透射电镜(TEM)习题
生物电镜考试题
一、名词解释（每题3分，共24分）：1、电镜：电镜即电子显微镜。
根据电子光学原理，利用电子束放大成像。
与光学显微镜相比电子显微镜用电子束代替了可见光，用电磁透镜代替了光学透镜并使用荧光屏将肉眼不可见电子束成像。
有透射电子显微镜和扫描电子显微镜。
2、分辨率：分辨率又称为分辨力和分辨本领。
它表示仪器的分辨能力足以清楚的分开两个小点间的最小距离。
这距离指两个质点圆心间的最小距离。
3、喷金：喷上一层几纳米厚度的金、铂等导电性能好的重金属，即进行导电处理。
也就是在样品以及样品托表面同时喷镀一层金属膜。
4、二次电子：在入射电子束作用下被轰击出来并离开样品表面的样品原子的核外电子叫做二次电子。
是作为SEM的成像信号，代表样品表面的结构特点。
5、像差：实际光学系统所成的像与理想光学系统（近轴光学，Paraxial Optics，高斯光学)所获得的结果有一定的偏差，称像差。
6、TEM ：透射电子显微镜,简称透射电镜，是把经加速和聚集的电子束投射到非常薄的样品上，电子与样品中的原子碰撞而改变方向，从而产生立体角散射。
散射角的大小与样品的密度、厚度相关，因此可以形成明暗不同的影像。
即电子束透过样品(透射电子）直接放大成像。
7、电子枪：位于电镜顶部，由阴极、栅极和阳极组成，普通电镜中，阴极是钨丝做成的灯丝，被加热至2227℃以上时即可发射出大量电子，这些电子在高真空环境下，受数万伏加速电压的作用，形成电子束，向下发射，就形成了电镜的照明源。
8、静电透镜：静电透镜属于电子透镜，是电镜的重要部件。
利用电场做成的透镜被称之为“静电透镜”;9、SEM ：即扫描电子显微镜（SEM）,电子束以扫描形式轰击在样品上，产生二次电子等信息，而后再将二次电子等信息收集起来放大成像。
10、分辨率：分辨率又称为分辨力和分辨本领。
它表示仪器的分辨能力足以清楚的分开两个小点间的最小距离。
这距离指两个质点圆心间的最小距离。
11、透射电子：在真空条件下,经高电压加速电子束穿透超薄样品，即电子束和样品发生作用后，穿过样品的电子，称为透射电子。
材料现代分析方法练习题及答案(XRD,EBSD,TEM,SEM,表面分析)
8. 什么是弱束暗场像？与中心暗场像有何不同？试用Ewald图解说明。
答：弱束暗场像是通过入射束倾斜，使偏离布拉格条件较远的一个衍射束通过物镜光阑，透射束和其他衍射束都被挡掉，利用透过物镜光阑的强度较弱的衍射束成像。
与中心暗场像不同的是，中心暗场像是在双光束的条件下用的成像条件成像，即除直射束外只有一个强的衍射束，而弱束暗场像是在双光阑条件下的g/3g的成像条件成像，采用很大的偏离参量s。
中心暗场像的成像衍射束严格满足布拉格条件，衍射强度较强，而弱束暗场像利用偏离布拉格条件较远的衍射束成像，衍射束强度很弱。
采用弱束暗场像，完整区域的衍射束强度极弱，而在缺陷附近的极小区域内发生较强的反射，形成高分辨率的缺陷图像。
图：PPT透射电子显微技术1页10. 透射电子显微成像中，层错、反相畴界、畴界、孪晶界、晶界等衍衬像有何异同？用什么办法及根据什么特征才能将它们区分开来？答：由于层错区域衍射波振幅一般与无层错区域衍射波振幅不同，则层错区和与相邻区域形成了不同的衬度，相应地出现均匀的亮线和暗线，由于层错两侧的区域晶体结构和位相相同，故所有亮线和暗线的衬度分别相同。
层错衍衬像表现为平行于层错面迹线的明暗相间的等间距条纹。
孪晶界和晶界两侧的晶体由于位向不同，或者还由于点阵类型不同，一边的晶体处于双光束条件时，另一边的衍射条件不可能是完全相同的，也可能是处于无强衍射的情况，就相当于出现等厚条纹，所以他们的衍衬像都是间距不等的明暗相间的条纹，不同的是孪晶界是一条直线，而晶界不是直线。
反相畴界的衍衬像是曲折的带状条纹将晶粒分隔成许多形状不规则的小区域。
层错条纹平行线直线间距相等反相畴界非平行线非直线间距不等孪晶界条纹平行线直线间距不等晶界条纹平行线非直线间距不等11.什么是透射电子显微像中的质厚衬度、衍射衬度和相位衬度。
形成衍射衬度像和相位衬度像时，物镜在聚焦方面有何不同？为什么？答：质厚衬度：入射电子透过非晶样品时，由于样品不同微区间存在原子序数或厚度的差异，导致透过不同区域落在像平面上的电子数不同，对应各个区域的图像的明暗不同，形成的衬度。
电镜习题
电镜习题1. 金属薄膜显微相的衬度主要是什么原因产生的？非晶复型像的衬度主要是什么原因产生的？2. 金属薄膜的选区衍射图象中，出现弥散分布的两花瓣斑点图案，可能是什么原因引起的；出现多条明暗相间的条纹的原因可能有哪些，如何区分？3. 电子衍射与X 射线衍射比较有哪些异同点。
4. 解释下列名词(1) TEM 的明场相、暗场相 （2）电磁透镜的球差与像散; (3)近似双束条件，（4）罗朗圆；（5）选区衍射5. 已知双束条件下从完整晶体试样发出的衍射电子波强度I k 的表达式为：222)()(s st Sin I gk ππξπ= 试用上式解释：(1) 晶界衍衬像的形成机理；(2) 当晶体试样倾动时，等倾消光条纹为什么会移动；(3) 同一晶粒内不同亚晶的亮度为什么不同。
6. 二次电子像SEI 具有高分辨本领的主要原因是什么？SEI 可否用作成分分析的工具？为什么？7. 图M-2-1为含V 低合金钢薄膜的选区电子衍射照片，其中的德拜环系由钢中的VC n 微晶所产生，衍射斑系由铁素体基体所致。
VC n 为fcc 结构，a=4.16Å。
铁素体为bcc 结构，a=2.86Å。
试：(1) 标定三个德拜环的指数。
(2) 计算仪器常数L λ，并估计其误差。
(3) 标定A 、B 、C 等斑点的指数。
(4) 计算A 、B 、C 相应的晶带轴指数[uvw]。
(5) 分析高阶劳埃斑没有在照片上出现的可能原因。
