电镀层模厚单位换算

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关于膜厚测试的标准单位换算

关于膜厚测试的标准单位换算

关于膜厚测试标准单位换算标准文件GX-MQ-001起草:审核:批准:20 年月日发布 20 年月日实施在连接器或线材行业中,免不了要做膜厚报告,其中经常会碰到关于膜厚报告中常用到U",这个单位是怎么回事呢?为什么读音念”麦”?关于膜厚单位这个问题,在五金行业可以说是非常重要的,在电镀行业更是不可忽视的。

有人说,1μm等于39.37 u",这个单位无从查考,但这个u"(读音为“麦”)却在电镀行业风行,对它的含义却少有人研究或考证,另外还有mil(密耳)这个单位也容易混淆。

笔者就来研究这个问题。

(1)首先说μm和μin的关系。

μin是不是u"(读mai),姑且不论,μin的确就是μinch,中文叫微英寸,下面论述1μm=39.37μinch是如何推导出来的。

1inch=10000000μin ch1英尺=12英寸=0.914市尺=30.48厘米,1英寸=25.4毫米,英尺=12英寸如上所述,微英寸即为μin= 0.0254/1000米,即μin= 0.0254mm, 1mm=1000μm1000μin= 25.4μm,即1μm=39.37μin(2)其次再说说u"和μm的关系。

u"是镀层膜厚单位;全称就是micro inch,就是微英寸,因为μin就是u"的简写符号,uin是μinch的简写符号,只是μinch并不是纲量定律指定的单位。

μin= u"故1μm=39.37u"在网上经常可以看到1000μin=25.4μm,变换公式就是:μm=39.37u",注意:1μin(微英寸)并不是μm(微米),首先μm(念谬)与u"(念麦)是不同的概念,而电镀行业经常将这两个概念误用,比如镀金来讲吧,如果误用,应该有相当大的成本损耗或引起经济上的纠纷。

例如用u"表示为:镀银为80 u"镀金为:1u"雾锡:80u"镀镍:50u"而用微米μm来表示则为:滚镀锌4-8 μm。

镀层厚度是如何计算的?

镀层厚度是如何计算的?

镀层厚度是如何计算的?
镀层厚度是如何计算的?
镀层厚度是可以通过电沉积参数进行计算的,由电流效率公式可以得到:
同时,所得金属镀层的重量也可以用金属的体积和它的密度计算出来:
式中V—金属镀层的体积,cm3;S—金属镀层的面积,cm2;δ金属镀层的厚度,cm;r-金属的密度,g/cm3。

由于实际科研和生产中对镀层的量度单位都是用的微米(µm),而对受镀面积则都采用平方分米(dm2)做单位,这样,当我们要根据已知的各个参数来计算所获得镀层的厚度时,需要做一些换算。

由ldm2=100cm2,lcm=10000µm可得到:
将M′=Kltη代入上式得:
电镀过程中是以电流密度为参数的,也就是单位面积上通过的电流值。

为了方便计算,根据电流密度的概念,D=1/S,可以将上式中的l/S换成电流密度D。

而电流密度的单位是A/din2,考虑到电镀是以min计时间,代人后得:
这就是根据所镀镀种的电化学性质(电化当量和电流效率)和所使用的电流密度和时间进行镀层厚度计算的公式。

