薄膜物理与技术课程教学大纲
《薄膜物理与技术》课程教学大纲
《薄膜物理与技术》课程教学大纲课程代码：ABCL0527课程中文名称: 薄膜物理与技术课程英文名称：Thin film physics and technology课程性质：选修课程学分数：1.5课程学时数：24授课对象：新能源材料与器件专业本课程的前导课程：《材料表面与界面》、《近代物理概论》、《材料科学基础》、《固体物理》、《材料物理性能》一、课程简介本课程主要论述薄膜的制造技术与薄膜物理的基础内容。
其中系统介绍了各种成膜技术的基本原理与方法，包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术以及膜厚的测量与监控等。
同时介绍了薄膜的形成，薄膜的结构与缺陷，薄膜的电学性质、力学性质、半导体特性、磁学性质以及超导性质等。
通过本课程的讲授，使学生在薄膜物理基础部分，懂得薄膜形成物理过程及其特征，薄膜的电磁学、光学、力学、化学等性质。
在薄膜技术部分初步掌握各种成膜技术的基本内容以及薄膜性能的检测。
二、教学基本内容和要求掌握物理、化学气相沉积法制膜技术，了解其它一些成膜技术。
学会对不同需求的薄膜，应选用不同的制膜技术。
了解各种薄膜形成的过程及其物理特性。
理解并能运用热力学界面能理论及原子聚集理论解释薄膜形成过程中的一些现象，了解薄膜结构及分析方法，理解薄膜材料的一些基本特性，为薄膜的应用打下良好的基础。
以下分章节介绍：第一章真空技术基础课程教学内容：真空的基础知识及真空的获得和测量。
课程重点、难点：真空获得的一些手段及常用的测量方法。
课程教学要求：掌握真空、平均自由程的概念，真空各种单位的换算，平均自由程、碰撞频率、碰撞频率的长度分布率的公式，高真空镀膜机的系统结构及抽气的基本过程。
理解蒸汽、理想气体的概念，余弦散射率，真空中气体的来源，机械泵、扩散泵、分子泵以及热偶真空计和电离真空计的工作原理。
了解真空的划分，气体的流动状态的划分，气体分子的速度分布，超高真空泵的工作原理。
第二章真空蒸发镀膜法课程教学内容：真空蒸发原理，蒸发源的蒸发特性及膜厚分布，蒸发源的类型，合金及化合物的蒸发，膜厚和淀积速率的测量与监控。
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术Physics and Technology of Thin Films课程编号：07370110学分：2学时：30（其中：讲课学时： 30 实验学时：0 上机学时：0）先修课程：大学物理，普通化学适用专业：无机非金属材料工程（光电材料与器件）教材：《薄膜物理与技术》，杨邦朝，王文生主编，电子科技大学出版社，1994年1月第1版开课学院：材料科学与工程学院一．课程的性质与任务薄膜科学是现代材料科学中及其重要且发展非常迅速的一个分支，已成为微电子学、固体发光、光电子学等新兴交叉学科的材料基础，同时薄膜科学研究成果转化为生产力的速度愈来愈快，国内外对从事薄膜研发和生产的人才需求也日益强劲。
本门课程就是为适应学科发展，学生适应市场需求而设置的专业课程。
课程的基本任务是：1、基本掌握各种成膜技术的基本原理和方法；2、了解并初步掌握薄膜的形成、结构与缺陷，薄膜的电学、力学、半导体、磁学等物理性质。
二．课程的基本内容及要求第一章真空技术基础1、教学内容（1）真空的基本知识（2）稀薄气体的基本性质（3）真空的获得及测量2、教学要求理解真空的基本知识和稀薄气体的基本性质，掌握真空的获得、主要手段和真空度策略方法，了解实用真空系统。
