模电第四章 场效应晶体管及其放大电路

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模电(第四版)习题解答

模电(第四版)习题解答

模拟电子技术基础第四版清华大学电子学教研组编童诗白华成英主编自测题与习题解答目录第1章常用半导体器件‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥3第2章基本放大电路‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥14 第3章多级放大电路‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥31 第4章集成运算放大电路‥‥‥‥‥‥‥‥‥41 第5章放大电路的频率响应‥‥‥‥‥‥‥‥50 第6章放大电路中的反馈‥‥‥‥‥‥‥‥‥60 第7章信号的运算和处理‥‥‥‥‥‥‥‥‥74 第8章波形的发生和信号的转换‥‥‥‥‥‥90 第9章功率放大电路‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥114 第10章直流电源‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥126第1章常用半导体器件自测题一、判断下列说法是否正确,用“×”和“√”表示判断结果填入空内。

(1)在N 型半导体中如果掺入足够量的三价元素,可将其改型为P 型半导体。

( √ )(2)因为N 型半导体的多子是自由电子,所以它带负电。

( ×)(3)PN 结在无光照、无外加电压时,结电流为零。

( √ )(4)处于放大状态的晶体管,集电极电流是多子漂移运动形成的。

( ×)(5)结型场效应管外加的栅一源电压应使栅一源间的耗尽层承受反向电压,才能保证R大的特点。

( √)其GSU大于零,则其输入电阻会明显变小。

( ×) (6)若耗尽型N 沟道MOS 管的GS二、选择正确答案填入空内。

(l) PN 结加正向电压时,空间电荷区将 A 。

A.变窄B.基本不变C.变宽(2)稳压管的稳压区是其工作在 C 。

A.正向导通B.反向截止C.反向击穿(3)当晶体管工作在放大区时,发射结电压和集电结电压应为 B 。

A.前者反偏、后者也反偏B.前者正偏、后者反偏C.前者正偏、后者也正偏(4) U GS=0V时,能够工作在恒流区的场效应管有A 、C 。

A.结型管B.增强型MOS 管C.耗尽型MOS 管三、写出图Tl.3所示各电路的输出电压值,设二极管导通电压U D=0.7V。

模电晶体三极管及基本放大电路PPT学习教案

模电晶体三极管及基本放大电路PPT学习教案
第21页/共27页
讨论四:基本共射放大电路的静态分析
80 rbb' 200
IBQ≈35μA
为什么用 图解法求解 IBQ和UBEQ?
Q
VBB小
UBEQ≈0.65V
ICQ IBQ 2.8mA
UCEQ VCC ICQ Rc 3.8V
第22页/共27页
讨论四:基本共射放大电路的动态分析(续)
可以写成 : 在小信号 情况下 ,对上 两式取 全微分 得
用小信号 交流分 量表示
v =const iB=f(vBE)
CE
iB=const iC=f(vCE)
vBE f1(iB ,vCE )
iC f2(iB ,vCE ) BJT双口网络
dvBE
vBE iB
VCE
diB
vBE vCE
IB dvCE
IB
四个参数量纲各不相同,故称为混合 参数( H参数 )。
输出端交 流短路 时的输 入电阻 ; 输出端交 流短路 时的正 向电流 传输比 或电流 放大系 数;
输入端交 流开路 时的反 向电压 传输比 ; 输入端交 流开路 时的输 出电导 。
vbe= hieib+ hrevce
ic= hfeib+ hoevce
hie
uBE iB
U CE
rbe
b-e间的 动态电阻
hfe
iC iB
U CE
电流放大系数
第9页/共27页
hre
uBE uCE
IB
内反馈 系数
hoe
iC uCE
1 iB rce
c-e间的电导
1. BJT的 H参 数 及 小 信 号 模型
• 模型的简化 BJT在共射连接时,其H参数的数量 级一般 为

模电第四章1

模电第四章1
(Metal-Oxide-Semiconductor type Field Effect Transistor)
表面场效应器件
N沟道 金属-氧化物 -半导体场效 应管 (MOSFET) P沟道
增强型
耗尽型 增强型
vGS=0时,不存在导电沟 道 vGS=0时,存在导电沟道
耗尽型
6
第四章
一. 增强型MOS管的结构及工作原理
vi
R2
50K
D
C2 S
RS RL
10K 10K
R2=50k RG=1M RS=10k RL=10k
vo gm =3mA/V
VDD=20V
AV
gm RL 1 gm RL
ri=RG+R1//R2
=[3 (10//10) ]/[1+3 (10//10) ]=0.94
ro

