ICPMS主要技术指标
icp-ms方法参数
icp-ms方法参数
ICP-MS(电感耦合等离子体质谱)是一种高灵敏度、高选择性的分析技术,常用于元素分析。
在ICP-MS分析中,有一些重要的方法参数需要考虑:
1. 流量,包括进样流量、载气流量和冷却气流量。
这些流量参数的选择对于获得准确的分析结果至关重要。
进样流量影响样品的输入速度,载气流量影响离子传输效率,而冷却气流量则影响离子的冷却效果。
2. RF功率,RF功率是指电感耦合等离子体的射频功率,它对等离子体的产生和稳定性有重要影响。
合适的RF功率可以提高离子的产生和传输效率,从而提高分析的灵敏度和稳定性。
3. 离子透镜电压,离子透镜电压对于离子的聚焦和传输至关重要。
适当的离子透镜电压可以提高离子的传输效率,从而提高分析的灵敏度和稳定性。
4. 离子镜电压,离子镜电压可以影响离子的聚焦和传输,对于获得准确的质谱信号至关重要。
5. 离子检测器参数,包括离子倍增器的增益和离子检测器的工作模式等。
这些参数直接影响到ICP-MS的灵敏度和线性范围。
除了上述方法参数外,还有一些其他的实验条件需要考虑,比如溶液的酸度、进样方式、稀释倍数等。
这些方法参数的选择需要根据具体的样品特性和分析要求进行优化,以获得准确、可靠的分析结果。
同时,在ICP-MS分析中,还需要注意仪器的日常维护和标定,以确保分析结果的准确性和可靠性。
ICP光谱仪主要技术指标
ICP光谱仪主要技术指标一、应用范围和环境要求:1、应用范围:适合我公司各类金属材料(包括铁基、铜合金、铝合金)及电镀液、工业废水和润滑油料成分的分析。
检测范围从主量(%)至痕量(ppm)。
2、环境要求:普通实验室环境温度:20~30℃湿度:<75%二、主要技术指标:1、波长范围:160nm~800nm (可扩展至:120nm~800nm)2、实际分辨率(实测半峰宽):波长分辨率As 193nm <0.007nmY 371nm <0.010nmNi 231nm <0.008nmLa 408nm <0.012nmV 302nm <0.009nmBa 455nm <0.012nm3、光学系统:恒温设计光栅:高刻线数平面光栅2400gr/mm、一、二级光谱程序可控狭缝宽度,适于选择每一个元素的最佳分辨率。
单色仪和光通道可充氮气,用于分析位于远紫外区域的谱线。
4、观测方式:等离子体炬管垂直放置、径向观测5、检出限:(ppb)Ag 0.6 Al 0.2 As 1.2 B 0.3Bi 2.6 Ca 0.03 Co 0.20 Cr 0.20Cu 0.20 Fe 0.20 K 1.5 Mg 0.01Mn 0.05 Mo 0.20 Na 0.60 Ni 0.30Pb 1.50 Sb 1.50 Si 1.50 Sn 1.30Ti 0.2 V 0.26、稳定性:短期精密度:同一样品一小时内连续测量12次,RSD〈1.5%长期稳定性:同一样品每10~15分钟测量一次,连续测量4小时,RSD〈2.0%三、其它参数:1、发生器:固态发生器频率:40.68MHz频率波动:±KHz功率:800W~1550W功率波动:±0.1%2、炬管:可拆卸式,能自由组合,允许独立更换不同的石英管。
具备护套气装置,以减少记忆效应,改善碱金属的检出限3、进样系统:恒温样品导入系统雾化室要求可以直接进样高盐溶液〈30%,4、检测器:固态、常温下工作,动态范围 >10105、具备全谱系统:可以采集全部光谱信息,进行定性、半定量和定量分析。
ICP光谱仪主要技术指标
ICP光谱仪主要技术指标1.分辨率:ICP光谱仪的分辨率是指其能够区分两个紧密排列的谱线的能力。
一般来说,分辨率越高,仪器能够检测更多的元素和更低的浓度。
ICP光谱仪的分辨率通常在0.0001到0.01之间。
2. 灵敏度:ICP光谱仪的灵敏度是指它可以检测的最低浓度。
通常来说,灵敏度越高,仪器能够检测到更低的浓度。
ICP光谱仪通常可以测量到ppb(10的负9次方)或更低的浓度。
3.线性范围:线性范围是指ICP光谱仪能够线性测量的浓度范围。
线性范围越宽,仪器可以测量更高和更低的浓度。
通常,ICP光谱仪的线性范围在几个数量级的浓度内。
4.准确性:ICP光谱仪的准确性是指其测量结果与真实值之间的偏差。
为了提高准确性,仪器通常会被校准和验证,并且使用标准参考材料进行检验。
5.重复性:重复性是指ICP光谱仪在相同条件下进行多次测量时的结果的一致性。
重复性越高,仪器的测量结果越可靠。
通常,重复性通过测量同一样品多次并计算结果的标准偏差来评估。
6.反应时间:反应时间是指ICP光谱仪从样品进入仪器到产生数据的时间。
较短的反应时间可以提高检测效率和生产速度。
7.抗干扰能力:ICP光谱仪通常会受到与样品中其他元素的相互作用和干扰,并产生误差。
抗干扰能力是指仪器在存在干扰物质的情况下准确测量目标元素的能力。
8.仪器稳定性:仪器稳定性是指ICP光谱仪在长时间运行和多次测量过程中的性能保持能力。
稳定性越好,仪器的测量结果越可靠。
9.自动化程度:ICP光谱仪通常具有自动化的样品处理和数据处理功能。
自动化程度越高,操作更简便,且可以提高分析效率。
10.软件功能:ICP光谱仪的软件功能可以包括数据处理、报告生成、质控管理等。
好的软件功能可以提供更多的数据分析选项和方便的操作界面。
总之,ICP光谱仪的主要技术指标包括分辨率、灵敏度、线性范围、准确性、重复性、反应时间、抗干扰能力、仪器稳定性、自动化程度和软件功能等。
