尺寸的适应性。
三、石墨烯FTIR分析的关键参数在石墨烯的FTIR分析中,以下几个参数是关键:1.特征峰的位置:不同的化学键或基团在FTIR光谱中具有特定的特征峰位置,通过对特征峰位置的识别和分析,可以推断出石墨烯的结构和组成。
2.峰形:峰形可以提供关于化学键或基团的环境和取向的信息,例如峰的强度、宽度和峰形可以提供关于石墨烯的结晶度、层数以及化学环境等方面的信息。
3.峰的相对强度:通过对特征峰相对强度的测量和分析,可以得出关于石墨烯的浓度、分散性以及石墨烯片层数等方面的信息。
四、石墨烯FTIR表征的应用FTIR光谱在石墨烯的表征中具有广泛的应用,主要包括以下几个方面:1.化学结构和组成分析:通过分析FTIR光谱的特征峰位置和峰形,可以对石墨烯的化学结构和组成进行分析,例如C-C、C=C、C-H等键的相对含量以及缺陷和杂质的存在。
2.表面性质分析:FTIR光谱可以用于研究石墨烯表面的化学结构和组成,例如表面官能团和吸附物的性质和含量。
3.结晶度和层数分析:通过对FTIR光谱的特征峰相对强度的测量和分析,可以对石墨烯的结晶度和层数进行推断。
4.制备过程监控:在石墨烯的制备过程中,FTIR光谱可以用于监控反应进程和产物性质,例如反应物和产物的红外吸收光谱的变化。
石墨烯材料的制备与表征
石墨烯材料的制备与表征石墨烯,是由Carbon原子通过共价结合形成的一种非常薄的二维晶体材料。
它的强度极高,导电性也非常强,在现代科技领域中有着广泛的应用,受到了广泛的研究和关注。
本文将探讨石墨烯材料的制备与表征方面的相关问题。
一、石墨烯的制备方法目前,石墨烯的制备方法较多,常见的方法包括化学气相沉积法、机械剥离法、还原氧化石墨烯法、电化学剥离法等。
1.化学气相沉积法化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition, CVD)是石墨烯制备的一种常见方法,其基本原理是通过在特定的反应条件下,将气态中的碳元素沉积在固体底物上,形成单层石墨烯结构。
在制备过程中,需要使用具有金属催化作用的基底材料,如Ni、Cu等金属,在反应室内将目标金属材料与甲烷转化为氢气反应生成碳源,经过高温热解后,生成单层石墨烯。
2.机械剥离法机械剥离法(Mechanical Exfoliation)是利用机械剥离的方法,将多层石墨分解成单层石墨烯的一种方法。
这一方法通过加工去除石墨烯材料中的几何层,使其成为单层的颗粒,进而将其离散出来。
机械剥离法制备的石墨烯优点在于制备工艺简单、成本低,但制备的产量低,难以满足大规模生产的需要。
3.还原氧化石墨烯法还原氧化石墨烯法(Reduction of Graphene Oxide, RGO)是将氧化石墨烯还原成石墨烯的一种方法。
在该方法中,石墨烯初步制备得到的是氧化石墨烯,这一过程通过化学氧化法、热处理法等方法进行,之后再通过还原反应将氧化石墨烯还原为石墨烯,最终制备出单层石墨烯。
4.电化学剥离法电化学剥离法是以电化学腐蚀为基础,通过在电解液中加入石墨和外电势,去除一定厚度的层,从而制备出单层石墨烯的方法。
该方法制备石墨烯可能会出现氧化问题,但也能够无需使用多层材料,制备出大量的单层石墨烯材料。
同时也可以控制电压、电流、腐蚀时间等参数,控制剥离的质量和数量等方面。
二、石墨烯的表征方法石墨烯的表征方法对其性质研究,以及其在各种应用领域中的应用具有重要意义。
石墨烯的表征方法
R a ma n 、 AF M 和光学 显微 镜一 般用来 判 断石 墨烯 的层 数, 而 I R、 X P S和 UV则 可对 石 墨烯 的结 构进 行 表征 ,
用来 监控 石 墨烯 的合成 过程 。
度也 会 急剧 减小 , 当厚度 只有 十几 个分 子 层 时 , 物 质 会 变 得不稳 定 从 而在 室 温 下 迅 速 分 解 , 因此 严 格 的二 维
晶体 材料 被认 为是 不存 在 的。直 到 2 0 0 4年 , No v o s e l —
O V等 第 1次 剥 离 出并 观 测 到单 层 石 墨 烯 。单 层 石 墨
彭黎琼 等 1 0 0 1 — 9 7 3 1 ( 2 0 1 3 ) 2 1 — 3 0 5 5 — 0 5
石 墨 烯 的表 征 方 法
彭黎 琼 , 谢金花 , 郭 超 , 张 东
