光电子微纳制造工艺平台2016年试卷(上半年)及导师确认说明-1

武汉光电国家实验室分数
光电子微纳制造工艺平台2016年试卷
名称：超净间基本规范及安全培训考试时间：2016年
单位：机械科学与工程学院导师姓名黄永安学生姓名尹锋一．单选择题（60分）
1.化学试剂溅到身上，立即采用（喷淋头），用水冲洗15分钟。

冲洗后，不要擦拭皮肤，必要时前往医院治疗。

2.穿着超净服时，（用脚套包住裤腿）。

3.超净间内使用（圆珠笔）。

4.从（风淋室）进入超净间。

5对超净间内各处的门，（轻轻）关门。

6.穿着（洁净鞋或者鞋套）进入更衣间。

7.清洗间清洗槽的排气风扇因故障停止，（继续）清洗。

8.冲洗容器的稀释液倒入（排水槽）。

9.手套破损，（立即更换）。

10.酸、碱及有机溶剂容器的盖子，使用后（立即锁紧盖子）。

11.超声清洗及其它清洗中，通风柜的门（处于半关闭位置）。

12. 废液待温度降至室温时，倒入（收集桶）。

13.稀释酸液时，（将酸慢慢倒入水中）。

14.化学试剂不小心溅到脸上或眼睛里，立即采用（洗眼池），用大量水冲洗15
分钟以上。

联系平台领导及工程师协助立即前往医院就医，同时通知导师。

15.进清洗间，（戴）防护眼镜或面罩、耐酸碱手套。

16.发生火警时，从（安全门）跑出超净间，在A区北面广场集合，便于清点人
数。

17. 在工艺设备发生火灾时，如果火苗较小且没有过多烟雾时，同学们可使用
（CO2灭火器）灭火。

18.密闭房间内，氮气泄漏有（窒息）威胁。

19.光刻工艺在（黄色光）条件下进行。

20.（取得）操作许可证，才能独立操作设备
21.超净间级别由低到高依次为：（10000级、1000级、100级）。

22.进入超净间的个人动作顺序为：
2）脱一次鞋→穿上净化服→戴上净化帽→洗手→戴上口罩手套→进风淋室→入室；
23.要带入超净间的仪器、工具、硅片和掩模盒，请在（更衣室）进行清洁。

24.所有的瓶罐，不论有无冲洗过，若没有贴上危险物质标示贴，只能由（工作
人员）用水清洗。

25.（用镊子）拿硅片。

26.（N2O）为低毒类气体，发生泄漏时，在安全区域佩戴简易防护面罩手套，然
后前往特气室关闭钢瓶阀门及供气面板输出阀门。

27.（H2）为易燃易爆气体，为防止火星，操作时禁止使用手机，禁止穿化纤服
装，禁止穿铁掌皮鞋。

同学们不得自行操作此类气体。

28.（PH3）为剧毒性气体，操作时需要戴放毒面具。

同学们不得自行操作此类气
体。

29.光刻工艺对环境洁净度、温湿度要求高，在（百级）间进行。

30.金相显微镜、光刻机使用完毕后，在后续（没有人）使用情况下，一定要关
闭电源，延长光源使用时间。

二．判断题（40分）
1.手接触手套的外表面。

（错）
2.在千级间内喝水。

（错）
3.一个人在超净间内实验。

（错）
4.在超净间内给磁控溅射机靶材进行打磨工作。

（错）
5.穿皮鞋在更衣间或走廊间走动。

（错）
6.在百级间内缓慢走动。

（对）
7.千级间与技术夹道之间的门总是开着。

（错）
8.垃圾放入字纸篓或垃圾桶，并经常把垃圾袋清除到超净间外。

（对）
9.在超净间内补妆。

（错）
10. 化学清洗槽的抽气装置出故障了还继续使用。

（错）
11.戴着超净间内使用过的橡胶手套洗碗。

（错）
12.废液入桶，有机和无机的废液倒入一个桶中。

（错）
13. 发生火警时，担心弄脏超净服，所以先脱掉超净服再逃生。

（错）
14.火势很大，或烟雾过多时，同学们警告附近的人员立即逃生，不管其它任何
工作。

灭火工作求助119专业消防员。

（对）
15.未经平台主任或设备工程师审定，就实施自己的新工艺程序。

（错）
16.碰到设备故障时，自己尝试处理。

（错）
17.实验完成时，不通知工程师或助管，自行离开。

（错）
18.化学药品用毕后，在空瓶外贴上安全标示贴，清洗完的空瓶贴上“已清洗”。

（对）
19酸类调和后，立即盖紧存放。

（错）
20.私自带剧毒、易爆炸类物品进入超净间。

（错）
21.没通过安全培训，没有超净间通行证想要进入超净间工作。

（错）
22.无设备操作证书使用设备。

（错）
23.浓硫酸不小心溅到脸上，用大量水冲洗并用毛巾擦脸。

（错）
24.在超净且门关闭的房间内，没有异味，但是感到憋气且脸发红，可能有氮气
泄露。

应立即离开房间，通知工程师。

（对）
25.非设备管理人员未经允许，不得进入技术夹道动用工艺气瓶及其它装置。

（对）
26.书包带入超净间。

（错）
27.看硅片表面情况时，不戴口罩，鼻子对着硅片出气。

（错）
28.不戴手套做工艺，用手拿基片，用手开闭设备腔体盖子。

（错）
29.稀释浓硫酸，把水沿烧杯壁倒入浓硫酸中。

（错）
30.做工艺时，用戴着的手套外表面在皮肤上挠痒。

（错）
31.离开时，自己的物品放入租用的整理箱。

（对）
32.超净间同一房间内人数应维持二人及以上。

（对）
33.工艺测试设备每天要做清洁，整个超净间每周要做大扫除，各个团队负责自
己的包干区卫生。

（对）
34.微纳平台做实验实行预约登记制度，应提前一天预约，要做实验的每位同学
都有一张预约IC卡。

毕业时交给导师传给下一届同学使用。

（对）
35.为了保持光刻间洁净度，应保持光刻间的门经常处于关闭状态。

（对）
36.遗留在超净间内的化学药瓶不加标示。

（错）
37.酸碱液混合倾倒。

（错）
38.开展光刻工艺时必须戴手套和口罩。

（对）
39.光刻胶放置在研究生办公室。

（错）
40.未使用过的药品及材料带入超净间必须经微纳平台领导审核批准。

剧毒、易
爆炸类物品，原则上严禁带入超净间。

（对）
微纳平台实验计费确认说明
光电子微纳制造工艺平台：
本人系机械科学与工程学院（学院）尹锋 (姓名)，
导师是黄永安。

即日起至 2019-06-30 （日期）在光电子微纳制造工艺平台做实验，申请使用黄永安老师的工艺测试费，如有变更，将另行说明。

此期间，已预约的实验因故不能做，需要在规定时间内取消，否则会按预约时间段收费。

其中：因平台方面原因（如设备故障、前期工艺没做好导致后面实验不能进行等）、不可抗力的自然因素等使得实验不能进行将不予扣费。

特此说明！
申请人：
年月日。