这些指标直接影响着ICP光谱仪的性能和应用范围,用户在选择仪器时需要根据实际需求进行综合考虑。
ICPMS校准规范
JJF 1159-2006___________________________________________________________________ ______四极杆电感耦合等离子体质谱仪校准规范1 适用范围本规范适用于四极杆电感耦合等离子体质谱仪主要性能指标的校准。
其它类型的电感耦合离子体质谱仪的校准可以参照执行。
2 引用文献JJF 1001-1998 通用计量术语及定义JJF 1059-1999 测量不确定度评定与表示JJF 1071-2000 国家计量校准规范编写规则GB/T 15481-1995 校准和检验实验室能力的通用要求GB/T 6041-2002 质谱分析方法通则JJF 1120-2004 热电离同位素质谱计校准规范使用本规范时,应注意使用上述引用文献的现行有效版本。
3 术语和计量单位3.1质量范围质量范围表示质谱仪所能测量元素(同位素)的质量区间,单位为原子质量单位amu 。
3.2 分辨率分辨率以某元素质量峰高10%处的峰宽度表示,单位amu。
3.3 检出限质谱仪所能测定的某元素的最低极限浓度。
表示方法为空白溶液中某元素的n次测量结果的3倍标准偏差所对应的浓度。
单位ngL-1。
JJF ××××-××××___________________________________________________________________ ______3.4 灵敏度单位浓度的元素在质谱仪检测器上得到的信号响应(计数),单位Mcps / (mgL-1)。
3.5 丰度灵敏度丰度灵敏度表征某一质量为M的强离子峰在相邻质量M +1(或M -1)位置上的前锋或拖尾峰对相邻峰的影响。
无量纲。
丰度灵敏度用下式表示:式中:δ —丰度灵敏度,无量纲IM —质量为M强离子峰的信号强度,单位cpsIM –1 —质量为M的离子峰在质量M -1位置上的拖尾信号强度,单位cpsIM +1 —质量为M的离子峰在质量M +1位置上的拖尾信号强度,单位cps3.6 背景噪声是指未引入某元素离子时,质谱检测系统产生的该元素离子信号响应。
icp-ms方法参数
icp-ms方法参数全文共四篇示例,供读者参考第一篇示例:ICP-MS(电感耦合等离子体质谱)是一种高灵敏度、高选择性和高分辨率的分析技术,广泛应用于环境、食品、药物、地质等领域。
在ICP-MS分析过程中,需要设置一系列参数来保证分析的准确性和可靠性。
1. 流量参数:ICP-MS仪器中的气体流量参数是非常重要的,它会直接影响等离子体的稳定性和离子传输效率。
常见的气体流量参数包括氩气流量、干燥气体流量和进样气体流量等。
在设置这些流量参数时,需要根据样品的性质和分析要求进行优化。
2. 射频功率参数:射频功率是产生等离子体的关键参数之一,它会影响到等离子体的稳定性和灵敏度。
一般来说,增加射频功率可以提高等离子体的能量,提高灵敏度,但也容易引起等离子体扰动。
在设置射频功率时,需要进行适当的优化和调整。
3. 离子镜参数:ICP-MS仪器中的离子镜是用来分离和聚焦不同质量的离子的,在分析过程中,离子镜的参数设置会影响到质谱仪的灵敏度和分辨率。
常见的离子镜参数包括电压、焦点和反射倍率等。
在设置这些参数时,需要保证离子镜的工作稳定,并提高分析的准确性。
4. 探测器参数:ICP-MS仪器中的探测器用于检测质谱信号,常见的探测器包括离子计数器、电子倍增管和微通道板探测器等。
在设置探测器参数时,需要根据样品的性质和分析要求选择合适的探测器,并进行灵敏度和线性范围的校准。
5. 校准曲线参数:在ICP-MS分析过程中,校准曲线是用来定量分析样品中目标元素含量的重要参数。
校准曲线的参数设置包括标准品浓度、标准曲线拟合程度、内标法等。
在制作校准曲线时,需要选择适宜的标准品和标准曲线拟合方法,并进行标准曲线的验证和修正。
ICP-MS方法参数的设置是保证分析准确性和可靠性的关键步骤。
通过优化和调整流量参数、射频功率参数、离子镜参数、探测器参数和校准曲线参数,可以提高ICP-MS分析的灵敏度、分辨率和准确性,为科学研究和工程实践提供更可靠的分析数据。
最新icpms主要技术指标资料
ICP-MS主要技术指标性能指标:1 仪器应用要求本仪器要求能适用于应用领域广泛的各种样品的元素分析和同位素分析任务。
仪器要求符合美国环保署标准方法EPA200.8 ,EPA6020,英国NS30 等国际标准要求2. 仪器工作环境2.1工作环境温度:15-30℃.2.2工作环境湿度:< 80% (无冷凝)电源:power supply 单相200-240V ,50 Hz3. 仪器规格:3.1 仪器硬件;3.1.1 雾化器:高耐盐,高精度,高效率同心雾化器,3.1.2雾化室:小死体积,低记忆效应,配置Peltier 半导体制冷装置对雾化室制冷控温,雾化室制冷温度控制要求可以达到≤ -10 0C3.1.3 接口:Ni材料锥口,口径要求足够大,以便耐样品溶液所含的基体。
样品锥口口径1.1 mm, 截取锥口径0.75 mm。
3.1.4 质量流量计:等离子体气,辅助气,雾化气三路质量流量计3.1.4 ICP 源:27.12 MHz 固体晶体稳频RF 发生器,频率稳定性< ±0.01%3.1.6 RF 功率稳定性< 0.01%3.1.7 真空系统:3.1.7.1快速三级高真空系统:工作时真空度<2×10- 6 乇,3.1.7.2从大气压开始抽至可工作的真空度的时间小于20分钟。
