Low-E玻璃镀膜用硅铝靶材的制备方法分析
LOW-E镀膜玻璃针孔现象分析及解决方法
LOW-E镀膜玻璃针孔现象分析及解决方法针孔，是一种最直观的缺陷。
它是没有沉积上膜层的地方，通常线度较小，从微米到毫米，故称为针孔。
针孔的透过率显然与基片相同，如在基片的一侧放置光源，在另一侧可用眼睛直接观察到针孔，并可确定数量和尺寸。
一：针孔产生的原因是（1）在待镀的基片上存在粉尘颗粒，颗粒的存在阻挡了膜材的沉积，也就是在膜层和基片之间产生了一种隔离，在沉积之后，当出片时气流冲去粉尘后，便出现了针孔。
粉尘颗粒的大小决定了针孔的大小。
(2)在基片上存在油渍，或其他的严重影响膜层与基片结合力的污渍，这一诱因往往并不能直接形成针孔，也就是在基片离开真空室后并不能直接观察到，而是通过覆盖带一定粘性的保护膜后，经过一次粘揭即可出现，而这种覆膜往往是必须的。
所以，应该把这后一类的针孔称之为伪针孔，它是有别于前一类的显性针孔的。
二：基片进行前处理阶段出现针孔的原因及解决方法（1）原片一般应选用离开浮法线一个月内的新鲜玻璃，原片玻璃存放过久会产生霉变；另外，玻璃之间的隔离纸张由于并非严格中性，会与玻璃产生反应形成波浪形条纹，这些都无法清除而最终对膜层产生严重危害。
(2)去离子水去离子水冲洗是为了使玻璃表面不留存活性离子，否则将会影响沉积膜层的长期稳定性。
水的纯度是通过电阻率来衡量的，理想的应该达到15兆欧以上。
(3)风机冷热风吹干是除去清洗过的基片上残留的水膜，所用的压缩气体必须是严格净化的，否则即使是洗净的基片，也会在这一过程中染上粉尘。
三：在镀膜过程中产生的针孔及解决方法即使是完全清洁的基片还是有可能出现针孔和类似的缺陷。
如基片运行过程中，从真空室内落下的粒屑滞留在基片上，那么在后续的沉积中必然出现缺陷。
靶材的溅射物不可避免地要沉积在周边的壁面上，当达到一定厚度时，由于应力会引起脱落。
除了定期对真空室进行清扫外，特别是在沉积区的两侧，因为这一区域的影响最为严重。
四：针对沉积的具体膜层，配置合理的清洗设施，一般都能把针孔控制在允许范围内。
LOW-E玻璃生产流程
什么是LOW-E玻璃及生产流程玻璃是重要的建筑材料，随着对建筑物装饰性要求的不断提高，玻璃在建筑行业中的使用量也不断增大。
然而，当今人们在选择建筑物的玻璃门窗时，除了考虑其美学和外观特征外，更注重其热量控制、制冷成本和内部阳光投射舒适平衡等问题。
这就使得镀膜玻璃家族中的新贵——Low-E玻璃脱颖而出，成为人们关注的焦点。
Low-E玻璃又称低辐射玻璃，是在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品。
其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，使其与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比，具有以下明显优势：优异的热性能外门窗玻璃的热损失是建筑物能耗的主要部分，占建筑物能耗的50%以上。
有关研究资料表明，玻璃内表面的传热以辐射为主，占58%，这意味着要从改变玻璃的性能来减少热能的损失，最有效的方法是抑制其内表面的辐射。
普通浮法玻璃的辐射率高达，当镀上一层以银为基础的低辐射薄膜后，其辐射率可降至以下。
因此，用Low-E 玻璃制造建筑物门窗，可大大降低因辐射而造成的室内热能向室外的传递，达到理想的节能效果。
室内热量损失的降低所带来的另一个显着效益是环保。
寒冷季节，因建筑物采暖所造成的CO2、SO2等有害气体的排放是重要的污染源。