根据这个公式,可以计算出在一定电流密度下电镀一定时间的镀层厚度,也可以计算要镀得某个厚度需要多少时间。

镀锌厚度单位

镀锌厚度单位

镀锌厚度单位
镀锌厚度单位指的是镀锌层的厚度单位,常用的单位有微米和公斤/平方米两种。

其中,微米是一种长度单位,表示1毫米的1/1000,用于表示薄膜、涂层、镀层等的厚度,1微米=0.001毫米。

在镀锌行业中,常用微米来表示镀锌层的厚度,一般要求镀锌层厚度在5-25微米之间。

另外,公斤/平方米也是一种常用的镀锌厚度单位,表示在每平方米的表面积上覆盖的锌的重量。

一般来说,镀锌层的密度为7.14克/立方厘米,因此,1微米的镀锌层重量为约7.14克/平方米。

因此,常用的镀锌层厚度为20克/平方米、40克/平方米、60克/平方米等。

总之,不同的行业和应用领域会采用不同的镀锌厚度单位,但微米和公斤/平方米是最常用的两种单位。

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电镀时间与理论厚度的计算方法

电镀时间与理论厚度的计算方法

电镀时间与理论厚度的计算方法现代电镀网9月23日讯:电镀时间的计算:电镀时间(分)==电镀子槽总长度(米)/产速(米/分)例:某一连续电镀设备,每一个镀镍子槽长为1.0米,共有五个,生产速度为10米/分,请问电镀时间为多少?电镀时间(分)==1.0×5/10==0.5(分)理论厚度的计算:由法拉第两大定律导出下列公式:理论厚度Z(µ``)==2.448CTM/ND(Z厚度,T时间,M原子量,N电荷数,D密度,C电流密度)举例:镍密度8.9g/cm3,电荷数2,原子量58.69,试问镍电镀理论厚度?Z==2.448 CTM/ND==2.448CT×58.69/2×8.9==8.07CT若电流密度为1Amp/dm2(1ASD),电镀时间为一分钟,则理论厚度Z==8.07×1×1==8.07µ``金理论厚度==24.98CT(密度19.3,分子量196.9665,电荷数1)铜理论厚度==8.74 CT(密度8.9,分子量63.546,电荷数2)银理论厚度==25.15 CT(密度10.5,分子量107.868,电荷数1)钯理论厚度==10.85 CT(密度12.00,分子量106.42,电荷数2)80/20钯镍理论厚度==10.42 CT(密度11.38,分子量96.874,电荷数2)90/10锡铅理论厚度==20.28 CT(密度7.713,分子量127.8,电荷数2)综合计算A:假设电镀一批D-25P-10SnPb端子,数量为20万支,生产速度为20M/分,每个镍槽镍电流为50 Amp,金电流为4 Amp,锡铅电流为40 Amp,实际电镀所测出厚度镍为43µ``,金为11.5µ``,锡铅为150µ``,每个电镀槽长皆为2米,镍槽3个,金槽2个,锡铅槽3个,每支端子镀镍面积为82平方毫米,镀金面积为20平方毫米,镀锡铅面积为46平方毫米,每支端子间距为0.6毫米,请问:1.20万只端子,须多久可以完成?2.总耗金量为多少g?,换算PGC为多少g?3.每个镍,金,锡铅槽电流密度各为多少?4.每个镍,金,锡铅电镀效率为多少?解答:1.20万支端子总长度==200000×6==1200000==1200M20万支端子耗时==1200/20==60分==1Hr2.20万支端子总面积==200000×20==4000000mm2==400dm220万支端子耗纯金量==0.0049AZ==0.0049×400×11.5==22.54g20万支端子耗PGC量==22.54/0.681==33.1g3.每个镍槽电镀面积==2×1000×82/6==27333.33mm2==2.73dm2每个镍槽电流密度==50/2.73==18.32ASD每个金槽电镀面积==2×1000×20/6==6666.667mm2==0.67dm2每个镍槽电流密度==4/0.67==5.97ASD每个锡铅槽电镀面积==2×1000×46/6==15333.33mm2==1.53dm2每个镍槽电流密度==40/1.53==26.14ASD4.镍电镀时间==3×2/20==0.3分镍理论厚度==8.07CT==8.07×18.32×0.3==44.35镍电镀效率==43/44.35==97%金电镀时间==2×2/20==0.2分金理论厚度==24.98CT==24.98×5.97×0.2==29.83金电镀效率==11.5/29.83==38.6%锡铅电镀时间==3×2/20==0.3分锡铅理论厚度==20.28CT==20.28×26.14×0.3==159锡铅电镀效率==150/159==94.3%综合计算B:今有一客户委托电镀加工一端子,数量总为5000K,其电镀规格为镍50µ``,金GF,锡铅为100µ``。