Rs 1 gm Rs
2) 饱和漏极电流IDSS
3) 漏源击穿电压V(BR)DS
4) 栅源击穿电压V(BR)GS
5) 直流输入电阻RGS
6) 最大耗散功率PDM
7) 跨导gm
在vDS为定值的条件下, 漏极电流变化量与 引起这个变化的栅源电压变化量之比, 称为跨
导或互导, 即
g i v m
D
V 常数 DS
GS
12
第四章
§4.1 结型场效应管
体内场效应器件 一. 结型场效应管的结构及工作原理
d 漏极 耗尽层 d
g 栅极
P
P
N
g s
s 源极
N沟道结型场效应管结构和符号
1
第四章
d 漏极 耗尽层
g 栅极
N
N
P

电力电子应用技术教学课件(共5章)第4章电力场效应晶体管及其应用

电力电子应用技术教学课件(共5章)第4章电力场效应晶体管及其应用
变换电路






























带隔离的直流-直流变换电路
正激变换电路
直流降压变换电路在虚线位置增加隔离变压器,
变动开关器件的位置,使其射极与电源的地相连,
可得到正激变换电路。有复位绕组的单开关正激变
换电路由电源、隔离变压器、开关、二极管、滤波
电感和电容、负载电阻等组成,如图所示。
在该电路仿真中将会使用到的元器件模型、数量
及其提取路径。
元件名称
数量
具体参数
提取路径
直流电压源
1
100V
电源/电压/正弦函数模块
初级与次级绕组匝数比为1: 1
功率电路/变压器/单相变压器(反向)
单相变压器(反向)
MOSFET
1
功率电路/开关/MOSFET
二极管
1
功率电路/开关/二极管
电感
1
电感量为1 mH
入通常是经过二极管整流后的脉动的直
流电压,变换器的输入电压变化范围要
远大于前者。
输出电压与输入电压的变比不同:
当构成DC/DC变换器时,变换器输出电
压与输入电压的变比一般是不随时间变
化的定值;而当构成APFC电路时,由
于要求保持变换器的输出电压近似不变。
APFC电路与DC/DC电路的对比
分析的复杂程度不同:构成APFC电
功率电路/ RLC支路/电感
电阻
1
阻值为10 Ω

场效应晶体管及其放大电路

场效应晶体管及其放大电路
为同极性偏置
场 效 应 管 放 大
➢结型场效应管为
反极性偏置
电 路
C1 vI RG
TRL vO
➢耗尽型MOS场效
应管两者均可 自给偏压适用于结 型或耗尽型管
自给偏压式偏置(二)
VDD
C1
RD RCD 2 DT
vI RG RGS vs VGSO
B SCS
RL
VDD 在本集级成放大电电路RD中路的,VDD
截止区:vGS VGS (off )
第 一
可变电阻区:
节 :
vGS VGS (off )

0 vDS (vGS VGS (off ) )
饱和(恒流)区:
效 应 管
vGS VGS (off ) vDS (vGS VGS (off ) )
iD
kp 2
W L
(vGS
VGS (off ) )2
饱和漏极电流
iD / mA
节 :

变 I DSS 电
vGS 0V
恒 1 击
I DSS



阻 区
流 区
2 3
穿 夹断电压 区
应 管
4 vDS /V
VGS (off )
vGS /V 0
场效应管的微变信号模型
源极 栅极 漏极
SGD
g
SiO2
耗尽层
Vgs
N
N
P型衬底 B
g
Vgs
Cgb
s
gmVgs
sb
输入端直流偏置
vO vo
通的必电常要输平CGR由时出移1 G提 动前 加DS供 单级 入B 电 直元,路 流vo v称i 这R种2 偏置RS方式

