电子厂房洁净室系统.
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HJT FAB 8N PROJECT
C/R ELEC GAS CHEMICAL HVAC DI ARCH P-P
CDA PCW
ARCH
EPOXY COATING RAISED FLOOR CEILING GRID SYS. PARTITION AIR SHWOR/AIR LOCK TOOL FOUNDATION VIRBRATION DEFENCE
FAB 2
WH
CUB
SB
FAB 1
OB
回主画面
SUB – FAB（MASK SHOP)
回主画面
RAP
回主画面
FAB、SB3F、G/R
回主画面
TRUSS、SB4F-TEST AREA
回主画面
电子厂剖面概念图
DESMOKE FAN DESMOKE FAN
COIL
RAISED FLOOR
COIL
Layout 说明
MAU与空气循环系统
洁 净 室 的 定 义
洁净室为将一定空间范围内之空气中的微
尘粒子、有害空气、细菌等之污染物排除 ，并将室内之温湿度、洁净度、室内压力 、气流速度与气流分布、噪音震动及照明 、静电控制在某一需求范围内，而给于特 别设计之房间以符合制程工艺之需求
回主画面
PV HV BA
IW
回主画面
HJT C/R 主要洁净需求
Cleanliness
0.1 100 1000 23± 2℃ 10000
Temperature 23± 0.5℃
Humidity
45± 5% RH
23± 0.5℃
45± 5% RH
23± 2℃
45± 5% RH 45± 10% RH
回主画面
电子厂平面配置概念图
Pre-filter (EU3) Medium-filter (EU6) Fan
OA
MA
回主画面
洁净室热源分布
MA q4 Ta4' SAP q5 q6 Ta1 q3 q1 Ta2 FAB Ta5
RA SHAFT
Hale Waihona Puke BaiduEQUIPMENT
q2 RA Ta4 qc RA Ta3 RAP
回主画面
洁净室系统流程
电 子 厂洁 净 室 系 统简 介
大 纲
为何需要Clean Room
洁净室的定义 洁净等级定义 制程线宽与洁净度之关系
洁净室系统型式
风管系统 FFU系統 轴流风机系统
Clean Room之环境因子
影响C/R洁净度的环境因子
HJT C/R 介紹
架构表及主要系统介绍
1 M1 ISO3
0.1
0.01
ISO2
ISO1
回主画面
每立方公尺塵粒數
每立方呎塵粒數
微 塵 粒 徑
制程线宽与洁净度之关系
製程線寬 (um)
0.65 100 90 80 70 0.50 0.35 0.25 0.18 0.15 0.12
預估製程良率 (%)
60 50 40 30 20 10 0
潔淨度 Class 1
PV BA
PCW CDA
回主画面
MAU + 空气循环系统
外气空调箱功能
压力之控制 湿度之控制
空气循环系统功能
洁净度之控制 溫度之控制
外气微尘粒之预处理
气态分子之控制
MAU
湿度之维持
气态分子之控制
洁净室热源分布
洁净室系统流程
回主画面
外气处理空调箱
Cooling Coil (Step1) Air Washer Eliminator Cooling Coil (Step2) Eliminator Re-heating Coil Chemical Filter Medium-filter (EU8) HEPA (EU12) Steam Humidifier Back-draft Damper
回主画面
洁净室空调系统型式
风管系统
以风管输送洁净空气 循环空调箱兼处理外气
FFU系統
天花空间为微负压气室 独立设置外气空调箱
轴流风机系统
天花空间为正压气室 独立设置外气空调箱
回主画面
风管系统
(循环空调箱兼处理外气)
OA
洁净度、温度及湿度控制
AHU RA DUCT SA DUCT
HVAC
MAU SYS. FFU SYS 2’nd CHW DRY COIL AIR WASHER SYS.
FIRE PROTECTION
FIRE SPRINKLER DESMOKE SYS. ADRANCE DETECTOR SYS. AIR SAMPLING SYS.