( 同济 大学 材 料科 学与 工程 学 院先进 土木 工程 材料 教育 部重 点实 验室 , 上海 2 0 0 0 9 2 ) 摘 要 : 单 层石 墨烯 的厚 度 为 0 . 3 3 5 n m, 在垂 直方 向 上有 约 1 n m 的起 伏 , 且 不 同工 艺制 备 的石 墨 烯 层 数 和 结构 有所 不 同 , 如 何 有 效 地 鉴 定 石 墨 烯 的层 数 和 结 构 是 获得 高质量 石 墨烯 的关键 步骤 之 一 。介 绍 了光 学 显
烯 的发现 从 根本 上 动 摇 了理 论 界 一 直 以来 的观 点 , 在
科学 界 引起 了新 一轮 研究 碳质 材料 的热潮 。 目前 石 墨烯 的 制备 方 法 主 要 有 微 机 械 剥 离 法 、 外 延生 长法 、 化 学 气 相 沉 积 法 和氧 化 还 原 法 等 。不 同方 法制 备 的石 墨烯 在 形 貌 上 差 异 较 大 , 但 无 论通 过 哪 种 方法 得 到 的最终 产 物 都 或 多 或 少 混 有 多层 石 墨 烯 片 , 这会 对单 层 石 墨烯 的识 别 产 生 干 扰 。因此 , 如 何 快 速 有效 鉴定 石 墨烯 的层数 和结 构 是获 得高 质 量石 墨 烯 的 关键 步骤 之一 。
表征石墨烯样品中碳原子的
表征石墨烯样品中碳原子的
石墨烯是由碳原子形成的二维晶格结构。
因此,对石墨烯样品中的碳原子进行表征可以使用多种方法。
1. 扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM):这
些技术可以用于观察石墨烯的形貌和结构。
SEM可以提供更
大范围的表面形貌信息,而TEM可以提供更高分辨率的结构
信息。
2. X射线衍射(XRD):XRD可以确定石墨烯的晶格结构和
晶体学性质,包括晶格常数、晶体尺寸等。
3. 拉曼光谱:拉曼光谱可以提供关于石墨烯的结构、晶格振动模式和物理性质的信息。
特别是,拉曼光谱中的G波和2D波
可用于确定石墨烯的存在和层数。
4. 原子力显微镜(AFM):AFM可以提供高分辨率的表面拓
扑图像,并且还可以通过力曲线测量来获得石墨烯的力学性质。
5. X射线光电子能谱(XPS):XPS可以提供有关石墨烯中碳
原子价态和化学环境的信息。
6. 感应耦合等离子体发射光谱(ICP-OES):ICP-OES可以用
来分析石墨烯样品中的杂质元素含量,例如金属或非金属杂质。
这些方法的选择取决于研究者的需要和石墨烯样品的性质。
通常会使用多种表征技术来确定石墨烯样品的特性。
石墨烯的表征方法 (1)
利用 AFM 能 得 到 石 墨 烯 的 横 向 尺 寸、面 积 和 厚
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度等方面的信息,但 一 般 只 能 用 来 分 辨 单 层 或 双 层 的 石墨烯。 2 .4 拉曼光谱表征
拉 曼 光 谱 是 用 来 表 征 碳 材 料 最 常 用 的 、快 速 的 、非 破坏性和高分辨率的技术之一。光谱看起来很简单, 一般只是由波数范围在 1000~2000cm-1 内的几个非 常强的特征峰和 少 数 其 它 调 制 结 构 组 成,但 谱 峰 的 形 状 、强 度 和 位 置 的 微 小 变 化 ,都 与 碳 材 料 的 结 构 信 息 相 关 [6 ]。
图 2 石墨和石墨烯的拉曼图(a)以及拉曼谱线随石墨烯层数的变化(b)、(c) Fig 2 Comparison of Raman spectra at 5 1 4nm for bulk graphite and graphene (a)evolution of the Raman spectra