模电课件第四章集成运算放大电路

模电课件第四章集成运算放大电路
第四章 集成运算放大电路
§4.1集成运算放大电路概述 一、集成运放的电路结构特点
集成运算放大电路:高电压放大倍数的直接耦合多级放大电路。
2019/7/28
模电课件
二、集成运放的电路组成
1、输入级:运算放大器的输入级通常是差分放大电路,其主 要功能是抑制共模干扰和温漂,双极型运放中差分管通常采 用CC-CB复合管,以便拓展通频带。 2、中间级:电压放大,要求:放大倍数要尽可能大,通常采 用共201射9/7/2或8 共源电路,并采用恒模电流课源件 负载和复合管以增加电压 放大倍数。
工作在放大状态。
当T0与 T1特性参数完全一致时,由U BE0 = U BE1可推得
IB0 = IB1 = IB IC0 = IC1 = Io 由基极输入回路得,
Io
IR
VCC
U BE R
I0 2IB

I0

2

I0

所以,I0

1 1 2
IR
基准电流
输出电流


时,I0 IR 。
在集成运放电路中通常只能制作小容量(几十pF)电容,不能 制作大201容9/7/量28 电解电容,级间通常模采电课用件 直接耦合。
四、以电流源为有源负载的放大电路
在集成运放的共射(共源)放大电路中,为了提高电压放大 倍数,常用电流源电路取代Rc (或Rd ),这样在电源电压不 变的情况下,既获得合适的静态电流,又可以得到很大的等效 的Rc(或 Rd )。
(1) 运放电路的结构分解 输入级是一个差动放大电路,主要由T1、T3(共集-共基组合)
和T2、T4组成。中间放大级由T16、T17、T13组成共集—共射电路; 输出级由T14、T18 、 T19组成互补输出电路。

模电第四习题解答

模电第四习题解答

模拟电子技术基础第四版清华大学电子学教研组编童诗白华成英主编自测题与习题解答目录第1章常用半导体器件‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥3第2章基本放大电路‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥14 第3章多级放大电路‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥31 第4章集成运算放大电路‥‥‥‥‥‥‥‥‥41 第5章放大电路的频率响应‥‥‥‥‥‥‥‥50 第6章放大电路中的反馈‥‥‥‥‥‥‥‥‥60 第7章信号的运算和处理‥‥‥‥‥‥‥‥‥74 第8章波形的发生和信号的转换‥‥‥‥‥‥90 第9章功率放大电路‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥114 第10章直流电源‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥126第1章常用半导体器件自测题一、判断下列说法是否正确,用“×”和“√”表示判断结果填入空内。

(1)在N 型半导体中如果掺入足够量的三价元素,可将其改型为P 型半导体。

( √ )(2)因为N 型半导体的多子是自由电子,所以它带负电。

( × )(3)PN 结在无光照、无外加电压时,结电流为零。

( √ )(4)处于放大状态的晶体管,集电极电流是多子漂移运动形成的。

( × )(5)结型场效应管外加的栅一源电压应使栅一源间的耗尽层承受反向电压,才能保证其R大的特点。

( √ )GS(6)若耗尽型N 沟道MOS 管的U大于零,则其输入电阻会明显变GS小。

( × )二、选择正确答案填入空内。

(l) PN 结加正向电压时,空间电荷区将 A 。

A.变窄B.基本不变C.变宽(2)稳压管的稳压区是其工作在 C 。

A.正向导通B.反向截止C.反向击穿(3)当晶体管工作在放大区时,发射结电压和集电结电压应为B 。

A.前者反偏、后者也反偏B.前者正偏、后者反偏C.前者正偏、后者也正偏(4) U GS=0V时,能够工作在恒流区的场效应管有 A 、C 。

A.结型管B.增强型MOS 管C.耗尽型MOS 管三、写出图Tl.3所示各电路的输出电压值,设二极管导通电压U D=0.7V。

场效应管放大电路-模电讲义

场效应管放大电路-模电讲义
结构和电路符号如图4.1.1和 图4.1.2 所示。
2. 工作原理
由于两种管子的工作原理相同,下面以 N沟道为例分析 其工作原理。
N 沟道JFET工作时,在栅极与源极之间需加一负电压
( vGS< 0 ),使栅极、沟道间的 PN 结反偏,栅极电 流
iG 0 ,输入电阻很高( >107 )。
图 4.4.3 a 的小信号等效电路如图b 。 (1) 中频电压增益
+
(2) 输入电阻
(3) 输出电阻
V gs