3.1.8. 离子光学:低背景的离轴四极杆质谱仪系统3.1.9 四极杆:Mo 质四极杆, RF频率2.0 MHz3.1.10 四极杆质谱仪是可靠的免拆洗系统3.1.11 脉冲模拟双模式同时型电子倍增器,3.1.12 可以在一次样品测试中同时完成扫描和跳峰分析3.1.13 等离子体炬位调整: 由计算机三维(X,Y, Z 方向)控制3.1.14 数据采集:拥有60000道以上的多通道数据分析系统,以适应瞬间信号分析要求3.1.14. 质谱范围:2-255amu3.1.16 仪器分辨率在一次样品分析中可变,以便通过变化分辨率降低干扰,扩大分析元素的浓度分析范围3.2 软件:3.2.1 操作系统:Windows 2000 ,多任务,多用户系统软件3.2.2 全自动分析功能(启动关闭仪器,炬位调整, 等离子体参数, 离子透镜, 其它技术模式切换等)3.2.3 瞬间信号分析软件以便与色谱或激光进样系统等连用。
icp-ms参数指标
ICP-MS参数指标仪器需满足5个或以上带*的参数1.仪器主机硬件技术指标:1.1.1(符合A或B或均符合)雾化室:A为了降低溶剂效应的影响,配置原厂半导体制冷装置,双层结构雾室去溶剂更彻底,基体效应小,更大表面积降温更充分。
B小体积旋流型雾化室,死体积小,低记忆效应,带半导体制冷装置.1.1.2雾化器:高效率同心雾化器1.2射频发生器:27.12MHz或者40.68MHz长寿命固态射频发生器,可工作在500W小功率下,实现更佳的冷焰抗干扰效果,最高可工作在1.6kW。
1.3等离子电势消除技术:采用物理接地消除电势,避免锥口放电现象,延长锥使用寿命;对于采用虚拟接地技术需额外提供一套样品锥。
*1.4工作气体控制:高精度气体质量流量计控制各个工作气体,包括载气、辅助气、冷却气等5路质量流量控制气路;应标时需给出五路气体的具体名称。
1.5矩管:无需频繁拆卸安装,使用高效一体化矩管,矩管位置X,Y,Z三维计算机全自动准直,采样深度4mm-25mm可调;1.6接口:镍采样锥与截取锥;为减少真空系统负载,保证质谱的长期稳定性,要求同等灵敏度情况下锥孔越小越好,样品锥口口径≦1.0mm、截取锥孔径≦0.5mm;1.7提取透镜:仪器须配置具有 2个提取透镜。
提取透镜上可以使用零电压、正电压和负电压三种提取模式,提高对不同离子的灵敏度响应效果,提供软件截图证明文件。
1.8离子传输系统:要求具有直角一次或离轴二次离子偏转传输系统,消除光子和中性粒子的背景噪音;1.9多级杆组成的碰撞/反应池:除提供消除干扰的池技术外,应有较高的离子传输效率;可与四极杆质量分析器动态调谐,提供证明具有碰撞反应池恒温技术;*1.10四极杆:要求四极杆为物理双曲面型,四极杆驱动频率≥2.5MHz驱动,达到最佳分辨率和丰度灵敏度,需提供图片证实具有明显可见的双曲面外观;可分析从Li到U的所有元素;*1.11检测器:脉冲/模拟双通道模式高速检测器,具有不小于10个数量级线性动态范围;1.12具有证明文件,仪器在电磁辐射等方面符合ISO、CE、CSA等国际通用标准要求;1.13等离子体可视系统:具有Plasma TV功能,可以实时监控等离子体状态。
ICP-MS超净实验室技术要求
实验室超净间技术参数1. 验室布局、室内工艺设备、设计技术参数1.1 实验室平面布局根据实验室内部布局将实验室原有房间分隔成仪器间、样品前处理间、缓冲间、更衣间和设备间,各个房间功能和作用见下表:房间名称面积m2洁净度等级功能风淋室与工作间74 1000 除尘、放置仪器及实验缓冲间与清洗间23 10000 空气阻隔和缓冲,样品预处理更鞋更衣间11 无更换洁净工作服1.2 洁净区各房间技术参数洁净区各房间技术参数要求见下表:房间名称最小静压(Pa)洁净级别(级)换气次数(次/h)湿度温度(℃)噪声dB(A)最低照度(lx)程度对相邻低级洁净室风淋室工作间+ +15 1000 ≥2545% ±15% 20~26 ≤65≥300缓冲间+ +10 10000 ≥2550% ±15% 20~26 ≤65≥300清洗间+ +10 10000 ≥2550% ±15% 20~26 ≤65≥300 2.实验室通风方案设计要求2.1 整体设计要求1)保证实验室室内洁净度;2)保证室内正压;3)以节约成本(包括运行成本及一次性投资)为原则;4)维护简便、维护间隔长;5)充分保证实验室工作的安全;6)设计方案合理、具有可操作性;7)可设计自控系统,集中控制。
2.2 实验室室内通风方案设计要求1)实验室室内通风可在送排风或送回风两种方案中选择一种。
2)新风在室外采集。
3)可将房间分区、分系统,实现单开单控,以便节约运行费用。
4)设置值班风机,保证实验室在长期不使用的情况下,保持正压。
2.3 化学安全柜通风方案设计要求:1)化学安全柜内洁净度等级为百级;2)化学安全柜内为百级垂直单向流,设计风速为0.42m/s;3)化学安全柜相对于房间内压力为负压;4)上下推拉窗工作开口高度为200mm,开口面风速为0.5m/s,保证酸气不外溢;5)采用全送全排通风方案;6)保证洁净度的送风量全部采用新风,维持开口面风速的风量取自室内;7)新风在室外采集。
激光烧蚀系统(LA)和电感耦合等离子体质谱仪(ICPMS)简介讲解
激光烧蚀系统(LA)和电感耦合等离子体质谱仪(ICPMS)简介
仪器名称:激光烧蚀系统(Laser ablation,简写为LA)