如果使用Low-E玻璃，由于热损失的降低，可大幅减少因采暖所消耗的燃料，从而减少有害气体的排放。
良好的光学性能Low-E玻璃对太阳光中可见光有高的透射比，可达80%以上，而反射比则很低，这使其与传统的镀膜玻璃相比，光学性能大为改观。
从室外观看，外观更透明、清晰，即保证了建筑物良好的采光，又避免了以往大面积玻璃幕墙、中空玻璃门窗光反射所造成的光污染现象，营造出更为柔和、舒适的光环境。
Low-E玻璃的上述特性使得其在发达国家获得了日益广泛的应用。
我国是一个能源相对匮乏的国度，能源的人均占有量很低，而建筑能耗已经占全国总能耗的%左右。
因此，大力开发Low-E玻璃的生产技术并推广其应用领域，必将带来显着的社会效益和经济效益。
LOW-E玻璃生产流程
什么是LOW-E玻璃及生产流程玻璃是重要的建筑材料，随着对建筑物装饰性要求的不断提高，玻璃在建筑行业中的使用量也不断增大。
然而，当今人们在选择建筑物的玻璃门窗时，除了考虑其美学和外观特征外，更注重其热量控制、制冷成本和内部阳光投射舒适平衡等问题。
这就使得镀膜玻璃家族中的新贵——Low-E玻璃脱颖而出，成为人们关注的焦点。
Low-E玻璃又称低辐射玻璃，是在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品。
其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，使其与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比，具有以下明显优势：优异的热性能外门窗玻璃的热损失是建筑物能耗的主要部分，占建筑物能耗的50%以上。
有关研究资料表明，玻璃内表面的传热以辐射为主，占58%，这意味着要从改变玻璃的性能来减少热能的损失，最有效的方法是抑制其内表面的辐射。
普通浮法玻璃的辐射率高达，当镀上一层以银为基础的低辐射薄膜后，其辐射率可降至以下。
因此，用Low-E 玻璃制造建筑物门窗，可大大降低因辐射而造成的室内热能向室外的传递，达到理想的节能效果。
室内热量损失的降低所带来的另一个显著效益是环保。
寒冷季节，因建筑物采暖所造成的CO2、SO2等有害气体的排放是重要的污染源。
如果使用Low-E玻璃，由于热损失的降低，可大幅减少因采暖所消耗的燃料，从而减少有害气体的排放。
良好的光学性能Low-E玻璃对太阳光中可见光有高的透射比，可达80%以上，而反射比则很低，这使其与传统的镀膜玻璃相比，光学性能大为改观。
从室外观看，外观更透明、清晰，即保证了建筑物良好的采光，又避免了以往大面积玻璃幕墙、中空玻璃门窗光反射所造成的光污染现象，营造出更为柔和、舒适的光环境。
Low-E玻璃的上述特性使得其在发达国家获得了日益广泛的应用。
我国是一个能源相对匮乏的国度，能源的人均占有量很低，而建筑能耗已经占全国总能耗的%左右。
因此，大力开发Low-E玻璃的生产技术并推广其应用领域，必将带来显著的社会效益和经济效益。
LOW-E镀膜钢化玻璃生产工艺
LOW-E镀膜钢化玻璃生产工艺
首先，需要将原材料玻璃进行切割。
根据产品尺寸要求，将大片的玻
璃切割成指定尺寸的小块玻璃，切割过程需要使用专用的玻璃切割机械。
然后，对切割好的玻璃进行边缘加工。
边缘加工是为了使玻璃表面更
加光滑，避免伤人。
边缘加工主要有两种方法：一种是通过砂轮进行磨削，另一种是通过机械加工进行抛光。
接下来，需要对玻璃进行清洗。
玻璃清洗是为了去除表面的污垢和灰尘，确保镀膜的质量。
通常使用清洗剂和水进行清洗，然后使用干净的布
擦干。