原子 力 显 微 镜 (atomic force microscopy,AFM) 被认为是用于石墨烯形貌表征的最有力的技术之一。 AFM 利用原子探针慢慢靠近或接触被测样品表面,当 距离减小到 一 定 程 度 以 后 原 子 间 的 作 用 力 将 迅 速 上 升 ,因 此 ,由 显 微 探 针 受 力 的 大 小 就 可 以 直 接 换 算 出 样 品表面的高度,从 而 获 得 样 品 表 面 形 貌 的 信 息。 石 墨 经过氧化后,层 间 距 会 增 大 到 0 .7 7 nm 左 右。 剥 离 后 的氧化石墨烯吸附在云母片等基底上,会增加 0 .3 5 nm 左右的附加 层,所 以 单 层 氧 化 石 墨 烯 在 AFM 下 观 测 到的厚度一般在 0 .7 ~ 1 .2 nm 左右。将 氧 化 石 墨 烯 沉 积在云 母 片 上,利 用 蔗 糖 溶 液 还 原 后 进 行 AFM 表 征[5],如图 1 所 示,图 中 的 高 度 剖 面 图 (ΔZ )对 应 着 图 中两点(Z 1 、Z 2 )的 高 度 差 即 石 墨 烯 的 厚 度,同 时 若 将 直线上测量点选 择 在 石 墨 烯 片 层 的 两 端,还 可 以 粗 略 测 量 石 墨 烯 片 层 的 横 向 尺 寸 (d i s t a n c e)。
石墨烯材料中的分析表征技术
石墨烯材料中的分析表征技术杨珊珊摘要:石墨烯是一种由单层碳原子紧密堆积成二维蜂窝状晶格结构的碳质新材料,具有比表面积大、载流子迁移速率高、导热率高等优良的半导体性能,使得石墨烯逐渐成为研究的热点。
对于每一种材料而言,它的测试表征技术在材料的制备和质量检测都是不可或缺的,本文介绍了用于分析和表征石墨烯材料结构的常用的几种表征技术,重点介绍了透射电镜和拉曼光谱分析在石墨烯中的应用,及比较了拉曼光谱与红外光谱吸收的区别。
关键字:石墨烯,透射电镜,拉曼光谱,红外光谱Analysis techniques of graphene materialsYang ShanshanAbstract:Graphene is a new carbon-based materials which consists of a flat monolayer of carbon atoms tightly packed into a two-dimensional honeycomb lattice. It has larger surface area, high carrier mobility, high thermal conductivity and other excellent performances,making graphene gradually become a research hotspot. For each material, it's test preparation materials characterization techniques in quality is essential, this paper describes the analysis and characterization of graphene materials, structure and preparation of several characterization techniques. This article focuses on the transmission electron microscopy and Raman spectroscopy applications in graphene , and compare the differences between Raman and IR spectroscopy.Key Words: Graphene, TEM, Raman spectroscopy, IR spectroscopy1.前言在地球上含有大量的C元素,而根据晶体中C原子不同的排列方式可以形成很多形貌和性质完全不同的物质,如金刚石、石墨、活性碳等。
石墨烯及其复合材料的表征
发现随着时间延长, D 模的强度逐渐降低, 72h 时更是趋近于零,也即 ID\IG 逐渐减低,这说明 石墨的有序度并没有随剥离时间延长而降低,剥 离后的产物有序度较高,缺陷较少
石墨片的透明度非常 好,透过某些石墨片 可 以 较清晰 地 看见位 于其下的铜晶粒
尺 寸 标度可 以 推测石 墨片的厚度大概在 1~50nm 的范围在粉体 中 发 现的石 墨 片可能 约为几层至几十层
复合粉体TEM图
由于少层石墨烯在热力学上处于不稳定状态,所以呈卷曲状, 可以数出石墨烯的层数大概为 3~4 层
复合材料TEM 可以推断出这些夹杂 在铜颗粒之间的少层 石墨烯的厚度非常小, 大概为几纳米左右,