-
o
例 4.4.2 求图 4.4.4a 所示
共漏电路—源极输出器的中 频电压增益、输入电阻和输 出电阻。
解:中频小信号等效电
路如图4.4.4b 所示。 (1) 中频电压增益 由图4.4.4b 可得
4.3. 1 N沟道增强型MOSFET
1. 结构及符号
2 工作原理
图4.3.2 为N沟道增强型 MOSFET的工作原理示意图
(a) vGS=0 时,没有导电沟道 (b) vGS >VT 时,出现 N型沟道 (c) vDS 较小时, iD 迅速增大 (d) vDS较大出现夹断时,iD 趋于饱和 出现夹断时或预夹断处 vGD= vGS vDS=VT
综上分析,可得如下结论:
JFET 栅极、沟道之间的 PN 结是反向偏置的,因此 iG 0 ,输入电阻很高。 JFET是电压控制电流器件, iD 受 vGS 控制。 预夹断前, iD 与 vDS 呈近似线性关系;预夹断后, iD 趋于饱和 , 其大小仅随 vGS 变化。 P 沟道 JFET工作时,其电源极性与 N 沟道 JFET的 电源极性相反。
VGS
在放大区内,其值很大,一般在几十千欧到几百千欧之 间。 (7) 最大耗散功率 PDM 其定义同晶体管,小功率管为 100~200mW,大功率管可达百瓦以上。 (8) 噪声系数 NF 其定义与晶体管相同。一般的场 效应管其NF值为5dB以下。优质场效应管的NF值可低 于1dB,且工作频率可高达几万兆赫,常用于卫星接 收系统的前置放大级

场效应晶体管放大电路

场效应晶体管放大电路

N
N
G
P+ P+
UDS G
P+ P+
UDS
UGS
S
S
第3页/共34页
Sect
3.1.2 JFET特性曲线
1. 输出特性曲线:
iD f (U DS )∣ UGS const
可变电阻区 线性放大区 ID=gm UGS 击穿区
2. 转移特性曲线:
ID
I
DSS
(1
U GS UP
)
2
IDSS:饱和栅极漏极电流,
着源极、栅极的次序焊在电路上; • 电烙铁或测试仪表与场效应晶体管接触时,均
第15页/共34页
各种场效应管所加偏压极性小结
结型
N沟道(uGS<0) P沟道(uGS>0)
场效应管
绝缘栅型
增强型
耗尽型
PN沟沟道道((uuGGSS<>00)) N沟道(uGS极性任意) P沟道(uGS极性任意)
uo
u gs
g m u gs
u ds
S
GD
Id
RG
Ui
Ugs
gm Ugs RD
RL
Uo
R2
R1
S
第26页/共34页
动态分析:
G
电压放大倍数
Id
RL
D
RG
Ugs
Ui R2R1RD g源自 UgsRL Uo•

Ui Ugs
S
ri

ro
Au gm R'L


Uo gm Ugs (RD // RL )
ID(mA)
第8页/共34页
UGS=6V

第四章 场效应晶体管及其放大电路

第四章 场效应晶体管及其放大电路

图4-5
u 当 u GS 0 时,即加反向电压时,导电沟道变窄,i D 减小; GS 负值愈高、沟道愈窄,D 也就愈小。 i 当 u GS达到一定负值时,导电沟道被夹断,iD 0 ,这时的 u GS 称为夹断电压,用表示 U GS(off)。
图4-6
可见,耗尽型绝缘栅场效应管不论栅-源电压是 u GS 正是 负或零,都能控制漏极电流 i D ,这个特点使它的应用具有较 大的灵活性。 一般情况下,这类管子还是工作在负栅-源电压的状态。 实验表明,在 U GS(off) u GS 0 范围内,耗尽型场效应管的转 移特性可近似用下式表示
1) 导电沟道的形成
当பைடு நூலகம்u GS 足够大时,由于静电场作用,管子的漏极和源极之 间将产生一个导电通道(称为沟道),极间等效电阻较小。 u GS 越大,导电沟道宽度越宽,等效电阻越小。 产生导电沟道所需的最小栅源电压我们称为开启电压 U GS(th) 。 改变栅源电压,就可以改变导电沟道的宽度。
上述这种在时没有导电沟道,因而必须在时才形 成导电沟道的场效应管称为增强型场效应管。
u GS 越大,沟道电阻越
小,故曲线越陡。在这个 区域中,沟道电阻由 u GS 决定,故称为可变电阻区。
图4-4
2) 输出特性曲线 I D f (U DS ) U
② 恒流区 图中所示曲线近似水平的 部分即是恒流区,它表示当 u DS u GS U GS(th) 时,DS u 与漏极电流 I D 间的关系。 该区的特点是 i D几乎不随 u DS 的变化而变化,i D 已趋于饱和, 具有恒流性质。所以这个区域 又称饱和区。 ③ 截止区
图4-2
2)漏源间电压好栅源电压 u DS 对漏极电流 i D 的影响 当 u GS U GS(th) 时,若在漏-源之间加上正向电压时,则将产生 一定的漏极电流。此时, u DS 的变化会对导电沟道产生影响。 即当 u DS 较小时, u DS 的增大使 i D 线性增大,沟道沿源-漏 方向逐渐变窄,如图4-3 a)所示。 一旦 u DS 增大到使 u DS u GS U GS(th) 时,沟道在漏极一侧出现 夹断点,称为预夹断,如果 u DS 继续增大,夹断区随之延长, 如图(b)所示。