第二章真空蒸发镀膜1、教学内容（1）真空蒸发原理（2）蒸发源的蒸发特性及膜厚分布（3）蒸发源的类型（4）合金及化合物的蒸发（5）膜厚和沉积速率的测量与监控2、教学要求掌握真空蒸发原理，掌握真空镀膜的特点和蒸发过程，理解饱和蒸汽压和蒸发源的发射特性，熟练掌握蒸发速率、薄膜厚度的测量和控制，了解蒸发镀膜的常用方法（电阻加热和电子束加热），了解合金膜及化合物摸的蒸镀。
第三章溅射镀膜1、教学内容（1）溅射镀膜的特点和基本原理（2）溅射镀膜的类型2、教学要求掌握溅射镀膜的基本原理和特点，理解表征溅射特性的参量及其影响因素，了解溅射机理及溅射镀膜的各种类型第四章离子镀膜1、教学内容（1）离子镀的原理和特点（2）离子轰击的作用（3）离子镀的类型2、教学要求掌握离子镀的基本原理和特点，理解离子轰击的作用，了解离子镀的类型。
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术Physics and Technology of Thin Films课程编号：07370110学分：2学时：30（其中：讲课学时： 30 实验学时：0 上机学时：0）先修课程：大学物理，普通化学适用专业：无机非金属材料工程（光电材料与器件）教材：《薄膜物理与技术》，杨邦朝，王文生主编，电子科技大学出版社，1994年1月第1版开课学院：材料科学与工程学院一．课程的性质与任务薄膜科学是现代材料科学中及其重要且发展非常迅速的一个分支，已成为微电子学、固体发光、光电子学等新兴交叉学科的材料基础，同时薄膜科学研究成果转化为生产力的速度愈来愈快，国内外对从事薄膜研发和生产的人才需求也日益强劲。
本门课程就是为适应学科发展，学生适应市场需求而设置的专业课程。
课程的基本任务是：1、基本掌握各种成膜技术的基本原理和方法；2、了解并初步掌握薄膜的形成、结构与缺陷，薄膜的电学、力学、半导体、磁学等物理性质。
二．课程的基本内容及要求第一章真空技术基础1、教学内容（1）真空的基本知识（2）稀薄气体的基本性质（3）真空的获得及测量2、教学要求理解真空的基本知识和稀薄气体的基本性质，掌握真空的获得、主要手段和真空度策略方法，了解实用真空系统。
第二章真空蒸发镀膜1、教学内容（1）真空蒸发原理（2）蒸发源的蒸发特性及膜厚分布（3）蒸发源的类型（4）合金及化合物的蒸发（5）膜厚和沉积速率的测量与监控2、教学要求掌握真空蒸发原理，掌握真空镀膜的特点和蒸发过程，理解饱和蒸汽压和蒸发源的发射特性，熟练掌握蒸发速率、薄膜厚度的测量和控制，了解蒸发镀膜的常用方法（电阻加热和电子束加热），了解合金膜及化合物摸的蒸镀。
第三章溅射镀膜1、教学内容（1）溅射镀膜的特点和基本原理（2）溅射镀膜的类型2、教学要求掌握溅射镀膜的基本原理和特点，理解表征溅射特性的参量及其影响因素，了解溅射机理及溅射镀膜的各种类型第四章离子镀膜1、教学内容（1）离子镀的原理和特点（2）离子轰击的作用（3）离子镀的类型2、教学要求掌握离子镀的基本原理和特点，理解离子轰击的作用，了解离子镀的类型。
薄膜科学与技术教学大纲