型号:GeoLasPro
生产厂家:美国Coherent Inc
主要技术指标:激光器为ArF193nm紫外准分子激光器,单脉冲能量20mJ以上;脉冲频率20Hz以上。
经光学系统匀光和聚焦,能量密度可达50J/cm2,剥蚀坑直径可设置为4、8、16、24、32、44、60、90和120µm。
功能及用途:该仪器和等离子质谱仪联用,主要用于固体微区微量元素原位分析、微区原位锆石U-Pb定年及单个流体包裹体成分研究等,在地球科学、环境科学、材料科学、生命科学、海洋科学等领域都有广泛的应用。
仪器名称:等离子体质谱仪(ICPMS)
型号:Agilent 7500
生产厂家:美国安捷伦科技有限公司
主要技术指标:该仪器为美国Agilent公司最新一代Agilent 7500cx等离子体质谱仪,可完成样品中常量-微量-痕量等多数量级的多元素含量分析,具有分析检出限低、精密度好、准确度高、分析速度快并能进行同位素分析的特点,是当今世界最为先进的分析技术之一,被广泛的应用于科学研究的各个领域。
功能及用途:该仪器主要用于各种地质样品中微量元素分析,在环境、半导体、医学、生物、冶金、石油、核材料等领域也有广泛应用。
ICPMS和激光剥蚀系统联用,主要用于锆石原位U-Pb定年以及矿物微区微量元素分析。
icpms si指标
icpms si指标
ICP-MS(电感耦合等离子体质谱)中的Si 指标通常指的是硅元素的检测性能。
以下是一些可能与ICP-MS 中Si 指标相关的方面:1. 检测限:ICP-MS 可以测量硅元素的最低浓度,通常以ng/L 或ppb 表示。
2. 线性动态范围:ICP-MS 能够准确测量硅元素的浓度范围,通常以几个数量级表示。
3. 干扰:ICP-MS 可能会受到来自其他元素的干扰,特别是在测量硅元素时。
因此,评估Si 指标时需要考虑干扰的影响,并采取适当的校正措施。
4. 精度和准确度:ICP-MS 测量硅元素的精度和准确度也是重要的指标,可以通过分析标准物质或与其他可靠方法进行比较来评估。
需要注意的是,具体的Si 指标可能会因ICP-MS 仪器的型号、操作条件和分析方法而有所不同。
在实际应用中,应根据具体需求和实验条件选择合适的ICP-MS 仪器和分析方法,并参考仪器制造商提供的规格和性能指标。
电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)技术规格要求
电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)技术规格要求1. 仪器整体要求1.1电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)应由电感耦合等离子体离子源、四级杆离子透镜、四级杆通用碰撞反应池、四极杆质量过滤器、离子检测系统等部分构成。
由微机和必要的软件对仪器进行控制,并进行数据获取、压缩、处理显示和存储。
质谱仪还应该包括维持高真空的所有设备,以及进行常规溶液样品雾化的进样系统。
1.2 ICP-MS的功能应包括样品引入、原子化、离子化和质量分析,以进行样品的定性确认、定量分析以及同位素分析和形态分析。
1.3 仪器要求符合美国EPA200.8 ,EPA6020等标准方法2. 仪器工作环境2.1工作环境温度:15-30?2.2工作环境湿度:20- 80%2.3 电源:220VAC , 10% ,50 Hz3. 等离子体3.1射频发生器:40.68 MHz,功率600,1600W,1W连续可调。
射频发生器为自激式,匹配自动进行,等离子体的功率通过反馈电路维持恒定。
*3.2射频线圈采用氩气冷却。
*3.3具有通风感应功能,当没有开通风而点火时,等离子体在10分钟内自动熄灭,并在软件诊断的炬管箱温度给出提示。
*3.4 每次点火前和点火后,炬管的位置都固定不动,无需炬管后退和调节。
仪器应能够使炬管在分析样品的位置点燃等离子体,而无需在点燃等离子体后再移动到分析样品的位置。
*3.5质谱仪后侧无任何连接管路和电路,仪器可以紧贴着实验室墙面来安装和运行。
*3.6 等离子体具有全彩色的观察窗,通过观察窗可以实时观察锥孔和炬管中心管是否需要清洗。
*3.7 互相反相的两路射频来维持等离子体并消除线圈与采样锥之间的放电,无需屏蔽炬这样的消耗品。
3.8 等离子体位置XYZ三轴全自动调节,定位精度优于50微米。
4. 进样系统4.1蠕动泵:内置的三通道蠕动泵以稳定样品提升的流量。
蠕动泵应由计算机控制,泵速0-48rpm连续可调。
蠕动泵应安装在与等离子体隔绝的仪器外部以避免化学侵蚀而损坏。
icpms si指标 -回复
icpms si指标-回复ICP-MS(Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry)是一种广泛应用于元素分析的高灵敏度、高精确度的仪器技术。
其中,"Si"指代硅元素,是ICP-MS中常见的分析对象之一。
本文将逐步回答与“ICP-MS Si 指标”相关的问题,旨在为读者提供相关的知识和实践指导。
第一部分:ICP-MS基本原理和工作流程(400字左右)ICP-MS是一种将进样样品通过高温等离子体激发和分离,进而利用质谱仪测量并分析其元素组成的仪器。
具体来说,ICP-MS由等离子体源、接口、四极杆与四级杆质谱仪等部分组成。
其工作流程包括进样、激发与离子化、分离与筛选、质量分析和检测等阶段。
