薄膜物理与技术课程教学大纲

薄膜物理与技术课程教学大纲

一、课程说明

（一）课程名称、所属专业、课程性质、学分；

课程名称：薄膜物理与技术

所属专业：电子器件与材料工程

课程性质：必修课

学分：3

（二）课程简介、目标与任务；

本课程讲授薄膜的形成机制和原理、薄膜结构和缺陷、薄膜各项物理性能和分析方法等物理内容；讲授薄膜各种制备技术。通过本课程学习，使学生具备从事电子薄膜、光学薄膜、以及各种功能薄膜研究与开发的能力

（三）先修课程要求，与先修课与后续相关课程之间的逻辑关系和内容衔接；

《量子力学》、《热力学与统计物理》、《固体物理》、《电子技术》、《电路分析》等。

（四）教材与主要参考书。

教材：杨邦朝，王文生. 《薄膜物理与技术》，成都：电子科技大学出版社，1994

主要参考书：1.陈国平.《薄膜物理与技术》，东南大学出版社，1993

2.田民波，薄膜技术与薄膜材料，清华大学出版社，2006-8

二、课程内容与安排

本课程全部为课堂讲授。重点：真空的获得和真空测量的工作原理；物理气相沉积和化学气相沉积的原理及方法；薄膜生长的机理。

难点：磁控溅射的机理及控制；MOCVD技术；薄膜形成过程的机理

（一）绪论2学时

1、薄膜的概念和历史

2、薄膜材料与薄膜技术的发展

3、薄膜科学是边缘交叉学科

4、薄膜产业是腾飞的高科技产业

（二）真空技术基础2学时

1、真空的基本知识

2、真空的获得

3、真空的测量

（三）真空蒸发镀膜4学时

1、真空蒸发原理

2、蒸发源的蒸发特性及膜厚分布

3、蒸发源的类型

4、合金及化合物的蒸发

5、膜厚和淀积速率的测量与控制

（四）溅射镀膜4学时

1、溅射镀膜的特点

2、溅射的基本原理

3、溅射镀膜类型

4、溅射镀膜的厚度均匀性

（五）离子镀膜2学时

1、离子镀原理

2、离子镀的特点

3、离子轰击的作用

4、离子镀的类型

（六）化学气相沉积镀膜4学时

1、化学气相沉积的基本原理

2、化学气相沉积的特点

3、化学气相沉积方法简介

4、低压化学气相沉积

5、等离子体化学气相沉积

6、其他化学气相沉积

（七）溶液镀膜法2学时

1、化学反应沉积

2、阳极氧化法

3、电镀法

4、LB膜的制备

（八）薄膜的形成4学时

1、凝结过程

2、核形成过程

3、薄膜形成过程生长模型

4、溅射薄膜的形成过程

5、薄膜的外延生长

6、薄膜形成过程的计算机模拟

（九）薄膜的结构和缺陷4学时

1、薄膜的结构

2、薄膜的缺陷

3、薄膜表面缺陷：再构表面和吸附表面

4、薄膜结构与组分的分析方法

（十）薄膜的性质和应用4学时

1、薄膜的力学性质和应用

2、光学薄膜的性质和应用

3、金属薄膜的电学性质和应用

4、功能介质薄膜的电学性质和应用

5、半导体薄膜的性质和应用

6、磁性薄膜的性质和应用

7、超导薄膜的性质和应用

8、金刚石薄膜的性质和应用

制定人：谢二庆

审定人：

批准人：

日期：2016.11.20