4-2第四章_PN结-2

合集下载

高中教材图解(思维导图+微试题)人教版化学选修4 4-2化学电源

高中教材图解(思维导图+微试题)人教版化学选修4 4-2化学电源
(4)MnO2可与KOH和KClO3在高温下反应,生成K2MnO4,反应的化学方程式为____________________________________。K2MnO4在酸性溶液中歧化,生成KMnO2和MnO2的物质的量之比为________。
【答案】(1)ba
(2)MnO2+e-+Li+===LiMnO2
C.电池工作时,电子由正极通过外电路流向负极
D.外电路中每通过0.2 mol电子,锌的质量理论上减小6.5 g
【答案】C
3.(2012浙江高考)以铬酸钾为原料,电化学法制备重铬酸钾的实验装置示意图如下,下列说法不正确的是( )
A.在阴极式,发生的电极反应为:2H2O+2e-=2OH-+H2↑
B.在阳极室,通电后溶液逐渐由黄色变为橙色,是因为阳极区H+浓度增大,使平衡2CrO42-+2H+ 2.碱性电池具有容量大、放电电流大的特点,故得到广泛应用。锌锰碱性电池以KOH溶液为电解液,电池总反应式为Zn(s)+2MnO2(s)+H2O(l)===Zn(OH)2(s)+Mn2O3(s),下列说法错误的是( )
A.电池工作时,锌失去电子
B.电池正极的电极反应式为2MnO2(s)+H2O(l)+2e-===Mn2O3(s)+2OH-(aq)
(3)否 电极Li是活泼金属,能与水反应
(4)3MnO2+KClO3+6KOH 3K2MnO4+KCl+3H2O2∶1
【解析】(1)该电池工作时Li失去电子作负极、MnO2得到电子作正极,故外电路的电流方向是由b极流向a极。(2)电池正极上MnO2得到电子,其中+4价的Mn元素变为+3价,由此可以写出电池的正极反应式为MnO2+e-+Li+===LiMnO2。(3)由于Li易与水反应,故不能用水代替电池中的混合有机溶剂。(4)因锰元素价态升高,故KClO3被还原为KCl,故可将方程式先写成:MnO2+KOH+KClO3―→K2MnO4+KCl,依得失电子守恒得:3MnO2+KOH+KClO4―→3K2MnO4+KCl,再根据质量守恒知KOH前应该配6,右侧还有“3H2O”。K2MnO4(Mn为+6价)在酸性溶液中歧化,生成KMnO4(锰为+7价)和MnO2(锰为+4价)。由氧化还原反应中得失电子守恒可知生成的KMnO4和MnO2的物质的量之比为2∶1。

(完整版)第四章场效应管习题答案..

(完整版)第四章场效应管习题答案..

第四章 场效应管基本放大电路4-1 选择填空1.场效应晶体管是用_______控制漏极电流的.a 。

栅源电流b 。

栅源电压c 。

漏源电流d 。

漏源电压 2.结型场效应管发生预夹断后,管子________。

a 。

关断b 。

进入恒流区c 。

进入饱和区 d. 可变电阻区 3.场效应管的低频跨导g m 是________.a. 常数 b 。

不是常数 c. 栅源电压有关 d. 栅源电压无关 4。

场效应管靠__________导电.a 。

一种载流子b 。

两种载流子 c. 电子 d. 空穴 5。

增强型PMOS 管的开启电压__________。

a. 大于零 b 。

小于零 c. 等于零 d. 或大于零或小于零 6. 增强型NMOS 管的开启电压__________。

a. 大于零b. 小于零 c 。

等于零 d. 或大于零或小于零 7. 只有__________场效应管才能采取自偏压电路。

a. 增强型b. 耗尽型 c 。

结型 d 。

增强型和耗尽型 8. 分压式电路中的栅极电阻R G 一般阻值很大,目的是__________。

a 。

设置合适的静态工作点b 。

减小栅极电流c. 提高电路的电压放大倍数 d 。

提高电路的输入电阻 9. 源极跟随器(共漏极放大器)的输出电阻与___________有关。

a. 管子跨导g m b 。

源极电阻R S c. 管子跨导g m 和源极电阻R S 10。

某场效应管的I DSS 为6mA ,而I DQ 自漏极流出,大小为8mA ,则该管是_______.a 。

P 沟道结型管b 。

N 沟道结型管c 。

增强型PMOS 管d 。

耗尽型PMOS 管e 。

增强型NMOS 管 f. 耗尽型NMOS 管解答:1。

b 2。

b 3.b ,c 4. a 5.b 6.a 7。

b,c 8。

d 9.c 10。

d4-2 已知题4—2图所示中各场效应管工作在恒流区,请将管子类型、电源V DD 的极性(+、—)、u GS 的极性(>0,≥0,〈0,≤0,任意)分别填写在表格中。

第四章pn结

第四章pn结

• • • • • • • •
空间电荷(space charge) : 由中性区移动到结,会遇到一窄小的过渡区,如左图所示.这 些掺杂离子的空间电荷部分被移动载流子补偿.越过了过渡区域, 进入移动载流子浓度为零的完全耗尽区,这个区域称为耗尽区(空 间电荷区).对于一般硅和砷化镓的p-n结,其过渡区的宽度远比耗 尽区的宽度要小.因此可以忽略过渡区,而以长方形分布来表示耗 尽区,如右图所示,其中xp和xn分别代表p型和n型在完全耗尽区的 宽度。
耗尽区
• 耗尽区(abrupt junction) • 为求解泊松方程式,必须知道杂质浓度分布.需要考虑两 种重要的例子,即突变结(abrupt junction)和线性缓变结 linearly graded junction). • 突变结:如图,突变结是浅扩散或低能离子注入形成的pn结.结的杂质分布可以用掺杂浓度在n型和p型区之间突 然变换来近似表示.
• •