8. 简述电子衍射的基本原理，与X 射线衍射比较，电子衍射有那些基本特点？9. 绘简图说明透射电镜镜筒的结构并简述其工作原理？10. 绘图示意说明双晶带、高阶劳厄带、二次衍射、孪晶、菊池线等的形成原理与斑点花样特征11. 绘简图说明晶界、层错、位错、第二相、空洞等图像衬度特征？12. 双束条件下，多晶薄膜试样衍射像中不同晶粒，同一晶粒不同亚晶的亮度为什么不同？同一晶界的衍衬相中衬度条纹的间距为什么不同？13. 设面心立方晶体试样中存在一个61[211]位移矢量的倾斜层错，依次选用(111)、(111-)、(220)、(-202)作双束条件下的工作晶面。
电镜练习试题及参考包括答案.docx
一、电镜练习题及答案一、透射电镜标本取材的基本要求并简要说明。
答：取材的基本要求如下：组织从生物活体取下以后，如果不立即进行及时固定处理，就有可能出现缺血缺氧后的细胞超微结构的改变，如细胞出现细胞器变性或溶解等现象，这些都可造成电镜观察中的人为假象，直接影响观察结果分析，甚至导致实验失败。
此外，由于处理不当造成组织微生物污染，导致细胞的超微结构结构遭受破坏。
因此，为了使细胞结构尽可能保持生前状态，取材成败是关键，取材成功的关键在于操作者必须要注意把握“快、小、冷、准”四个取材要点。
(1)．快：就是指取材动作要迅速，组织从活体取下后应在最短时间 ( 争取在 1～ 2分钟之内 ) 投入前固定液。
对于实验动物，最好在断血流、断气之前就进行取材，以免缺血缺氧后使细胞代谢发生改变而破坏细胞的超微结构。
当然，最好是采用灌注固定法。
为了使前固定的效果更佳，组织块要充分和固定液混合，应采用振荡固定 10 分钟以上，有条件的可采用微波固定法固定。
(2)．小：由于常用的固定剂渗透能力较弱，组织块如果太大，块的内部将不能3得到良好的固定。
因此所取组织的体积要小，一般不超过 1mm。
为便于定向包埋，可将组织修成大小约 1mm×1mm×2mm长条形。
(3)．冷：为了防止酶对自身细胞的酶解作用，取材操作最好在低温 (5 ℃～ 15℃)环境下进行，这样可以降低酶的活性，防止细胞自溶。
所采用的固定剂以及取材器械要预先在冰箱 (5 ℃）中存放一段时间。
(4)．准：就是取材部位要准确，这就要求取材者对所取的组织解剖部位要熟悉，必须取到与实验要求相关的部位，不同实验组别间要取相同部位，如需要定向包埋的标本，则要作好定向取材工作。
此外，还要求操作动作轻柔，熟练，尽量避免牵拉、挫伤与挤压对组织造成的人为损伤。
二、什么是瑞利准则？电镜与光镜在原理上有何相似和不同之处？答： 1、光线通过二个比较靠近的小孔时，这二个小孔的衍射图会重叠在一起。
透射电镜试题
材料结构分析试题1（参考答案）一、基本概念题（共8题，每题7分）1．X射线的本质是什么？是谁首先发现了X射线，谁揭示了X射线的本质？答：X射线的本质是一种横电磁波？伦琴首先发现了X射线，劳厄揭示了X射线的本质？2．下列哪些晶面属于[111]晶带？（111）、（321）、（231）、（211）、（101）、（101）、（133），（-1-10），（1-12），（1-32），（0-11），（212），为什么？答：（-1-10）（321）、（211）、（1-12）、（-101）、（0-11）晶面属于[111]晶带，因为它们符合晶带定律：hu+kv+lw=0。
3．多重性因子的物理意义是什么？某立方晶系晶体，其{100}的多重性因子是多少？如该晶体转变为四方晶系，这个晶面族的多重性因子会发生什么变化？为什么？答：多重性因子的物理意义是等同晶面个数对衍射强度的影响因数叫作多重性因子。
某立方晶系晶体，其{100}的多重性因子是6？如该晶体转变为四方晶系多重性因子是4；这个晶面族的多重性因子会随对称性不同而改变。
4．在一块冷轧钢板中可能存在哪几种内应力？它们的衍射谱有什么特点？答：在一块冷轧钢板中可能存在三种内应力，它们是：第一类内应力是在物体较大范围内或许多晶粒范围内存在并保持平衡的应力。
称之为宏观应力。
它能使衍射线产生位移。
第二类应力是在一个或少数晶粒范围内存在并保持平衡的内应力。
它一般能使衍射峰宽化。
第三类应力是在若干原子范围存在并保持平衡的内应力。
它能使衍射线减弱。
5．透射电镜主要由几大系统构成? 各系统之间关系如何?答：四大系统:电子光学系统,真空系统,供电控制系统,附加仪器系统。
其中电子光学系统是其核心。
其他系统为辅助系统。
6．透射电镜中有哪些主要光阑? 分别安装在什么位置? 其作用如何?答：主要有三种光阑：①聚光镜光阑。
在双聚光镜系统中,该光阑装在第二聚光镜下方。
作用:限制照明孔径角。
②物镜光阑。
透射电镜习题答案及总结
透射电镜习题答案及总结二、简答1、透射电镜主要由几大系统构成? 各系统之间关系如何?答：三大系统:电子光学系统,真空系统,供电系统。
其中电子光学系统是其核心。
其他系统为辅助系统。
2、照明系统的作用是什么？它应满足什么要求？答：照明系统由电子枪、聚光镜和相应的平移对中、倾斜调节装置组成。
它的作用是提供一束亮度高、照明孔经角小、平行度好、束流稳定的照明源。
它应满足明场和暗场成像需求。
3、成像系统的主要构成及其特点、作用是什么？答：主要由物镜、物镜光栏、选区光栏、中间镜和投影镜组成、1）物镜：强励磁短焦透镜（f=1-3mm）,放大倍数100120um，无磁金属制成。
作用：a、提高像衬度，b、减小孔经角，从而减小像差。
C、进行暗场成像3）选区光栏：装在物镜像平面上，直径20-400um，作用：对样品进行微区衍射分析。
4）中间镜：弱压短透镜，长焦，放大倍数可调节0—20倍作用a、控制电镜总放大倍数。
B、成像/衍射模式选择。
5）投影镜：短焦、强磁透镜，进一步放大中间镜的像。
投影镜内孔径较小，使电子束进入投影镜孔径角很小。
小孔径角有两个特点：a、景深大，改变中间镜放大倍数，使总倍数变化大，也不影响图象清晰度。
焦深长，放宽对荧光屏和底片平面严格位置要求。