《薄膜科学与技术》教学大纲一、课程简介课程名称：薄膜科学与技术 Science and Technology of Thin Films课程类型：专业课（选修）学时：48学分：3开课学期：7开课对象：材料物理专业先修课程：固体物理导论；材料分析测试技术参考教材：1．郑伟涛《薄膜材料与薄膜技术》化学工业出版社2．田民波《薄膜技术与薄膜材料》清华大学出版社3．杨邦朝《薄膜物理与技术》电子科技大学出版社4．唐伟忠《薄膜材料制备原理，技术及应用》冶金工业出版社二、课程性质、目的与任务《薄膜科学与技术》是“材料物理”专业本科生拓展知识面的选修课程，它也适合材料类其它专业学生选修。
学生在已具备一定的固体物理导论、材料分析测试技术等知识的基础上，通过本课程了解薄膜的基本概念、特殊性和重要性；掌握薄膜材料的制备方法、形成过程、表征方法、性质及应用。
薄膜是材料的一种特殊形态。
薄膜科学是现代材料科学中极其重要和发展最为迅速的一个分支，已成为微电子学、光电子学、磁电子学等新兴交义学科的材料基础，成为了构筑高新技术产业的基本要素。
通过对薄膜科学与技术课程的学习，并通过相关资料查询、阅读、专题报告及综合分析与讨论，逐渐使学生掌握薄膜基本概念、特殊性、制备方法、生长理论和研究方法，为今后从事薄膜材料及相关材料领域的研究和工作打下良好的基础。
三、教学基本要求1. 了解和掌握薄膜的定义、分类、特殊性和重要性。
2. 掌握与薄膜制备和研究相关的真空基础知识。
3. 掌握薄膜材料的制备方法及原理。
4. 掌握薄膜的成核和生长理论；5. 掌握薄膜的厚度、结构、成份、原子化学键合、应力、附着力的表征分析方法。
6. 了解薄膜材料的性质及应用。
本课程介绍薄膜的基础知识和研究进展。
重点要求掌握薄膜材料的制备方法及表征技术。
课程较全面地介绍了薄膜材料的各种制备方法、生长过程和表征方法，具有较好的广度和深度。
使学生基本具备相关资料综合分析和整理能力。
《薄膜技术》课程教学大纲
1．凝结过程
2．薄膜形成过程
3．薄膜生长模式
重点：从物理角度了解薄膜形成过程及机理和与其相关的影响因素
（八）薄膜结构与缺陷（3学时）
介绍决定薄膜性能的薄膜结构与缺陷几种薄膜结构与组分的几种分析方法。
重点：介绍薄膜的几种主要缺陷，了解几种薄膜分析手段。
（九）薄膜的性质（4学时）
重点：通过介绍几大类薄膜材料，使学生了解各种薄膜的特性及应用前景。
重点：真空获得的主要手段、原理及测量。掌握一些常规的真空技术。
（二）真空蒸发镀膜法（8学时）
内容：
1．真空蒸发原理
2．蒸发源的发射特点
3．膜厚和淀积速率的测量
4．蒸发的工艺技术
重点：理解蒸发原理，蒸发源的发射特点，掌握蒸发源与基片的配置、膜厚测量与有关的蒸发工艺技术，如电子束加热源或激光加热源等。
（三）溅射镀膜（8学时）
内容：
1．溅射镀膜的特点
2．溅射的基本原理
3．溅射镀膜类型
4．溅射镀膜的厚度均匀性
重点：理解溅射镀膜的特点、机理及与蒸发镀膜的区别，掌握各种不同的溅射方法，特别是磁控溅射。
（四）离子镀膜（5学时）
内容：
1．离子镀原理
2．离子镀特点
3．离子轰击的作用
4．离子镀的类型
重点：结合蒸发镀膜法、溅射镀膜法的特点，掌握离子镀膜的原理、特点及多种离子镀类型。
配套
实践
环节
说明
大纲
编写
责任
人
应用物理
（教研组）
龚小燕（签名）
2000年10月20日
系
审核
意见
物理
（系）
龚小燕（签名）
2001年07月06日
学院
【教学大纲】薄膜技术
《薄膜技术》课程教学大纲一、教师或教学团队信息二、课程基本信息课程名称（中文）：薄膜技术课程名称（英文）：Thin Film Technology课程类别：□通识必修课□通识选修课□专业必修课□专业方向课√□专业拓展课□实践性环节课程性质*：□学术知识性√□方法技能性□研究探索性□实践体验性课程代码：1230161周学时：3 总学时：48学分: 3先修课程：普通物理学授课对象：应用物理专业本科生三、课程简介薄膜技术是应用物理专业高年级本科生选修课程。
