半导体p-n结,异质结和异质结构0333页PPT

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半导体pn结异质结和异质结构ppt课件

半导体pn结异质结和异质结构ppt课件

“雪亮工程"是以区(县)、乡(镇) 、村( 社区) 三级综 治中心 为指挥 平台、 以综治 信息化 为支撑 、以网 格化管 理为基 础、以 公共安 全视频 监控联 网应用 为重点 的“群 众性治 安防控 工程” 。
PN结的正向导电性
在PN结上外加一电压 ,如果P 型一边接正极 ,N型一边接负极,电流便 从P型一边流向N型一边,空穴和电子都向 界面运动,使空间电荷区变窄,甚至消失,
“雪亮工程"是以区(县)、乡(镇) 、村( 社区) 三级综 治中心 为指挥 平台、 以综治 信息化 为支撑 、以网 格化管 理为基 础、以 公共安 全视频 监控联 网应用 为重点 的“群 众性治 安防控 工程” 。
若干半导体杂质掺杂的一些考虑
杂质半导体ni,电子浓度n,空穴浓度p 之间的关系
n = ni e^(Ef-Ei)/kT, P = ni e^(Ei-Ef)/kT, ni^2 = n p Ei本征费米能级 Ef杂质费米能, 在n型半导体中,n>p,因此, Ef>Ei 在p型半导体中, p>n,因此, Ei>Ef
“雪亮工程"是以区(县)、乡(镇) 、村( 社区) 三级综 治中心 为指挥 平台、 以综治 信息化 为支撑 、以网 格化管 理为基 础、以 公共安 全视频 监控联 网应用 为重点 的“群 众性治 安防控 工程” 。
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几个重要参数和概念 • 接触电位差:
由于空间电荷区存在电场,方向由N到P,因 此N区电位比P区高,用V表示,称作接触电位 差,它与半导体的类型(禁带宽度),杂质掺杂 浓度,环境温度等密切相关,一般为0.几V到 1.几V • 势垒高度:

《半导体物理学》【ch09】 半导体异质结构 教学课件

《半导体物理学》【ch09】 半导体异质结构 教学课件

半导体异质结及其能带图
01 半导体异质结的能带图
9. 1. 1 半导体异质结的能带图 在以上所用的符号中, 一般都把禁带宽度较小的半导体材料写在前面。 研究异质结的特性时, 异质结的能带图起着重要的作用。在不考虑两种半导体交界面处的界面态 的情况下,任何异质结的能带图都取决于形成异质结的两种半导体的电子亲和能、禁带宽度及功 函数, 但是其中的功函数是随杂质浓度的不同而变化的。 异质结也可以分为突变型异质结和缓变型异质结两种。如果从一种半导体材料向另一种半导体材 料的过渡只发生于几个原子距离范围内,则称为突变型异质结。如果发生于几个扩散长度范围内, 则称为缓变型异质结。由于对于后者的研究工作不多,了解很少,因此下面以突变型异质结为例 来讨论异质结的能带图。
集成电路科学与工程系列教材
第九章
半导体异质结构
半导体物理学
半导体异质结构
导入
第6 章讨论的pn 结是由导电类型相反的同一种半导体单晶材料组成的,通常也称为同质结,而 由两种不同的半导体单晶材料组成的结则称为异质结。虽然早在1951 年就已经提出了异质结的 概念, 并进行了一定的理论分析工作,但是由于工艺技术存在困难, 一直没有实际制成异质结。 自1957 年克罗默指出由导电类型相反的两种不同的半导体单晶材料制成的异质结比同质结具有 更高的注入效率之后,异质结的研究才比较广泛地受到重视。
半导体异质结及其能带图
01 半导体异质结的能带图
9. 1. 1 半导体异质结的能带图
半导体异质结及其能带图
01 半导体异质结的能带图
9. 1. 1 半导体异质结的能带图 (2 )突变同型异质结的能带图 图9-4(a)为均是n 型的两种不同的半导体材料形成m 异质结之前的平衡能带图;图9-4(b)为形成 异质结之后的平衡能带图。当这两种半导体材料紧密接触形成异质结时, 因为禁带宽度大的n 型 半导体的费米能级比禁带宽度小的n 型半导体的费米能级高,所以电子将从前者向后者流动。结 果在禁带宽度小的n 型半导体一边形成了电子的积累层,而另一边形成了耗尽层。这种情况和反 型异质结不同。对于反型异质结,两种半导体材料的交界面两边都成为耗尽层;而在同型异质结 中,一般必有一边成为积累层。式(9-4)、式( 9-5)和式( 9-6)在这种异质结中同样适用。 图9 5 为pp 异质结在热平衡状态时的平衡能带图,其情况与nn 异质结类似。

