半导体硅知识优秀课件
硅的性质及有关半导体基础理论PPT课件
3、晶体具有一定的溶解度,在某一个严格固定的温度下溶 解而变成液体状态。
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以上晶体的各种性质,都可以用晶体结构的特点加以解释,晶体内部 结构排列很有秩序,构成晶体的各种粒子:原子、离子、分子,形成规 则的、有规律的、周期性的空间点阵。这类点阵是三组平面相交而成。 其中每一组都是由很多彼此平行等距离的平面组成。
24
• 由于半导体的Eg比较小,所以在一定温度下具有能量较大的电子就越 过禁带进入导带。使原来空着的导带有了电子,而且在价带中也出现 了一些电子的空位,这样导带中的电子和价带中的电子,在外电场的 作用下,都可作定向运动。因此,半导体在一定的温度下具有导电性。
16
*对于绝缘体而言,价电子紧密地局限在其原子轨道,无法导电。 *对于具有金刚石结构的硅,每个原子与邻近四个原子构成键合。
Z
+4
X
金刚石晶格中四面体结构
+4
+4
+4
Y
+4
在金刚石二维空间 结构的键合情况
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上面已讲述硅原子的最外层轨道具有四个价电子。它可以与四个临近原子 分享其价电子,所以这样的一对分享价电子即成为共价键。 在室温下这些共价电子被局限在共价键上。在较高温度热振动可能打断共 价键。当一个共价键被打断时,就释放出一个自由电子参与导电行为, 因此,本征半导体在室温下的电性就如同绝缘体一样,但在高温下就如 同导体一样具有高导电性。 每当半导体释放出一个价电子时,便会在共价键上留下一个空穴(见图 2),这个空穴可能被邻近的价电子所填补,导致空穴的不断移动。因 此我们可以把空穴看作为类似于电子的一粒子,空穴带着正电,且在施 加电场之下,朝与电子相反的方向运动。
《硅半导体材料基础》课件
目录
• 硅半导体材料的简介 • 硅半导体的物理性质 • 硅半导体的晶体结构 • 硅半导体的制备方法 • 硅半导体在电子工业中的应用 • 未来硅半导体材料的发展趋势与挑战
01
硅半导体材料的简介
硅的发现与特性
硅的发现
硅元素是在1824年由雅各布·贝采利 乌斯首次从硅酸钾中分离出来的。
非晶硅的结构
原子排列短程有序
非晶硅的原子排列呈现短程有序的结构,即局部区域内的 原子排列与单晶硅相似,但整体上缺乏长程有序的结构。
不具备完整的晶体结构
非晶硅不具有完整的晶体结构,其原子排列在空间中不连 续,没有明显的结晶轴和晶格振动。
光学和电学性能各异
非晶硅在光学和电学性能方面表现出与单晶硅不同的特性 ,例如其透光性和导电能力较差,但在某些应用领域仍具 有重要价值。
异质结构
利用不同材料的组合,形 成异质结构,实现优势互 补,提高半导体性能。
低维材料
研究二维、一维和零维的 硅基材料,探索其在光电 器件和电子器件中的应用 。
提高硅半导体的性能与稳定性
掺杂技术
通过优化掺杂技术,提高 硅半导体的导电性能和稳 定性。
表面处理
研究表面处理技术,改善 硅半导体的表面质量和稳 定性。
硅半导体的热导率较高,有利于热量的传递 和散发。
热容
硅半导体的热容随温度升高而增大,与其晶 格结构和原子振动有关。
热膨胀系数
硅半导体的热膨胀系数较低,对其机械稳定 性和可靠性有一定影响。
热稳定性
硅半导体的热稳定性较好,能够在较高温度 下保持其结构和性能的稳定性。
03
硅半导体的晶体结构
单晶硅的结构
04
硅半导体的制备方法
半导体硅材料基础知识
目前中国有四川的峨眉半导体材料厂、四川新光、洛阳中 硅等生产多晶硅,今年年产量预计可达1000吨左右, 只占 世界产量的2%左右。
第14页,本讲稿共44页