【精品】电镀常用计算公式

【精品】电镀常用计算公式

电镀中常用计算公式■镀层厚度的计算公式:(厚度代号:d、单位:微米)ηk)/60rd=(C×Dk×t×■电镀时间计算公式:(时间代号:t、单位:分钟)t=(60×r×d)/(C×Dk×ηk)■阴极电流计效率算公式:(代号:ηk、单位:A/dm2)ηk=(60×r×d)/(C×t×Dk)■阴极电流密度计算公式:D k=(60×r×d)/(C×t×Dk)■溶液浓度计算方法1.体积比例浓度计算:定义:是指溶质(或浓溶液)体积与溶剂体积之比值。

举例:1:5硫酸溶液就是一体积浓硫酸与五体积水配制而成。

2.克升浓度计算:定义:一升溶液里所含溶质的克数。

举例:100克硫酸铜溶于水溶液10升,问一升浓度是多少?100/10=10克/升3.重量百分比浓度计算(1)定义:用溶质的重量占全部溶液重量的百分比表示。

(2)举例:试求3克碳酸钠溶解在100克水中所得溶质重量百分比浓度?4.克分子浓度计算定义:一升中含1克分子溶质的克分子数表示。

符号:M、n表示溶质的克分子数、V表示溶液的体积。

如:1升中含1克分子溶质的溶液,它的克分子浓度为1M;含1/10克分子浓度为0.1M,依次类推。

5. 当量浓度计算定义:一升溶液中所含溶质的克当量数。

符号:N(克当量/升)。

当量的意义:化合价:反映元素当量的内在联系互相化合所得失电子数或共同的电子对数。

这完全属于自然规律。

它们之间如化合价、原子量和元素的当量构成相表关系。

元素=原子量/化合价举例:钠的当量=23/1=23;铁的当量=55.9/3=18.6酸、碱、盐的当量计算法:A酸的当量=酸的分子量/酸分子中被金属置换的氢原子数B碱的当量=碱的分子量/碱分子中所含氢氧根数C盐的当量=盐的分子量/盐分子中金属原子数金属价数6.比重计算定义:物体单位体积所有的重量(单位:克/厘米3)。

电镀基本公式

电镀基本公式

1、理论计算公式:Q = I × t I = j × S
Q:表示电量,反应在PCB上为厚度。

I:表示所使用的电流,单位为:A()。

t:表示所需要的时间,单位为:min(分钟)。

j:表示,指每的单积上通过多少的电流,
单位为:ASF(A/ft2)。

S:表示受镀面积,单位为:ft2()。

2、实践计算公式:
A、铜层厚的计算方法:
厚度(um)= (ASF)×时间(min)×电镀效率×
B、镍层厚度的计算方法:
厚度(um)= (ASF)×电镀时间(min)×电镀效率×
C、锡层的计算方法
厚度(um)= 电流密度(ASF)×电镀时间(min)×电镀效率×
3、以上计算公司仅供参考,每一家的电镀能力都会不同,所以应以本司的实际电镀水平为准。