半导体物理及器件工艺PPT ch1_p-n结

半导体物理及器件工艺PPT  ch1_p-n结

kT q
ln N AN D ni2
与使用各自静电势推导结果一样
26
(3) 其它耗尽区特性 a)突变结电场强度与电势分布
I. 电场强度 • 假设突变耗尽近似:空间电荷区中无自由载流子,电场完全由正、
负空间电荷的分离产生。
根据电中性原理,空间 电荷区有:
qNAxp=qNDxn
问题:空间电荷区或耗尽区 在两边的厚度与什么有关? 规律如何?
或qVbi。 • 远离结区的n型和p型半
导体仍是均匀的,因此 Vbi可由p区和n区内部费 米能级的差值(或功函数) 来确定。
qVbi p n E Fn E Fp
问题:此时n区电子若逸出到真空能 级,需克服多少能量?势垒+亲和能
• 由于本征费米能级EFi不随外界变化而变化,因此也可以此为参 考标准进行内建势垒的计算;
第一章pn结二极管第二章异质结二极管量子阱超晶格第三章金属半导体肖特基二极管包括欧姆接触和肖特基接触第一章pn结二极管11二极管的基本特性12同质pn结特性13同质pn结的电流电压iv特性14pn结小信号模型15pn结二极管瞬态特性16非突变同质结11二极管的基本特性二极管
第一部分 半导体器件
第一章 pn结二极管 第二章 异质结二极管(量子阱、超晶格) 第三章 金属-半导体肖特基二极管(包括欧姆接 触和肖特基接触)
肖特基二极管
……
3
(1)开关特性
问题:二极管导通时的电压有什么特点?电压源 同质结二极管的近似 等效电路,(a)开路, (b)端电压近似恒定
4
Diode logic (AND gate) was used in early digital computers Diodes can switch analog signals (Parallel resonator network)

半导体物理异质结解析PPT课件

半导体物理异质结解析PPT课件
第13页/共30页
界面量子阱中二维电子气的势阱和状态密度
第14页/共30页
电子的能量:
二维电子气的状态密度
k空间原胞的面积:
k空间k-k+dk圆环的面积: E-k关系: 状态密度:
第15页/共30页
低维半导体材料及其状态密度
Bulk
QW
QD
3D
2D
0D
DD((EE))
DD((EE))
D(E)
E
• qVD = qVD1 + qVD2 = EF2 - EF1 = W1 - W2
半导体物理学
第7章 金第属4页和/半共导30体页的接触
SCNU 光电学院
4
突变反型异质结的能带特征
• n型半导体的能带弯曲量为qV2,且导带底在交界面处形成一个向
上的“尖峰”。
• p型半导体的能带弯曲量为qV1,且导带底在交界面处形成一个向
第2页/共30页
pn结的能带图
qVD E Fn EFp
第3页/共30页
突变反型异质结的能带图
• 形成异质结时电子从n型半导体流向p型半导体,空穴的流动方向相反。
• 达到平衡时,两块半导体具有统一的费米能级。
• 在异质结界面的两边形成空间电荷区,产生内建电场和附加电势能,使 空间电荷区中的能带发生弯曲。
EE
EE
Modification of density of states by confining carriers
第16页/共30页
双异质结间的单量子阱结构
第17页/共30页
双异质结间的单量子阱结构
势阱形状: 波函数分离变量: 波函数分离变量: 薛定谔方程:
第18页/共30页