场效晶体管及其放大电路

场效晶体管及其放大电路
已 知 UDD =20V , RG=10k , RS=10k , 例 RG1=200k,RG2=51k,RG=1M ,输出端 接有负载电阻R 接有负载电阻 L=10k 。 所用场效应管为 沟道 所用场效应管为N沟道 耗 尽 型 , IDSS=0.9mA , UGS(off)= – 4V , gm=1.5mA/V。 。 51×20
跨导:gm 跨导:
ID gm = UGS U DS
场效应管和双极型晶体管的比较 双极型晶体管 场效应管 载流子 两种载流子同时参与 只有一种载流子参与导 导电故称为双极型晶 电故称为单极型晶体管 体管 电流控制 NPN型和 型和PNP型 型和 型 20-100 rce=102-104 很高 差 较复杂 基极 发射极 集电极 电压控制 N沟道和 沟道 沟道和P沟道 沟道和 gm=1-5mA/V rds=107-1014 很高 好 简单、 简单、成本低 栅极 源极 漏极
m G S
电压放大倍数: 电压放大倍数:
A = u
Uo
=
Uo
ui
RG1
RG RG2 交流通路
RL‘
u0
Ui U gs = gmRL '
当源极的上部分电阻未被旁路时
' Uo = ID RL = gm Ugs R'L ' ' Ui = Ugs + ID RS = Ugs + gm Ugs RS
N沟道增强型场效应管的特性曲线 沟道增强型场效应管的特性曲线
ID (mA) ID (mA) UDS=常数 常数 4V 3V 2V
UGS(th)
0
无 DS(V)
特性曲线
的 特性
特性曲线 ( 特性曲线) 特性曲线
P沟道增强型绝缘栅场效应管的结构及表示符号: 沟道增强型绝缘栅场效应管的结构及表示符号:

模拟电子技术(第四版)课件:场效应管及其应用

模拟电子技术(第四版)课件:场效应管及其应用

场效应管及其应用
图 3.5 增强型MOS (a) N沟道结构图; (b) N沟道符号; (c) P沟道符号
场效应管及其应用 2)
如图3.6所示电路,在栅、源之间加正向电压uGS,漏源之间 加正向电压uDS。当uGS=0时,漏极与源极之间形成两个反向连接
的PN结, 其中一个PN结是反偏的, 故漏极电流为零。
场效应管及其应用 图3.2 N沟道结型场效应管工作原理
场效应管及其应用 2.
场效应管的特性曲线分为转移特性曲线和输出特性曲线。
1)
在uDS一定时,漏极电流iD与栅源电压uGS之间的关系称为转
移特性。 即
iD f (uGS ) |uDS常数
(3.1)
图3.3为N沟道结型场效应管的转移特性曲线。当uGS=0时, iD 最大, 称为饱和漏极电流, 并用IDSS表示。当|uGS|增大时, 沟道电阻 增大, 漏极电流iD减小;当uGS=UGS(off)时, 沟道被夹断, 此时iD=0。 UGS(off)称为夹断电压。
1)
图3.5(a)为N沟道增强型绝缘栅场效应管的结构图。它 是在一块P型硅半导体衬底上, 用扩散方法形成两个高掺杂浓度 的N型区, 并用金属导线引出两个电极作为场效应管的漏极和源 极;在P型衬底表面上生成一层很薄的绝缘层(SiO2), 再覆盖 一层金属薄层并引出一个电极作为场效应管的栅极。 栅场效应管电路符号如图3.5(b)所示,P沟道增强 型绝缘栅场效应管电路符号如图3.5(c)所示。
7)跨导gm 在uDS为定值的条件下, 漏极电流变化量与引起这个变化
的栅源电压变化量之比, 称为跨导或互导, 即
场效应管及其应用
gm
diD duGS
uDS 常数
gm是转移特性曲线上工作点处斜率的大小,反映了栅源电压 uGS对漏极电流iD的控制能力。gm是衡量场效应管放大能力的重 要参数,gm越大, 场效应管放大能力越好,即uGS控制iD的能力越 强。 gm可以从转移特性曲线上求取, 也可以从输出特性曲线上