即说明我们在制备复 合粉体阶段得到的少 层石墨烯经过电火花 烧结过程后并没有发 生明显的复合。
复合粉体中石墨片形貌的 SEM 观察
复合材料SEM
我们可以看到在非常致密的铜基体上有许多小的孔洞,或 者分散或者聚集成一片,孔洞中嵌入的物质即为少层石墨 烯铜颗粒以及少层石墨烯很好地复合在一起
材料断口SEM
发现断口处存在许多被拉断的少层石墨烯,有的石墨烯仍然嵌在基体中, 有的已经被整个拽了出来,厚度虽然具体观察不出来,但直观可见非常 薄,远远要小于石墨颗粒的尺寸(直径 300 目,约 50um)。而且在断 口中石墨烯的数量非常多,沿各个方向嵌在铜基体中,这都说明经过高 剪切均质机的作用,石墨得到了有效的剥离。
扫描电子显微镜( SEM )
图为铜箔在 800 ( b )和 1000(c)摄氏度下的 SEM图,扫描电子显微镜 可以用来观察样品的整 体形貌和表面结构。
X射线衍射( XRD )
石墨烯矿石的检测标准(一)
石墨烯矿石的检测标准(一)石墨烯矿石的检测标准1. 简介石墨烯是一种具有单层碳原子排列结构的材料,具有出色的导电性、机械强度和热稳定性。
为了确保石墨烯矿石的质量和纯度,制定了一系列严格的检测标准。
2. 外观检测外观检测主要包括以下几个方面: - 颜色和光泽:石墨烯矿石应具有均匀一致的颜色和良好的光泽。
- 表面缺陷:检测石墨烯矿石表面是否有明显的瑕疵、裂纹或杂质等。
- 形状和尺寸:测量石墨烯矿石的尺寸,检测是否符合规定的要求。
3. 化学成分检测化学成分检测主要检测石墨烯矿石的元素组成和气体含量。
具体包括: - 元素分析:使用化学分析方法,确定石墨烯矿石中各种元素的含量,包括碳、氧、杂质元素等。
- 气体含量检测:通过气体色谱法或其他合适的方法,检测石墨烯矿石中气体的含量,如氧气、水蒸气等。
4. 结构和性能检测结构和性能检测主要通过以下方法进行: - X射线衍射分析:确定石墨烯矿石的晶体结构和晶格参数,包括层间距、晶胞常数等。
-电子显微镜观察:利用电子显微镜观察石墨烯矿石的形态结构,包括单层石墨烯的层数、缺陷情况等。
- 导电性测试:检测石墨烯矿石的导电性能,包括电阻率、电流密度等。
5. 纯度检测纯度检测主要通过以下方法进行: - 热分析:使用差热分析仪、热失重仪等设备,检测石墨烯矿石的热降解行为,以评估纯度。
- 红外光谱分析:通过红外光谱仪检测石墨烯矿石的吸收峰、振动模式等,判断其纯度和结构特征。
6. 样品准备与处理为确保检测结果的准确性和可靠性,样品的准备和处理至关重要:- 样品制备:在符合安全规范的条件下,将石墨烯矿石样品进行粉碎、筛分等处理,以获取代表性的检测样品。
- 样品保存:采取适当的方法和条件,保持样品的稳定性和完整性,以避免样品受外界环境的影响。
7. 结论石墨烯矿石的检测标准涵盖外观、化学成分、结构和性能、纯度等多个方面。
通过严格遵守这些标准,可以确保石墨烯矿石的质量和纯度,为后续加工和应用提供可靠的基础。
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上有约 1 nm 的起伏,且不同工艺制备的 石 墨 烯 层 数 和
结构有所不同,如 何 有 效 地 鉴 定 石 墨 烯 的 层 数 和 结 构
是获得高质量石墨烯的关键步骤之一。介绍了光学显
微镜、扫 描 电 子 显 微 镜 (SEM )、透 射 电 子 显 微 镜
(T E M)、原 子 力 显 微 镜 (A FM)、拉 曼 光 谱 (R a m a n )、红
以机械剥离的石 墨 烯 样 品 为 例。如 图 2 (a)所 示, 单层石墨烯的 G 峰位置比石墨的高 3 ~5 cm-1 (这里的 红移可能是由于化 学 掺 杂 引 起 的),石 墨 烯 的 2 D 峰 是 一个尖锐的单峰,强度是 G 峰的 4 倍,而石墨的 2 D 峰 由 2 D1 和 2 D2 [1 1]两 个 峰 组 成,强 度 分 别 是 其 G 峰 的 1/4 和 1/2 倍。 石 墨 的 2 D 峰 强 度 和 石 墨 烯 的 2 D 峰强度相近。随着石墨烯层数的 增加,2 D 峰的形状和 强度都有明显的变化。如图 2 (b)、(c)所 示,分 别 为 在 5 1 4 和 6 3 3 nm 光照下,石墨 烯 2 D 峰 形 状、位 置 和 强 度 的变化。从图 2 可以观察到,随着石墨烯层数的增加, 2 D 峰变得越 来 越 宽,2 D1 峰 的 强 度 越 来 越 小,整 体 有 红移的趋势。而多层(n > 5 )石 墨 烯 的 2 D 峰 形 状 和 强 度与石墨的 2 D 峰非常相似,很难区分出来。