半导体硅材料的制备 :
全球80%以上的多晶硅是用这种方法制备的,其纯度可达7—9个 “九”,基本可以满足大规模集成电路的要求。多数工厂在氢还原 工艺中采用12—24对棒的还原炉生产,多晶硅棒的直径在φ100— 200mm之间,炉产量在1.5—3吨,大约要180—200小时才能生产一 炉。据报导有50对棒的还原炉,单炉产量可达10吨以上。
• 导体(conductor):顾名思义,导体是指很容
易传导电流的物质,如金、银、铜、铝等金属材 料。这类金属材料的电导率很高,也就是说它们 的电阻率极低,大约是10-6—10-8Ωcm。如金属 铜的电阻率仅为1.75×10-8Ωcm。
• 绝缘体(Insulator):这是指极不容易或根本不
导电的一类物质,如:玻璃、橡胶、石英等材料 。绝缘体的电阻率很大,一般来说,绝缘体的电 阻率>108Ωcm。
第6页,本讲稿共44页
半导体硅材料基础知识
由电子运动轨迹构成的壳层,原子核外的电子数目也正 好等于原子序数,这就使得原子在无得失外层电子的情况下 ,整体上处于电中性状态。我们常常把原子核最外层那些离 原子核最远的电子叫作价电子。这些价电子受原子核的束缚 较弱,在外电场或其它外力(如光照)的作用下,很容易摆 脱原子核的束缚而成为自由电子。金属导体之所以容易导电 ,是因为在金属体内存在着大量的自由电子,在外电场的作 用下,这些自由电子就会有规则地沿着电场的反方向流动, 这就形成了电流。自由电子的数量越多,或者它们在外电场 的作用下,自由电子有规则流动的速度越快,则电流越大, 它的导电性能越好,其电阻率就越低。
半导体第三讲下单晶硅生长技术课件
•2024/1/15
•半导体第三讲下单晶硅生长技术
ß 垂直磁场对动量及热量的分布具有双重效 应。垂直磁场强度过大(Ha=1000/2000), 不利于晶体生长。
ß 对无磁场、垂直磁场、勾形磁场作用下熔 体内的传输特性进行比较后发现,随着勾 形磁场强度的增加,熔体内子午面上的流 动减弱,并且紊流强度也相应降低。
显增大。研究还发现, 氧沉淀消融处理后,
后续退火的温度越高, 氧沉淀的再生长越快。
•2024/1/15
•半导体第三讲下单晶硅生长技术
ß 对1000 ℃、1100℃退火后的掺氮直拉硅中 氧沉淀的尺寸分布进行的研究表明,随着 退火时间的延长,小尺寸的氧沉淀逐渐减 少,而大尺寸的氧沉淀逐渐增多。氮浓度 越高或退火温度越高, 氧沉淀的熟化过程进 行得越快。
ß 因此适当控制氧析出物的含量对制备性能 优良的单晶硅材料有重大意义
•2024/1/15
•半导体第三讲下单晶硅生长技术
ß
研究发现,快速热处理( R T P)是一种
快速消融氧沉淀的有效方式, 比常规炉退火
消融氧沉淀更加显著。硅片经R TP 消融处
理后, 在氧沉淀再生长退火过程中,硅的体
微缺陷(BMD)密度显著增加, BMD的尺寸明
•2024/1/15
•半导体第三讲下单晶硅生长技术
ß 通过一定的工艺, 在硅片体内形成高密度的 氧沉淀, 而在硅片表面形成一定深度的无缺 陷洁净区,该区域将用于制造器件, 这就是 “内吸杂”工艺。
ß 如果氧浓度太低, 就没有 “内吸杂”作用, 反之如果氧浓度太高, 会使晶片在高温制程 中产生挠曲。
拉晶试验,结果发现平均 拉速可从0.6mm/min提高 到0.9mm/min,提升了 50%。
《半导体的基本知识》PPT课件
杂质半导体中,尽管掺入的杂质浓度很小, 但通常由杂质原子提供的载流子数却远大于本征
载流子数。
整理ppt
1.1.2 杂质半导体
4.杂质半导体的性质:
1.杂质半导体保持电中性 多子电荷总量=少子+离子电荷总量。
2.载流子仍为自由电子和空穴. 3.掺入杂质后,载流子浓度大大增加,导电能力 增强.多子的浓度主要由掺杂浓度决定,所以受温度影 响小.