产生-复合和大注入影响 理想的二极管方程式,可以适当地描述锗p-n结在低电流密度时的电流-电压 特性.然而对于硅和砷化镓的p-n结,理想方程式只能大致吻合,因为在耗尽 区内有载流子的产生及复合存在. 首先,在反向偏压下,耗尽区内的载流子浓度远低于热平衡时的浓度.前一 章所讨论的产生和复合过程主要是通过禁带中产生-复合中心的电子和空穴发 射,俘获过程并不重要.因为俘获速率和自由载流子的浓度成正比,而在反 向偏压下耗尽区的自由载流子非常少.工作在稳态下,这两种发射过程交替 地发射电子和空穴。电子-空穴对产生可以由
电流电压特性
• • • • • • • • • • • • • 电流-电压特性: 当在p-n结外加一电压,将会 打乱电子和空穴的扩散及漂移电 流间的均衡. 如中间图所示,在正向偏 压时,外加的偏压降低跨过耗 尽区的静电电势.与扩散电流 相比,漂移电流降低了.由p端 到n端的空穴扩散电流和n端到p 端的电子扩散电流增加了.因 此,少数载流子注入的现象发 生,亦即电子注入p端,而空穴 注入n端.

电工电子4-2

电工电子4-2
重庆大学 Chongqing University
电工电子学(下 )
第四章 变压器 4-2单相变压器的工作原理
单相变压器的工作原理
变压器的基本结构
原边(初级绕组)
副边(次级绕组)
注意:原副边电路相互隔离。
1)变压器的工作原理
Φ
+ i10
u1

说明:原边参数用下标1表示。
法拉第电磁感应定律
e d N d
+
+
e2
u20


u20 e2
u1 R1i10 eσ1 e1
由于变压器漏磁很小所产生的漏磁电动势eσ1很小, 若忽略原边绕组的电阻R1和漏磁eσ1(所谓的理想变压 器),则:
设,磁通Φ随时间按正弦规律变化:
有效值
U1 E1 4.44 fN1m
说明: 在忽略绕组电阻及漏磁通的条件下(所谓的理想 变压器),当绕组匝数N1及电源频率f为一定时, 主磁通的幅值Φm由电源电压有效值U1确定。
dt
dt
线圈与磁场相对静止,感应电动势纯粹是由和线圈交 链的磁通本身随时间变化而产生的——变压器电动势
+ i10
u1

Φ
+
+
e2
u20


说明:副边参数用下标2表示
设,磁通Φ随时间按正弦规律变化:
有效值
2)电压方程
Φ
+
i10

u1 eσ1 e1
Φσ1

+
由KVL: u1 R1i10 eσ1 e1
在电源大小相同的情况下,频率与匝数成反比。
频率越高变压器尺寸可做得越小

第四章 场效应晶体管及其放大电路

第四章 场效应晶体管及其放大电路

ID
IDSS(1源自U GS U GS(off)
)
2
3. 结型场效应管
结型场效应管的特性和耗尽型绝 缘栅场效应管类似。图4-7 a)、 b) 分别为N沟道和P沟道的结型场效 应管图形符号。
图4-7
使用结型场效应管时,应使栅极与源极间加反偏电压,漏 极与源极间加正向电压。对于N沟道的管子来说,栅源电压应 为负值,漏源电压为正值。
图4-1
(1)工作原理
增强型MOS管的源区(N+)、衬底(P型)和漏区(N+)三者之 间形成了两个背靠背的PN+结,漏区和源区被P型衬底隔开。
当栅-源之间的电压 uGS 0时,不管漏源之间的电源VDD 极 性如何,总有一个PN+结反向偏置,此时反向电阻很高,不能 形成导电通道。
若栅极悬空,即使漏源之间加上电压 uDS,也不会产生漏 极电流 iD ,MOS管处于截止状态。
2) 输出特性曲线 I D f (U DS ) UGS常数
图4-4b)是N沟道增强型MOS管的输出特性曲线,输出特性曲 线可分为下列几个区域。
① 可变电阻区
uDS很小时,可不考虑 uDS 对沟道的影响。于是 uGS一 定时,沟道电阻也一定, 故 iD 与 uDS 之间基本上是 线性关系。
uGS 越大,沟道电阻越
的变化而变化,iD 已趋于饱和, 具有恒流性质。所以这个区域 又称饱和区。
③ 截止区
uGS UGS(th)时以下的区域。
(夹断区)
当uDS增大一定值以后,漏源之间会发生击穿,漏极电流 iD急剧增大。
2. N沟道耗尽型绝缘栅场效应管的结构
上述的增强型绝缘栅场效应管只有当 uGS U GS(th) 时才能形成导电沟道,如果在制造时就使它具有一个原始 导电沟道,这种绝缘栅场效应管称为耗尽型。

pn结(2)

pn结(2)