ELEC/CONTROL
LIGHTING SPEAKER FFU HARMONIC MAU&DC BANK&HARMONIC FILTER HVAC MONITOR FFU MONITOR ION. SYS. FMS
Class 0.1
Class 0.01
公元 1989
1992
1995
1998
2001
2004
2007
2010 年
回主画面
污 染 物 大 小
0.3um粒径
人类头发直径-100um
肉眼可视粒径
回主画面
影响C/R洁净度之环境因子
温度 湿度 压力 微尘粒子 照度 微振动 噪声 静电 化学物质
RA SA SA SA
RA
FFU系統
(独立设置外气空调箱)
MAU MA
湿度控制
FROM OA
温度控制
洁净度控制
温度控制
RA SHAFT
SA
SA
RA
RA
RA SHAFT
轴流风机系统
(独立设置外气空调箱)
温度控制
SA SHAFT
洁净度控制
温度控制
SA SHAFT
MA
VD
VD
湿度控制
架构表及主要系统设备介绍
洁
100,000 10,000 1,000 100 10 1
净 等
级
1,000,000 100,000
0.5 um
0.2 u 0.3 m um 0.1 u m
10,000 1,000 100 10
0.1 1 0.01
英制 100k 10k 1k 100 10 SI制 M6 M5 M4 M3 M2
ISO/TC209 ISO8 ISO7 ISO6 ISO5 ISO4
DE-SMOKE MA Outside MA P = -5Pa TRUSS t = 22 C
RA SHAFT
RA
RA
RA
RA
RA P = 25Pa RA RAP t = 25 C
RA
RA
回主画面
RA SHAFT
P = 30Pa
FAB
t = 23 C
C/R ELEC GAS CHEMICAL HVAC DI ARCH P-P
CDA PCW
ARCH
EPOXY COATING RAISED FLOOR CEILING GRID SYS. PARTITION AIR SHWOR/AIR LOCK TOOL FOUNDATION VIRBRATION DEFENCE
FAB 2
WH
CUB
SB
FAB 1
OB
回主画面
SUB – FAB（MASK SHOP)
回主画面
RAP
回主画面
FAB、SB3F、G/R
回主画面
TRUSS、SB4F-TEST AREA
回主画面
电子厂剖面概念图
DESMOKE FAN DESMOKE FAN
COIL
RAISED FLOOR
COIL
Layout 说明
MAU与空气循环系统
洁 净 室 的 定 义
洁净室为将一定空间范围内之空气中的微
尘粒子、有害空气、细菌等之污染物排除 ，并将室内之温湿度、洁净度、室内压力 、气流速度与气流分布、噪音震动及照明 、静电控制在某一需求范围内，而给于特 别设计之房间以符合制程工艺之需求
回主画面
PV HV BA
IW
回主画面
HJT C/R 主要洁净需求
Cleanliness
0.1 100 1000 23± 2℃ 10000
Temperature 23± 0.5℃
Humidity
45± 5% RH
23± 0.5℃
45± 5% RH
23± 2℃
45± 5% RH 45± 10% RH
回主画面
电子厂平面配置概念图
Pre-filter (EU3) Medium-filter (EU6) Fan
OA
MA
回主画面
洁净室热源分布
MA q4 Ta4' SAP q5 q6 Ta1 q3 q1 Ta2 FAB Ta5
RA SHAFT
Hale Waihona Puke BaiduEQUIPMENT
q2 RA Ta4 qc RA Ta3 RAP
回主画面
洁净室系统流程
电 子 厂洁 净 室 系 统简 介
大 纲
为何需要Clean Room
洁净室的定义 洁净等级定义 制程线宽与洁净度之关系
洁净室系统型式
风管系统 FFU系統 轴流风机系统
Clean Room之环境因子
影响C/R洁净度的环境因子
HJT C/R 介紹
架构表及主要系统介绍
1 M1 ISO3
0.1
0.01
ISO2
ISO1
回主画面
每立方公尺塵粒數
每立方呎塵粒數
微 塵 粒 徑
制程线宽与洁净度之关系
製程線寬 (um)
0.65 100 90 80 70 0.50 0.35 0.25 0.18 0.15 0.12
預估製程良率 (%)
60 50 40 30 20 10 0
潔淨度 Class 1
PV BA
PCW CDA
回主画面
MAU + 空气循环系统
外气空调箱功能
压力之控制 湿度之控制
空气循环系统功能
洁净度之控制 溫度之控制
外气微尘粒之预处理
气态分子之控制
MAU
湿度之维持
气态分子之控制
洁净室热源分布
洁净室系统流程
回主画面
外气处理空调箱
Cooling Coil (Step1) Air Washer Eliminator Cooling Coil (Step2) Eliminator Re-heating Coil Chemical Filter Medium-filter (EU8) HEPA (EU12) Steam Humidifier Back-draft Damper
回主画面
洁净室空调系统型式
风管系统
以风管输送洁净空气 循环空调箱兼处理外气
FFU系統
天花空间为微负压气室 独立设置外气空调箱
轴流风机系统
天花空间为正压气室 独立设置外气空调箱
回主画面
风管系统
(循环空调箱兼处理外气)
OA
洁净度、温度及湿度控制
AHU RA DUCT SA DUCT
HVAC
MAU SYS. FFU SYS 2’nd CHW DRY COIL AIR WASHER SYS.
FIRE PROTECTION
FIRE SPRINKLER DESMOKE SYS. ADRANCE DETECTOR SYS. AIR SAMPLING SYS.
ELEC/CONTROL
LIGHTING SPEAKER FFU HARMONIC MAU&DC BANK&HARMONIC FILTER HVAC MONITOR FFU MONITOR ION. SYS. FMS
Class 0.1
Class 0.01
公元 1989
1992
1995
1998
2001
2004
2007
2010 年
回主画面
污 染 物 大 小
0.3um粒径
人类头发直径-100um
肉眼可视粒径
回主画面
影响C/R洁净度之环境因子
温度 湿度 压力 微尘粒子 照度 微振动 噪声 静电 化学物质
RA SA SA SA
RA
FFU系統
(独立设置外气空调箱)
MAU MA
湿度控制
FROM OA
温度控制
洁净度控制
温度控制
RA SHAFT
SA
SA
RA
RA
RA SHAFT
轴流风机系统
(独立设置外气空调箱)
温度控制
SA SHAFT
洁净度控制
温度控制
SA SHAFT
MA
VD
VD
湿度控制
架构表及主要系统设备介绍
洁
100,000 10,000 1,000 100 10 1
净 等
级
1,000,000 100,000
0.5 um
0.2 u 0.3 m um 0.1 u m
10,000 1,000 100 10
0.1 1 0.01
英制 100k 10k 1k 100 10 SI制 M6 M5 M4 M3 M2
ISO/TC209 ISO8 ISO7 ISO6 ISO5 ISO4
DE-SMOKE MA Outside MA P = -5Pa TRUSS t = 22 C
RA SHAFT
RA
RA
RA
RA
RA P = 25Pa RA RAP t = 25 C
RA
RA
回主画面
RA SHAFT
P = 30Pa
FAB
t = 23 C