场效应晶体管和基本放大电路

场效应晶体管和基本放大电路

SiO2
N+
N+
P型硅衬底
衬底引线B
D
D
B
S
G
B S
N沟道符号 P沟道符号
电子学教研室 20 2019/2/12
模 拟 电 子 技 术 基 础
(2)工作原理 1) UGS =0 D 与 S 之间是两个 PN 结反向串联, 无论 D 与 S 之间加 什么极性的电压,
S
UDS ID = 0 SiO2
G
电子学教研室
26
2019/2/12
源极S 栅极G
漏极D SiO2
2. N沟道耗尽型MOS管 模 拟 电 子 技 术 基 础
制造时 , 在 sio2 绝缘层中掺 入大量的正离子,即使UGS =0, 在正离子的作用下,源-漏之 间也存在导电沟道。只要加 正向UDS ,就会产生ID。 只有当 UGS 小于某一值时,G 才会使导电沟耗尽层
N+
P
B
结构示意图
D
B
S
G
B S
第 三 的UGS称为夹断电压UGS(off) 。 章 电子学教研室 27
N沟道符号 P沟道符号
2019/2/12
特性曲线 模 拟 电 子 技 术 基 础
第 三 章 ID /mA
4 3
UGS =1V
0V 3
ID /mA
2
1
–1
–2V
–3V
ID
耗尽层 g N P+
(保证耗尽层承受反向电压)
漏-源之间加正向电压,
(以形成漏极电流)
导电沟道 s 结构示意图
电子学教研室
这样既保证了栅源之间的电阻 很高,又实现了 ugs 对沟道电 流iD的控制。
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uGS 越大,沟道电阻越 小,故曲线越陡。在这个 区域中,沟道电阻由 uGS 决定,故称为可变电阻区。
图4-4 b)
2) 输出特性曲线 I D f (U DS ) UGS常数
② 恒流区
图中所示曲线近似水平的
部分即是恒流区,它表示当 uDS uGS U GS(th) 时,uDS
与漏极电流 ID 间的关系。
0.1~1pF。
(2)极限参数
① 最大漏极电流 I DM :是管子正常工作时漏极电流的上限值。
② 漏源击穿电压U : (BR)DS 管子进入恒流区后,使 iD 骤然增大的 uDS 。 ③ 栅源击穿电压U (BR)GS :
对于结型场效应管,栅极与沟道间PN结反向击穿电压;对于绝缘 栅型场效应管,使绝缘层击穿时的电压。
4.1.1 场效应管的结构和外部特性
1. N沟道增强型绝缘栅场效应管的结构
图4-1
(1)工作原理
1) 导电沟道的形成
当 uGS 足够大时,由于静电场作用,管子的漏极
和源极之间将产生一个导电通道(称为沟道),极间等 效电阻较小。
uGS 越大,导电沟道宽度越宽,等效电阻越小。
产生导电沟道所需的最小栅源电压我们称为开启电 压 U GS(th)。改变栅源电压,就可以改变导电沟道的宽度。
用RP来微调可联立求解:
U