清洗完毕后，需要对玻璃进行镀膜。
镀膜是LOW-E玻璃的核心工艺，
通过在玻璃表面涂覆一层具有高反射性能的薄膜，实现对热辐射的反射，
提高隔热性能。
镀膜过程需要使用专用的真空镀膜设备，将玻璃放入真空
室内，通过高温蒸发的方式，使金属氧化物在玻璃表面形成一层均匀而稳
定的薄膜。
镀膜完成后，需要对玻璃进行钢化处理。
钢化是为了提高玻璃的强度
和安全性能。
将镀膜玻璃放入钢化炉内，加热到高温，然后迅速冷却，使
玻璃表面和内部形成压缩应力，增加玻璃的抗冲击能力。
最后，对钢化玻璃进行包装。
将钢化玻璃用塑料膜或纸箱进行包裹，
防止玻璃在运输过程中受到损坏。
以上就是LOW-E镀膜钢化玻璃的生产工艺。
通过这些工艺步骤，可以
制造出具有优异隔热性能和良好安全性能的玻璃产品，满足建筑行业对高
性能玻璃的需求。
LOW-E玻璃的工艺及节能应用
LOW-E玻璃的工艺及节能应用摘要：进入二十一世纪以来随着科学技术的进步以及社会经济的发展，各行各业也迎来许多机遇和挑战。
在建筑行业发展过程当中，由于人们生活水平的提升，环保节能的理念逐步深入民心。
LOW-E玻璃作为主要的节能建筑材料之一，近年来逐步成为研究热点。
本文主要对LOW-E玻璃的工艺和节能应用进行分析。
关键词： LOW-E 玻璃；真空磁控溅射工艺；节能原理；应用1.引言LOW-E玻璃是节能镀膜玻璃的一种。
通常在浮法玻璃上镀一层Ag就得到了LOW-E玻璃。
LOW-E玻璃通常用来防太阳辐射的建筑材料，有利于降低光污染。
LOW-E玻璃借助表面镀的一层Ag来反射红外线，以此减少LOW-E玻璃表面的辐射率。
LOW-E玻璃采光和隔热能力都是比较出色的，是节能的建筑材料之一。
2.LOW-E玻璃的真空磁控溅射工艺真空磁控溅射工艺是制造LOW-E玻璃的主要工艺技术之一。
其原理是将欲沉积的金属作为靶材，接到真空磁控溅射仪器的阴极。
将沉积的无杂质的玻璃作为基底放置于通入惰性气体的真空腔室中，在一定的真空度下，通入高压。
阴极靶材在高压条件下，以离子的形式冲向阳极靶材沉积在无杂质玻璃基底的表层，最终就得到了LOW-E玻璃。
通常使用的氩气作为沉积气氛，是由于惰性气体在空气中储量丰富，对声子散射作用较强，使得基底玻璃热导率极低，以此保证镀膜工艺顺利进行。
靶材溅射出来的等离子体在磁场的作用下，不断地与Ar原子进行撞击，撞击的过程中会产生电子会源源不断的涌入阳极玻璃基板进行沉积。
真空磁控溅射是物理沉积技术的一种。
是上述所说通过高能量轰击靶材，使得轰击出靶材的等离子体在氩气的气氛中不断地进行撞击产生电子，电子在电磁场的作用下带着轰击出的靶材微粒子沉积在基底玻璃当中，最后完成沉积。
在镀膜过程中，靶材会持续进行移动，只有这样，沉积在基底玻璃上的膜层才会均匀。
真空磁控溅射技术已经相对比较成熟，广泛的应用于薄膜器件、镀膜生产领域。
LOWE镀膜钢化玻璃生产工艺
L O W E镀膜钢化玻璃生产工艺The latest revision on November 22, 2020LOW－E镀膜钢化玻璃生产工艺 [转贴 2007-10-04 22:23:22 ] 发表者: peony2008低辐射玻璃以其特有的热反射特性，具有较高的节能保温的效果，越来越受建材、冰柜等的平板玻璃消费领域的欢迎。
平板玻璃消费在注重环保节能的同时，也关注使用材料的强度以及安全性。
在线低辐射（LOW－E）镀膜玻璃热反射的良好性能以及良好的可热加工性能，深受客户欢迎。
在线LOW－E镀膜玻璃的热反射特性，生产高品质的LOW－E镀膜钢化玻璃，需要特殊的生产工艺。