导体--铁、铝、铜等金属元素等低价元素,其最外层电 子在外电场作用下很容易产生定向移动,形成电流。
绝缘体--惰性气体、橡胶等,其原子的最外层电子受原 子核的束缚力很强,只有在外电场强到一定程度时才可能导 电。
半导体--硅(Si)、锗(Ge),均为四价元素,它们原 子的最外层电子受原子核的束缚力介于导体与绝缘体之间。
整理ppt
1.1.2 杂质半导体
• 半导体特性
掺杂特性 掺入杂质则导电率增加几百倍
热敏特性 温度增加使导电率大为增加
半导体器件 热敏器件
光敏特性 光照不仅使导电率大为增加还可以产生电动势
本小 节的 有关 概念
•本征半导体、杂质半导体 •施主杂质、受主杂质 •N型半导体、P型半导体 •自由电子、空穴 •多数载流子、少数载流子
磷(P)
整理ppt
1.1.2 杂质半导体
N 型半导体中的载流子是什么?
1.由施主原子提供的电子,浓度与施主原子相同。 2.本征激发成对产生的电子和空穴。 掺杂浓度远大于本征半导体中载流子浓度,所以, 自由电子浓度远大于空穴浓度。自由电子称为多 数载流子(多子),空穴称为少数载流子(少 子)。
# 正离子不能自由运动,不能自由运动参加导电,不是载流子。
半导体基础知识(48)PPT课件
结电容不是常量!若PN结外加电压频率高到一定 程度,则失去单向导电性!
个人观点供参考,欢迎讨论!
2、本征半导体中的两种载流子
运载电荷的粒子称为载流子。 外加电场时,带负电的自由 电子和带正电的空穴均参与导 电,且运动方向相反。由于载 流子数目很少,导电性很差。 温度升高,热运动加剧,载 流子浓度增大,导电性增强。 绝对温度0K时不导电。
载流子ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
二、杂质半导体
1、N型半导体
5
多数载流子
空穴比未加杂质时的数目 多了?少了?为什么?
四、PN结的电容效应
1、势垒电容 PN结外加电压变化时,空间电荷区的宽度将发生
变化,有电荷的积累和释放的过程,与电容的充放 电相同,其等效电容为势垒电容Cb。 2、扩散电容
PN结外加的正向电压变化时,在扩散路程中载 流子的浓度及其梯度均有变化,也有电荷的积累和 释放的过程,其等效电容为扩散电容Cd。
第二讲 半导体基础知识
一、本征半导体 二、杂质半导体 三、PN结的形成及单向导电性 四、PN结的电容效应
一、本征半导体
1、什么是半导体?什么是本征半导体?
导电性介于导体与绝缘体之间的物质为半导体。 导体--铁、铝、铜等金属元素等低价元素,其最外层电 子在外电场作用下很容易产生定向移动,形成电流。 绝缘体--惰性气体、橡胶等,其原子的最外层电子受原子 核的束缚力很强,只有在外电场强到一定程度才可能导电。 半导体--硅(Si)、锗(Ge),均为四价元素,它们原 子的最外层电子受原子核的束缚力介于导体与绝缘体之间。 本征半导体是纯净,晶体结构的半导体。
无杂质 稳定的结构
1、本征半导体的结构
共价键
由于热运动,具有足够能量 的价电子挣脱共价键的束缚
半导体硅材料基础知识
半导体硅材料基础知识半导体硅材料,就像是科技世界里的基石,默默支撑着我们现代生活中的无数奇迹。
硅啊,在地球上那可是相当常见的元素,就像人群里那些低调但不可或缺的老实人。
它不像金啊银啊那么耀眼,可一旦到了半导体这个大舞台,那就是大放异彩的主角。
你看,硅原子就像一个个训练有素的小士兵,整整齐齐地排列着。
在硅晶体里,这些小士兵的排列方式那可是相当有讲究的,这种有序的排列就像是精心编排的团体操,每个动作都恰到好处。
说到硅材料在半导体里的作用,那可就太厉害了。
这就好比是盖房子时的砖头,没有砖头,房子可就成了空中楼阁。