E Fn E Fp V np n e
2 V / k BT i
半导体器件物理
N型一侧
• 空穴分布连续性方程
p 2 pn pn pn 0 Dp 2 t x p
• 边界条件
x= Wn, pn =pn0; x=xn,
pn pn 0 exp(qV / kBT )
• 空穴扩散长度 Lp • 解(Wn -xn>>Lp)
半导体器件物理
pn结二极管(二)
理想pn结电流特性 实际电流曲线相对理想的偏离 二级管的温度特性
半导体器件物理
pn结二极管电流特性曲线
半导体器件物理
理想pn结电流特性
• 基本假设
– – – – 外加偏置电压全部降落在耗尽区 均匀掺杂突变结,载流子非简并 小注入电流 不考虑耗尽区载流子产生-复合
半导体器件物理
半导体器件物理
半导体器件物理
半导体器件物理
定性分析结果
半导体器件物理
准费米能级
• 载流子分布偏离平衡,存在 过剩载流子
– 假定电子在导带内平衡,空 穴在价带内平衡 – 电子和空穴各自平衡的时间 远小于产生-复合时间
n ni e
EFn Ei / kBT
• 电子、空穴的分布仍然满足 费米分布
np np0 np0 e
J n qDn
qV / kBT
1 e
x x p / Lp


d (n p n p 0 ) dx
xp
qDn n p 0 e qV / kBT 1 Ln
半导体器件物理
总电流
• 理想二极管方程(Shockley方程)
J J n J p J s eqV / kBT 1 Js qDp Lp qDn pn 0 np0 Ln qD p ni2 qDn ni2 Lp N D Ln N A

半导体器件物理 第四章总结

半导体器件物理  第四章总结
所以:源产生载流子,漏吸收载流子。
上栅极 VG ≤0
P+
第三个电极是栅极,它与沟道构成一个整 流结。 结型场效应器件本质上是一种电压控制电 阻器,其阻值能够随着扩展到沟道区的耗 尽层宽度的(器件的尺度:沟道长度为L, 宽度为Z,深度为2a)变化而变化。
W 源 W
L
n
VD ≥0
2a
P+
6
VDS对沟道的控制(假设VGS 一定) 由图 VGD = VGS - VDS * VDS很小时 → VGD VGS
① JFET的I-V关系曲线
JFET对应 不同的VG 有不同的 曲线
②双结型特性曲线
对应用不同基板电流Ib有不同的曲线
Ic Ib
饱和区
β=△Ic/ △Ib
Vce
5
4-1-3 JFET的工作原理
JFET由一个带有两个欧姆接触的异电沟道构成,一个欧姆接触起源极的作用,
另一个作漏极。当漏极加一个相对于源极的正电压时,电流从源到漏。
③ VG =-VP 时:
当栅源电压VG=-VP 时N沟道全夹断。
此时即使有漏源电 压VD ,亦不能产生 电流ID。
ID B
N 沟 道 结 型 场 效 应 管
d
A g
当VG=-VP时,N沟道的起 始状态为全夹断,管中已 没有自由电子,即此时N 沟道不存在,漏源间的电 阻为无穷大,所以即使有 VD,亦不会有ID。 C VG=0 VG=-1V VG=-2V VG=-3V
0 VG(V) 0
Vp
10V
29 VD
ID = f ( VG )|VD = C
当栅源电压为0 时,ID为最大。 ID(mA) 当栅源电压等 夹断电压时, ID为0。

第四章 pn结..

第四章 pn结..

第4章 pn 结1、对N A =1×1017cm -3,N D =1×1015cm -3的突变pn 结,通过计算比较其制造材料分别为Si 和GaAs 时室温下的自建电势差。

解:pn 结的自建电势)(ln 2iA D D n N N q kT V =已知室温下,0.026kT =eV ,Si 的本征载流子密度310100.1-⨯=cm n i ,代入后算得:eV V D 718.0))100.1(101101ln(026.02101517=⨯⨯⨯⨯⨯=GaAs 的本征载流子密度36101.2-⨯=cm n i ,代入后算得:eVV D 537.1)101.2101101ln(026.061517=⨯⨯⨯⨯⨯=2、接上题,分别对Si 结和GaAs 结求其势垒区中1/2势垒高度处的电子密度和空穴密度。

解:根据式(4-14),该pn 结势垒区中qV D -qV (x )=1/2qV D 处的热平衡电子密度为])(exp[])(exp[)(00kT qV x qV N kT qV x qV n x n DD D n -=-=对于Si : 代入数据计算得3901001.1-⨯=cm n 对于GaAs :代入数据计算得3201046.1-⨯=cm n根据式(4-17),该处的空穴密度为])(exp[])(exp[)(200kT x qV qV N n kT x qV qV p x p D D i D n -=-=对于Si : 代入数据计算得31001092.9-⨯=cm p 对于GaAs :代入数据计算得31001004.4-⨯=cm p3、设硅pn 结处于室温零偏置时其n 区的E C - E F =0.21eV ,p 区的E F -E V =0.18eV 。

(a)画出该pn 结的能带图;(b)求p 区与n 区的掺杂浓度N A 和N D ;(c)确定接触电势差V D 。

解:(b )假定室温下p 区和n 区的杂质都已完全电离,则平衡态费米能级相对于各自本征费米能级的位置可下式分别求得:)exp(kT E E N N F C C D --=;)exp(kT E E N N VF V A --=室温下319319101.1,108.2--⨯=⨯=cm N cm N V C代入数据可得:31519107.8)026.021.0exp(108.2-⨯=-⨯=cm N D代入数据可得:31619101.1)026.018.0exp(101.1-⨯=-⨯=cm N A(c) 接触电势差可表示为2ln i A D D n N N q kT V =代入数据得:eV V D 72.0)100.1(101.1107.8ln 106.1026.0210161519=⨯⨯⨯⨯⨯=-4、一硅突变pn 结的n 区n =10cm ,p =5s ;p 区p =0.1cm ,n =1s ,计算室温任意正向偏压下::(a)空穴电流与电子电流之比;(b)反向饱和电流密度;(c)0.5V 正向电压下的电流密度。