目前石墨烯的 制 备 方 法 主 要 有 微 机 械 剥 离 法、外 延生长法、化学 气 相 沉 积 法 和 氧 化 还 原 法 等。 不 同 方 法制备的石墨烯 在 形 貌 上 差 异 较 大,但 无 论 通 过 哪 种 方法得到的最终产物都或多或少混有多层石墨烯片, 这会对单层石 墨 烯 的 识 别 产 生 干 扰。 因 此,如 何 快 速 有效鉴定石墨烯的层数和结构是获得高质量石墨烯的 关键步骤之一。
由于单层石墨 烯、多 层 石 墨 烯 和 石 墨 的 电 子 结 构 不同,随着层数的 增 加,在 拉 曼 光 谱 中 对 应 形 状、位 置 和 强 度 等 都 会 发 生 变 化 ,根 据 这 些 变 化 ,就 可 以 初 步 判 断石墨烯的层数。石墨烯的拉曼光谱图上主要有 3 个 峰,分别是 D、G 和 2 D 峰 (倍 频 峰)。D 峰 一 般 出 现 在 1 3 5 0 cm-1 (1 3 0 0 ~ 1 40 0 cm-1 )附 近,是 由 芳 香 环 中 sp2 碳原 子 的 对 称 伸 缩 振 动(径 向 呼 吸 模 式)引 起 的,且 需 要一个缺陷才能激 活[7],因 此 D 峰 的 强 度 通 常 用 来 衡 量材 料 结 构 的 无 序 度。G 峰 主 要 出 现 在 1580cm-1 (1 5 6 0 ~1 6 2 0 cm-1 )附 近,它 是 由 sp2 碳 原 子 间 的 拉 伸 振动 引 起 的,它 对 应 于 布 里 渊 区 中 心 的 E2g 光 学 声 子 的 振 动。 而 2 D 峰 出 现 在 2 6 80 cm-1 (2 6 6 0 ~ 2 7 0 0 cm-1 )附近,是 由 碳 原 子 中 两 个 具 有 反 向 动 量 的 声子双共振跃迁 引 起 的,它 的 移 动 和 形 状 与 石 墨 烯 的 层 数 密 切 相 关[8-1 0]。
DOI:1 0 .3 9 6 9/j .issn.1 00 1-9 7 3 1 .2 0 1 3 .2 1 .00 1
1 引 言
碳是一种常见且用途广泛的元素。1985 年富勒 烯和 1 9 9 1 年碳纳米管等新型碳材料的发现,掀起了碳 材料研究的热 潮。而 对 于 二 维 准 晶 体,科 学 界 一 直 存 在 争 议 。 一 般 情 况 下 ,随 着 物 质 厚 度 的 减 小 ,其 汽 化 温 度 也 会 急 剧 减 小 ,当 厚 度 只 有 十 几 个 分 子 层 时 ,物 质 会 变得不稳定从而 在 室 温 下 迅 速 分 解,因 此 严 格 的 二 维 晶体材料被认为是 不 存 在 的。 直 到 2 004 年,Novoselov 等第 1 次剥离出并观测到单层石墨烯。单层石墨 烯的发现从根本 上 动 摇 了 理 论 界 一 直 以 来 的 观 点,在 科学界引起了新一轮研究碳质材料的热潮。
图 1 石墨烯的 AFM 图像和高度剖面图
Fig 1 AFM image and height profile along the lines shown in AFM image of graphene
利用 AFM 能 Байду номын сангаас 到 石 墨 烯 的 横 向 尺 寸、面 积 和 厚
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原子 力 显 微 镜 (atomic force microscopy,AFM) 被认为是用于石墨烯形貌表征的最有力的技术之一。 AFM 利用原子探针慢慢靠近或接触被测样品表面,当 距离减小到 一 定 程 度 以 后 原 子 间 的 作 用 力 将 迅 速 上 升 ,因 此 ,由 显 微 探 针 受 力 的 大 小 就 可 以 直 接 换 算 出 样 品表面的高度,从 而 获 得 样 品 表 面 形 貌 的 信 息。 石 墨 经过氧化后,层 间 距 会 增 大 到 0 .7 7 nm 左 右。 