薄膜技术是先进制造业的基础，涉及范围包括集成电路与电子元器件、显示器和LED照明、信息记录与储存、MEMS与传感器和太阳能电池等高技术产业。
通过本课程的学习，使应用物理专业的学生掌握真空技术、等离子体技术以及薄膜制备结构和性能等方面的基础知识，为本专业学生在高技术制造企业从业或继续进行研究生阶段的学习提供必要的知识和训练。
四、课程目标本课程的教学目标是在结合典型实例，深入浅出地阐明薄膜技术的基本原理，通过教师讲授和学生讨论相结合的方式，将培养和提高学生分析问题和解决问题的能力作为教学重点。
通过本课程的学习使学生掌握薄膜物理的基本知识及基本的薄膜制备技术，同时了解该领域当前的一些前沿研究进展和应用，为本专业学生在高技术制造企业从业或继续进行研究生阶段的学习提供必要的知识和训练。
本课程的教学要求学生初步掌握真空及薄膜的物理基础，对真空获得、真空测量、气体放电、低温等离子体技术、溅射、化学气相沉积以及薄膜制备结构和性能等有较深入的了解；在重点掌握溅射、化学气相沉积等基本工艺的基础上，对迅速发展的薄膜技术有全面的了解；结合国外相关的课程资料和课堂讨论，对于工业界应用的薄膜材料制备、结构、性能有系统的学习。
五、教学内容与进度安排第一章课程导论1. 课时数32. 讲授内容或训练技能，重点、难点--课程介绍--薄膜技术及应用领域以及同薄膜物理的关系--薄膜获得设备和薄膜实验室参观3. 学生学习任务--薄膜的物理定义--理解薄膜技术是高精尖的生产技术和在信息、高技术产品制造中的作用--通过薄膜实验室参观，了解薄膜生长设备的主要组成部分、真空室和真空获得设备、等离子体辉光观察和完整的薄膜生长制程。
薄膜材料与薄膜技术教学大纲
《薄膜材料与薄膜技术》课程教学大纲一、《材料制备技术》课程说明（一）课程代码：（二）课程英文名称：Thin Film Materials and Thin film Technology（三）开课对象：物理系材料物理专业（四）课程性质：本课程是材料物理专业的一门专业选修课。
（五）教学目的本课程主要介绍薄膜材料的制备及特性。
通过学习既可以掌握一些薄膜物理的基本知识，同时也能了解该领域内当前的一些前沿研究进展，开阔眼界，这些都有利于学生将来更好的投入科研工作中去。
（六）教学内容：本课程主要论述薄膜的制造技术与薄膜物理的基础内容。
其中系统介绍了各种成膜技术的基本原理与方法，包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术以及膜厚的测量与监控等。
同时介绍了薄膜的形成，薄膜的结构与缺陷，薄膜的电学性质、力学性质、半导体特性、磁学性质以及超导性质等。
（七）学时数、学分数及学时数具体分配学时数：36学分数：2（八）教学方式：课堂教学（九）考核方式和成绩记载说明：考核方式为考试。
严格考核学生出勤情况，达到学籍管理规定的旷课量取消考试资格，综合成绩根据出勤情况、平时成绩和期末成绩评定，出勤情况占20％，平时成绩占20％，期末成绩占60％。
二、讲授大纲与各章的基本要求第一章真空技术基础教学要点：通过本章的教学使学生初步了解真空的基本知识，掌握获取一定程度的真空状态的方法及测量手段。