半导体物理学ppt课件

半导体物理学ppt课件
在电场
②当电流密度一定时, dEF/dx与载流子浓
度成反比 ③上述讨论也适用于电子子系及空穴子系
(用准费米能级取代费米能级):
J =n
dEF dx
J =p
dEF dx
35
36
★ 正向偏压下的p-n结
①势垒: ♦ 外电压主要降落
于势垒区 ♦ 加正向偏压V, 势
垒高度下降为 e(VD-V),
荷区的产生—复合作用。 P型区和N型区的电阻率都足够低,外加电压全部降落
在过渡区上。
57
准中性区的载流子运动情况
稳态时, 假设GL=0
0

DN
d 2np dx2

n p
n
......x

xp

0

DP
d 2pn dx2
边界条件:

pn
p
......x

xn
图6.4
欧姆接触边界
以及工作温度
24
③接触电势差:
♦ pn结的势垒高度—eVD 接触电势差—VD
♦ 对非简并半导体,饱和电离近似,接触 电势为:
VD

kT e
ln nn0 np0

kT e
ln
NDNA ni2
♦ VD与二边掺杂有关,
与Eg有关
25
电势
图6-8
电子势能(能带)
26
④平衡p-n结的载流子浓度分布: ♦ 当电势零点取x=-xp处,则有: EC (x) EC qV (x)
52
53
54
理想二极管方程
PN结正偏时
55
理想二极管方程
PN结反偏时

半导体物理 第二章 PN结 图文

半导体物理 第二章 PN结 图文

国家级精品课程——半导体器件物理与实验
第二章 PN结
引言
4-4 外延工艺:
外延是一种薄膜生长工艺,外延生长是在单晶衬底上沿晶体 原来晶向向外延伸生长一层薄膜单晶层。
外延工艺可以在一种单晶材料上生长另一种单晶材料薄膜。
外延工艺可以方便地形成不同导电类型,不同杂质浓度,杂 质分布陡峭的外延层。
外延技术:汽相外延(PVD,CVD)、液相外延(LPE)、分 子束外延(MBE)、热壁外延(HWE)、原子层外延技术。
硅平面工艺的主体
国家级精品课程——半导体器件物理与实验
第二章 PN结
引言
4-1 氧化工艺:
1957年,人们发现硅表面的二氧化硅层具有阻止杂质向硅内 扩散的作用。这一发现直接导致了氧化工艺的出现。 二氧化硅薄膜的作用: (1)对杂质扩散的掩蔽作用; (2)作为MOS器件的绝缘栅材料; (3)器件表面钝化作用; (4)集成电路中的隔离介质和绝缘介质; (5)集成电路中电容器元件的绝缘介质。 硅表面二氧化硅薄膜的生长方法: 热氧化和化学气相沉积方法。
N(x) (a)
Na
Nd xj
(b) -a(x - xj)
引言
扩 SiO2 散 结 N-Si
杂质扩散
P
N-Si
N-Si
由扩散法形成的P-N结,杂质浓度从P区到N区是
逐渐变化的,通常称之为缓变结,如图所示。设 P-N结位置在x=xj处,则结中的杂质分布可表示为: x
Na Nd (x xj), Na Nd (x xj)
Al
液体
Al
P
N-Si
N-Si
N-Si
把一小粒铝放在一块N型单晶硅片上, 加热到一定温度,形成铝硅的熔融体, 然后降低温度,熔融体开始凝固,在N 型硅片上形成含有高浓度铝的P型硅薄 层,它和N型硅衬底的交界面即为P-N 结(称之为铝硅合金结)。