第2章_PN结2

第2章_PN结2

• 空间电荷 • 空间电荷区 • 内建电场
13
2.1平衡PN结 2.1.2、能带图与空间电荷区
什么是空间电荷区
带正电的电离施主和带负电荷的电离受主都是固定在晶格 点上不可移动,称之为空间电荷。其所在的区域则称之为空 间电荷区。
N
XN
XP
P
空间电荷区XM
2.1平衡PN结 2.1.2、能带图与空间电荷区
Ei x p EF
空间电荷区
pP 0 ni e PN 0 ni e
pP 0 e pN 0

kT
Ei xn EF kT
Ei x p Ei xn kT



P
xp
电位 电子势能
内建电场
N
xn
VD
qVD
pN 0 nP 0 e p P 0 nN 0


一、PN结
在同一块半导体单晶中N型区与P型区的交界面以及 交界面两侧的过渡区,称为 PN结。
PN结
P
N
4
5
2.1 平衡PN结 2.1.1、PN结结构与杂质分布

二、PN结加工方式与杂质分布
合金法制造PN结过程
P区 N区
熔融
Al N-Si
P-Si
杂 质 浓 度
NA ND xj x
7
突变结
2.1平衡PN结 2.1.1、PN结结构与杂质分布


外加电压下pn结势垒区的变化及载流子的运动 ⒈正向偏压
外加偏压与内建电场方 向相反,势垒区区宽度 减小,势垒高度降为 q(VD-V)。扩散运动大于 漂移运动,pn结内有由p 区流向n区的净扩散电 流,随正向偏压增大而 增大,形成非平衡载流 子的电注入(少子注入 ),pn结导通. 29

半导体器件物理课件-pn结2

半导体器件物理课件-pn结2

内建电势差:由于内建电场,空间电荷区两侧存在电势差, 这个电势差叫做内建电势差(用 y 0 表示)。
势垒区:N区电子进入P区需要克服势垒,P区空穴进入N区
也需要克服势垒。于是空间电荷区又叫做势垒区。
PN结
PN结
2.1热平衡PN结
4.空间电荷区内建电势差(N型一边和P型一边中性区之间的电位差)
方法一:(中性区电中性条件)
PN结
引言
3.采用硅平面工艺制备PN结的主要工艺过程
光刻胶
N Si
N+
SiO 2
N Si
N+
N+
(a)抛光处理后的型硅晶片
紫外光
(b)采用干法或湿法氧化 工艺的晶片氧化层制作
(c)光刻胶层匀胶及坚膜
掩模板
光刻胶
光刻胶 SiO2
SiO2
N Si N+
SiO 2
N Si
N
+
n Si
N+
2
x pN d
0 x xn
0
xn x Na N d
P侧Poisson方程:
d 2y qN a 2 dx k 0
xp x 0
- Na
a ( )

x
b ( )
空间电荷的电中性: Na xp Nd xn 空间电荷层宽度: W x p xn 对于单边突变结:
y
m
x
y0
c ( )
Na Nd
xn x p
0
W xp xn xn
单边突变结电荷分布、电场分布、电势分布
PN结
2.1热平衡PN结
qN d d 2y 对N侧Poisson方程 做一次积分: 2 dx k 0 qN dy d ( x xn ) dx k 0 dy 0 x xn , 边界条件: dx x dy 应用 得: m 1 dx xn qN x m d n k 0

硬件电路设计基础知识

硬件电路设计基础知识

硬件电子电路基础第一章半导体器件§1-1 半导体基础知识一、什么是半导体半导体就是导电能力介于导体和绝缘体之间的物质。

(导电能力即电导率)(如:硅Si 锗Ge等+4价元素以及化合物)二、半导体的导电特性本征半导体――纯净、晶体结构完整的半导体称为本征半导体。

硅和锗的共价键结构。

(略)1、半导体的导电率会在外界因素作用下发生变化•掺杂──管子•温度──热敏元件•光照──光敏元件等2、半导体中的两种载流子──自由电子和空穴•自由电子──受束缚的电子(-)•空穴──电子跳走以后留下的坑(+)三、杂质半导体──N型、P型(前讲)掺杂可以显著地改变半导体的导电特性,从而制造出杂质半导体。

•N型半导体(自由电子多)掺杂为+5价元素。

如:磷;砷P──+5价使自由电子大大增长原理:Si──+4价P与Si形成共价键后多余了一个电子。

载流子组成:o本征激发的空穴和自由电子──数量少。

o掺杂后由P提供的自由电子──数量多。

o空穴──少子o自由电子──多子•P型半导体(空穴多)掺杂为+3价元素。

如:硼;铝使空穴大大增长原理:Si──+4价B与Si形成共价键后多余了一个空穴。

B──+3价载流子组成:o本征激发的空穴和自由电子──数量少。

o掺杂后由B提供的空穴──数量多。

o空穴──多子o自由电子──少子结论:N型半导体中的多数载流子为自由电子;P型半导体中的多数载流子为空穴。

§1-2 PN结一、PN结的基本原理1、什么是PN结将一块P型半导体和一块N型半导体紧密第结合在一起时,交界面两侧的那部分区域。

2、PN结的结构分界面上的情况:P区:空穴多N区:自由电子多扩散运动:多的往少的那去,并被复合掉。

留下了正、负离子。

(正、负离子不能移动)留下了一个正、负离子区──耗尽区。

由正、负离子区形成了一个内建电场(即势垒高度)。

方向:N--> P大小:与材料和温度有关。

(很小,约零点几伏)漂移运动:由于内建电场的吸引,个别少数载流子受电场力的作用与多子运动方向相反作运动。

半导体物理pn结 (pn junction)

半导体物理pn结 (pn junction)