4、楼主提及的A/DM是指ASD,即/平方分米(A/DM2)。

电镀时间与理论厚度的计算方法

电镀时间与理论厚度的计算方法

电镀时间与理论厚度的计算方法电镀时间的计算: 电镀时间(分)==电镀子槽总长度(米)/ 产速(米/分) 例:某一连续电镀设备,每一个镀镍子槽长为1.0米,共有五个,生产速度为10米/ 分,请问电镀时间为多少? 电镀时间(分)==1.0×5/10==0.5(分) 理论厚度的计算:由法拉第两大定律导出下列公式: 理论厚度Z(μ``)==2.448CTM/ ND (Z厚度,T时间,M原子量,N电荷数,D密度,C电流密度) 举例:镍密度8.9g/cm3,电荷数2,原子量58.69,试问镍电镀理论厚度? Z==2.448 CTM/ ND ==2.448CT×58.69 /2×8.9 ==8.07CT 若电流密度为1Amp/ dm2(1ASD),电镀时间为一分钟,则理论厚度 Z==8.07×1×1==8.07μ`` 金理论厚度==24.98CT(密度19.3,分子量196.9665,电荷数1) 铜理论厚度==8.74 CT(密度8.9,分子量63.546,电荷数2) 银理论厚度==25.15 CT(密度10.5,分子量107.868,电荷数1) 钯理论厚度==10.85 CT(密度12.00,分子量106.42,电荷数2) 80/20钯镍理论厚度==10.42 CT(密度11.38,分子量96.874,电荷数2) 90/10锡铅理论厚度==20.28 CT(密度7.713,分子量127.8,电荷数2) 综合计算A: 假设电镀一批D-25P-10SnPb端子,数量为20万支,生产速度为20M/分,每个镍槽镍电流为50 Amp,金电流为4 Amp,锡铅电流为40 Amp,实际电镀所测出厚度镍为43μ``,金为11.5μ``,锡铅为150μ``,每个电镀槽长皆为2米,镍槽3个,金槽2个,锡铅槽3个,每支端子镀镍面积为82平方毫米,镀金面积为20平方毫米,镀锡铅面积为46平方毫米,每支端子间距为0.6毫米,请问:1.20万只端子,须多久可以完成?2.总耗金量为多少g?,换算PGC为多少g?3.每个镍,金,锡铅槽电流密度各为多少?4.每个镍,金,锡铅电镀效率为多少? 解答:1. 20万支端子总长度==200000×6==1200000==1200M 20万支端子耗时==1200/ 20 ==60分==1Hr2. 20万支端子总面积==200000×20==4000000mm2==400dm2 20万支端子耗纯金量==0.0049AZ==0.0049×400×11.5==22.54g 20万支端子耗PGC量==22.54 / 0.681==33.1g3. 每个镍槽电镀面积==2×1000×82 / 6==27333.33mm2==2.73dm2 每个镍槽电流密度==50 /2.73 ==18.32ASD 每个金槽电镀面积==2×1000×20 / 6==6666.667mm2==0.67dm2 每个镍槽电流密度==4 /0.67 ==5.97ASD 每个锡铅槽电镀面积==2×1000×46 / 6==15333.33mm2==1.53dm2 每个镍槽电流密度==40 /1.53 ==26.14ASD4. 镍电镀时间==3×2 /20==0.3分 镍理论厚度==8.07CT==8.07×18.32×0.3==44.35 镍电镀效率==43 /44.35 ==97% 金电镀时间==2×2 /20==0.2分 金理论厚度==24.98CT==24.98×5.97×0.2==29.83 金电镀效率==11.5/29.83 ==38.6% 锡铅电镀时间==3×2 /20==0.3分 锡铅理论厚度==20.28CT==20.28×26.14×0.3==159 锡铅电镀效率==150/159 ==94.3% 综合计算B: 今有一客户委托电镀加工一端子,数量总为5000K,其电镀规格为镍50μ``,金GF,锡铅为100μ``。