4、分别说明成像操作与衍射操作时各级透镜（像平面与物平面）之间的相对位置关系，并画出光路图。
答：如果把中间镜的物平面和物镜的像平面重合，则在荧光屏上得到一幅放大像，这就是电子显微镜中的成像操作，如图（a）所示。
如果把中间镜的物平面和物镜的后焦面重合，则在荧光屏上得到一幅电子衍射花样，这就是电子显微镜中的电子衍射操作，如图（b）所示。
5、简要说明多晶（纳米晶体）、单晶及非晶衍射花样的特征及形成原理。
答：单晶花样是一个零层二维倒易截面，其倒易点规则排列，具有明显对称性，且处于二维网络的格点上。
因此表达花样对称性的基本单元为平行四边形。
单晶电子衍射花样就是(uvw)*0零层倒易截面的放大像。
透射电子显微学考试题
《透射电子显微学》课程论文：结合自己的研究方向，通过查阅文献，撰写HRTEM在有关凝聚态物质微结构和成分分析方面的应用论文。
内容要求有分析原理、分析方法、样品制备、结果分析与解读、相关应用的总结及参考文献。
论文字数3000，文献不少于5篇。
《材料微观分析方法》考试作业⏹思考论述题（含电子衍射作业）⏹1、场发射扫描电镜(FSEM)为何具有更高的空间分辨率？叙述在纳米材料研究中的主要应用。
⏹2、论述衍射衬度像在材料研究中的主要应用。
⏹3、何为结构象？HREM相位衬度像的主要影响因素？⏹4、STEM方式中HADDF高分辨像的原理和特点是什么？（与相位衬度像比较）⏹5、为何重视研究材料特别是纳米材料的表（界）面结构？列出你所了解的表面（结构和组成）研究的主要手段。
⏹6、SPM家族的主要仪器有哪些？简述各自的原理和分析特点。
⏹7、试比较AFM/STM、AFM/SEM、STM/HRTEM的特点、样品要求和应用范围。
⏹8、AEM/EDS微区定量成分分析的原理与主要影响因素。
⏹9、讨论待分析研究的一固体块状样品（金属材料、非金属如陶瓷功能材料、高分子材料、复合材料、薄膜材料等），若需获得较全面的显微学信息如表面形态、组织结构和大小、晶体结构与取向、缺陷和界面结构、原子结构、表面结构、表面吸附、界面粘结、掺杂元素及其分布等，由样品制备方法始，根据所介绍仪器FSEM、HREM STM、AFM，按从宏观到微观，由表及里，整体－部分－整体的分析原则，设计分析路线，説明各个仪器所能得到的样品信息。
⏹10、若我们已能从原子开始设计和建造先进材料，你会选择从哪开始呢？(Idea,Function,Object,tool,Technique,Material。
TEM习题
TEM习题第五章一、选择题1.若H-800电镜的最高分辨率是0.5nm，那么这台电镜的有效放大倍数是（）。
A. 1000；B. 10000；C. 40000；D.600000。
2. 可以消除的像差是（）。
A. 球差；B. 像散；C. 色差；D. A+B。
3. 可以提高TEM的衬度的光栏是（）。
A. 第二聚光镜光栏；B. 物镜光栏；C. 选区光栏；D. 其它光栏。
4. 电子衍射成像时是将（）。
A. 中间镜的物平面与与物镜的背焦面重合；B. 中间镜的物平面与与物镜的像平面重合；C. 关闭中间镜；D. 关闭物镜。
5.选区光栏在TEM镜筒中的位置是（）。
A. 物镜的物平面；B. 物镜的像平面C. 物镜的背焦面；D. 物镜的前焦面。
二、正误题1.TEM的分辨率既受衍射效应影响，也受透镜的像差影响。
（）2.孔径半角α是影响分辨率的重要因素，TEM中的α角越小越好。
（）3.有效放大倍数与仪器可以达到的放大倍数不同，前者取决于仪器分辨率和人眼分辨率，后者仅仅是仪器的制造水平。
（）4.TEM中主要是电磁透镜，由于电磁透镜不存在凹透镜，所以不能象光学显微镜那样通过凹凸镜的组合设计来减小或消除像差，故TEM中的像差都是不可消除的。
（）的数值减小而减小；随孔径半角α的减小而增加；随放大倍数的提高而减小。
（）5.TEM的景深和焦长随分辨率Δr三、填空题1.TEM中的透镜有两种，分别是和。
2.TEM中的三个可动光栏分别是位于，位于，位于。
3.TEM成像系统由、和组成。
4.TEM的主要组成部分是、和观；辅助部分由、和组成。
5.电磁透镜的像差包括、和。
四、名词解释1.景深与焦长——2.电子枪——3.点分辨与晶格分辨率——4.消像散器——5.选区衍射——6.分析型电镜——7.极靴——8.有效放大倍数——9.Ariy斑——10.孔径半角——思考题1.什么是分辨率，影响透射电子显微镜分辨率的因素是哪些？2.有效放大倍数和放大倍数在意义上有何区别？3.球差、像散和色差是怎样造成的？如何减小这些像差？哪些是可消除的像差？4.聚光镜、物镜和投影镜各自具有什么功能和特点？5.影响电磁透镜景深和焦长的主要因素是什么？景深和焦长对透射电子显微镜的成像和设计有何影响？6.消像散器的作用和原理是什么？7.何为可动光阑？第二聚光镜光阑、物镜光阑和选区光阑在电镜的什么位置？它们各具有什么功能？8.比较光学显微镜和电子显微镜成像的异同点。
透射电镜(TEM)、扫面电镜(SEM)测试常见问题80答汇编
1.做TEM测试时样品的厚度最厚是多少 ?TEM的样品厚度最好小于100nm，太厚了电子束不易透过，分析效果不好。
2.请问样品的的穿晶断裂和沿晶断裂在SEM图片上有各有什么明显的特征？在SEM图片中，沿晶断裂可以清楚地看到裂纹是沿着晶界展开，且晶粒晶界明显；穿晶断裂则是裂纹在晶粒中展开，晶粒晶界都较模糊。
3.做TEM测试时样品有什么要求？很简单，只要不含水分就行。
如果样品为溶液，则样品需要滴在一定的基板上（如玻璃），然后干燥，再喷碳就可以了。
如果样品本身导电就无需喷碳。
4.水溶液中的纳米粒子如何做TEM？透射电镜样品必须在高真空中下检测，水溶液中的纳米粒子不能直接测。
一般用一个微栅或铜网，把样品捞起来，然后放在样品预抽器中，烘干即可放入电镜里面测试。