半导体异质结构讲解课件

半导体异质结构讲解课件
p10:p区多子浓度
n20:n区多子浓度
若n20和p10在同一数量级,则
EC J n exp kT
,
EV J p exp kT
对窄禁带p型和宽禁带n型的异质结
EC, EV>0, 且>>kT
Jn >> Jp
高势垒尖峰情形异质pn结 正向偏压时 由n区注入p区的电子电流密度
2Eg/3 Eg/ 3
EF
2Eg/3 Eg/ 3
N型
P型
表面能级密度大的半导体能带图
巴丁极限:具有金刚石结构的晶体的表面能级 密度在1013cm-2以上时,在表面处的 费米能级位于禁带宽度的约1/3处。 N型半导体,悬挂键起受主作用, 表面处的能带向上弯曲 p型半导体,悬挂键起施主作用, 表面处的能带向下弯曲
2 N D 2VD VD1 1 N A1 2 N D 2
VD 2
1 N A1VD 1 N A1 2 N D 2
VD1 2 N D 2 VD 2 1 N A1
若在异质结上加外电压V, 将上述公式中的 VD, VD1, VD2 分别用(VD-V), (VD1-V1) 及 (VD2-V2) 代替即可。
1/ 2
若m1*=m2*, 则总电子电流密度
kT J J 2 J1 qn20 * 2m
1/ 2
qVD 2 qV2 qV1 exp exp exp kT kT kT
V V1 V2
X D d1 d 2
d1: 势垒区负空间电荷区的宽度 d2: 势垒区正空间电荷区的宽度
异质结的接触电势差为
VD VD1 VD 2

半导体异质结构课件

半导体异质结构课件

qVD qVD1 qVD 2 EF 2 EF1
VD VD1 VD 2
VD 称为接触电势差(内建电势差、扩散电势)
VD W1 W2
VD1: p型半导体的内建电势差
VD2: n型半导体的内建电势差 qVD1: n型半导体的导带底或价带顶的弯曲量 qVD2: p型半导体的导带底或价带顶的弯曲量
2
1/ 2
接触电势差
2 2 q N D2 X D N A1 X D VD N N 2 A 1 1 D 2 2 N N N N D2 D2 1 2 A1 A1
X D d1 d 2
d1: 势垒区负空间电荷区的宽度 d2: 势垒区正空间电荷区的宽度
异质结的接触电势差为
VD VD1 VD 2
VD1: VD在交界面p型半导体一侧的电势降 VD2: VD在交界面n型半导体一侧的电势降
热平衡时 势垒区宽度
21 2 N A1 N D 2 VD XD qN N N N A1 D 2 2 D 2 1 A1
pn异质结
np异质结
pp异质结
悬挂键起施主作用时, 计入界面态影响的异质结能带图
pn异质结
np异质结
nn异质结
悬挂键起受主作用时, 计入界面态影响的异质结能带图
9.1.2 突变反型异质结的接触电势差及势垒区宽度 以pn异质结为例,设p型和n型半导体中杂质均 匀分布,浓度分别为 NA1 和 ND2 势垒区的总宽度
内容
异质结的能带结构 异质pn结的电流电压特性 异质pn结的注入特性 半导体异质结量子阱结构
Energy Bandgap vs. Lattice Constant for Various Semiconductors