电镀时间与理论厚度的计算方法

电镀时间与理论厚度的计算方法

电镀时间与理论厚度的计算方法电镀时间的计算:电镀时间(分)==电镀子槽总长度(米)/产速(米/分)例:某一连续电镀设备,每一个镀镍子槽长为1.0米,共有五个,生产速度为10米/分,请问电镀时间为多少?电镀时间(分)==1.0×5/10==0.5(分)理论厚度的计算:由法拉第两大定律导出下列公式:理论厚度Z(µ``)==2.448CTM/ND(Z厚度,T时间,M原子量,N电荷数,D密度,C电流密度)举例:镍密度8.9g/cm3,电荷数2,原子量58.69,试问镍电镀理论厚度?Z==2.448 CTM/ND==2.448CT×58.69/2×8.9==8.07CT若电流密度为1Amp/dm2(1ASD),电镀时间为一分钟,则理论厚度Z==8.07×1×1==8.07µ``金理论厚度==24.98CT(密度19.3,分子量196.9665,电荷数1)铜理论厚度==8.74 CT(密度8.9,分子量63.546,电荷数2)银理论厚度==25.15 CT(密度10.5,分子量107.868,电荷数1)钯理论厚度==10.85 CT(密度12.00,分子量106.42,电荷数2)80/20钯镍理论厚度==10.42 CT(密度11.38,分子量96.874,电荷数2)90/10锡铅理论厚度==20.28 CT(密度7.713,分子量127.8,电荷数2)综合计算A:假设电镀一批D-25P-10SnPb端子,数量为20万支,生产速度为20M/分,每个镍槽镍电流为50 Amp,金电流为4 Amp,锡铅电流为40 Amp,实际电镀所测出厚度镍为43µ``,金为11.5µ``,锡铅为150µ``,每个电镀槽长皆为2米,镍槽3个,金槽2个,锡铅槽3个,每支端子镀镍面积为82平方毫米,镀金面积为20平方毫米,镀锡铅面积为46平方毫米,每支端子间距为0.6毫米,请问:1.20万只端子,须多久可以完成?2.总耗金量为多少g?,换算PGC为多少g?3.每个镍,金,锡铅槽电流密度各为多少?4.每个镍,金,锡铅电镀效率为多少?解答:1.20万支端子总长度==200000×6==1200000==1200M20万支端子耗时==1200/20==60分==1Hr2.20万支端子总面积==200000×20==4000000mm2==400dm220万支端子耗纯金量==0.0049AZ==0.0049×400×11.5==22.54g20万支端子耗PGC量==22.54/0.681==33.1g3.每个镍槽电镀面积==2×1000×82/6==27333.33mm2==2.73dm2每个镍槽电流密度==50/2.73==18.32ASD每个金槽电镀面积==2×1000×20/6==6666.667mm2==0.67dm2每个镍槽电流密度==4/0.67==5.97ASD每个锡铅槽电镀面积==2×1000×46/6==15333.33mm2==1.53dm2每个镍槽电流密度==40/1.53==26.14ASD4.镍电镀时间==3×2/20==0.3分镍理论厚度==8.07CT==8.07×18.32×0.3==44.35镍电镀效率==43/44.35==97%金电镀时间==2×2/20==0.2分金理论厚度==24.98CT==24.98×5.97×0.2==29.83金电镀效率==11.5/29.83==38.6%锡铅电镀时间==3×2/20==0.3分锡铅理论厚度==20.28CT==20.28×26.14×0.3==159锡铅电镀效率==150/159==94.3%综合计算B:今有一客户委托电镀加工一端子,数量总为5000K,其电镀规格为镍50µ``,金GF,锡铅为100µ``。

PCB电镀镀铜层厚的计算方法

PCB电镀镀铜层厚的计算方法

96485()。

铜 t (分钟), PCB 电镀镀铜层厚的计算方法: 镀层厚度(um )=电流密度(ASF ) X 电镀时间(min ) X 电镀效率x
电量、、、密度构成系数。

铜的 =,1 摩尔需要 2摩尔电子变成单质铜,一摩尔电子的电量等于
的密度是
如在 10平方分米的线路板上电镀铜, (Dk ) (/ 平方分米),电镀时间
镀层厚度3(微米)。

列等式如下:
A ) 单积通电量(摩尔)二X 时间X60/。

B ) 电沉积的铜的数=[单积X (厚度/100000)]/ (铜分子量/2)
在不考虑电流效率的情况下,上述两式相等。

换算可得:
Dk ・ t • 60X100000X2
厚度(3) = --------------------------------- = • Dk-t
考虑到电流效率n,可得:厚度 5 m =X 时间X 电流效率
上述是以电流密度 ASD 计算,换算成ASF 其结果是:
厚度(u m 二电流密度X 时间X 电流效率
再考虑到,在挂具上/ 屏蔽等地方会有铜沉积,做修正后,使用你的经验公式比较合适。

根据法拉第定律d=5c*t*DK* n k/3 p
c-金属的电化当量(g/Ah) , t-电镀时间(min), DK-电流密度(ASD ,
nk-电镀效率(电流密度2ASD电镀效率为),P -欲镀金属的密度,d-欲电镀厚度(um)
1ASD=
原理
1ASD=???
1ASD=1A/m2=1A/ () =100/=。