1 钢化玻璃的基本过程与设备1．1 玻璃钢化的基本原理与特点玻璃钢化的过程是将平板玻璃制品加热到玻璃600℃左右，这时制品仍能保持原来的形状，但玻璃中粒子已有一定的迁移能力，进行结构调整，足以使内部存在的应力很快消除，然后快速冷却。
快速冷却时，玻璃中央内部还未硬化之前表面层已经收缩凝固，这样在继续冷却过程中，玻璃中央内部较业已凝固的表面层收缩得多些，就会形成近似抛物线形状的应力分布，板的中心层为最大的拉伸力，在表面层为最大的压应力。
玻璃的表面形成均匀压应力，提高了玻璃作为脆性材料的抗张强度，从而使玻璃的抗弯曲和抗冲击强度得到提高。
同时，由于玻璃内部均匀应力的存在，一旦玻璃局部受到超过其强度能承受的冲击发生破裂时，在内部应力的作用下，立刻自爆为小颗粒，提高了材料的安全性。
1．2 玻璃钢化设备目前采用的玻璃钢化设备是美国GLASSTECH水平钢化系统，由上片台、加热炉、强制冷却风栅、下片台等组成。
玻璃在加热炉内完成加热过程，电炉内部空间被炉内水平、相隔一定间距放置的数十根陶瓷辊道分隔为上下两个加热空间，分别由顶部与底部的电热丝加热，电脑自动控制整个加热过程。
玻璃在风栅区经受强力气流的强制冷却，该区域被水平放置、绕有石棉绳、相隔一定间距的辊道分为上下两个冷却空间，分别对玻璃的上下两个表面进行快速冷却，气流总压、上下风栅的气流分压力可以单独调节。
lowe玻璃生产工艺
lowe玻璃生产工艺
Lowe玻璃是一种具有热绝缘性能的玻璃制品，由英国科学家Lowe于1902年发明。
其主要生产工艺包括以下几个步骤。
首先，选材。
Lowe玻璃的主要原料是硅酸盐，其中包括二氧
化硅、氧化钠、氧化钙等。
这些原料需要经过精细的筛选和配比，保证玻璃的化学成分和物理性能满足要求。
接下来是熔化。
将选材后的原料放入玻璃熔炉中，在高温下进行熔化。
熔化的温度通常在1600℃左右，持续时间根据玻璃
的厚度和成品要求有所不同。
熔化后的玻璃液会被倒入玻璃工作台上，进行塑形。
这一过程需要熟练的技术和精密的仪器，以确保玻璃成型的准确性和一致性。
根据最终产品的要求，可以选择不同的塑形方法，如拉伸、压制等。
塑形完成后，进入退火环节。
退火是将塑形玻璃快速加热到一定温度，然后缓慢冷却的过程。
这一步是为了消除玻璃内部的应力，增加玻璃的强度和耐热性。
退火完成后，玻璃制品进入研磨和抛光环节。
通过研磨和抛光，可以提高玻璃表面的光洁度和平整度，使其达到更好的视觉效果。
最后是检验和包装。
经过上述工艺后，制成的Lowe玻璃需要
经过严格的质量检验，确保成品符合相关标准和要求。
合格的
产品会进行包装，以防止在运输和搬运过程中受到损坏。
总结起来，Lowe玻璃的生产工艺包括材料选取、熔化、塑形、退火、研磨抛光、检验和包装等步骤。
每个步骤都需要严格控制和精细操作，以确保最终产品的质量和性能达到要求。
低辐射LOW-E镀膜玻璃的深加工操作规程
低辐射LOW-E镀膜玻璃的深加⼯操作规程低辐射LOW-E镀膜玻璃的深加⼯操作规程离线磁控溅射⼯艺⽣产的低辐射镀膜玻璃，具备较好的节能和视觉效果，深受设计师与开发商的青睐。
因其特殊的材料和微观结构决定，这种产品需要特殊的包装、储存环境和加⼯要求；不适宜包装、储存环境和加⼯⼯艺可能使产品产⽣缺陷。