电子设备里要是没有硅材料,那那些小巧精致的手机、功能强大的电脑,估计都只能存在于幻想之中了。
硅能够成为半导体的宠儿,是因为它独特的电学性质。
硅原子之间的化学键就像是一条条小轨道,电子就在这些轨道上跑来跑去。
有时候电子很听话,规规矩矩地按照我们的要求运动,有时候又像是调皮的小孩子,需要我们用一些特殊的手段去引导。
硅材料的纯度要求可高啦。
这就像是做一道超级精细的菜,一点点杂质就可能把整道菜搞砸。
从硅矿石到可以用于半导体制造的硅材料,这中间的过程就像是一场漫长的修行。
要经过好多道工序,把那些杂质一点点剔除出去。
这感觉就像是从一群人中挑选出最优秀的精英,容不得一点马虎。
在半导体器件的制造过程中,硅材料又像是一块神奇的画布。
工程师们就像画家一样,在这块画布上进行创作。
他们用各种技术手段,在硅片上制造出晶体管啊、电路啊这些东西。
每一个微小的晶体管就像是一个小小的开关,无数个这样的小开关组合在一起,就能实现各种复杂的功能。
这就好比是用一个个小小的乐高积木,搭建出一个超级巨大又无比复杂的城堡。
硅材料的发展历程也很有趣。
一开始人们可能并没有意识到它有这么大的潜力,就像一颗被遗落在角落里的明珠。
随着科技的发展,人们慢慢发现了硅的独特之处,就像是突然发现了宝藏一样。
然后就开始不断地挖掘它的潜力,让它在各个领域发光发热。
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1.2.1几种常见元素的原子结构
硅太阳电池生产中常用的硅(Si),磷(P),硼(B) 元素的原子结构模型如图1.2-1所示
第三层4个电子 第二层8个电子 第一层2个电子
最外层5个电子
最外层3个电子
Si +14
P
+15
B
si
P
B
图1.2-1
1.2半导体材料硅的晶体结构
原子最外层的电子称为价电子,有几个 价电子就称它为几族元素。
为了简便明了,以后分析问题时只要采用图1.2-2所示 的平面结构示意图即可。
正四面实体结构
图1.2-4
金钢石结构
1.2半导体材料硅的晶体结构
1.2.6晶面和晶向 晶体中的原子可以看成是分布在一系列平行而等
距的平面上,这些平面就称为晶面。每个晶面的垂直方向 称为晶向。图1.2-5是几种常用到的晶面和晶向。
图1.2-2
1.2半导体材料硅的晶体结构
1.2.5硅晶体的金刚石结构 晶体对称的,有规则的排列叫做晶体格子,
简称晶格,最小的晶格叫晶胞。图1.2-3表示一些重 要的晶胞。
(a)简单立方 (Po)
(b)体心立方 (Na、W)
图1.2-3
(c)面心立方 (Al、Au)
1.2半导体材料硅的晶体结构
金刚石结构是一种复式格子,它是两个面心立方晶格沿 对角线方向上移1/4互相套构而成(见图1.2-4)。
1.2半导体材料硅的晶体结构
(100)
(110)
(111) 图1.2-7
1.3固体的能带理论
1.3.1能带的形成 在原子中内层电子受原子核束缚较紧,相应的能量较小,
外层电子(价电子)能量较大。图1.3-1表示所谓能级图。
E5 E4 E3(8) E2(8)
E1(2)
图1.3-1
1.3固体的能带理论
1.3固体的能带理论
导 带 Ec
禁
E9
带
E9
Ev 绝缘体
价 带
半导体
导体
图1.3-3
1.4半导体的导电特性
半导体之所以得到广泛的应用,是因为它存在着一些导体和 绝缘体所没有的独特性能。 1.4.1导电能力随温度灵敏变化
导体,绝缘体的电阻率随温度变化很小,(导体温度每升高 一度,电组率大约升高0.4%)。而半导体则不一样,温度每升高或降 低1度,其电阻就变化百分之几,甚至几十,当温度变化几十度时,电 阻变化几十,几万倍,而温度为绝对零度(-273℃)时,则成为绝缘 体。 1.4.2导电能力随光照显著改变
1.2.3单晶和多晶 在整个晶体内,原子都是周期性的