Jn
n0qn
E
n0
n
(
dEC dx
dEF dx
)
n0 n
dEF dx
其中 dEC q dV (x) q E
dx
dx
因为热平衡时Jn=0,此结果表明热平衡时
dEF 0 dx
同理,得空穴电流
Jp
p0 p
dEF dx
热平衡时
Jp
p p
dEF dx
Jn
0

因为热平衡时 dEF 0
dx
所以热平衡时pn结两边费米能级持平。
其他理想条件: 1)耗尽区边界突变,边界之外保持电中性; 2)材料为非简并状态,载流子用玻尔兹曼近似统计; 3)外加偏压不足以改变电中性区多数载流子的密度; 4)正偏压下电流通过耗尽区时没有复合损耗,反偏压 下电流通过空间电荷区时亦无产生电流加入,即正反向电 流完全由少数载流子的扩散引起,在整个耗尽区内各自保 持为常数。
EF
)
nn0
exp(
EC
(
x) kT
Ecn
)
0 E
nn0
exp(
qVD
qV kT
(x)
)
Ecp
0

np0
nn0
exp(
qVD kT
)
EF

n0
(
x)
n
p
0
exp(
qV (x) kT
)
势垒区中电子密度随着电势升高而指数地
从p区的少子水平升高到n区的多子水平。 x
p
VD
x
x
x
qVD Ecn
xn
• 势垒区内点x处的空穴密度

《pn结二极管》课件

《pn结二极管》课件
《pn结二极管》PPT课件
欢迎大家来到《pn结二极管》PPT课件!本课件将介绍pn结二极管的基础知识、 工作原理、应用领域、制作及特殊结构、未来趋势等内容。让我们一起深入 研究和探索pn结二极管的魅力吧!
一、pn结二极管基础知识
结构与特性
了解pn结的结构与特性对于 理解其工作原理至关重要。
电容的计算
提出设计更高效、更可靠的pn结二极管的挑战和机遇。
六、总结
电子技术的重要性
探讨pn结二极管在电子技术中的 重要性和推动力。
未来发展和前景
展望pn结二极管在未来的发展趋 势和应用前景。
深入研究和探索
鼓励大家深入研究和探索pn结二 极管的应用领域。
液晶显示屏
讲解液晶显示屏中pn结二极管的作用和优势, 推动显示技术的创新。
五、pn结二极管的未来趋势
1
纳米级尺寸的pn结二极管
展望纳米级尺寸的pn结二极管对于电子技术的革命性影响。
2
半导体材料的新发现和新应用
探索半导体材料的新领域,为pn结二极管的应用拓展出更多可能性。
3
设计更高效、更可靠的pn结二极管
学习如何计算pn结的电容, 对于电路设计和分析有很大 帮助。
正反向开启电压
探讨pn结正反向开启电压及 其在电子设备中的应用。
二、pn结二极管的工作原理ຫໍສະໝຸດ 1正向偏置和反向偏置
了解正向偏置和反向偏置在pn结二极管中的作用和影响。
2
IV特性谈
深入研究pn结二极管的IV特性曲线及其解读。
3
温度对pn结二极管的影响
探索pn结二极管在音 频和射频放大器中的 关键作用,提升信号 的功率。
四、pn结二极管的制作及特殊结构
硅材料的制备

第四章半导体期末必考 p-n结

第四章半导体期末必考 p-n结

P区能带相对于N区能带上移的原因
能带图是按照电子 能量从高到低来画的。 由于内建电场使得P区电 子能量在原来能级基础 上叠加上一个由电场引 起的附加势能。
半导体中有电场存 在的地方,能带发生弯 曲,朝电场所指方向上 移,电场强度越强,能 带弯曲越厉害,电场为 零或很弱的地方,能带 保持平直。
P-N结的载流子分布
突变结
合金结的杂质分布如图所示,N型区中施主杂质浓度为 ND,而且是均匀分布的,P型区中受主杂质浓度为NA,也是 均匀分布的。在交界面处,杂质浓度从NA(P型区中)突变 为ND(N型区中),故称之为突变结。 设P-N结的位置在x=xj处,则突变结的杂质分布可表示为
在热平衡条件下求接触电势差
突变结
合金法
扩散法
在N型单晶硅片上,通过氧化、光刻、扩散 等工艺制得P-N结。其杂质分布由扩散过程及杂 质补偿决定。如图所示在N型硅单晶上,生长一 层SiO2,通过光刻、扩散将P型杂质扩散入N型硅 单晶中,形成P-N结(亦称之为扩散结)。
P-N结能带图
扩散 当半导体形成P-N结时,由于结两边存在着载流子浓度梯度, 导致了空穴从P区到N区,电子从N区到P区的扩散运动。
在一定的正向偏压下,单位时间内从N区来到xp处的 非平衡少子浓度是一定的,并在扩散区内形成一稳定的 分布。所以,在正向偏压一定时,在xp处就有一不变的向 P区内部流动的电子扩散流。 同理,在边界xn处也有一不变的向N区内部流动的空 穴扩散流。 N区的电子和P区的空穴都是多数载流子,分别进入 P区和N区后形成P区和N区的非平衡少数载流子。 当增大正偏压时,势垒降得更低,增大了流入P区的 电子流和流入N区的空穴流,这种由于外加正向偏压的作 用使非平衡载流子进入半导体的过程称为非平衡载流子 的电注入。

