半导体材料第二章PPT课件
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根据实验数据给出的表示相变规律的各种 几何图形称为相图。
可以直观看出多相体系中各种聚集状态和 它们所处的条件(温度,压力,组成)。
相图是材料制备最重要的基础工具
13
液体和固体受压力的影响很小,因此半导 体材料的固态、液态或两态并存的聚集状 态可以不考虑压强的作用。
半导体材料制备过程中使用的相图一般只 考虑温度和组分这两个变量。
系统与环境是人为确定的,两者并不是固定不变 的,这主要是由所选择的研究对象而定。
2
2相
定义:物质的存在形式,包括物态(固、液、 气)和晶格结构。
把具有相同物理性质和化学性质的一个子系 统称为一个相。或者说系统中具有相同成分、 结构和性能的均匀部分的总和称为相。
举例:生长硅单晶系统中,生长出的硅晶体 称为固相,熔体则称为液相;石墨与金刚石; 半导体性质的灰锡与金属特性的白锡。
3
描述相的变量:温度,压强和组分(热力学) 根据相的定义可知,相与相之间有界面,各
相可以用机械方法加以分离,越过界面时性 质发生突变。 相和物质的数量和多少无关,和物质是否连 续无关。 例:硅锭,无论有多少块都属于一个相。
4
相的几个特征
1 一个相中可以包含几种物质,也就是几种物质 可以形成一个相。例如固溶体,属于一个相,但 是可以含有多种元素。
举例:将固体硅锭浸润在熔体硅的表面并以适当速
度上提,熔体硅会在固液界面逐渐转变成固体。这 是从液相到固相的转变; 立方结构的碳化硅(3C-SiC)在适当的条件下变成
六方结构的碳化硅(例如6H-SiC)。
12
9 相图
对于多相体系,各相间的相互转化,新相 的形成,旧相的消失与温度,压力,组成 有关。
T1
a
溶体b固的相可线能状液固态溶溶体体和在 相同温度
L+S
下有不相
S
同的组分
液相组分
固相组分
xl
xs
19
m
t
l
T1
a
b
t2
l2
xl x
xs
20
杠杆原理
计算两相成分的相对量 T1 两相的组分比 适用范围:二相区
m
a r
b
x-Si初始状态组分比
第二章 半导体材料制备理论基础
2.1 相 图
1
2.1.1 基本概念
1 系统
系统就是我们所选择的研究对象,除了系统以外 的一切物质都叫环境。
举例:对于用提拉法生长单晶硅来说,如果是为 了研究晶体与熔体之间的各种关系,则晶体和熔 体两者就是系统,而加热器,循环冷却水,炉内 的保护气氛等都算环境;如果为了研究晶体、体 和气氛三者之间的相互关系,则晶体,熔体和气 氛三者作为系统,其余的都算环境,
对于一个复相体系,要定量描述这三个变 量之间的全部关系是困难的。
实际使用的相图都是直接根据实验数据绘 制的。
15
研究相平衡基本方法
研究相平衡最常用的两种基本方法是动态 法和静态法。
应用最多最普遍的动态法是热分析法; 热 分析法的原理就是局域物质在加热和冷却 过程中发生相变时必然伴随有热效应,利 用这个热效应测定冷却曲线(步冷曲线) 和进行热差分析,由此确定相变温度与相 变过程 。
举例:NaCl和KNO3的水溶液 NaCl+KNO3=NaNO3+KCl,
该体系的组元数有5个,但有两个限制条件, 独立组元数为3。 系统的独立组元数只能等于或者小于组元数。 通常把具有n个独立组元的系统称为n元系统
8
5 自由度
自由度是指一个平衡体系的可变因素(如 成分、温度、压力等)的数目。
这些因素在一定范围内可以任意改变,而 不会使任何旧的相消失,也不使任何新相 产生。一个系统有几个这样的独立变数, 就有几个自由度。
2 一种物质可以有几个相(硅可以是液相的,固 相的或者气相的)
3 固体机械混合物中有几种物质就有几个相。 (硅单晶和锗单晶混合在一起)
4 一个相可以连续成一个整体,也可以不连续
5
3 组元
系统中每个可以独立分离出来并能独立存 在的化学均匀物质称为组元。
举例:氯化钠水溶液,NaCl和H2O都是组 元,因为可以独立分离出来并能独立存在 化学性质均匀。但是Na+、Cl-、H+、OH却不能算作组元,因为他们都是不能作为 独立的物质存在的。
16
热分析法测量相图的装置示意图
17
以Si和Ge构成的合金为例
Ge50% Ge30% Si100% Si50% Si70% Ge70% Si30%