如果样品的尺寸很小，只有几个纳米，选用无孔的碳膜来捞样品即可。
5.粉末状样品怎么做TEM？扫描电镜测试中粉末样品的制备多采用双面胶干法制样，和选用合适的溶液超声波湿法制样。
分散剂在扫描电镜的样品制备中效果并不明显，有时会带来相反的作用，如干燥时析晶等。
6.EDS与XPS测试时采样深度的差别？XPS采样深度为2-5nm，我想知道EDS采样深度大约1um.7.能谱，有的叫EDS，也有的叫EDX，到底哪个更合适一些？能谱的全称是：Energy-dispersive X-ray spectroscopy国际标准化术语:EDS-能谱仪EDX-能谱学8.TEM用铜网的孔洞尺寸多大？捞粉体常用的有碳支持膜和小孔微栅，小孔微栅上其实也有一层超薄的碳膜。
拍高分辨的，试样的厚度最好要控制在 20 nm以下，所以一般直径小于20nm的粉体才直接捞，颗粒再大的话最好是包埋后离子减薄。
9.在透射电镜上观察到纳米晶,在纳米晶的周围有非晶态的区域,我想对非晶态的区域升温或者给予一定的电压(电流),使其发生变化, 原位观察起变化情况？用原子力显微镜应该可以解决这个问题。
10.Mg-Al合金怎么做SEM，二次电子的？这种样品的正确测法应该是先抛光，再腐蚀。
SEM、TEM、XRD、NMR、EPAM知识点总结及试题
XRD
1、X 射线和光相同，是一种电磁波，显示波-粒二相性，但波长较光更短一些。 X 射线的波长范围如图所示在 0.001--100nm。 0.005-0.01 nm 用于金属探伤，0.05-0.25nm 用于晶体结构分析。 2、连续 X 射线 按量子理论，当能量为 eV 的高速电子撞击靶中的原子时，电子失去自己的 能量。其中大部分转化为热能。一部分以光子（X 射线）的形式幅射出。每撞击 一次就产生一个能量为 hv 的光子。 由于单位时间内到达靶表面的电子数量很多， 但大多数电子还经过多次碰撞，因此，各个光子的能量各不相同，产生的 X 射 线的波长也就不同。于是产生了一个连续的 X 射线谱。 其中少数电子在一次碰撞中就将能量全部转化为光子， 因此它产生的光子能 量最大，波长最小。其短波限 λ0 取决于能量最大电子，并与管压有关。 X 射线强度取决于光子的数目。 所以连续 X 射线谱的最大值不在 λ0 的位置。 3、特征 X 射线谱 高能电子把原子的内壳层电子打出，使原子电离，外壳层电子向内壳层电子 跃迁，跃迁的能量差转化为一个 X 射线的光子。由于对一定种类的原子，各层 能量是一定的，频率不变，具有代表原子特征的固定波长，故称为特征 X 射线。 特征谱的波长不受管压和管流的影响，只决定于阳极靶材的原子序数。对 一定材料的阳极靶，产生的特征谱的波长是固定的，此波长可作为阳极靶材的标 志或特征。特征 X 射线的辐射强度随管压 U 和管流 i 的增大而增大。 莫塞莱定律——不同靶材的同名特征谱线，其波长 λ 随靶材原子序数 Z 的 增大而变短。 4、相干散射是 X 射线在晶体产生衍射的基础。非相干散射不能参与晶体对 X 射 线的衍射，只会在衍射图上形成不利的背景。 5、 当用 X 射线轰击物质时，若 X 射线的能量大于物质原子对其内层电子的束 缚力时，入射 X 射线光子的能量就会被吸收，从而导致其内层电子（如 K 层电 子）被激发，并使高能级上的电子产生跃迁，发射新的特征 X 射线。 吸收限——激发原子产生 K,L,M 等线系的荧光辐射，入射的 X 射线光量子 的能量必须≥K,L,M 层电子与原子核的结合能 Ek,EL,EM，Eκ = hνκ = hc/λκ 。νk 和 也是入射 X 射线的 K,L,M λk 分别对应于入射 X 射线须具有的频率和波长临界值， 的吸收限。 利用吸收限可以计算出靶材的临界激发电压，原子序数愈大,同名吸收限波 长值愈短。Uκ = hc/eλκ （电子能量全部转化为 X 射线能） 。 吸收限是吸收元素的特征量，不随实验条件而变。 6、晶体学指数 1）结点 简单点阵晶胞:结点指数（0,0,0） ； 体心点阵晶胞:结点指数（0,0,0）,(1/2,1/2,1/2) 面心点阵晶胞:结点指数(0,0,0),(1/2,1/2,0),(1/2,0,1/2),(0,1/2,1/2) 底心点阵晶胞:结点指数(0,0,0),(1/2,1/2,0) 2）晶向指数：空间点阵的结点直线方向指数[uvw] （向量计算） 空间中所有相互平行的晶向，其晶向指数相同，称为晶向组，即同一[uvw] 表示的不仅是一个晶向，而是同一晶向组内的所有晶向。
TEM_透射电镜习题答案与总结
电子背散射衍射：当入射电子束在晶体样品中产生散射时，在晶体向空间所有方向发射散射电子波。
如果这些散射电子波河晶体中某一晶面之间恰好符合布拉格衍射条件将发生衍射，这就是电子背散射衍射。
二、简答1、透射电镜主要由几大系统构成? 各系统之间关系如何?答：三大系统:电子光学系统,真空系统,供电系统。
其中电子光学系统是其核心。
其他系统为辅助系统。
2、照明系统的作用是什么？它应满足什么要求？答：照明系统由电子枪、聚光镜和相应的平移对中、倾斜调节装置组成。
它的作用是提供一束亮度高、照明孔经角小、平行度好、束流稳定的照明源。
它应满足明场和暗场成像需求。
3、成像系统的主要构成及其特点、作用是什么？答：主要由物镜、物镜光栏、选区光栏、中间镜和投影镜组成.1）物镜：强励磁短焦透镜（f=1-3mm）,放大倍数100—300倍。
作用：形成第一幅放大像2）物镜光栏：装在物镜背焦面，直径20—120um，无磁金属制成。
作用：a.提高像衬度，b.减小孔经角，从而减小像差。
C.进行暗场成像3）选区光栏：装在物镜像平面上，直径20-400um，作用：对样品进行微区衍射分析。
4）中间镜：弱压短透镜，长焦，放大倍数可调节0—20倍作用a.控制电镜总放大倍数。
B.成像/衍射模式选择。
5）投影镜：短焦、强磁透镜，进一步放大中间镜的像。