通⽤要求：1、加⼯全过程戴⼲燥、⼲净的汗布⼿套或⽪⼿套，禁⽌⾚⼿或胶⼿套接触膜⾯；2、搬运过程尽量不要接触膜⾯，如果必须请握持边缘10mm 以内；3、加⼯全过程戴⼝罩，防⽌唾液溅到膜⾯；4、清洗机使⽤电导率＜15us 去离⼦⽔；使⽤刷⽑直径⼩于200um 的软⽑刷清洗，清洗过程中玻璃杜绝在⽑刷、风⼑处停留5、使⽤⼲净⼲燥的纸或其他不与膜⾯反应的材料隔垫；6、加⼯全过程保持膜⾯向上，禁⽌膜⾯接触传动辊；7、不要抽取镀膜玻璃；8、建议镀膜玻璃使⽤的周转车、架与中空成品车、架分开（避免油污染）；时间规定：1、包装完好的可钢化low-e 镀膜可保存四个⽉（从⽣产⽇期算起）左右；2、打开包装后不能⼀次加⼯完，需重新密封⼲燥包装，并且保存期不超过72 ⼩时；3、从原⽚切割开始在24 ⼩时内合成中空；⼯序各⼯序加⼯要求仓储1、仓储场地通风、⼲燥、避光，勿使玻璃接触酸碱溶液（如：室内装修清洗地⾯使⽤氢氧化钠等）及其它有机化学制剂⽓体（如:施⼯现场使⽤灭蚊、蝇类制剂）；2、⽊箱包装存放⾓度以6—8 度为宜，始终保持开箱⾯朝外；3、出库顺序以先进先出为原则；切割1. 认真查看⽊箱标⽰，依据箭头指⽰启箱；2. 进⾏⾸⽚原板质量检验，切割注意异形⽅向，⾸⽚切割后进⾏清洗检验⽆误后批量切割；3. 禁⽤真空吸盘吸取膜⾯，如必须建议⽤打孔的⽆纺布包覆吸盘使⽤；4. 覆膜产品切割时建议使⽤倾⾓140 度以下的⼑轮；5. 相对于⽩玻少⽤切割油，便于清洗⼲净，保持切割台⼲净；6. 没⽤完的原⽚及时利⽤原包装材料包好；7. 玻璃上⽚和下⽚时不要戴带胶⽪的⼿套，胶⽪在膜⾯上着⼒会划伤膜⾯。
LOW-E镀膜玻璃脱膜现象分析及解决方法
LOW-E镀膜玻璃脱膜现象分析及解决方法一：生产中导致脱膜的几个主要因素及解决方法造成脱膜大致有以下几个因素原片、水质、真空度、清洗机、工艺气体、靶材。
1：原片因素（1）原片表面新鲜度玻璃表面越新鲜, 表面活性越大, 与膜层的结合力越强, 反之则差。
使用存放期过长的玻璃, 由于玻璃表面霉变和附着的污物会大量增加, 而且附着力很强, 在清洗环节很难清除掉, 这就造成膜层与基片的结合力大大降低, 从而导致脱膜。
建议视季节采用存放期在一个月以内的制镜级或汽车级浮法玻璃。
（2）原片切割因素许多原片生产厂家为了提高玻璃的切裁率, 在切割刀上注入了过多的煤油, 这些煤油残留在原片上, 在清洗环节难以清除掉, 造成脱膜。
在采购玻璃原片时, 应要求无油切割。
若不能无油切割, 应在正式清洗前用稀盐酸或阴离子去垢剂进行预清洗。
2：水质因素（1）水处理设备水质的好坏对于镀膜质量是至关重要的。
去离子水纯度应控制在电阻率在15兆欧以上。
若低于该值, 则应对EDI进行调节使电阻率达到要求的值, 否则, 会因水质不纯导致原片清洗不净而脱膜。
（2）管道和水箱的杂质连接水处理设备和清洗机水箱的管道应定期吹扫清洗。
因为管道中若残留不流动的水时间久了,会滋生细菌、藻类, 在使用时会带到水箱里, 使清洗水本身就不过关, 造成镀膜不牢。
3：清洗机（1）清洗刷清洗刷使用一段时间后, 上面会残留一些污物,包括油污、絮状物、纸屑、甚至细菌, 若不能有效地进行清洗, 也会带来污染, 造成脱膜。
所以, 必须定期用蒸汽清洗机清洗毛刷, 必要时, 可用双氧水清洗。
（2）风刀风压大小、风刀角度调整的好坏将影响到原片能否吹干, 若吹不干, 镀膜后, 肯定脱膜。
必须保证进人真空室的玻璃干燥。
4：真空度真空度必须达到一定标准, 方可镀膜, 否则, 会因气体中残留杂质气体, 导致膜层成分不纯, 结合力不强。
一般应控制在10-5mbar以下。
5：工艺气体、靶材若使用纯度不高的工艺气体或靶材, 会使膜层中杂质成分偏高, 产生大面积针孔, 进而导致脱膜,所以采用高纯度气体和靶材是消除脱膜的重要前提。
硅靶预溅射工艺
硅靶预溅射工艺
硅靶预溅射工艺是一种常用的溅射工艺，主要用于制备薄膜材料。
该工艺利用高能粒子轰击靶材表面，使靶材原子获得足够的能量，从而克服表面势垒，逸出靶材表面，并在基材表面沉积形成薄膜。