半导体p-n结,异质结和异质结构03_

半导体p-n结,异质结和异质结构03_

PN结的应用 结的应用
根据PN结的材料、掺杂分布、几何结构和偏置条件的不同, 根据 结的材料、掺杂分布、几何结构和偏置条件的不同,利 结的材料 用其基本特性可以制造多种功能的晶体二极管。 用其基本特性可以制造多种功能的晶体二极管。 1. 用PN结单向导电性可以制作整流二极管、检波二极管和开关二 结单向导电性可以制作整流二极管、 结单向导电性可以制作整流二极管 极管, 极管, 2. 利用击穿特性制作稳压二极管和雪崩二极管; 利用击穿特性制作稳压二极管和雪崩二极管; 3. 利用高掺杂 结隧道效应制作隧道二极管; 利用高掺杂PN结隧道效应制作隧道二极管 结隧道效应制作隧道二极管; 4. 利用结电容随外电压变化效应制作变容二极管 利用结电容随外电压变化效应制作变容二极管; 5. 将半导体的光电效应与 结相结合还可以制作多种光电器件。 将半导体的光电效应与PN结相结合还可以制作多种光电器件 结相结合还可以制作多种光电器件。 如利用前向偏置异质结的载流子注入与复合可以制造半导体激光二极 管与半导体发光二极管; 管与半导体发光二极管; 6. 利用光辐射对 结反向电流的调制作用可以制成光电探测器; 利用光辐射对PN结反向电流的调制作用可以制成光电探测器 结反向电流的调制作用可以制成光电探测器; 7. 利用光生伏特效应可制成太阳电池 利用光生伏特效应可制成太阳电池; 8. 利用两个 结之间的相互作用可以产生放大,振荡等多种电子 利用两个PN结之间的相互作用可以产生放大 结之间的相互作用可以产生放大, 功能; 功能 PN结是构成双极型晶体管和场效应晶体管的核心,是现代微电子 结是构成双极型晶体管和场效应晶体管的核心, 结是构成双极型晶体管和场效应晶体管的核心 技术、光电子技术的基础。 技术、光电子技术的基础。
PN结的正向导电性 结的正向导电性

半导体物理课件:第六章 p-n结

半导体物理课件:第六章 p-n结

当存在外间电压时,电压主要降落在这个势垒区,而扩散
区和中性区几乎没有。
16
2020/9/30
重庆邮电大学微电子教学部
6.2 p-n结电流电压特性
6.2.1 p-n结电场和电势 泊松方程
何为泊松方程? 其来历? 反映一定区域电势、电场、电荷之关系。
由麦克斯韦方程的微分形式:
D
D r0E
dV 2
6.2.3 理想p-n结的电流电压关系
计算电流密度方法 – 计算势垒区边界处注入的非平衡少子浓度, 以此为边界条件,计算扩散区中非平衡少子 的分布 – 将非平衡载流子的浓度代入扩散方程,算出 扩散密度,再算出少数载流子的电流密度 – 将两种载流子的扩散密度相加,得到理想pn结模型的电流电压方程式
2
2020/9/30
重庆邮电大学微电子教学部
引言
6.1 p-n结及其能带图 6.2 p-n结电流电压特性 6.3 p-n结电容 6.4 p-n结击穿 6.5 p-n结隧道效应
3
2020/9/30
重庆邮电大学微电子教学部
6.1 p-n结及其能带图
6.1.1 p-n结的形成及杂质分布
p型半导体和n型半导体结合,在 二者的交界面形成的接触结构, 就称为p–n结。
空穴漂移 电子扩散
27
电子漂移 空穴扩散
2020/9/30
重庆邮电大学微电子教学部
6.2.2 非平衡p-n结的能带图
反向偏压V
(p负,n正,V<0)
外加电场n→p 内建场n→p →外加电场加强了内建 场的强度,势垒升高
→n区的EF低于p区的EF
p区电子被不断的抽走 ——少子的抽取
28
2020/9/30