教学时数：4教学内容：第一节：真空的基本知识第二节：稀薄气体的基本性质第三节：真空的获得第四节：真空的测量考核要求：1．真空的基本知识（识记）2．稀薄气体的基本性质（领会）3．真空的获得（领会）4．真空的测量（识记）第二章真空蒸发镀膜法教学要点：了解真空蒸发镀膜的基本原理，了解蒸发特性以及相应的膜厚分布特点，了解膜厚和沉积速率的测量与监控方法。
教学时数：4教学内容：第一节：真空蒸发原理第二节：蒸发源的蒸发特性及膜厚分布第三节：蒸发源的类型第四节：合金及化合物的蒸发第五节：膜厚和沉积速率的测量与监控考核要求：1．真空蒸发基本原理（领会）2．蒸发源的特性及膜厚分布（识记）3．蒸发源的类型（识记）4．膜厚和沉积速率的测量与监控（领会）5．合金及化合物的蒸发（领会）第三章溅射镀膜教学要点：了解溅射法制备纳米薄膜的基本原理，掌握溅射法制备的特点，熟悉溅射镀膜的几种基本类型，了解溅射镀膜的厚度分布特点，明确如何控制厚度均匀性指标。
薄膜物理与技术课程教学大纲
薄膜物理与技术课程教学大纲一、课程说明（一）课程名称、所属专业、课程性质、学分；课程名称：薄膜物理与技术所属专业：电子器件与材料工程课程性质：必修课学分：（二）课程简介、目标与任务；本课程讲授薄膜的形成机制和原理、薄膜结构和缺陷、薄膜各项物理性能和分析方法等物理内容；讲授薄膜各种制备技术。
通过本课程学习，使学生具备从事电子薄膜、光学薄膜、以及各种功能薄膜研究与开发的能力（三）先修课程要求，与先修课与后续相关课程之间的逻辑关系和内容衔接；《量子力学》、《热力学与统计物理》、《固体物理》、《电子技术》、《电路分析》等。
（四）教材与主要参考书。
教材：杨邦朝，王文生. 《薄膜物理与技术》，成都：电子科技大学出版社，主要参考书：.陈国平.《薄膜物理与技术》，东南大学出版社，.田民波，薄膜技术与薄膜材料，清华大学出版社，二、课程内容与安排本课程全部为课堂讲授。
重点：真空的获得和真空测量的工作原理；物理气相沉积和化学气相沉积的原理及方法；薄膜生长的机理。
难点：磁控溅射的机理及控制；技术；薄膜形成过程的机理（一）绪论学时、薄膜的概念和历史、薄膜材料与薄膜技术的发展、薄膜科学是边缘交叉学科、薄膜产业是腾飞的高科技产业（二）真空技术基础学时、真空的基本知识、真空的获得、真空的测量（三）真空蒸发镀膜学时、真空蒸发原理、蒸发源的蒸发特性及膜厚分布、蒸发源的类型、合金及化合物的蒸发、膜厚和淀积速率的测量与控制（四）溅射镀膜学时、溅射镀膜的特点、溅射的基本原理、溅射镀膜类型、溅射镀膜的厚度均匀性（五）离子镀膜学时、离子镀原理、离子镀的特点、离子轰击的作用、离子镀的类型（六）化学气相沉积镀膜学时、化学气相沉积的基本原理、化学气相沉积的特点、化学气相沉积方法简介、低压化学气相沉积、等离子体化学气相沉积、其他化学气相沉积（七）溶液镀膜法学时、化学反应沉积、阳极氧化法、电镀法、膜的制备（八）薄膜的形成学时、凝结过程、核形成过程、薄膜形成过程生长模型、溅射薄膜的形成过程、薄膜的外延生长、薄膜形成过程的计算机模拟（九）薄膜的结构和缺陷学时、薄膜的结构、薄膜的缺陷、薄膜表面缺陷：再构表面和吸附表面、薄膜结构与组分的分析方法（十）薄膜的性质和应用学时、薄膜的力学性质和应用、光学薄膜的性质和应用、金属薄膜的电学性质和应用、功能介质薄膜的电学性质和应用、半导体薄膜的性质和应用、磁性薄膜的性质和应用、超导薄膜的性质和应用、金刚石薄膜的性质和应用制定人：谢二庆审定人：批准人：日期：。
13103206-薄膜物理与应用