投影镜孔径较小，使电子束进入投影镜孔径角很小。
小孔径角有两个特点：a.景深大，改变中间镜放大倍数，使总倍数变化大，也不影响图象清晰度。
焦深长，放宽对荧光屏和底片平面严格位置要求。
4、分别说明成像操作与衍射操作时各级透镜（像平面与物平面）之间的相对位置关系，并画出光路图。
答：如果把中间镜的物平面和物镜的像平面重合，则在荧光屏上得到一幅放大像，这就是电子显微镜中的成像操作，如图（a）所示。
如果把中间镜的物平面和物镜的后焦面重合，则在荧光屏上得到一幅电子衍射花样，这就是电子显微镜中的电子衍射操作，如图（b）所示。
5.简要说明多晶（纳米晶体）、单晶及非晶衍射花样的特征及形成原理。
透射电镜期末考试复习题
透射电子显微学考题(1)最常用的两种透射电镜工作模式图（像模式和衍射模式）？ 100kev, 200keV, 300 keV, 400 keV 的电子波长？emU h 2=λ 20)(1c m m υ-= 0.00370nm ；0.00251nm ；0.00197nm ；0.00164nm(2)电子和物质的相互作用分几种散射？电子和薄样品如何作用？电子和厚样品如何作用？非弹性散射和弹性散射的角度一般是多少？何种角度弹性散射容易变为非相干的？样品变厚，前-背散射的份额如何变化？薄样品的TEM 中，假定最多只有几次散射发生？TEM 像由何种电子所成？答：分为弹性散射和非弹性散射；薄膜样品允许电子既可以向前也可以向后散射；厚样品只允许入射电子束发生背散射；非弹性散射角度一般小于1°，弹性散射角度一般为1-10°,当大于10°时弹性散射变为非相干；随着样品变厚，前散射电子的数量变少，背散射电子的数量增多，直到主要的非相干背散射在厚的不透明的样品中能被探测到。
1次。
由前散射电子所成。
(3)电子散射和X-射线散射的机制和强度对比区别？答：X射线通过带负电的电子和X射线的电磁场的相互作用被材料中的电子散射。
样品中的电子响应于X射线流的电磁场，随着X射线束的周期而振动。
这些被加速和充电的粒子随后释放他们各自的电磁场，和入射的X射线具有相同的波长和相位。
最后所合成的电磁场从每个散射源开始传播，这就是散射波。
电子同时被材料中的电子和核散射；进入的带负电的电子和样品局部的电磁场相互作用。
所进入的电子因此直接被样品散射；它不是像X射线那样场与场的交换作用。
因此，相比X射线电子被散射地更强烈。
(4)非晶衍射？多晶衍射？单晶衍射的特征答：非晶态物质的衍射花样是几个同心的光晕，每个光晕的边界很模糊。
多晶的衍射花样是一系列同心的环，环越细，表示多晶体的晶粒越大，环越粗，多晶体的晶粒就越小。
单晶的衍射的特点是具有一定对称性的衍射斑点，中心亮点是透射斑点，对应000衍射，越靠近000斑点的衍射斑点的hkl指数越小，越远离000斑点的hkl指数越大。
(完整版)透射电镜复习题答案
透射电子显微学考题⑴最常用的两种透射电镜工作模式图（像模式和衍射模式）？100kev, 200keV, 300 keV, 400 keV 的电子波长？10分tHil HI 1.11 J l>| kn 41 ^er^lof I；be 11 M ill匕削译"*1 匚11 ditl f«；MH fWu 5血和肚H|5T I1E(< tht i ci现H T曲flAd i 射inui|2it mode- prr tnu reonra I J K①rernt Ec CK U<JSC ifcr 上“pcltnL tens irJrviscaller the4icirihc ・nd 纠购皿• Bl-c-r iheLih-rccack D^> oi Hi nb tri Tte inupmE iyh[£ni!b tbi'Bwni lac rr j.r± lh pl 11 *> IHIILP I J ioi. Most FE Mi iu.ie rr-iiimorE UIHJ am 崔Ictuek wlicb rise ^rEAUrElEuMic'i IR LefoiL ufmj.£?zUhkJLkia Jtxi; I LXILUM寒肇[or bol± uii』gEi. JL J DPi_ 1 ht i.kU jnii utijett^c JIS uko sJhma 平卩『JIHIJ I E J.!. LEHS I A! IVr^Bfinud NOTE Thi^ n j 加曲kJincilujttj du^rjiriL L I IMALUB口ng ihrtr iemm Mtnhm U M eluE* non、akm m ihcif ii・j“叫the 护KSAD ^jpirlEljlL-Otijerin e|l 细pcftiiM(hfp)■ RcrmncuipeirtiiffcIniicrmnliikiclens卍|>艸遷uperiuwClian 缨HKrrrigthFixedhLiLnirl.hEntity ,triuijjc'Qb|W r kmN-AD ii|wriurcCMh|£xjh^ cLi|xrr1ui£ <wp)1灯丝2栅帽3阳极4枪倾斜5枪平移6 —级聚光镜7二级聚光镜8聚光镜光栏9光倾給10光平移11试样架12物镜13物镜光栏14选区光栏15中间鏡16投影镜 17荧光屏0.00370nm； 0.00251 nm； 0.00197nm； 0.00164nm(2) 电子和物质的相互作用分几种散射？电子和薄样品如何作用？电子和厚样品如何作用？非弹性散射和弹性散射的角度一般是多少？何种角度弹性散射容易变为非相干的？样品变厚，前-背散射的份额如何变化？薄样品的TEM中，假定最多只有几次散射发生？TEM像由何种电子所成？18分答：分为弹性散射和非弹性散射；薄膜样品允许电子既可以向前也可以向后散射；厚样品只允许入射电子束发生背散射；非弹性散射角度一般小于1°，弹性散射角度一般为1-10°, 当大于10°时弹性散射变为非相干；随着样品变厚，前散射电子的数量变少，背散射电子的数量增多，直到主要的非相干背散射在厚的不透明的样品中能被探测到。