第二部分:硅元素的重要性与分析方法(400字左右)硅是地球地壳中含量最多的非金属元素之一,广泛应用于工业、农业、生物医学及环境等领域。
硅元素的高纯度和纯净度对许多应用来说至关重要。
通过ICP-MS技术可以快速、准确地测定硅元素的含量,并且还可以通过分析硅的同位素组成,提供进一步的信息。
第三部分:样品制备与预处理(400字左右)在进行ICP-MS分析之前,样品通常需要经过制备和预处理。
对于硅元素的分析,常见的样品预处理方法包括酸溶解、氧化还原、溶剂萃取等。
此外,还可以通过加入内标元素来校正分析结果,提高测量精度。
第四部分:ICP-MS Si指标的确定与分析(400字左右)在进行ICP-MS Si指标分析时,需要根据不同的应用需求选择合适的质控方法。
这些质控方法主要包括校正曲线法、加标回收率法、内标法等。
通过这些方法可以确定硅元素的含量,并得到相应的不确定度与准确度。
第五部分:ICP-MS Si指标的应用与案例分析(400字左右)ICP-MS Si指标的应用非常广泛,涉及材料、环境、生物医学等多个领域。
以材料领域为例,ICP-MS Si指标可以用于检测和分析硅材料的纯度和掺杂情况,且对半导体材料的制备和性能影响研究有着重要意义。
ICP-MS主流产品技术参数
赛默飞世尔XSeries II电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)新一代是XSeries II 当前世界上最小的台式ICP-MS,其所用空间甚至小于一些AAS系统。
创新的保护性离子提取技术和Infinity II 型离子透镜技术,使XSeries II 具有同类产品中最低的背景噪声。
此外,第三代碰撞反应池技术(CCT)可以使用简单碰撞气体,反应气体,和混合气体。
有效地消除由样品集体或等离子体源引起地多原子离子地干扰,并保证副反应最小化。
伴随Xt和Xs接口应用,进一步改善了检出限。
半导体控温系统和碰撞反应池技术使XSeries II ICP-MS 成为当前四级杆ICP-MS仪器中拥有最高地信噪比性能。
高性能四极杆分析器所需的高真空系统由一个全新的分流式涡流分子泵后接一个机械泵提供。
可以使用7% 氢气/氦气混合气或1% 氨气/氦气混合气于CCT模块中。
这样便解决了将高纯度的氢气或氨气直接通入CCT中所造成的潜在的腐蚀问题。
同时也大大提高了仪器的稳定性和操作安全性。
同时型模拟/脉冲检测器以及其实时的多通道电子学系统提供了大于8个量级的动态线性范围,这使得仪器能够同时适应稳定信号和瞬时信号分析。
【技术参数】灵敏度(cps/mg/L):Be>7×106 In>60×106 U>60×106背景噪声(cps):<0.5 (220amu)信噪比:>120×106短期稳定性:<1.5%RSD长期稳定性:<3%RSD氧化物离子:CeO+/Ce+<2%检出限(3 ,ng/L):Be<3Co,In,U<0.5同位素比精度:<0.2%(107Ag/109Ag)热焰高灵敏度模式:灵敏度(cps/mg/L):In>200×106 U>200×106背景(cps):<1 (220amu)高灵敏度模式信噪比:>200×106冷焰模式:检出限(3 ,ng/L):Li<1;Na<29;K<20;Ca<30;Fe<5。
ICP-MS主要技术指标
ICP-MS主要技术指标性能指标:1 仪器应用要求本仪器要求能适用于应用领域广泛的各种样品的元素分析和同位素分析任务。
仪器要求符合美国环保署标准方法EPA200.8 ,EPA6020,英国NS30 等国际标准要求2. 仪器工作环境2.1工作环境温度:15-30℃.2.2工作环境湿度:< 80% (无冷凝)电源:power supply 单相200-240V ,50 Hz3. 仪器规格:3.1 仪器硬件;3.1.1 雾化器:高耐盐,高精度,高效率同心雾化器,3.1.2雾化室:小死体积,低记忆效应,配置Peltier 半导体制冷装置对雾化室制冷控温,雾化室制冷温度控制要求可以达到≤ -10 0C3.1.3 接口:Ni材料锥口,口径要求足够大,以便耐样品溶液所含的基体。
样品锥口口径1.1 mm, 截取锥口径0.75 mm。
3.1.4 质量流量计:等离子体气,辅助气,雾化气三路质量流量计3.1.4 ICP 源:27.12 MHz 固体晶体稳频RF 发生器,频率稳定性< ±0.01%3.1.6 RF 功率稳定性< 0.01%3.1.7 真空系统:3.1.7.1快速三级高真空系统:工作时真空度<2×10- 6 乇,3.1.7.2从大气压开始抽至可工作的真空度的时间小于20分钟。
3.1.8. 离子光学:低背景的离轴四极杆质谱仪系统3.1.9 四极杆:Mo 质四极杆, RF频率2.0 MHz3.1.10 四极杆质谱仪是可靠的免拆洗系统3.1.11 脉冲模拟双模式同时型电子倍增器,3.1.12 可以在一次样品测试中同时完成扫描和跳峰分析3.1.13 等离子体炬位调整: 由计算机三维(X,Y, Z 方向)控制3.1.14 数据采集:拥有60000道以上的多通道数据分析系统,以适应瞬间信号分析要求3.1.14. 质谱范围:2-255amu3.1.16 仪器分辨率在一次样品分析中可变,以便通过变化分辨率降低干扰,扩大分析元素的浓度分析范围3.2 软件:3.2.1 操作系统:Windows 2000 ,多任务,多用户系统软件3.2.2 全自动分析功能(启动关闭仪器,炬位调整, 等离子体参数, 离子透镜, 其它技术模式切换等)3.2.3 瞬间信号分析软件以便与色谱或激光进样系统等连用。