剥 离 后 的氧化石墨烯吸附在云母片等基底上,会增加 0 .3 5 nm 左右的附加 层,所 以 单 层 氧 化 石 墨 烯 在 AFM 下 观 测 到的厚度一般在 0 .7 ~ 1 .2 nm 左右。将 氧 化 石 墨 烯 沉 积在云 母 片 上,利 用 蔗 糖 溶 液 还 原 后 进 行 AFM 表 征[5],如图 1 所 示,图 中 的 高 度 剖 面 图 (ΔZ )对 应 着 图 中两点(Z 1 、Z 2 )的 高 度 差 即 石 墨 烯 的 厚 度,同 时 若 将 直线上测量点选 择 在 石 墨 烯 片 层 的 两 端,还 可 以 粗 略 测 量 石 墨 烯 片 层 的 横 向 尺 寸 (d i s t a n c e)。
度等方面的信息,但 一 般 只 能 用 来 分 辨 单 层 或 双 层 的 石墨烯。 2 .4 拉曼光谱表征
拉 曼 光 谱 是 用 来 表 征 碳 材 料 最 常 用 的 、快 速 的 、非 破坏性和高分辨率的技术之一。光谱看起来很简单, 一般只是由波数范围在 1000~2000cm-1 内的几个非 常强的特征峰和 少 数 其 它 调 制 结 构 组 成,但 谱 峰 的 形 状 、强 度 和 位 置 的 微 小 变 化 ,都 与 碳 材 料 的 结 构 信 息 相 关 [6 ]。
收到初稿日期:2 0 1 3-0 1-1 6
收到修改稿日期:2 0 1 3-0 6-1 2
通 讯 作 者 :张 东
作者简介:彭黎琼 (1 9 8 8 -),男,湖南娄底人,在读硕士,师承张东教授,从事石墨烯制备与应用研究。
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于 双 层 以 及 多 层 的 石 墨 烯 ,由 于 层 间 干 涉 效 应 的 存 在 , 电子束入射 角 的 改 变 会 带 来 衍 射 斑 点 强 度 的 明 显 变 化[4]。这种通过改 变 入 射 电 子 束 方 向,根 据 在 不 同 电 子束入射角的情况下石墨烯衍射斑点强度的变化规律 来判断样品的层数的方法可以非常明确地将单层与多 层石墨烯区分 开。但 这 种 方 法 只 适 合 大 块 样 品,而 且 解释很困难。 2 .3 原子力表征及图像分析
图 2 石墨和石墨烯的拉曼图(a)以及拉曼谱线随石墨烯层数的变化(b)、(c) Fig 2 Comparison of Raman spectra at 5 1 4nm for bulk graphite and graphene (a)evolution of the Raman spectra
2 石墨烯表征方法
石墨烯的表征 主 要 分 为 图 像 类 和 图 谱 类,图 像 类 以光学 显 微 镜、透 射 电 镜 (TEM)、扫 描 电 子 显 微 镜 (SEM)和 原 子 力 显 微 分 析 (AFM)为 主 ,而 图 谱 类 则 以 拉曼光谱(Raman)、红外光谱(IR)、X 射线光电子能谱 (XPS)和紫 外 光 谱 (UV)为 代 表。 其 中,TEM、SEM、
彭黎琼 等:石墨烯的表征方法
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文章编号:1 00 1-9 7 3 1 (2 0 1 3 )2 1-3 0 5 5-0 5
石墨烯的表征方法∗
彭黎琼,谢金花,郭 超,张 东
(同济大学 材料科学与工程学院先进土木工程材料教育部重点实验室,上海 2 000 9 2 )
摘 要: 单层石墨烯的厚度为 0 .3 3 5 nm,在垂直方向
光学显微镜是表征单层和多层石墨烯最直观的方 法,但不能精确分辨出石墨烯的层 数,同 样,SEM 也 只 能大致判断石墨烯的层数。 2 .2 透射电子显微镜(TEM)表征
随着溶胶法制 备 石 墨 烯 膜 的 出 现,以 及 无 支 撑 石 墨烯膜器件特性的改善,TEM 近来成为了悬浮状石墨 烯结构表征的 有 利 工 具[3]。 采 用 透 射 电 镜,可 以 借 助 石墨烯边缘或褶皱处的电子显微像来估计石墨烯片的 层 数 和 尺 寸 ,这 种 方 式 虽 然 简 便 快 速 ,但 是 只 能 用 来 估 算,无法对石墨 烯 的 层 数 给 予 精 确 判 断。 若 结 合 电 子 衍 射 (ED)则 可 对 石 墨 烯 的 层 数 做 出 比 较 准 确 的 判 断 。