临床检验仪器第三章显微镜习题
第三章显微镜一、名词解释1.光学显微镜：光学显微镜是利用光学原理，把人眼所不能分辨的微小物体放大成像，供人们提取物质微细结构信息的光学仪器。
2.荧光显微镜：荧光显微镜是以紫外线为光源来激发生物标本中的荧光物质，产生能观察到的各色荧光的一种光学显微镜。
3.相衬显微镜：相衬显微镜是利用光的衍射和干涉现象，把相位差变为振幅差，主要用于观察活细胞和未染色的标本。
4.暗视野显微镜：暗视野显微镜是根据光学中丁铎尔现象原理设计的显微镜，可用来研究活细胞的形态和运动。
5.偏光显微镜：偏光显微镜是利用光的偏振特性，对具有双折射性（即可以使一束入射光经折射后分成两束折射光）的晶态、液晶态物质进行观察和研究的重要光学仪器。
6.激光扫描共聚焦显微镜：LSCM利用单色激光扫描束经过照明针孔形成点光源对标本内焦平面的每一点进行扫描，标本上的被照射点在检测器的检测针孔处成像，由检测针孔后的光电倍增管（PMT）或电感耦合器件（CCD）逐点或逐线接收，迅速在计算机监视器屏幕上形成荧光图像。
7.倒置显微镜：在观测活体标本时，须把照明系统放在载物台及标本之上，而把物镜组放在载物台器皿下进行显微镜放大成像。
这种类型的显微镜成为倒置显微镜，又称生物培养显微镜。
8.紫外光显微镜：紫外光显微镜使用紫外光源可以明显提高显微镜的分辨率，对于生物样品还具有独特的效果。
9.电子显微镜：电子显微镜（EM）是根据电子光学原理，用电子束和电子透镜代替光束和光学透镜，是物质的细微结构在非常高的放大倍数下成像的仪器。
10.透射电子显微镜：透射电镜（TEM）是各类电镜中发展最早、应用最广泛的。
现代TEM泛指加速电压在20~200kV,分辨率在0.1~0.3nm，放大率在50~500 000倍的普通TEM。
11.扫描电子显微镜：扫描电子显微镜（SEM）的分辨率一般为3~10nm，放大率为5~300 000倍，加速电压为1~30kV，SEM的景深长、视野大、图像有立体感、样品制备简单、放大率范围广、能够观察较大样品的局部细微结构。
透射电子显微分析题库
第二章 电子显微分析第三节 透射电子显微分析1．试述透射电镜的结构。
通常透射电子显微镜主要由光学成像系统、真空系统和电气控制系统三部分组成。
（1）光学成像系统：1 照明部分：电子枪、聚光镜。
2成像放大系统：物镜、中间镜、投影镜。
3图像观察记录部分。
4样品台。
（2）真空系统；（3）电气系统：灯丝电源和高压电源、磁透镜稳压稳流电源、电气控制电路。
2．透射电镜中粉末样品和薄膜样品的制备方法及要求？答：（1）粉末样品：用超声波分散器将需要的粉末在溶液（不与粉末发生作用的）中分散呈悬浮液。
用滴管滴几滴在覆盖有碳加强火棉胶支持膜的电镜铜网上。
待其干燥（或用滤纸吸干）后，在蒸上一层碳膜，即成为电镜观察用的分散情况，可用光学显微镜进行观察。
也可把载有粉末的铜网再作一次投影操作，以增加图像的立体感，并可根据投影“影子”的特征来分析粉末颗粒的立体形状。
（2）薄膜样品：块状材料是通过减薄的方法（需要先进行机械或化学方法的预减薄）制备成对电子束透明的薄膜样品。
减薄的方法有超薄切片、电解抛光、化学抛光和离子轰击等。
超薄切片方法适用于生物试样。
电解抛光减薄方法适用于金属材料。
化学抛光减薄方法适用于在化学试剂中能均匀减薄的材料，如半导体、单晶体、氧化物等。
无机非金属材料大多数为多相、多组分的的非导电材料，上述方法均木适用。
直至60年代初产生了离子轰击减薄装置后，才使无机非金属材料的薄膜制备成为可能。
3. 试述离子轰击制备薄膜样品的过程原理？答：（1）过程：离子轰击减薄是将待观察的试样按预定取向切割成薄片，再经机械减薄抛光等过程预减薄至30～40 m的薄膜。
把薄膜钻取或切取成尺寸为2.5～3mm的小片，装入离子轰击减薄装置进行离子轰击减薄和离子抛光。
（2）减薄原理：在高真空中，两个相对的冷阴极离子枪，提供高能量的氩子流，以一定角度对旋转的样品的两面进行轰击。
当轰击能量大于样品材料表层原子的结合能时，样品表层原子受到氩离子击发而溅射，经较长时间的连续轰击、溅射最终样品中心部分穿孔。
厦门大学材料学院考研 材料测试习题
1、1、X射线衍射在材料分析测试方面有哪些具体的应用？2、X射线的本质是什么？获得X射线的方法有哪些？3、简述X射线管的基本原理。
4、滤波片的作用是什么？应该怎样选择？5、写出求解公式：I）已知同一晶带的两晶面指数，求晶带轴；II）已知两晶带轴平行于同一晶面，求此晶面指数。
6、在立方点阵中画出下面的点阵面和结点方向。
（010）（0-11）（113）[1-10] [201][101]7、将下面几个干涉晶面（属立方晶系）按面间距的大小排列。
（123）（100）（-200）（31-1）（1-21）（210）（110）（-221）（030）（130）8、证明在六方晶系中h+k＝-i。
9、晶面（110）（311）（132）是否属于同一晶带？晶带轴是什么？再指出属于这个晶带的其它几个晶面。
10、试求六方晶系的面间距公式。
（自由选作）2、1、试推导劳厄方程并解释其物理意义。
2、推导布拉格定律。
该定律有何应用？3、试述影响X射线的衍射线束强度的主要因素。
4、什么是结构因子？对衍射强度结果有何影响？5、X射线照射在单晶Au薄膜样品上，表面是（111）晶面，入射波波长为0.1542nm，点阵常数为0.4078nm，求最低角衍射束的衍射角2θ。
6、上题中单晶Au薄膜样品，如果是电子束垂直薄膜表面入射，电子波波长为0.002nm，求晶面（20-2）反射束的衍射角。
7、写出三个立方晶体中与晶面（11-1）和（011）都垂直的晶面。