电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)技术规格要求
电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)技术规格要求1.仪器整体要求1.1电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)应由电感耦合等离子体离子源、四级杆离子透镜、四级杆通用碰撞反应池、四极杆质量过滤器、离子检测系统等部分构成。
由微机和必要的软件对仪器进行控制,并进行数据获取、压缩、处理显示和存储。
质谱仪还应该包括维持高真空的所有设备,以及进行常规溶液样品雾化的进样系统。
1.2 ICP-MS的功能应包括样品引入、原子化、离子化和质量分析,以进行样品的定性确认、定量分析以及同位素分析和形态分析。
1.3 仪器要求符合美国EPA200.8 ,EPA6020等标准方法2. 仪器工作环境2.1工作环境温度:15-30℃2.2工作环境湿度:20- 80%2.3电源:220V AC 10% ,50 Hz3. 等离子体3.1射频发生器:40.68 MHz,功率600-1600W,1W连续可调。
射频发生器为自激式,匹配自动进行,等离子体的功率通过反馈电路维持恒定。
*3.2射频线圈采用氩气冷却。
*3.3具有通风感应功能,当没有开通风而点火时,等离子体在10分钟内自动熄灭,并在软件诊断的炬管箱温度给出提示。
*3.4 每次点火前和点火后,炬管的位置都固定不动,无需炬管后退和调节。
仪器应能够使炬管在分析样品的位置点燃等离子体,而无需在点燃等离子体后再移动到分析样品的位置。
*3.5质谱仪后侧无任何连接管路和电路,仪器可以紧贴着实验室墙面来安装和运行。
*3.6 等离子体具有全彩色的观察窗,通过观察窗可以实时观察锥孔和炬管中心管是否需要清洗。
*3.7 互相反相的两路射频来维持等离子体并消除线圈与采样锥之间的放电,无需屏蔽炬这样的消耗品。
3.8 等离子体位置XYZ三轴全自动调节,定位精度优于50微米。
4. 进样系统4.1蠕动泵:内置的三通道蠕动泵以稳定样品提升的流量。
蠕动泵应由计算机控制,泵速0-48rpm 连续可调。
蠕动泵应安装在与等离子体隔绝的仪器外部以避免化学侵蚀而损坏。
激光烧蚀系统(LA)和电感耦合等离子体质谱仪(ICPMS)简介讲解
激光烧蚀系统(LA)和电感耦合等离子体质谱仪(ICPMS)简介
仪器名称:激光烧蚀系统(Laser ablation,简写为LA)
型号:GeoLasPro
生产厂家:美国Coherent Inc
主要技术指标:激光器为ArF193nm紫外准分子激光器,单脉冲能量20mJ以上;脉冲频率20Hz以上。
经光学系统匀光和聚焦,能量密度可达50J/cm2,剥蚀坑直径可设置为4、8、16、24、32、44、60、90和120μm。
功能及用途:该仪器和等离子质谱仪联用,主要用于固体微区微量元素原位分析、微区原位锆石U-Pb定年及单个流体包裹体成分研究等,在地球科学、环境科学、材料科学、生命科
学、海洋科学等领域都有广泛的应用。
仪器名称:等离子体质谱仪(ICPMS)
型号:Agilent 7500
生产厂家:美国安捷伦科技有限公司
主要技术指标:该仪器为美国Agilent公司最新一代Agilent 7500cx等离子体质谱仪,可完
成样品中常量-微量-痕量等多数量级的多元素含量分析,具有分析检出限低、精密度好、准
确度高、分析速度快并能进行同位素分析的特点,是当今世界最为先进的分析技术之一,被广泛的应用于科学研究的各个领域。
功能及用途:该仪器主要用于各种地质样品中微量元素分析,在环境、半导体、医学、生物、冶金、石油、核材料等领域也有广泛应用。
ICPMS和激光剥蚀系统联用,主要用于锆石原
位U-Pb定年以及矿物微区微量元素分析。
ICP-MS主流产品技术参数
赛默飞世尔XSeries II电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)新一代是XSeries II 当前世界上最小的台式ICP-MS,其所用空间甚至小于一些AAS系统。
创新的保护性离子提取技术和Infinity II 型离子透镜技术,使XSeries II 具有同类产品中最低的背景噪声。
此外,第三代碰撞反应池技术(CCT)可以使用简单碰撞气体,反应气体,和混合气体。
有效地消除由样品集体或等离子体源引起地多原子离子地干扰,并保证副反应最小化。
伴随Xt和Xs接口应用,进一步改善了检出限。
半导体控温系统和碰撞反应池技术使XSeries II ICP-MS 成为当前四级杆ICP-MS仪器中拥有最高地信噪比性能。
高性能四极杆分析器所需的高真空系统由一个全新的分流式涡流分子泵后接一个机械泵提供。
可以使用7% 氢气/氦气混合气或1% 氨气/氦气混合气于CCT模块中。
这样便解决了将高纯度的氢气或氨气直接通入CCT中所造成的潜在的腐蚀问题。
同时也大大提高了仪器的稳定性和操作安全性。
同时型模拟/脉冲检测器以及其实时的多通道电子学系统提供了大于8个量级的动态线性范围,这使得仪器能够同时适应稳定信号和瞬时信号分析。