硅靶预溅射工艺的原理是基于物理气相沉积（PVD）技术。
在溅射过程中，高能粒子（如氩离子）通过辉光放电获得能量，并撞击硅靶表面。
硅靶原子从表面逸出后，在基材表面沉积形成薄膜。
硅靶预溅射工艺具有许多优点。
首先，该工艺可以制备出高质量的薄膜材料，具有高纯度、高致密性和高附着力等特点。
其次，溅射过程中可以精确控制薄膜的厚度和成分，实现批量生产。
此外，硅靶预溅射工艺还具有设备简单、操作方便、易于实现自动化等优点。
在实际应用中，硅靶预溅射工艺广泛应用于电子、光学、机械等领域。
例如，在半导体器件制造中，可以利用该工艺制备高纯度、高导电性的铜薄膜；在光学领域，可以制备高硬度、高耐磨性的氮化硅薄膜；在机械领域，可以制备具有优异力学性能的硬质合金薄膜。
靶材镀膜材料生产工艺流程
靶材镀膜材料生产工艺流程以靶材镀膜材料生产工艺流程为标题，本文将介绍靶材镀膜材料的生产工艺流程。
一、靶材镀膜材料的选择在靶材镀膜材料的生产工艺流程中，首先需要选择合适的靶材材料。
靶材材料的选择要根据所需镀膜的材料和用途来确定，常见的靶材材料有金、银、铜、铝等。
二、靶材的制备在靶材镀膜材料的生产工艺流程中，靶材的制备是关键步骤之一。
首先，根据靶材的材料选择合适的原料，并进行粉末制备。
然后，将所得的粉末进行烧结，以得到致密的靶材坯体。
最后，对靶材坯体进行加工，如切割、打磨等，以得到符合要求的靶材。
三、靶材表面的预处理在靶材镀膜材料的生产工艺流程中，靶材表面的预处理是为了提高镀膜的附着力和增强靶材的耐腐蚀性能。
常见的靶材表面预处理方法有机械打磨、喷砂、电解抛光等。
四、靶材的镀膜处理在靶材镀膜材料的生产工艺流程中，靶材的镀膜处理是核心步骤之一。
镀膜可以通过物理镀膜和化学镀膜两种方法进行。
物理镀膜常用的方法有物理气相沉积（PVD）和磁控溅射（sputtering）；化学镀膜常用的方法有电镀、化学气相沉积（CVD）等。
根据不同的要求和材料，选择合适的镀膜方法进行处理。
五、靶材的后处理在靶材镀膜材料的生产工艺流程中，靶材的后处理是为了提高镀膜的质量和性能。
常见的后处理方法有退火、氢处理、热处理等。
通过后处理可以消除镀膜中的应力和缺陷，提高镀膜的致密性和结晶性，从而改善镀膜的性能。
六、靶材的检测和包装在靶材镀膜材料的生产工艺流程中，靶材的检测和包装是最后的环节。
通过对镀膜的厚度、附着力、成分等进行检测，确保镀膜的质量符合要求。
然后将合格的靶材进行包装，以便运输和使用。
总结：靶材镀膜材料的生产工艺流程包括靶材材料的选择、靶材的制备、靶材表面的预处理、靶材的镀膜处理、靶材的后处理以及靶材的检测和包装。
通过这些步骤，可以生产出质量优良的靶材镀膜材料，满足不同领域的应用需求。
low-e玻璃镀膜用硅铝靶材的制备方法分析 (1)
Low-E玻璃镀膜用硅铝靶材的制备方法分析电池组件厂张腾刘鹏程宋建新摘要：由于低辐射玻璃优良的节能功能和巨大的隐形经济效益，在经历石油危机之后，在各国政策的推广下，其市场销售量经历迅速增长的阶段。
目前各发达国家的LOW-E玻璃都得到了大规模的普及，而当前中国LOW-E玻璃使用率仅为8%，远低于发达国家应用水平。
LOW-E玻璃的镀膜技术是其关键，而镀膜用的靶材又是关乎其成败的关键耗材，本文从技术的角度分析了LOW-E玻璃镀膜用硅铝靶材的制备方法。