PN结与二极管原理ppt课件

PN结与二极管原理ppt课件

4、正向电流转换和传输
Forward-active regime
比较:平衡PN结
扩散
正向注入 复合
Байду номын сангаас
e 漂移
扩散区中的少子扩散电流都通过复合转换为多子漂移电流。
PN结内任意截面的电流是精连品课续件的。
17
5、PN结的正向电流-电压关系
PN结内各处的电流是连续的,则通过PN结的任意截面电流都 一样。因此只要求出空间电荷区的交界面 X N 处的电子电流和 空穴电流,就是总的PN结电流:
的正向电流。
精品课件
14
2、外加多子正向注入效应
非平衡不同区的少子浓度分布
比较:平衡PN结
电阻很小
两边的多子易 通过势垒区
e
空穴
p
电子
e
电子
空穴
扩散长度
注入之后都成为所在区域的非平衡少子。它们主要以扩散方
式运动,即在边界附近积累形成浓度梯度,并向体内扩散,
同时进行复合,最终形成一个稳态分布。
精品课件
Ei
EFp
KTlnNA ni
精品课件
10
即有
UD
kT q
ln
NDNA ni2
式中ND、NA分别代表N区和P区的净杂质浓度;
UD和PN结两侧的掺杂浓度、温度、材料的禁带宽度(体现在 材料的本征载流子浓度 ni 上)有关。 在一定温度下,N区和P区的净杂质浓度越大,即N区和P区的 电阻率越低,接触电势差UD越大; 禁带宽度越大,ni 越小, UD也越大。
精品课件
29
2.2.4 影响PN结伏安特性的因素(简述)——V-A特性的偏离原因 引起与实验结果偏离的主要原因有:

第二讲 PN结和二极管

第二讲 PN结和二极管
Βιβλιοθήκη 图1.1.13 扩散电容示意图
Back
Next
Home


本节主要介绍了以下基本内容: 本节主要介绍了以下基本内容: PN结形成 扩散、复合、空间电荷区( 结形成: PN结形成:扩散、复合、空间电荷区(耗尽 势垒区、阻挡层、内建电场)、 )、动态平衡 层、势垒区、阻挡层、内建电场)、动态平衡 PN结的单向导电性 正偏导通、 结的单向导电性: PN结的单向导电性:正偏导通、反偏截止 PN结的特性曲线 结的特性曲线: PN结的特性曲线: 正向特性:死区电压、导通电压 正向特性:死区电压、 反向特性:反向饱和电流、 反向特性:反向饱和电流、温度影响大 击穿特性:电击穿(雪崩击穿、齐纳击穿)、 击穿特性:电击穿(雪崩击穿、齐纳击穿)、 热击穿(不可逆,造成器件损坏) 热击穿(不可逆,造成器件损坏) PN结的电容效应 势垒电容、 结的电容效应: PN结的电容效应:势垒电容、扩散电容 Back Home
VBR
Back
Next
Home
反向击穿分为雪崩击穿和齐纳击穿两种类型。 反向击穿分为雪崩击穿和齐纳击穿两种类型。 雪崩击穿:当反向电压增加时, 雪崩击穿:当反向电压增加时,空间电荷区的电场随之 增强,使通过空间电荷区的电子和空穴获得的能量增大, 增强,使通过空间电荷区的电子和空穴获得的能量增大, 当它们与晶体中的原子发生碰撞时, 当它们与晶体中的原子发生碰撞时,足够大的能量将导致 碰撞电离。而新产生的电子-空穴对在电场的作用下 空穴对在电场的作用下, 碰撞电离。而新产生的电子 空穴对在电场的作用下,同样 会与晶体中的原子发生碰撞电离,再产生新的电子-空穴对 空穴对, 会与晶体中的原子发生碰撞电离,再产生新的电子 空穴对, 形成载流子的倍增效应 当反向电压增加到一定数值时, 倍增效应。 形成载流子的倍增效应。当反向电压增加到一定数值时, 这种情况就象发生雪崩一样,载流子增加得多而快, 这种情况就象发生雪崩一样,载流子增加得多而快,使反 向电流急剧增加,于是导致了PN结的雪崩击穿 结的雪崩击穿。 向电流急剧增加,于是导致了 结的雪崩击穿。 齐纳击穿:齐纳击穿的机理与雪崩击穿不同。 齐纳击穿:齐纳击穿的机理与雪崩击穿不同。在较高的 反向电压作用下,空间电荷区的电场变成强电场, 反向电压作用下,空间电荷区的电场变成强电场,有足够 的能力破坏共价键, 的能力破坏共价键,使束缚在共价键中的电子挣脱束缚而 形成电子-空穴对 造成载流子数目的急剧增加, 空穴对, 形成电子 空穴对,造成载流子数目的急剧增加,从而导致 结的齐纳击穿。 了PN结的齐纳击穿。 结的齐纳击穿