【技术参数】灵敏度(cps/mg/L):Be>7×106 In>60×106 U>60×106背景噪声(cps):<0.5 (220amu)信噪比:>120×106短期稳定性:<1.5%RSD长期稳定性:<3%RSD氧化物离子:CeO+/Ce+<2%检出限(3 ,ng/L):Be<3Co,In,U<0.5同位素比精度:<0.2%(107Ag/109Ag)热焰高灵敏度模式:灵敏度(cps/mg/L):In>200×106 U>200×106背景(cps):<1 (220amu)高灵敏度模式信噪比:>200×106冷焰模式:检出限(3 ,ng/L):Li<1;Na<29;K<20;Ca<30;Fe<5。
ICPMS和GDMS工作原理
电感耦合等离子体质谱仪ICP-MS一、等离子质谱分析基本原理待测物质以气溶胶或气体形式进入高频电场,在快速变化(约27M)的电场作用下形成离子,M→M+。
取样锥和截取锥内负气压将所形成的离子吸入到一个真空室,离子在水平电场作用下进入垂直方向的四极杆电场,在垂直变化的电场作用下,各种离子按其质荷比m/Z被分离出来,进入检测器被计数。
根据计数结果可计算出被测样品的浓度。
技术指标:该仪器有四种操作模式,分别适合分析不同性质的元素。
标准模式的主要技术指标为:Be、Bi、U灵敏度每ppm 分别达5M、60M和60M。
Be、Bi、U检出限分别小于2ppt和0.5ppt。
220质量数背景小于0.5CPS。
长、短期期稳定性分别小于3%和 1.5%。
低质量数和高质量数的丰度灵敏度分别为5×10-7及1×10-7。
氧化物离子及双电荷离子分别小于1.5%和3%。
二、制样型号:Elan DRC-e生产厂家:美国PerkinElmer(珀金埃尔默)公司性能指标:40.68MHz自激振荡射频发生器;具有专利接口Plasmalok来控制离子的能量分布范围,采用两路射频,彻底消除接口放电,有机样品分析时等离子体更加稳定;带有Axial Field技术的动态反应池(DRC),通过碰撞和化学反应消除不同基体中多原子离子的干扰;EasyGlide专利炬管准直系统;采样锥锥孔1.1mm,截取锥锥孔0.9mm;真空系统使用两个机械泵,两个涡轮分子泵;离子透镜无强负电压提取离子;镀金陶瓷四极杆。
质量范围:2~270amu灵敏度:Cr>40M,Co>40M),In >50M,U>40M背景信号:<0.5 cps,在质量数为50.5 和220处测量短期稳定性:< 1% RSD (无内标)长期稳定性:< 3 % RSD 4 小时(无内标)同位素比精度:< 0.08%,107/Ag/109/Ag (25ug/L)线形范围:9个数量级,化学分辨率>150000,分辨率:0.3-3.0amu在线可调质量数校正稳定性:<0.05amu采样方式:扫描及单点跳峰主要应用:一种最有效的多种元素同时快速检测的分析仪器,具有未知物元素的定性、半定量、定量、同位素稀释法和同位素比值的快速测定能力,高纯物中微量、痕量杂质的定量分析,可测至ppt级,线性动态范围可直接检测从ppt到数百ppm 浓度,与HPLC色谱技术联用进行食品、药品、生物、环境等样品中元素的价态、形态分析。
ICP-MS主要技术指标
ICP—MS主要技术指标性能指标:1 仪器应用要求本仪器要求能适用于应用领域广泛的各种样品的元素分析和同位素分析任务.仪器要求符合美国环保署标准方法EPA200。
8 ,EPA6020,英国NS30 等国际标准要求2. 仪器工作环境2。
1工作环境温度:15—30℃.2。
2工作环境湿度:〈80%(无冷凝)电源:power supply 单相200-240V ,50 Hz3. 仪器规格:3.1 仪器硬件;3。
1.1 雾化器:高耐盐,高精度,高效率同心雾化器,3.1.2雾化室:小死体积,低记忆效应,配置Peltier 半导体制冷装置对雾化室制冷控温,雾化室制冷温度控制要求可以达到≤—10 0C3.1.3 接口:Ni材料锥口,口径要求足够大,以便耐样品溶液所含的基体。
样品锥口口径1.1 mm, 截取锥口径0.75 mm.3.1。
4 质量流量计:等离子体气,辅助气,雾化气三路质量流量计3。
1.4 ICP 源:27.12 MHz 固体晶体稳频RF 发生器,频率稳定性< ±0。
01%3.1。
6 RF 功率稳定性〈0.01%3.1.7 真空系统:3.1.7。
1快速三级高真空系统:工作时真空度<2×10— 6 乇,3。
1.7。
2从大气压开始抽至可工作的真空度的时间小于20分钟.3。
1。
8。
离子光学:低背景的离轴四极杆质谱仪系统3.1.9 四极杆: Mo 质四极杆, RF频率2.0 MHz3.1.10 四极杆质谱仪是可靠的免拆洗系统3。
1。
11 脉冲模拟双模式同时型电子倍增器,3。
1。
12 可以在一次样品测试中同时完成扫描和跳峰分析3。
1。
13 等离子体炬位调整: 由计算机三维(X,Y,Z 方向)控制3.1。
14 数据采集:拥有60000道以上的多通道数据分析系统,以适应瞬间信号分析要求3。
1.14. 质谱范围: 2-255amu3.1.16 仪器分辨率在一次样品分析中可变,以便通过变化分辨率降低干扰,扩大分析元素的浓度分析范围3.2 软件:3.2。
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ICP-MS主要技术指标
性能指标:
1 仪器应用要求
本仪器要求能适用于应用领域广泛的各种样品的元素分析和同位素分析任务。
仪器要求符合美国环保署标准方法EPA200.8 ,EPA6020,英国NS30 等国际标准要求2. 仪器工作环境
2.1工作环境温度:15-30℃.