关键词：Low-E玻璃硅铝靶材热喷涂镀膜制备工艺低辐射镀膜玻璃简称低辐射玻璃或LOW-E（Low Emissivity Glass）玻璃，是在玻璃表面镀膜包括银层在内的多层金属或其他化合物组成的膜系产品，因其所镀的膜层具有极低的表面辐射率而得名；普通玻璃的表面辐射率在0.84左右，低辐射玻璃的表面辐射率在0.25以下；它对波长范围4.5-25μm的远红外线有较高的反射比（大约将80%以上的远红外线热辐射反射回去），具有良好的阻隔热辐射透过的作用；在夏季可以阻隔物体受太阳照射后发出的二次辐射热，同样冬季可以减少室内的热量向外流失，从而达到隔热保温节能降耗的目的。
Low-E靶材相对于Low-E镀膜生产来说，其作用类似于当年的CRT模具和玻壳生产的关系，可见其重要性。
通过对LOW-E镀膜原材料市场的调研分析，LOW-E靶材作为消耗品，用量较大，成本较高。
目前，我公司LOW-E镀膜项目即将进入试生产阶段，生产过程中会用到多种材料的靶材（我公司LOW-E镀膜生产线所需靶材有6种：SiAl、NiCr、TiOx、ZnAl、ZnSn、Ag），作为耗材，每月就要消耗3-4百万。
下文中我们以硅铝旋转靶为例（外形尺寸内径133mm，长度3897mm），从多个技术角度来分析其制备方法。
一、制作靶材的工艺原理硅铝靶材（SiAl Target）的生产工艺属于热喷涂工艺。
热喷涂包括：电弧喷涂、等离子喷涂、火焰喷涂。
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Low-E玻璃镀膜用硅铝靶材的制备方法分析
电池组件厂张腾刘鹏程宋建新
摘要：由于低辐射玻璃优良的节能功能和巨大的隐形经济效益，在经历石油危机之后，在各国政策的推广下，其市场销售量经历迅速增长的阶段。
目前各发达国家的LOW-E玻璃都得到了大规模的普及，而当前中国LOW-E玻璃使用率仅为8%，远低于发达国家应用水平。
LOW-E玻璃的镀膜技术是其关键，而镀膜用的靶材又是关乎其成败的关键耗材，本文从技术的角度分析了LOW-E玻璃镀膜用硅铝靶材的制备方法。
关键词：Low-E玻璃硅铝靶材热喷涂镀膜制备工艺
低辐射镀膜玻璃简称低辐射玻璃或LOW-E（Low Emissivity Glass）玻璃，是在玻璃表面镀膜包括银层在内的多层金属或其他化合物组成的膜系产品，因其所镀的膜层具有极低的表面辐射率而得名；普通玻璃的表面辐射率在0.84左右，低辐射玻璃的表面辐射率在0.25以下；它对波长范围4.5-25μm的远红外线有较高的反射比（大约将80%以上的远红外线热辐射反射回去），具有良好的阻隔热辐射透过的作用；在夏季可以阻隔物体受太阳照射后发出的二次辐射热，同样冬季可以减少室内的热量向外流失，从而达到隔热保温节能降耗的目的。
Low-E靶材相对于Low-E镀膜生产来说，其作用类似于当年的CRT模具和玻壳生产的关系，可见其重要性。
通过对LOW-E镀膜原材料市场的调研分析，LOW-E靶材作为消耗品，用量较大，成本较高。
目前，我公司LOW-E镀膜项目即将进入试生产阶段，生产过程中会用到多种材料的靶材（我公司LOW-E镀膜生产线所需靶材有6种：SiAl、NiCr、TiOx、ZnAl、ZnSn、Ag），作为耗材，每月就要消耗3-4百万。
下文中我们以硅铝旋转靶为例（外形尺寸内径133mm，长度3897mm），从多个技术角度来分析其制备方法。
一、制作靶材的工艺原理
硅铝靶材（SiAl Target）的生产工艺属于热喷涂工艺。
热喷涂包括：电弧喷涂、等离子喷涂、火焰喷涂。
硅铝靶材生产需要前两种喷涂方式，电弧喷涂用来对靶材基管喷涂打底，使得材料喷涂层与基管结合牢固。
靶材涂层使用等离子热喷涂。
1.电弧喷涂是利用燃烧于两根连续送进的金属丝之间的电弧来熔化金属，用高速气流把熔化的金属雾化，并对雾化的金属粒子加速使它们喷向工件形成涂层的技术。