pn结二极管

pn结二极管
2021/5/18
0偏
2021/5/18
反偏
正偏
1.热平衡状态
8.1 pn 结电流
电子从n区扩散到p区需有足够 的能量克服“势垒”。只有少 数高能量的电子能越过势垒到 达P区,形成扩散流。
P区的电子到达n区不存在势垒, 但是少子,少数电子一旦进入 耗尽层,内建电场就将其扫进n 区,形成漂移流。
热平衡:电子的扩散流=漂移流
R ni G (负复合率就是产生率 )
2 0
J G
W
eGdx
0
en iW
2 0
2021/5/18
8.2.2正偏复合流
在正向偏压时,耗尽层内的载流子浓度高于 其热平衡值,导致耗尽区载流子的复合。而 形成正向复合电流JR
2021/5/18
J RG
eniW
2
exp( eVa 2k0T
)
J DIFF
理想电流-电压方程与小注入下Ge p-n结的实验结果符合较好, 与Si和GaAs p-n结的实验结果偏离较大。 实际p-n结的I-V特性: (1)正向电流小时,实验值远大于理论计算值,曲线斜率q/2kT (2)正向电流较大时,理论计算值比实验值大(c段) (3)正向电流更大时,J-V关系不是指数关系,而是线性关系 (4)反向偏压时,实际反向电流比理论计算值大得多,而且
耗尽层中载流子的复合和产生821反偏产生电流反偏时势垒区电场加强耗尽层中载流子的浓度将会下降低于平衡值导致耗尽层中电子反偏时势垒区电场加强耗尽层中载流子的浓度将会下降低于平衡值导致耗尽层中电子空穴的产生复合中心产生的电子空穴来不及复合就被强电场扫出势垒区形成产生电流空穴的产生复合中心产生的电子空穴来不及复合就被强电场扫出势垒区形成产生电流ig因此增大了反向电流因此增大了反向电流figure81702jwenigpnpnpnlpqdlnqdj000势垒区宽度w随反向偏压的增加而变宽jg随反向电压增加而增加所以势垒区产生的电流是不饱和的反向总电流随反向电压增加而增加所以势垒区产生的电流是不饱和的反向总电流ir随反向偏压增加而缓慢地增加
  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。

通常的发电系统如火力发电,就是燃烧 石油或煤以其燃烧能来加热水,使之变成蒸汽, 推动发电机发电;原子能发电则是以核裂变放 出的能量代替燃烧石油或煤,而水力发电则是 利用水的落差能使发电机旋转而发电。 太阳能电池发电的原理是全新的,与传 统方法是完全不同,既没有马达旋转部分,也 不会排出气体,是清洁无污染的发电方式。
太阳能电池的结构
单晶硅太阳能电池的典型结构如图所示。
单晶硅太 阳能电池通常是 以p型Si为衬底, 扩散n型杂质,形 成 如 图 (a) 所 示 结 构。为取出电流, p型衬底的整个下 表面涂银并烧结, 以形成银电极, 接通两电极即能 得到电流。
玻璃衬底非晶硅太阳能电池的典型结构如 图所示。
玻 璃衬 底非 晶硅太阳能电池是 先在玻璃衬底上淀 积透明导电薄膜, 然后依次用等离子 体反应沉积p型、I p I 型 和 n 型 三 层 a-Si , 接着再蒸涂金属电 极铝,电池电流从 透明导电薄膜和电 极铝引出。
设入射光垂直pn结面。如果结较浅,光 子将进入pn结区,甚至更深入到半导体内部。 能量大于禁带宽度的光子,由本征吸收在结 的两边产生电子-空穴对。在光激发下多数载 流子浓度一般改变较小,而少数载流子浓度 却变化很大,因此应主要研究光生少数载流 子的运动。
无光照
光照激发
由于pn结势垒区内存在较强的内建电场(自n区指向p区),结两边 的光生少数载流子受该场的作用,各自向相反方向运动:p区的电子穿过p-n结 进入n区;n区的空穴进入p区,使p端电势升高,n端电势降低,于是在p-n结 两端形成了光生电动势,这就是p-n结的光生伏特效应。由于光照在p-n结两端 产生光生电动势,相当于在p-n结两端加正向电压 V,使势垒降低为qVD-qV, 产生正向电流IF.
填充因子定义为:
FF =
=
它表示了最大输出功率点所对应 的矩形面积在Voc 和Isc 所组成的矩 形面积中所占的百分比。特性好 的太阳能电池就是能获得较大功 率输出的太阳能电池,也就是Voc , Isc 和FF乘积较大的电池。对于有 合适效率的电池,该值应在0.700.85范围之内。
4、太阳能电池的能量转化效率η 表示入射的太阳光能量有多少能转换为有效的电能。 即: η =(太阳能电池的输出功率/入射的太阳光功率)x100% = (Vop x Iop/Pin x S)X100% = Voc•Isc•FF Pin • S
二、光电池I-V特性和等效电路 光电池 - 特性和等效电路
为了简化,理想情况,假定光照时电子-空穴对的产 生率在整个器件中都相同。 相当于电池只接受长波长的光照射(长波方向吸收系 数小,吸收长度足够长。) 与实际光电池有很大差别,但可以分析光伏电池特性。
由上节4.6 4.24式,
d 2 ∆p ∆p G = 2 − Dh dx 2 Lh
不论是一般的化学电池还是太阳能电池,其输出特性一般都是用如下 图所示的电流-电压曲线来表示。由光电池的伏安特性曲线,可以得到描述太 阳能电池的四个输出参数。
1、开路电压Voc 在p-n结开路情况下(R=∞),此时pn结两端的电压即为开路电压 Voc。 这时,I=0,即:IL=IF。将I=0代入光电池的电流电压方程,得开路 电压为: Voc= kT q ln( IL I0 +1)
最后一项为常数,上式通解:
∆p = G τ h + Ce
边界条件,由x=0:
x / Lh
+ De
− x / Lh
p nb = p n 0e qVa / kT
ni 2 qVa / kT = e ND
得到解:
p n(x ) = p no + G τ h + p no(e qv / kT − 1) − G τ h e − x / Lh