GS
I

D
RG2 RG1 RG2
VDD

I
D

I
DO
( uGS U GS(th)
1)2
RS
U DS VDD I D (RD RS )
4.2.2 场效应管的交流等效模型 场效应管也是非线性器件,在输入信号电压很
小的条件下,也可将用小信号模型等效。与建立晶 体管小信号模型相似,将场效应管也看成一个两端 口网络,以结型场效应管为例,栅极与源极之间为 输入端口,漏极与源极之间为输出端口。无论是哪 种类型的场效应管,均可以认为栅极电流为零,输 入端视为开路,栅-源极间只有电压存在。在输出
第四章
场效应晶体管及其放大电路
1
4.1 单极型晶体管 4.2 场效应管基本放大电路 4.3 应用电路介绍
简介
场效应管属于另一种半导体器件,尤为突出的 是:场效应管具有高达107~1015的输入电阻,几乎 不取用信号源提供的电流,因而具有功耗小、噪声 小、体积小、抗幅射、热稳定性好、制造工艺简单 且易于集成化等优点。
端口,漏极电流 iD是 ugs和 uds的函数。
图4-11
4.2.3 共源放大电路的动态分析 应用微变等效电路法来分析计算场效应管放
ID

I
DSS
(1

U GS U GS(off)
)
2
P126
3. 结型场效应管
结型场效应管的特性和耗尽型绝
缘栅场效应管类似。图 a)、 b)分
别为N沟道和P沟道的结型场效应
管图形符号。
图4-7
使用结型场效应管时,应使栅极与源极间加反偏电压,漏
极与源极间加正向电压。对于N沟道的管子来说,栅源电压应
工作于恒流区中时,结型场效 应管的转移特性也可用下式表示:
ID

I
DSS
(1

uGS U GS(off)
)
2
结型场效应管正常使用时,g、s间是反偏的,故输入电阻
也较高。
4.1.2 场效应管的主要参数、特点以及使用注意事项
1. 场效应管的主要参数
(1)性能参数
① 开启电压 U GS(th):它是增强型MOS管的参数。
为负值,漏源电压为正值。
在漏源电压 uDS 作用下,形成了漏极电流 iD 。栅源电压 uGS 增 大时,导通沟道变窄,从而在一定的uDS 作用下iD 变小。所以, 改变 uGS 也可实现对 iD 的控制。
当 uGS 增大到一定值时,导通沟道被夹断,此时iD 0 。
夹断时的栅源电压用 U 表示。 GS(off)
④ 最大耗散功率 PDM : PD=UDS·ID,该数值决定于管子允许的温升。
2. 使用MOS管的注意事项
1)MOS管栅源之间的电阻很高,使得栅极的感应电荷不易泄 放,因极间电容很小,故会造成电压过高使绝缘栅击穿。
●保存MOS管应使三个电极短接,避免栅极悬空。
●焊接时,电烙铁的外壳应良好的接地,或烧热电烙铁后切 断电源再焊。
4.2.1 场效应管放大电路的静态工作点设置
场效应管是电压控制器件,因此它没有偏流,关键 是要有合适的栅偏压。
常用的偏置电路有两种
1. 自给偏压
当耗尽型管的栅源回路接通时,在漏极电源作用下,就有电流通 过,并在源极电阻上产生静态负栅偏压,通常称为自偏压,其值 为 U GS I D RS
图4-9
称为夹断电压,用表示 U 。 GS(off)
图4-6
可见,耗尽型绝缘栅场效应管不论栅-源电压是uGS 正是
负或零,都能控制漏极电流 iD ,这个特点使它的应用具有较 大的灵活性。
一般情况下,这类管子还是工作在负栅-源电压的状态。
实验表明,在 U GS(off) uGS 0 范围内,耗尽型场效应管的转 移特性可近似用下式表示
图4-8为N沟道结型场效应管转移特性曲线。当 U GS 时, U GS(off) 沟道被夹断, iD; 0 减uG小S , 增大iD ; UG时S 的0 漏极电流为 零偏漏极电流 。I D对SS于P沟道管子来说, U为GS正(off)值。
图4-8
图4-9为N沟道结型场效应管输出特性曲线。管子的工作状态 也划分三个区域:可变电阻区、恒流区、击穿区。
与增强型相比,它的结 构变化了,使其控制特性有 明显变化。
在uDS为常数的条件下,当
uGS 0时,漏、源极间已经导通, 流过的是原始导电沟道的漏极电流 I DSS 。
图4-5
当uGS 0 时,即加反向电压时,导电沟道变窄,iD 减小;uGS 负值愈高、沟道愈窄,iD也就愈小。
当uGS达到一定负值时,导电沟道被夹断,iD 0,这时的 uGS
。 ID 0
2. 分压式偏置电路
U GS
UG
US