8、假设薄晶体只有一层晶胞，现有单色平面波垂直该晶体表面入射，试分析该晶体产生的衍射现象。
（选做）9、对于晶粒直径分别为100，75，50，25nm的粉末衍射图形，请计算由于晶粒细化引起的衍射线条宽化幅度（设θ＝45°，λ＝0.15nm）。
又对于晶粒直径为25nm的粉末，试计算θ＝10°、45°、80°时的B值。
10、试计算出金刚石晶体的系统消光规律（F2表达式）。
TEM部分习题
TEM 部分：1. 光学显微镜的分辨本领一般为所用光源波长的一半；而在透射电镜中当加速电压为100kV 时，电子波长为0.037埃，但其分辨本领却只能达到几个埃，这是为什么？2. 什么是倒易矢量？ 倒易矢量的基本性质是什么？一个晶带的倒易图象是什么？试用倒易矢量的基本性质和晶带定律绘出体心立方点阵(211)*倒易面、面心立方点阵(311)*倒易面。
3. 为什么说单晶体的电子衍射花样是一个零层倒易平面的放大投影？4. 面心立方晶体单晶电子衍射花样如图所示，测得：R1=10.0mm; R2=16.3mm; R3=19.2mm 夹角关系见图。
求：（1）先用R2比法标定所有衍射斑点指数，并求出晶带轴指数[uvw]；（2）若L λ=20.0mm ⋅Å，求此晶体的点阵参数a=?5. α-Fe 单晶（体心立方，点阵常数a=2.86Å）的选区电子衍射花样如图所示。
已测得A 、B 、C 三个衍射斑点距透射斑点O 的距离为：R A =10.0mm, R B =24.5mm, R C =26.5mm ， ∠AOB ＝90︒。
试求：(1) 标定图中所有斑点的指数； (2) 求出晶带轴指数[uvw]； (3) 计算相机常数L λ=?6. NaCl 晶体为立方晶系，试推导其结构因子F HKL ，并说明NaCl 晶体属于何种点阵类型。
已知NaCl 晶体晶胞中离子的位置如下：4个Na 离子分别位于：0,0,0；1/2,1/2,0；1/2,0,1/2；0,1/2,1/2R 2AC7. 在透射电镜中如何实现高放大倍数？如何实现微区形貌和微区结构的对应分析的（从成像到衍射方式的转换）？8. 什么是弱束暗场像？与中心暗场像有何不同？试用Ewald图解说明。
9. TEM衍衬像中，何谓等倾消光条纹和等厚消光条纹？倾斜晶界条纹是如何形成的？10. 透射电子显微成像中，层错、反相畴界、畴界、孪晶界、晶界等衍衬像有何异同？用什么办法及根据什么特征才能将它们区分开来？11. 什么是透射电子显微像中的质厚衬度、衍射衬度和相位衬度。
容习题——精选推荐
显微分析基础部分习题1.影响光学显微镜和电磁透镜分辨率的关键因素是什么？如何提高电磁透镜的分辨率？2.光学显微分析中，在使用高倍镜时，如果把标本片放反了，将会出观什么问题？为什么？3.激光共聚焦显微镜成像原理和特点分别是什么？4.电子波有何特征?与可见光有何异同?5.电磁透镜的像差是怎样产生的?如何来消除和减少像差?6.电磁透镜景深和焦长主要受哪些因素影响?说明电磁透镜的景深大、焦长长，是什么因素影响的结果？假设电磁透镜没有像差，也没有衍射埃利斑，即分辨率极高，此时它的景深和焦长如何?7.入射电子束和固体的相互作用TEM 习题1.透射电镜主要由几大系统构成？各系统之间关系如何？2.透射电子显微镜成像系统的主要构成、特点及其作用。
3.分别说明成像操作与衍射操作时各级透镜（像平面与物平面）之间的相对位置关系，画出光路图。
4.对透射电镜样品的基本要求是什么?可采用什么方法制备?5.复型样品（一级及二级复型）如何制备？复型样品在透射电镜下的衬度是如何形成的？6.如何用透射电镜观察超细粉末的尺寸和形态？如何制备样品？8.什么是衍射衬度?它与质厚衬度有什么区别?8.画图说明衍衬成像原理，并说明什么是明场像、暗明场像和中心暗场像。
9.举例说明理想晶体衍衬运动学基本方程在解释衍衬图像中的应用。
10.用非理想晶体衍衬运动学基本方程解释层错与位错的衬度形成原理。
SEM 习题1.电子束入射固体样品表面会激发哪些信号?它们有哪些特点和用途?2. 扫描电镜的分辨率受哪些因素影响?用不同的信号成像时，其分辨率有何不同?所谓扫描电镜的分辨率是指用何种信号成像时的分辨率?3. 扫描电镜的成像原理与透射电镜有何不同?4. 二次电子像和背散射电子像在显示表面形貌衬度时有何相同与不同之处?5. 说明背散射电子像和吸收电子像的原子序数衬度形成原理．并举例说明在分析样品中元素分布的应用。
6. 当电子束入射重元素和轻元素时，其作用体积有何不同?各自产生的信号的分辨率有何特点?7. 二次电子像景深很大，样品凹坑底部都能清楚地显示出来，从而使图像的立体感很强，其原因何在?X射线光电子能谱分析习题1.X射线光电子能谱分析的基本原理是什么？能分析的内有哪些？适宜什么样的试样？2.X射线光电子能谱图（XPS）上除光电子主线外还可能有哪些伴线？如何识别？3.什么是化学位移？根据离子型化合物模型，XPS谱线化学位移的规律是什么？4.光电子能谱仪的基本结构？5.利用XPS进行化学分析的依据是什么？利用XPS鉴别化学状态有哪些方法?6.如果需要对固体表面单原子层进行分析，可采用哪一种方法，为什么？7.如何用光电子能谱如何进行定性和定量分析？。
TEM系统学习
透射电镜（TEM）可以做什么？---电子衍射图。
透射电镜（TEM ）的应用原理（2）透射电子（transitive electrons, TE ) ：当试样厚度小于入射电子的穿透深度时，入射电子将穿透试样，从另一表面射出称为透射电子，透过的电子被样品下方的检测器吸收。
如果试样很薄，只有10-20nm的厚度，透射电子的主要组成部分是弹性散射电子，成像比较清晰。
透镜成像分2个过程完成：1，平行电子束遭到物的散射作用而分裂成各级衍射谱，即由物变换到衍射的过程；2，各级衍射谱经过干涉重新在像平面上汇聚成诸像点，即由衍射重新变换到物的过程，只是像是放大了的物。