电弧喷涂是钢结构防腐蚀、耐磨损和机械零件维修等实际应用工程中最普遍使用的一种热喷涂方法。
电弧
喷涂系统一般是由喷涂专用电源、控制装置、电弧喷枪、送丝机及压缩空气供给系统等组成。
电弧喷涂只能使用金属丝作为喷涂材料。
图一电弧喷涂示意图
2.等离子喷涂作为一种热喷涂工艺，可分为三大类：①高温高压等离子体，电离度100%，温度可达几亿度，用于核聚变的研究；②低温低压等离子体，电离度不足1%，温度仅为50～250度；③高温低压等离子体，约有1%以上的气体被电离，离子体中心具有几万度的温度。
离子、自由电子、未电离的原子的动能接近于热平衡。
靶材热喷涂所利用的正是这类等离子体。
等离子喷涂是利用等离子弧进行的，离子弧是压缩电弧，其弧柱细，电流密度大，气体电离度高，因此具有温度高，能量集中，弧稳定性好等特点。
弧光温度约7000度。
离子流的速度达亚音速。
等离子喷涂可以喷涂熔点较高的材料，特别是氧化物陶瓷，喷涂效率非常高。
但由于其速度仅达亚音速，其喷涂层的致密度不如HVOF的高。
图二等离子喷涂的工作原理图
3. 超音速火焰喷涂（HVOF）是将气态或液态燃料与高压氧气混合后在特定的燃烧室或喷嘴中燃烧，产生的高温、高速的燃烧焰流被用来喷涂。
火焰速度7倍音速以上。
对于火焰喷涂，因其火焰温度相对较低，约为3000度左右。
对于熔点较高的材料无法喷涂或效果不好，但对熔点较低的材料进行喷涂，其喷涂效果好，致密度高，涂层牢固。
火焰喷涂主要动力消耗为燃气。
二、工艺流程
制硅铝粉——>衬管喷砂——>电弧喷涂打底——>等离子喷涂——> 抛光加工——>包装
主要工序简介：
制硅铝粉：为保证工艺稳定，需采购硅锭、铝锭通过磨粉、筛粉、混粉等步骤制备喷涂用硅铝粉体。
喷砂工序：采购的靶材衬管不能直接使用，为使喷涂层结合牢固，需要对衬管作抛光喷砂处理。
打底：喷涂某种合金材料作为喷涂层与衬管的过渡层，作用是使得涂层与衬管衔接更稳固。
打底丝材采用镍铝合金。
喷涂工序：该工序是整个生产的主要环节，靶材规格不同，喷涂时间有长短，单台喷涂设备的生产能力非常有限，连续30多小时才能生产一根长度为3897mm的靶材。
由于喷枪喷头是一种易耗件，喷涂期间可能需要多次更换喷枪喷头。
机加工工序：喷工序完成后，需对表面作加工处理，以达到用户要求的规格尺寸。
三、硅铝靶材规格表
四、工艺设备
（1）喷涂设备
靶材喷涂设备包括80KW等离子喷涂设备1套、30KW全自动电弧喷涂设备1台、全自动喷砂机1台、喷砂房抽风吸尘系统1套和喷涂房抽风吸尘系统1套。
（2）制粉设备
制粉设备包括：干燥机1台、高速粉碎机1台、筛分机1台、混粉机1台和磁选机1台。
(3) 非标准机械设备
非标准机械设备包括自动抛光机1台、自动喷砂轨道车1台和自动喷涂轨道车1台。
五、结束语
LOW-E镀膜玻璃的膜系是由多种材料组成，由于篇幅所限，本文仅以其中较为典型的硅铝靶材的制备为例进行了阐述。
硅铝靶材的制备采用的是热喷涂的方法，是利用火焰、电弧或等离子射流等某种热源将涂层材料（丝、棒、粉）加热到熔融或半熔融状态，借助焰流或高速气体将其雾化，形成小的熔滴，并加速喷射到衬管或衬板表面，快速冷却凝固成涂层的过程。
热喷涂旋转靶材是把涂层材料直接喷涂于衬管上，不需要另外的粘结工序。
然而，银（Ag）等一些熔点较高的“软”金属必需分别粘结。
其它靶材的制备方法见下表。
表：一些主要靶材及其制备方法
参考文献：
《真空镀膜技术》作者张以忱等冶金工业出版社
《薄膜制备技术基础》作者：（日）麻蒔立男，陈国荣等译化学工业出版社
真空离子镀膜设备（JB/T8946-2010）人民出版社。