半导体物理学PPT课件(共7章)第04章 p-n结

半导体物理学PPT课件(共7章)第04章   p-n结
半导体物理学
Semiconductor Physics
2022年1月26日星期三
1
4.1 pn结的形成及其平衡态
4.1.1 pn结的形成及其杂质分布 一、 pn结的形成及其杂质分布 二、pn结的杂质分布 4.1.2 热平衡状态下的pn结 一、pn结的空间电荷区与内建电场的形成 二、平衡pn结的能带结构 三、pn结的接触电势差 四、平衡pn结的载流子分布
2022年1月26日星期三
24
4.2.1 广义欧姆定律
对n= n0+n、p= p0+p的一般情况,也可得类似结果:
Jn
nn
dEF dx
Jp
p p
dEF dx
该式表明: 若费米能级随位置变化,则pn结中必有电流;当电流密度一定时,载流子 密度大的地方, EF随位置变化小,而载流子密度小的地方,EF随位置变化较大。
qV x
~ e k0T
2022年1月26日星期三
22
第四章 p-n结
4.1 pn结的形成及其平衡态 4.2 pn结的伏安特性 4.3 pn结电容 4.4 pn结击穿 4.5 pn结的光伏效应 4.6 pn结发光
2022年1月26日星期三
23
4.2 pn结的伏安特性
4.2.1 广义欧姆定律 4.2.2 理想状态下的pn结伏安特性方程 4.2.3 pn结伏安特性对理想方程的偏离
导带
E ● ● ● ● ● ● ● ● ● ● ●
C
EF
价带 EV
2022年1月26日星期三
10
1、能带弯曲
电子从费米能级高的n区流向费米能级低的p区,以及空穴从p区流向n区 来实现的。在载流子转移的过程中,EFn下降,EFp上升,直至EFn=EFp= EF时达到平衡。
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PN结的伏安(I-V)特性:
I为流过PN结的电流;Is为PN结的反向饱和电流,与温度和材料有关的参数, V为外加电压; Vt=kT/q,为温度的电压当量(Vt=26mV.),当外加正向电压V为 正值且比Vt大几倍时, 正向电流随正向电压的增加按指数规律增大,PN结为正向 导通状态.外加反向电压即v为负值,且|v|比Vt大几倍时,PN结只流过很小的反 向饱和电流,且数值上基本不随外加电压而变,PN结呈反向截止状态。由PN结 的I/V特性曲线得到:PN结具有单向导电性和非线性伏安特性.
n型p型半导体的能带结构
Xs Wn Wp
Eg Es
Eo
Ec E fn Ei , Efi E fp Ev
p-n结形成的内部机理
• 施主和受主,电子和空穴(载流子,移动电荷), 空间电荷(固定离子)
• 多数载流子和少数载流子,(载流子的扩散运 动,空间电荷区的形成,内建电场的建立),
• 内建电场阻止多数载流子的进一步扩散,增 强了少数载流子在反方向的漂移运动,最后 达到动态平衡(热平衡,电中性),随温度变化 时,平衡被破坏)
本征半导体载流子浓度ni, p i
本征半导体:
ni = pi = n =p = 4.9 E15 (me mh/mo)^3/4 T^3/2 exp(-Eg/2KT)
= A T^3/2 e^(-Eg/2KT)
是温度T,禁带宽度Eg的函数,温度越高, ni越大, Eg越宽, ni越小 T为3OOK时, Si: ni = p i=1.4 E10/cm*-3
PN结的反向电压特性及电容特性
PN结加反向电压时,空间电荷区变宽, 电场增 强, 阻止了多数载流子的扩散,而P区和N区的少数 载流子电子和空穴沿反向电场运动,产生反向漏电 流,由于少子是本征激发,它决定于温度而不决定于 反向电压,当反向电压增大到一定程度足以把少子 全部吸引过来时,电流达到恒定,称作反向饱和漏电 流, 当反向电压再增大电流突然增大时,称作PN结 击穿。如果外电路不能限制电流,则电流会大到 将PN结烧毁.
几个重要参数和概念
• 接触电位差: 由于空间电荷区存在电场,方向由N到P,因
此N区电位比P区高,用V表示,称作接触电位 差,它与半导体的类型(禁带宽度),杂质掺杂 浓度,环境温度等密切相关,一般为0.几V到 1.几V • 势垒高度:
在空间电荷区内电子势能为-qV,因此电 子从N区到P区必须越过这个势能高度,该高 度称作势垒高度
PN结加反向电压时,空间电荷区中的正负电荷 构成一个电容性的器件。它的电容量随外加电压 改变,反向时电容减小正向时电容增大.
半导体同质p-n结,异质结的形成
采用不同的掺杂工艺,将P型半导体与N型半 导体制作在同一块半导体上,在它们的交界面就形成 空间电荷区称PN结。
一块单晶半导体中 ,一部分掺有受主杂 质是P型半导体,另一部分掺有施主杂质是N型半导体 时 ,P 型半导体和N型半导体的交界面附近的过渡区 称PN结。
6. 利用光辐射对PN结反向电流的调制作用可以制成光电探测器; 7. 利用光生伏特效应可制成太阳电池; 8. 利用两个PN结之间的相互作用可以产生放大,振荡等多种电子 功能; PN结是构成双极型晶体管和场效应晶体管的核心,是现代微电子 技术、光电子技术的基础。
半导体异质结
基本概念:
异质结就是一种半导体材料生长在另一种 半导体材料上所形成的接触过渡区。依照两种 材料的导电类型分同型异质结(P-p结或N-n结) 和异型异质(P-n或p-N)结。按照两种材料晶格常 数的失配程度,异质结可分为两类,即匹配型 异质结和失配型异质结,由于两种异质材料具 有不同的物理化学参数(如电子亲和势、 能带 结构、介电常数、晶格常数等), 接触界面处产 生各种物理化学属性的失配,使异质结具有许 多不同于同质PN结的新特性。
ni pi = 1.96 E20/cm^-3
杂质半导体ni,电子浓度n,空穴浓度p 之间的关系
n = ni e^(Ef-Ei)/kT, P = ni e^(Ei-Ef)/kT, ni^2 = n p Ei本征费米能级 Ef杂质费米能, 在n型半导体中,n>p,因此, Ef>Ei 在p型半导体中, p>n,因此, Ei>Ef
异质结的能带结构
半导体异质结构一般是由两层以上不同材料所组成,它们 各具不同的能带隙。研究较多的是GaAs 化合物、SiGe之类的 半导体合金,目前按异质结中两种材料导带和价带的对准情况 可以把异质结分为Ⅰ型异质结和Ⅱ型异质结两种,两种异质结 的能带结构如图所示。
半导体异质结构的基本特性 半导体异质结构,是将不同材料的半导体薄膜,依先后次序
外延淀积在同一衬底上。如图所述的是利用半导体异质结构所作成 的半导体激光器
基本特性: 量子效应:
因中间层的能阶较低,电子很容易掉落下来被局限在中间层, 而中间层可以只有几nm的厚度,因此在如此小的空间内,电子的 特性会受到量子效应的影响而改变。例如:能阶量子化、基态能量 增加、能态密度改变等,其中能态密度与能阶位置,是决定电子特 性很重要的因素。
PN结有同质结和异质结两种。用同一种半导体材 料制成的 PN 结叫同质结 ,由禁带宽度不同的两种 半导体材料制成的PN结叫异质结。
制造同质PN结的方法有合金法、扩散法、离子注 入法、外延生长法等。
制造异质结通常采用外延生长法。
PN结的应用
根据PN结的材料、掺杂分布、几何结构和偏置条件的不同,利 用其基本特性可以制造多种功能的晶体二极管。
1. 用PN结单向导电性可以制作整流二极管、检波二极管和开关二 极管,
2. 利用击穿特性制作稳压二极管和雪崩二极管; 3. 利用高掺杂PNቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ隧道效应制作隧道二极管; 4. 利用结电容随外电压变化效应制作变容二极管; 5. 将半导体的光电效应与PN结相结合还可以制作多种光电器件。
如利用前向偏置异质结的载流子注入与复合可以制造半导体激光二极 管与半导体发光二极管;
PN结的正向导电性
在PN结上外加一电压 ,如果P 型一边接正极 ,N型一边接负极,电流便 从P型一边流向N型一边,空穴和电子都向 界面运动,使空间电荷区变窄,甚至消失, 多数载流子在电场的作用下可以顺利通过。 如果N型一边接外加电压的正极,P型一边 接负极,则空穴和电子都向远离界面的方 向运动,使空间电荷区变宽,电流不能流 过。这就是PN结的单向导电性。
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