（1）透射电子显微镜是以波长很短的电子束做照明源，用电磁透镜聚焦成像的一种具有高分辨本领，高放大倍数的电子光学仪器。
（3）成像放大原理：透射电子显微镜中，物镜、中间镜，投影镜,总的放大倍数就是各透镜倍率的乘积。
M = M 0.Mi.Mp；式中：M 0---物镜放大倍率；Mi----中间镜放大倍率；Mp---投影镜放大倍率，总的放大倍率M在1K-200K倍内连续变化。
---电子衍射图。
透射电镜（TEM）的应用电镜中的电子衍射，其衍射几何与X射线完全相同，都遵循布拉格方程所规定的衍射条件和几何关系。
衍射方向可以由厄瓦尔德球(反射球)作图求出。
它的许多问题可用与X射线衍射相类似的方法处理。
倒易点阵：随着晶体学的发展，为了更清楚地说明晶体衍射现象和晶体物理学方面的问题，Ewald在1920年首先引入倒易点阵的概念。
倒易点阵是一种虚拟点阵，它是由晶体内部的点阵按照一定的规则转化而来的。
现已经成为解释X射线和电子衍射的一种有利工具。
•晶体中的原子在三维空间周期性排列，这种点阵称为正点阵或真点阵。
•以长度倒数为量纲与正点阵按一定法则对应的虚拟点阵------称倒易点阵定义倒易点阵•定义倒易点阵的基本矢量垂直于正点阵矢量构成的平面•所以有:•(仅当正交晶系）V b a c V a c b V c b a ×=×=×=∗∗∗0=⋅=⋅=⋅=⋅=⋅=⋅∗∗∗∗∗∗b c a c c b a b c a b a 1=⋅=⋅=⋅∗∗∗b b a a c c c c b b a a 111===∗∗∗，，倒易点阵性质（几何意义）•根据定义在倒易点阵中,从倒易原点到任一倒易点的矢量称倒易矢量r hkl •r*hkl =•可以证明:•1，r*矢量的长度等于其对应晶面间距的倒数•r*hkl =1/d hkl •2，其方向与晶面相垂直•g *//N (晶面法线)∗∗∗++lc kbha 正点阵中的每组平行晶面（hkl)相当于倒易点阵中的一个倒易点，此点必须处在这组晶面的公共法线上，即倒易矢量方向上；它至原点的距离为该组晶面间距的倒数。
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基本概念题：
1.请说出弹性散射与非弹性散射的概念以及在透射电子显微镜中的应用。
2.非弹性散射有哪几种？它们各自形成的机理及应用是什么？
3.简要说明电子散射几率与电子束波长、原子序数和散射角之间的关系。
4.写出布拉格方程，并说明各参数分别代表什么。
5.简要说明多晶（纳米晶体）、单晶和非晶的选区电子衍射花样的特征及形成原理。
6.请说出电子衍射与X-射线衍射的异同点。
7.电子衍射花样中原本消光或不存在的倒易点阵位置出现了衍射斑，产生的原因有几种？
如何在实验中加以区分？
8.电子衍射斑在空间的方位取决于什么？而衍射斑的强度又取决于什么？
9.请阐述会聚束衍射的特点和作用。
10.简述倒易点阵与正空间点阵之间有什么关系？
11.请说出[uvw]、<uvw>、(hkl)、{hkl}和hkl在正空间和倒易空间中分别代表什么含义。
12.下列哪些晶面属于[-111]晶带？为什么？
13.下面是某立方晶系物质的几个晶面，请将它们的面间距从大到小按次序重新排列：(12-3),
(100), (200), (-311), (121), (111), (-210), (220), (130), (030), (2-21), (110)。
14.请画出（或说明）fcc和bcc结构的倒易胞，并分别指出它们的消光条件。
15.请将下面的三指数指标转化为四指数指标。
(100)、（110）、(111)、(102)、(123)、[100]、[110]、[111]、[102]、[123]
16.请分别说明什么是明场像、暗场像和中心暗场像。
17.透射电镜有哪些衬度来源？并简述其形成原因和作用。
18.请简述等厚条纹和弯曲条纹的形成机理。
19.什么是消光距离？影响晶体消光距离的主要物理参数和外界条件是什么？
20.倾斜于电子束方向的层错呈现什么样的衬度特征，简述理由。
21.请说明下列图像分别来源于哪种衬度？
等厚条纹、等倾条纹、细胞内的金属颗粒、晶界、位错、晶格像、原子像、Moiré条纹、Fresnel条纹
22.请判断下列说法是否正确，并说明原因。
“只需一张电子衍射或高分辨照片就能确定单晶纳米棒的生长方向和生长面。
”
23.结构缺陷的衬度来源是什么？什么是缺陷不可见性判据？如何利用这一判据来确定位
错的布氏矢量？
24.透射电镜主要由几大系统构成？各系统之间关系如何？
25.透射电镜的分辨率主要取决于哪些因素，如何影响？
26.透射电镜主要有哪几类透镜？它们的作用分别是什么？
27.请说明透射电镜成像系统的主要构成、安装位置、特点及其作用。
28.透射电镜中有哪些主要光栏？分别安装在什么位置？其作用是什么？
29.磁透镜的像差有哪几种？分别是怎样产生的？如何消除或减小像差？
30.请说明能谱(EDS)和电子能量损失谱(EELS)各自的特点和优缺点。
31.陶瓷块体样品的TEM超薄片制样一般需要哪些步骤？
综合及分析题
1.请导出电子衍射的基本公式，解释其物理意义，并阐述倒易点阵与电子衍射图之间有何
对应关系？解释为什么对称入射（B//[uvw]）时，即晶带轴条件下，只有倒易点阵原点在厄瓦尔德球面上，却能得到中心斑点周围的一系列衍射斑点？
2.单晶电子衍射花样的标定有哪几种方法？简要说明进行该电子衍射花样标定的过程与
步骤。
3.何为偏离矢量s？请在厄瓦尔德球上分别示意画出s<0, s=0, s>0三种情况，及其与菊池
线之间关系的构图。
4.请在下面的单胞中画出[010]、[110]、[102]、[022]和[123]晶向（可不考虑矢量大小）以
及(010)、(110)、(102)、(111)和(123)晶面。
5.图绘衬度传递函数的大致形状，并说明其中反映什么信息，以及形状的影响因素。