Jh
其中I0 为饱和电流。
I = I 0(e qv / kT − 1) − I L
dp = −qD h dx
I L = qAG(Le + W + Lh )
也就是在二极管的I-V曲线基础上,下移IL
结合光照下载流子浓度,还有IL公式,可以看出对光 生电流有贡献的,就是耗尽区和两边扩散长度的产生 的光生载流子。 耗尽区和两边一个扩散长度范围之内的区域就是P- n结太阳能电池的有效区域。
其中Pin是入射光的能量密度,S为太阳能电池的面积,当S是整个太阳能 电池面积时,η称为实际转换效率,当S是指电池中的有效发电面积时,η叫 本征转换效率。
4有限尺寸对 0的影响 有限尺寸对I 有限尺寸对
前面推导饱和电流时,条件是PN结两边无限远。但 实际并非如此,一个光电池如图: 存在表面,在表面由于 表面复合存在,对饱和电 流进行修正。 考虑两种极端情况: 1.复合速度无穷大,相 当于表面无载流子; 2.复合速度极低。
作业:4.1、4.5 选做:4.4
对于np(x),也有类似解。
产生的少数载流子被 内建场拉到对面,浓 度变小。与反向偏压 相似。
相应的电流密度:
qD h p no qv / kT (e − 1) − x / Lh − qGLhe −x / Lh J h(x ) = e Lh 在耗尽区有产生载流子
δ J e = δ J h = QGW
一、太阳能电池的结构和基本工 作原理
下图示意地画出了单晶硅pn结太阳能电池的结构,其包含上部电极, 无反射薄膜覆盖层,n型半导体,p型半导体以及下部电极和基板。
当有适当波长的光照射到这个pn结太阳 能电池上后,由于光伏效应而在势垒区两边 产生了电动势。因而光伏效应是半导体电池 实现光电转换的理论基础,也是某些光电器 件赖以工作的最重要的物理效应。因此,我 们将来仔细分析一下pn结的光伏效应。
不锈钢衬底非晶硅太阳能电池的典型结 构如图所示。
不锈钢衬底型太阳 能电池是在不锈钢 衬底上沉积pin非晶 硅层,其上再沉积 透明导电薄膜,最 后与单晶硅电池一 样制备梳状的银收 集电极。电池电流 从下面的不锈钢和 上面的梳状电极引 出。
P-N结光生伏打效应就是半导体吸收光能后在P-N 结上产生光生电动势的效应。光生伏打效应涉及 到以下三个主要的物理过程: 第一、半导体材料吸收光能产生出非平衡的电 子—空穴对; 第二、非平衡电子和空穴从产生处向非均匀势场 区运动,这种运动可以是扩散运动,也可以是漂 移运动; 第三、非平衡电子和空穴在非均匀势场作用下向 相反方向运动而分离。这种非均匀势场可以是结 的空间电荷区,也可以是金属—半导体的肖特基 势垒或异质结势垒等。
2、具有光伏结构,即有一个内建电场所对应的势垒区。势垒区的重要作用是分 离了两种不同电荷的光生非平衡载流子,在p区内积累了非平衡空穴,而在n区内 积累起非平衡电子。产生了一个与平衡pn结内建电场相反的光生电场,于是在p 区和n区间建立了外,金属-半导体形成的 肖特基势垒层等其它许多结构都能产生光生伏特效应。其电子 过程和pn结相类似,都是使适当波长的光照射材料后在半导体 的界面或表面产生光生载流子,在势垒区电场的作用下,光生 电子和空穴向相反的方向漂移从而互相分离,在器件两端积累 产生光生电压。
用这些做为条件,可以修正的饱和电流表达式(见附 件):
如果P型侧具有高复合速度,那么Fp有如下形式:
W FP = coth( ) Le
Wp表示P型区的宽度,上式为双曲余切函数。
如表面是低复合速度
FN
WN = tanh( ) Lh
结论:两个表面都具有低的复合速度,饱和电流就达 到最小值。开压达到最大值。
在pn结开路的情况下,光生电流和正向电流相等时,p-n结两端建立起稳 定的电势差Voc,(p区相对于n区是正的),这就是光电池的开路电压。如将pn结 与外电路接通,只要光照不停止,就会有源源不断的电流通过电路,p-n结起了电 源的作用。这就是光电池的基本原理。
由上面分析可以看出,为使半导体光电器 件能产生光生电动势(或光生积累电荷),它们 应该满足以下两个条件: 1、半导体材料对一定波长的入射光有足够大 的光吸收系数α,即要求入射光子的能量hν大 α hν 于或等于半导体材料的带隙Eg ,使该入射光 子能被半导体吸收而激发出光生非平衡的电 子空穴对。
开路电压与I0有关,取决于半导体性质。 2、短路电流Isc 如将pn结短路(V=0),因而IF=0,这时所得的电流为短路电 流Isc。显然,短路电流等于光生电流,即: Isc = IL
3、填充因子FF 在光电池的伏安特性曲线任一工作点上的输出功率等于该点所对应的矩形面积, 其中只有一点是输出最大功率,称为最佳工作点,该点的电压和电流分别称为最佳 工作电压Vop和最佳工作电流Iop。 VopIop VocIsc Pmax VocIsc
另外一角度看光电池伏安特性
光电池的电流电压特性
光电池工作时共有三股电流:光生电流IL,在光生电压V作用下的pn结 正向电流IF,流经外电路的电流I。IL和IF都流经pn结内部,但方向相反。
光电流IL 结正向电流IF p n
根据p-n结整流方程,在正 向偏压下,通过结的正向电流为:
IF=I0[exp(qV/kT)-1] 其中:V是光生电压,I0是反向饱和 电流。
负载
I
如光电池与负载电阻接成通路,通过负载的电流应该是:
I = IF-IL = Is[exp(qV/kT)-1]-IL 这就是负载电阻上电流与电压的关系,也就是光电池的伏安特性方程。
左图分别是无 光照和有光照时的光电 池的伏安特性曲线。
光伏电池等效电路
三、太阳能电池输出参数
描述太阳能电池的参数
相关文档
最新文档