t4 t2 t3 Ge100% t1 t0 a0958
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ18
2.1.3 二元系相图的分析
1 相图的内容
任意点代表液态Ge-Si共 溶体的可能状态
L
任意液点相代线表固态两合Ge点,-S不表i共重明
组分变量通常用原子百分比来表示。对于 一个二元系,组分坐标轴(横轴)的两个 端点分别代表两个纯组元。相图上,纵坐 标通常表示温度。
14
2.1.2 相图的测定方法
为了描述一个体系的平衡状态必须首先知 道体系中每一个相的平衡状态。
按照热力学的要求,对一个相,通常要用 温度、压强和组分三个强度变量来描述。
6
4 独立组元
凡是在系统内可以独立变化而决定着各相 成分的组元,就称为独立组元 。
在没有组分间关系限制条件的体系中,体 系的独立组元数就等于它的组元数。氯化钠
水溶液的组元数为2,独立组元数也是2
7
如果体系存在化学反应或是其他组分间关系 的限制条件(例如浓度),那它的独立组元 数就不等于组元数,而是组元数减去组分间 关系的限制条件数。
9
6 平衡态
当一个系统的各个热力学参量在不受外界 条件的影响下,不再随时间而变化,我们 就称这个系统处在平衡状态下。
热力学中平衡体系应该满足力学平衡,热 平衡,相平衡条件。
力学平衡要求压强相等;热平衡要求温度 相等;相平衡要求平衡相的化学势相等。
10
7 相平衡
在一个多相体系中,如果他的各个相关相之间彼 此互相转化的速率都相等,也就是各个物质在每 一相中的化学势都相等,我们就说这个体系处于 相平衡状态。
研究相平衡也就是研究平衡系统中相的数目,状 态和性质与各个变数之间的关系。
相平衡是相对的,有条件的。在相平衡状态时, 同一相内成分必须时均匀的,恒定的,温度也必 须是恒定的,其他影响平衡的外界条件,诸如电 场,磁场都必须是不变的。
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8 相变
在一定条件下,两个相互接触的相之间宏观 的物质变动。
可以直观看出多相体系中各种聚集状态和 它们所处的条件(温度,压力,组成)。
相图是材料制备最重要的基础工具
13
液体和固体受压力的影响很小,因此半导 体材料的固态、液态或两态并存的聚集状 态可以不考虑压强的作用。
半导体材料制备过程中使用的相图一般只 考虑温度和组分这两个变量。
系统与环境是人为确定的,两者并不是固定不变 的,这主要是由所选择的研究对象而定。
2
2相
定义:物质的存在形式,包括物态(固、液、 气)和晶格结构。
把具有相同物理性质和化学性质的一个子系 统称为一个相。或者说系统中具有相同成分、 结构和性能的均匀部分的总和称为相。
举例:生长硅单晶系统中,生长出的硅晶体 称为固相,熔体则称为液相;石墨与金刚石; 半导体性质的灰锡与金属特性的白锡。
3
描述相的变量:温度,压强和组分(热力学) 根据相的定义可知,相与相之间有界面,各
相可以用机械方法加以分离,越过界面时性 质发生突变。 相和物质的数量和多少无关,和物质是否连 续无关。 例:硅锭,无论有多少块都属于一个相。
4
相的几个特征
1 一个相中可以包含几种物质,也就是几种物质 可以形成一个相。例如固溶体,属于一个相,但 是可以含有多种元素。
举例:将固体硅锭浸润在熔体硅的表面并以适当速
度上提,熔体硅会在固液界面逐渐转变成固体。这 是从液相到固相的转变; 立方结构的碳化硅(3C-SiC)在适当的条件下变成
六方结构的碳化硅(例如6H-SiC)。
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9 相图
对于多相体系,各相间的相互转化,新相 的形成,旧相的消失与温度,压力,组成 有关。
T1
a
溶体b固的相可线能状液固态溶溶体体和在 相同温度
L+S
下有不相
S
同的组分
液相组分
固相组分
xl
xs
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m
t
l
T1
a
b
t2
l2
xl x
xs
20
杠杆原理
计算两相成分的相对量 T1 两相的组分比 适用范围:二相区
m
a r
b
x-Si初始状态组分比
第二章 半导体材料制备理论基础