《薄膜物理与应用》课程教学大纲一、课程基本信息课程编号：13103206课程类别：专业选修课程适应专业：材料物理总学时：54总学分：3课程简介：本课程主要介绍薄膜的基本制造技术与薄膜物理基础。
等。
主要内容包含各种制膜技术与原理，薄膜厚度分布计算，膜厚测试与监控技术、薄膜的生长过程和形成机理、薄膜的结构及特性等，并尽可能反映现在薄膜科学与技术方面的新进展。
授课教材：《薄膜物理与技术》，杨邦朝编著，电子科技大学出版社，1994年。
参考书目：[1]《半导体薄膜技术与物理》，叶志镇等编著，浙江大学出版社，2008年。
[2]《薄膜加工工艺》，（美）J.L.沃森编，机械工业出版社，1987年。
[3]《薄膜物理》，薛址泉编，电子工业出版社，1991年。
二、课程教育目标薄膜物理与应用是材料科学与工程专业一门重要的技术基础课程，学生通过对本课程的系统学习，了解新颖的半导体材料和微电子、光电子高科技的迅速发展，熟悉低维、薄膜材料技术与器件相关工艺等微电子、光电子关键技术，掌握常用薄膜材料与器件的制备技术及相关基础知识，这对他们今后在高科技领域学习或工作将发挥重要作用。
通过这门课程的教学，达到以下目标：（1）要求学生初步掌握真空及薄膜的物理基础，对真空获得、真空测量、气体放电、等离子体物理、离子溅射、薄膜生长等有较深入的了解。
（2）在重点掌握真空蒸镀、溅射、化学气相沉积等基本工艺的基础上，对迅速发展的薄膜技术有全面的了解。
（3）通过资料调研和课堂讨论，在重点了解一两种薄膜材料的基础上，对各种类型薄膜材料的制备、结构、性能及应用有系统的了解。
（4）要求能够使用多种类型薄膜材料的设备、分析多种类型的薄膜的性能，并初步具备开发新设备、制备新材料的能力。
三、教学内容与要求第一章薄膜制备的真空技术基础教学重点：真空获得的一些手段及常用的测量方法教学难点：真空获得的一些手段及常用的测量方法教学时数：5学时教学内容：气体分子运动论的基本概念，气体的流动状态与真空抽速，真空泵简介与真空的获得，真空的测量。
薄膜物理与技术
薄膜物理与技术薄膜物理与技术第⼀章1、真空：低于⼀个⼤⽓压的⽓体空间。
P12、真空度与压强的关系：真空度越低，压强越⾼。
P13、1Torr = 1/760 atm =133.322Pa.（或1Pa=7.5×10-3Torr）P24、平均⾃由程：每个分⼦在连续两次碰撞之间的路程。
P55、余弦定律：碰撞于固体表⾯的分⼦，它们飞离表⾯的⽅向与原⼊射⽅向⽆关，并按与表⾯法线⽅向所成⾓度θ的余弦进⾏分布。
P76、极限压强（或极限真空）：对于任何⼀个真空系统⽽⾔，都不可能得到绝对真空（p=0），⽽是具有⼀定的压强。
P77、抽⽓速率：在规定压强下单位时间所抽出⽓体的体积，它决定抽真空所需要的时间。
P78、机械泵的原理：利⽤机械⼒压缩和排除⽓体。
P89、分⼦泵的⼯作原理：靠⾼速转动的转⼦碰撞⽓体分⼦并把它驱向排⽓⼝，由前级泵抽⾛，⽽使被抽容器获得超⾼真空。
P13第⼆章1、真空蒸发镀膜的三个基本过程：P17（1）加热蒸发过程：……（2）⽓化原⼦或分⼦在蒸发源与基⽚之间的输运：……（3）蒸发原⼦或分⼦在基⽚表⾯上的淀积过程：……2、为什么真空蒸发镀膜的三个过程必须在空⽓⾮常稀薄的真空环境中进⾏？P18答：如果不是真空环境，蒸发物原⼦或分⼦将与⼤量空⽓分⼦碰撞，使膜层受到严重污染，甚⾄形成氧化物；或者蒸发源被加热氧化烧毁；或者由于空⽓分⼦的碰撞阻挡，难以形成均匀连续的薄膜。
3、饱和蒸⽓压：在⼀定温度下，真空室内蒸发物质的蒸⽓与固体或液体平衡过程中所表现出的压⼒。