2.2工作环境湿度:< 80% (无冷凝)
电源:power supply 单相200-240V ,50 Hz
3. 仪器规格:
3.1 仪器硬件;
3.1.1 雾化器:高耐盐,高精度,高效率同心雾化器,
3.1.2雾化室:小死体积,低记忆效应,配置Peltier 半导体制冷装置对雾化室制冷控温,雾化室制冷温度控制要求可以达到≤ -10 0C
3.1.3 接口:Ni材料锥口,口径要求足够大,以便耐样品溶液所含的基体。
样品锥口口径1.1 mm, 截取锥口径0.75 mm。
3.1.4 质量流量计:等离子体气,辅助气,雾化气三路质量流量计
3.1.4 ICP 源:27.12 MHz 固体晶体稳频RF 发生器,频率稳定性< ±0.01%
3.1.6 RF 功率稳定性< 0.01%
3.1.7 真空系统:
3.1.7.1快速三级高真空系统:工作时真空度<2×10- 6 乇,
3.1.7.2从大气压开始抽至可工作的真空度的时间小于20分钟。
3.1.8. 离子光学:低背景的离轴四极杆质谱仪系统
3.1.9 四极杆:Mo 质四极杆, RF频率2.0 MHz
3.1.10 四极杆质谱仪是可靠的免拆洗系统
3.1.11 脉冲模拟双模式同时型电子倍增器,
3.1.12 可以在一次样品测试中同时完成扫描和跳峰分析
3.1.13 等离子体炬位调整: 由计算机三维(X,Y, Z 方向)控制
3.1.14 数据采集:拥有60000道以上的多通道数据分析系统,以适应瞬间信号分析要求3.1.1
4. 质谱范围:2-255amu
3.1.16 仪器分辨率在一次样品分析中可变,以便通过变化分辨率降低干扰,扩大分析元素的浓度分析范围
3.2 软件:
3.2.1 操作系统:Windows 2000 ,多任务,多用户系统软件
3.2.2 全自动分析功能(启动关闭仪器,炬位调整, 等离子体参数, 离子透镜, 其它技术模式切换等)
3.2.3 瞬间信号分析软件以便与色谱或激光进样系统等连用。
3.2.4 实时数据显示,和实时报告显示
3.2.4拥有智能化软件包括:智能进样时间和智能冲洗时间,QAQC 软件,智能谱图解释软件,
4 仪器功能要求
4.1 定性分析
4.1.1带智能谱图解释
4.2 半定量分析
4.2.1要求半定量分析的内存工作曲线可以校正
*4.2.2要求样品分析时能一次同时完成半定量和全定量分析
4.3 全定量分析
4.3.1全定量分析要求符合美国EPA200.8,EPA6020,NS30等国际标准要求,
4.4 等离子体炬焰屏蔽技术分析
*4.4.1等离子体炬焰屏蔽技术要求包括冷焰屏蔽技术,和热焰屏蔽高灵敏度模式技术
*4.4.2屏蔽技术能自动切换,并保持稳定
*4.4.3在一次样品分析中能自动切换冷焰模式和标准模式,并保证样品中所有分析元素(在二种不同模式中)一次完成分析
4.5 碰撞池技术分析
*4.5.1碰撞池条件和标准条件的切换为全自动化.
*4.5.2碰撞池技术配置二个质量流量计,并能够快速切换,切换时间小于30秒钟。
*4.5.3可以使用简单碰撞气体,反应性气体,及混合气体(NH3/He,H2/He),并可以在一次样品分析中自动切换,拥有更广泛的应用范围。
5.仪器通用技术指标:
*5.1 灵敏度sensitivity
5.1.1低质量数low mass: >40 M cps/ppm
*5.1.2 中质量数middle mass: > 100 M cps/ppm
*5.1.3 高质量数high mass: > 100 M cps/ppm
*5.2 随机背景radon background: < 0.5 cps (220amu)
*5.3 仪器信噪比instrument signal/noise ratio:>200,000,000 (>200M )( 信噪比=灵敏度/随机背景,1ppm In 溶液计算)
5.4 氧化物离子oxide ion lever(MO+/M+) < 2 %
5.5 短期稳定性short stability(RSD): < 2 % (不用内标)
*5.6 长期稳定性long stability (RSD): < 3 % (4 小时) (不用内标)(使用1ppb标准元素溶液)
5.7质谱校正稳定性mass calibration drift: < 0.05 amu/一天,<0.1amu/一个月
5.8 同位素比精度isotope ratio precision: < 0.2 % 107 Ag/109 Ag。