规则排列,称之为单晶。由许多取向不同的单 晶颗粒杂乱地排列在一起的固体称为多晶。
1.2半导体材料硅的晶体结构
1.2.4硅晶体内的共价键 硅晶体的特点是原子之间靠共有电子对连接在一起。硅
原子的4个价电子和它相邻的4个原子组成4对共有电子对。这种 共有电子对就称为“共价键”。如图1.2-2所示。
(100晶面)
(110晶面) 图1.2-5
(111晶面)
1.2半导体材料硅的晶体结构
1.2.7原子密排面和解理面: 在晶体的不同面上,原子的疏密程度是不同的,若将原
子看成是一些硬的球体,它们在一个平面上最密集的排列方式将 如图1.2-6所示,按照这样方式排列的晶面就称为原子密排面。
图1.2-6
1.2半导体材料硅的晶体结构
比较简单的一种包含原子密排面的晶格是面心立方晶格。 而金刚石晶格又是两个面心立方晶格套在一起,相互之间。沿着晶 胞体对角线方向平移1/4而构成的。我们来看面心立方晶格中的原 子密排面。按照硬球模型可以区分在(100)(110所示。
金钢石晶格是由面心晶格构成,所以它的(111)晶面也是 原子密排面,它的特点是,在晶面内原子密集、结合力强,在晶面 之间距离较大,结合薄弱,由此产生以下性质:
当光线照射到某些半导体上时,它们的导电能力就会变得很强, 没有光线时,它的导电能力又会变得很弱。 1.4.3杂质的显著影响
(a)由于(111)密排面本身结合牢固而相互间结合脆弱,在 外力作用下,晶体很容易沿着(111)晶面劈裂,晶体中这种易劈裂 的晶面称为晶体的解理面。
(b)由于(111)密排面结合牢固,化学腐蚀就比较困难和缓 慢,而(100)面原子排列密度比(111)面低。所以(100)面比(111)面 的腐蚀速度快,选择合适的腐蚀液和腐蚀温度,(100)面腐蚀速度 比(111)面大的多,因此,用(100)面硅片采用这种各向异性腐蚀的 结果,可以使硅片表面产生许多密布表面为(111)面的四面方锥体, 形成绒面状的硅表面。
半导体硅知识优秀课件
1.1导体,绝缘体和半导体
物体的导电能力,一般用材料电阻率的大小来衡量。电阻率 越大,说明这种材料的导电能力越弱。表1-1给出以电阻率来区 分导体,绝缘体和半导体的大致范围。
物体 电阻率
Ω· CM
导体 <10e-4
半导体
10e3~10e9
绝缘体 >10e9
1.2半导体材料硅的晶体结构
若原子失去一个电子,称这个原子为正 离子,若原子得到一个电子,则成为一个带负电的 负离子。原子变成离子的过程称为电离。
1.2半导体材料硅的晶体结构
1.2.2晶体结构 固体可分为晶体和非晶体两大类。
原子无规则排列所组成的物质为非晶体。而晶 体则是由原子规则排列所组成的物质。晶体有 确定的熔点,而非晶体没有确定熔点,加热时 在某一温度范围内逐渐软化。
图1.3-2
能带
禁带 能带 禁带 能带
1.3固体的能带理论
从图中可见,晶体中电子轨道的能级分成 由低到高的许多组。分别和各原子能级相对应,每 一组都包含着大量的能量很接近的能级。这样一组 密集的能级看上去象一条带子,所以被称之为能带。 能带之间的间隙叫做禁带。
未被电子填满的能带称为导带,已被电子 填满的能带称为满带。导体、半导体,绝缘体导电 性质的差异可以用它们的能带图的不同来加以说明。 (图1.3-3)
晶体由大量原子组成,一个原子的电子不仅受到这 个原子的作用。还将受到相邻原子的作用 。相邻原子上的电子 轨道将发生一定程度的相互交迭,通过轨道的交迭,电子可以 从一个原子转移到相邻的原子上去。这时电子已不属于个别原 子而成为整个晶体所共有,这种电子运动称为“共有化”。
电子在原子之间的转移不是任意的,电子只能在能 量相同的轨道之间发生转移。图1.3-2表示出这种共有化轨道 的能级图。