电镀常用的计算方法

电镀常用的计算方法

电镀常用的计算方法在电镀过程中,涉及到很多参数的计算如电镀的厚度、电镀时间、电流密度、电流效率的计算。

当然电镀面积计算也是非常重要的,为了能确保印制电路板表面与孔内镀层的均匀性和一致性,必须比较精确的计算所有的被镀面积。

目前所采用的面积积分仪(对底片的板面积进行计算)和计算机计算软件的开发,使印制电路板表面与孔内面积更加精确。

但有时还必须采用手工计算方法,下例公式就用得上。

1.镀层厚度的计算公式:(厚度代号:d、单位:微米)d=(C×Dk×t×ηk)/60r2.电镀时间计算公式:(时间代号:t、单位:分钟)t=(60×r×d)/(C×Dk×ηk)3.阴极电流密度计算公式:(代号:、单位:安/分米2)ηk=(60×r×d)/(C×t×Dk)4.阴极电流以效率计算公式:Dk=(60×r×d)/(C×t×Dk)第三章沉铜质量控制方法化学镀铜(Electroless Plating Copper)俗称沉铜。

印制电路板孔金属化技术是印制电路板制造技术的关键之一。

严格控制孔金属化质量是确保最终产品质量的前提,而控制沉铜层的质量却是关键。

日常用的试验控制方法如下:1.化学沉铜速率的测定:使用化学沉铜镀液,对沉铜速率有一定的技术要求。

速率太慢就有可能引起孔壁产生空洞或针孔;而沉铜速率太快,将产生镀层粗糙。

为此,科学的测定沉铜速率是控制沉铜质量的手段之一。

以先灵提供的化学镀薄铜为例,简介沉铜速率测定方法:(1)材料:采用蚀铜后的环氧基材,尺寸为100×100(mm)。

(2)测定步骤:A. 将试样在120-140℃烘1小时,然后使用分析天平称重W1(g);B. 在350-370克/升铬酐和208-228毫升/升硫酸混合液(温度65℃)中腐蚀10分钟,清水洗净;C.在除铬的废液中处理(温度30-40℃)3-5分钟,洗干净;D. 按工艺条件规定进行预浸、活化、还原液中处理;E. 在沉铜液中(温度25℃)沉铜半小时,清洗干净;F. 试件在120-140℃烘1小时至恒重,称重W2(g)。

电镀常用计算公式

电镀常用计算公式

电镀常用计算公式电镀中常用计算公式■镀层厚度的计算公式:(厚度代号:d、单位:微米)d=(C×D k×t×ηk)/60r■电镀时间计算公式:(时间代号:t、单位:分钟)t=(60×r×d)/(C×D k×ηk)■阴极电流计效率算公式:(代号:ηk、单位:A/dm2)ηk=(60×r×d)/(C×t×D k)■阴极电流密度计算公式:D k=(60×r×d)/(C×t×D k)■溶液浓度计算方法1.体积比例浓度计算:定义:是指溶质(或浓溶液)体积与溶剂体积之比值。

举例:1:5硫酸溶液就是一体积浓硫酸与五体积水配制而成。

2.克升浓度计算:定义:一升溶液里所含溶质的克数。

举例:100克硫酸铜溶于水溶液10升,问一升浓度是多少?100/10=10克/升3.重量百分比浓度计算(1)定义:用溶质的重量占全部溶液重量的百分比表示。

(2)举例:试求3克碳酸钠溶解在100克水中所得溶质重量百分比浓度?4.克分子浓度计算定义:一升中含1克分子溶质的克分子数表示。

符号:M、n表示溶质的克分子数、V表示溶液的体积。

如:1升中含1克分子溶质的溶液,它的克分子浓度为1M;含1/10克分子浓度为0.1M,依次类推。

5. 当量浓度计算定义:一升溶液中所含溶质的克当量数。

符号:N(克当量/升)。

当量的意义:化合价:反映元素当量的内在联系互相化合所得失电子数或共同的电子对数。

这完全属于自然规律。

它们之间如化合价、原子量和元素的当量构成相表关系。

元素=原子量/化合价举例:钠的当量=23/1=23;铁的当量=55.9/3=18.6酸、碱、盐的当量计算法:A酸的当量=酸的分子量/酸分子中被金属置换的氢原子数B碱的当量=碱的分子量/碱分子中所含氢氧根数C盐的当量=盐的分子量/盐分子中金属原子数金属价数6.比重计算定义:物体单位体积所有的重量(单位:克/厘米3)。