P184、蒸发温度：物质在饱和蒸⽓压为10-2托时的温度。
P185、碰撞⼏率：。
P236、点蒸发源：能够从各个⽅向蒸发等量材料的微⼩球状蒸发源。
P25-27计算：公式2-28、2-337、蒸发源与基板的相对位置配置P33（1）点源与基板相对位置的配置：为了获得均匀膜厚，点源必须配置在基板所围成的球体中⼼。
（2）⼩平⾯源与基板相对位置的配置：当⼩平⾯源为球形⼯作架的⼀部分时，该⼩平⾯蒸发源蒸发时，在内球体表⾯上的膜厚分布是均匀的。
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薄膜物理与技术课程教学大纲
一、课程说明
（一）课程名称、所属专业、课程性质、学分；
课程名称：薄膜物理与技术
所属专业：电子器件与材料工程
课程性质：必修课
学分：3
（二）课程简介、目标与任务；
本课程讲授薄膜的形成机制和原理、薄膜结构和缺陷、薄膜各项物理性能和分析方法等物理内容；讲授薄膜各种制备技术。
通过本课程学习，使学生具备从事电子薄膜、光学薄膜、以及各种功能薄膜研究与开发的能力
（三）先修课程要求，与先修课与后续相关课程之间的逻辑关系和内容衔接；
《量子力学》、《热力学与统计物理》、《固体物理》、《电子技术》、《电路分析》等。
（四）教材与主要参考书。
教材：杨邦朝，王文生. 《薄膜物理与技术》，成都：电子科技大学出版社，1994
主要参考书：1.陈国平.《薄膜物理与技术》，东南大学出版社，1993
2.田民波，薄膜技术与薄膜材料，清华大学出版社，2006-8
二、课程内容与安排
本课程全部为课堂讲授。
重点：真空的获得和真空测量的工作原理；物理气相沉积和化学气相沉积的原理及方法；薄膜生长的机理。
难点：磁控溅射的机理及控制；MOCVD技术；薄膜形成过程的机理
（一）绪论2学时
1、薄膜的概念和历史
2、薄膜材料与薄膜技术的发展
3、薄膜科学是边缘交叉学科
4、薄膜产业是腾飞的高科技产业
（二）真空技术基础2学时
1、真空的基本知识
2、真空的获得
3、真空的测量
（三）真空蒸发镀膜4学时
1、真空蒸发原理
2、蒸发源的蒸发特性及膜厚分布
3、蒸发源的类型
4、合金及化合物的蒸发
5、膜厚和淀积速率的测量与控制
（四）溅射镀膜4学时
1、溅射镀膜的特点
2、溅射的基本原理
3、溅射镀膜类型
4、溅射镀膜的厚度均匀性
（五）离子镀膜2学时
1、离子镀原理
2、离子镀的特点
3、离子轰击的作用
4、离子镀的类型
（六）化学气相沉积镀膜4学时
1、化学气相沉积的基本原理
2、化学气相沉积的特点
3、化学气相沉积方法简介
4、低压化学气相沉积
5、等离子体化学气相沉积
6、其他化学气相沉积
（七）溶液镀膜法2学时
1、化学反应沉积
2、阳极氧化法
3、电镀法
4、LB膜的制备
（八）薄膜的形成4学时
1、凝结过程
2、核形成过程
3、薄膜形成过程生长模型
4、溅射薄膜的形成过程
5、薄膜的外延生长
6、薄膜形成过程的计算机模拟
（九）薄膜的结构和缺陷4学时
1、薄膜的结构
2、薄膜的缺陷
3、薄膜表面缺陷：再构表面和吸附表面
4、薄膜结构与组分的分析方法
（十）薄膜的性质和应用4学时
1、薄膜的力学性质和应用
2、光学薄膜的性质和应用
3、金属薄膜的电学性质和应用
4、功能介质薄膜的电学性质和应用
5、半导体薄膜的性质和应用
6、磁性薄膜的性质和应用
7、超导薄膜的性质和应用
8、金刚石薄膜的性质和应用
制定人：谢二庆
审定人：
批准人：
日期：2016.11.20。