RG2 RG1 RG2
VDD

I D RS
适当选择 RG1或 RG2 值,就可 获得正、负及零三种偏压。图 中 RG3 阻值很大,用以隔离 、
对信R号G1 的R分G2 流作用,以保持高 的输入电阻。
图4-10
静态分析也可以采用公式估算法,并在实际应用时,
(6)场效应管和晶体管均可用于放大电路和开关电路,它 们构成了品种繁多的集成电路。但由于场效应管集成工艺 更简单,且具有耗电省、工作电源电压范围宽等优点,因 此更加广泛地应用于大规模和超大规模集成电路之中。
Hale Waihona Puke 模拟电子技术基础习题4.2 场效应管基本放大电路
三种基本放大电路:共源极、共漏极和共栅极电路。 必须设置合适的静态工作点,以保证在信号的整个 周期内,场效应管均工作于放大区。
方向逐渐变窄,如图4-3 a)所示。
一旦 uDS增大到使 uDS uGS U GS(th) 时,沟道在漏极一侧出现 夹断点,称为预夹断,如果 uDS 继续增大,夹断区随之延长,
如图(b)所示。
图4-3
2)漏源间电压好栅源电压 uDS对漏极电流 iD 的影响
在 uDS uGS U GS(th)时,对应于每一个uGS 就有一个确定 的 iD 。此时,可将 iD 视为电压 uGS 控制的电流源。
该区的特点是 iD几乎不随 uDS
的变化而变化,iD 已趋于饱和, 具有恒流性质。所以这个区域 又称饱和区。
③ 截止区
uGS UGS(th)时以下的区域。
(夹断区)
图4-4 b)
当uDS增大一定值以后,漏源之间会发生击穿,漏极电流 iD急剧增大。
2. N沟道耗尽型绝缘栅场效应管的结构
上述的增强型绝缘栅场效应管只有当 uGS U GS(th) 时才能形成导电沟道,如果在制造时就使它具有一个原始 导电沟道,这种绝缘栅场效应管称为耗尽型。
② 夹断电压U GS(off):它是结型场效应管和耗尽型MOS管的参数。 ③ 饱和漏极电流 I DSS :当 uDS为一常量时,栅源电压为零时的漏极电流。 ④ 直流输入电阻 RGS(DC):等于栅-源电压与栅极电流之比。
结型管的 RGS(DC) 大于107 ,而MOS管的 RGS(DC) 大于1010 。
(2)场效应管几乎只有多子参与导电。晶体管内既有多子又 有少子参与导电,而少子数目受温度、辐射等因素影响较大, 因而场效应管比晶体管的温度稳定性好、抗辐射能力强。所 以在环境条件变化很大的情况下应选用场效应管。
(3)场效应管噪声系数很小,所以低噪声放大器的输入级及 要求信噪比较高的电路应选用场效应管。当然也可选用特制 的低噪声晶体管。
4.1.3 场效应管与晶体管的比较(续)
(4)场效应管的漏极与源极可以互换使用,互换后特性变 化不大。而晶体管的发射极与集电极互换后特性差异很大, 因此只在特殊需要时才互换。
(5)场效应管比晶体管的种类多,特别是耗尽型MOS管, 栅-源电压可正、可负、可零,均能控制漏极电流;因而 在组成电路时比晶体管有更大的灵活性。
而且uDS 的增大部分几乎全部用于克服夹断区对漏极电流 的阻力。
此时,iD几 乎不因 uDS的增大 而变化,管子进
入恒流区, 几iD
乎仅决定于 。 uGS
工作原理
(2)特性曲线与电流方程
1) 转移特性曲线 I D f (UGS ) UDS常数
转移特性曲线是描述当 uDS保持不变时,输入电压 uGS对输出电流 iD 的控制关系,所以称为转移特性,如图4-4 a)所示。
适当调整源极电阻 ,RS可以得到合适的静态工作点,通过 下列关系式可求得工作点上的有关电流和电压:
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