理论电镀厚度

理论电镀厚度

理论电镀厚度:1.电流密度的计算平均电流密度(ASD)=电镀槽通电的安培数(AMP)/电镀面积(DM2平方分米)2.阴极电流效率的计算:{一般计算阴极电流效率(指平均效率)的方发有两种}如下:阴极电流效率E=实际平均电镀厚度Zˊ÷理论电镀厚度Z例如:假设电镀镍金属,理论电镀厚度为162u〞微英寸而实际所测厚度为150u〞,请问阴极电镀效率?阴极电流效率E=Zˊ÷Z=150÷162=92.6%(膜厚的表示方法:a,u〞微英寸,b,um微米,1um微米等于39.37 u〞微英寸)。

3.理论厚度的计算:由法拉第两大定律导出下列公式:理论厚度Z(u〞微英寸)=2.448 CTM/NDZ-------厚度单位=微米T------ 时间单位=分钟M-------原子量单位=1(相对原子质量碳12)N-------电荷数定义=质子所带的正电荷数D-------密度单位=g/cm3C-------电流密度单位=安培例如:镍密度8.9g/cm3,电荷数2,原子量58.69,试问镍的电镀理论厚度是多少?Z厚度=2.448CTM/ND=2.448X C X T X M58.69÷(2X 8.9)=8.07CT若电流密度为1A/dm2(1ASD),电镀时间为1分钟,则理论厚度为:Z=8.07X 1(1A/dm2)X 1(1ASD)= (8.07u〞微英寸)= 2.448X 1(C电流密度)X 1(T时间)X58.69,(M原子量)÷( 2电荷数N X 8.9密度D =17.8 )一般镍的阴极效率都在90%以上,90/10锡铅的阴极电镀效率约在80%以上,黄金电镀则视药水金属离子含量的多少而有很大的差异,若无发达到应有阴极电镀效率,则可以从搅拌能力提升或检查电镀药水的组成。

Simon 2017.03.10理论厚度Z=2.448*C*T*M/ND,(C:表示电流密度,T:表示电镀时间,M:表示原子量,N:表示电荷数,D:密度)。

镀层厚度单位换算

镀层厚度单位换算

镀层厚度单位换算
镀层厚度单位换算是一个普遍必要的实际问题,因为不同锌镀工艺使用不同单位去衡量锌层的厚度,比如电镀、热镀和热浸镀,对应的单位分别为μm、mils和oz/ft2。

换算单位有助于将三种工艺放在同一个厚度标准下,以方便测定工艺之间的差异,从而使结果便于比较。

镀层厚度的换算比较常用的单位有μm、mils和oz/ft2,最常见的换算公式为:
1 mils = 0.0254 mm = 25.4 μm
1 oZ/ft
2 = 305 μm
通常情况下1 mils=1.56 oz/ft2。

换算时只需要将镀层厚度用原单位换算为μm,然后再根据所需要的单位进行换算。

比如,把原来用mils表示的镀层厚度70 mils换算为μm,可以用下面的公式:
70 mils×25.4 μm/1 mils=1778 μm
再把1778μm的结果换算为oz/ft2,可以用下面的公式:
1778 μm/305 μm = 5.85 oz/ft2
整个过程如下:
70 mils ————> 1778μm ————> 5.85 oz/ft2
以上只是一个简单的换算过程,不同的工艺还存在一些特殊的换算公式,需要借助一些专业的软件工具进行换算。

比如,电镀、热镀和热浸镀这三种工艺换算时,软件结合测试才能得出准确结果。

以上就是镀层厚度单位换算的一般过程,不同的工艺有着特殊的换算方法和公式,需要在实际应用中根据工艺要求灵活处理。

电镀单位u与um换算

电镀单位u与um换算

电镀单位u与um换算电镀单位换算,听上去似乎有点复杂,但其实就像喝水一样简单。

我们今天要聊聊u和um这两个单位,哎呀,听到这些字母,是不是脑袋都有点转不过来了?别担心,咱们慢慢来,绝对让你明白得透透的。

u是微米的缩写,而um则是微米的另一种写法。

可以说,它们是兄弟俩,亲得不得了,功能也差不多,都是用来描述非常小的尺寸。

就像你在外面吃饭,点的菜名不同,但味道依旧,根本没区别。

电镀行业的小伙伴们,常常需要用到这些单位,比如在给金属镀层的时候,厚度得精准,不然可就“前功尽弃”了。

想象一下,如果你给一块金属上了层电镀,结果厚度不对,那真是像是在给老虎穿新衣,外表好看,实际却是个空壳子。

u和um的换算其实也不难,1u就是1微米,换算起来就像是在玩数独,轻轻松松就能搞定。

要是你觉得这个换算太简单,那就真是小看了电镀的魅力了。

想想看,每一个微小的变化都可能导致产品质量的天壤之别,就像把盐放多了,菜一下子就咸得吃不下去。

在实际应用中,咱们电镀厚度一般要求在几微米到几十微米之间。

这就像是在搭积木,积得太高了,容易倒;搭得太低了,又显得不够扎实。

所以,精确的厚度不仅能保证外观的美观,更能提高抗腐蚀能力和耐磨性,绝对是件一举两得的事情。

想象一下,镀层太厚,像是给金属穿上了“铠甲”,防护得当;可是如果太薄,那就像是给它穿了一层薄纱,随时可能被撕破。

行业里的人都知道,控制这些厚度就像是掌握了一门绝技,简直能让人从“菜鸟”变“高手”。

在测量时,咱们常常用到显微镜,透过这个小小的窗口,就能清晰地看到那些令人惊叹的细节。

就好比看到了一个微型世界,里面的每一寸都在告诉我们它的故事。

用显微镜测量,确实有点像上天给我们开了个玩笑,居然能看到金属表面如此精细的变化。

哇,这真的是一场视觉盛宴,尤其是在电镀后,金属表面光滑得像剃了胡子的宝宝,真让人爱不释手。

现在的电镀技术发展迅猛,很多新材料、新工艺层出不穷。

就像是不断刷新的手机,永远让人惊喜。

关于膜厚测试的标准单位换算

关于膜厚测试的标准单位换算

关于膜厚测试标准单位换算标准文件GX-MQ-001起草:审核:批准:20 年月日发布 20 年月日实施在连接器或线材行业中,免不了要做膜厚报告,其中经常会碰到关于膜厚报告中常用到U",这个单位是怎么回事呢?为什么读音念”麦”?关于膜厚单位这个问题,在五金行业可以说是非常重要的,在电镀行业更是不可忽视的。

有人说,1μm等于39.37 u",这个单位无从查考,但这个u"(读音为“麦”)却在电镀行业风行,对它的含义却少有人研究或考证,另外还有mil(密耳)这个单位也容易混淆。

笔者就来研究这个问题。

(1)首先说μm和μin的关系。

μin是不是u"(读mai),姑且不论,μin的确就是μinch,中文叫微英寸,下面论述1μm=39.37μinch是如何推导出来的。

1inch=10000000μin ch1英尺=12英寸=0.914市尺=30.48厘米,1英寸=25.4毫米,英尺=12英寸如上所述,微英寸即为μin= 0.0254/1000米,即μin= 0.0254mm, 1mm=1000μm1000μin= 25.4μm,即1μm=39.37μin(2)其次再说说u"和μm的关系。

u"是镀层膜厚单位;全称就是micro inch,就是微英寸,因为μin就是u"的简写符号,uin是μinch的简写符号,只是μinch并不是纲量定律指定的单位。

μin= u"故1μm=39.37u"在网上经常可以看到1000μin=25.4μm,变换公式就是:μm=39.37u",注意:1μin(微英寸)并不是μm(微米),首先μm(念谬)与u"(念麦)是不同的概念,而电镀行业经常将这两个概念误用,比如镀金来讲吧,如果误用,应该有相当大的成本损耗或引起经济上的纠纷。

例如用u"表示为:镀银为80 u"镀金为:1u"雾锡:80u"镀镍:50u"而用微米μm来表示则为:滚镀锌4-8 μm。

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