2.1 相 图
1
2.1.1 基本概念
1 系统
系统就是我们所选择的研究对象,除了系统以外 的一切物质都叫环境。
举例:对于用提拉法生长单晶硅来说,如果是为 了研究晶体与熔体之间的各种关系,则晶体和熔 体两者就是系统,而加热器,循环冷却水,炉内 的保护气氛等都算环境;如果为了研究晶体、体 和气氛三者之间的相互关系,则晶体,熔体和气 氛三者作为系统,其余的都算环境,
对于一个复相体系,要定量描述这三个变 量之间的全部关系是困难的。
实际使用的相图都是直接根据实验数据绘 制的。
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研究相平衡基本方法
研究相平衡最常用的两种基本方法是动态 法和静态法。
应用最多最普遍的动态法是热分析法; 热 分析法的原理就是局域物质在加热和冷却 过程中发生相变时必然伴随有热效应,利 用这个热效应测定冷却曲线(步冷曲线) 和进行热差分析,由此确定相变温度与相 变过程 。
举例:NaCl和KNO3的水溶液 NaCl+KNO3=NaNO3+KCl,
该体系的组元数有5个,但有两个限制条件, 独立组元数为3。 系统的独立组元数只能等于或者小于组元数。 通常把具有n个独立组元的系统称为n元系统
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5 自由度
自由度是指一个平衡体系的可变因素(如 成分、温度、压力等)的数目。
这些因素在一定范围内可以任意改变,而 不会使任何旧的相消失,也不使任何新相 产生。一个系统有几个这样的独立变数, 就有几个自由度。
2 一种物质可以有几个相(硅可以是液相的,固 相的或者气相的)
3 固体机械混合物中有几种物质就有几个相。 (硅单晶和锗单晶混合在一起)
4 一个相可以连续成一个整体,也可以不连续
5
3 组元
系统中每个可以独立分离出来并能独立存 在的化学均匀物质称为组元。
举例:氯化钠水溶液,NaCl和H2O都是组 元,因为可以独立分离出来并能独立存在 化学性质均匀。但是Na+、Cl-、H+、OH却不能算作组元,因为他们都是不能作为 独立的物质存在的。
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热分析法测量相图的装置示意图
17
以Si和Ge构成的合金为例
Ge50% Ge30% Si100% Si50% Si70% Ge70% Si30%
t4 t2 t3 Ge100% t1 t0 a0958
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ18
2.1.3 二元系相图的分析
1 相图的内容
任意点代表液态Ge-Si共 溶体的可能状态
L
任意液点相代线表固态两合Ge点,-S不表i共重明
组分变量通常用原子百分比来表示。对于 一个二元系,组分坐标轴(横轴)的两个 端点分别代表两个纯组元。相图上,纵坐 标通常表示温度。
14
2.1.2 相图的测定方法
为了描述一个体系的平衡状态必须首先知 道体系中每一个相的平衡状态。
按照热力学的要求,对一个相,通常要用 温度、压强和组分三个强度变量来描述。
6
4 独立组元
凡是在系统内可以独立变化而决定着各相 成分的组元,就称为独立组元 。
在没有组分间关系限制条件的体系中,体 系的独立组元数就等于它的组元数。氯化钠
水溶液的组元数为2,独立组元数也是2
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如果体系存在化学反应或是其他组分间关系 的限制条件(例如浓度),那它的独立组元 数就不等于组元数,而是组元数减去组分间 关系的限制条件数。
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6 平衡态
当一个系统的各个热力学参量在不受外界 条件的影响下,不再随时间而变化,我们 就称这个系统处在平衡状态下。
热力学中平衡体系应该满足力学平衡,热 平衡,相平衡条件。
力学平衡要求压强相等;热平衡要求温度 相等;相平衡要求平衡相的化学势相等。
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7 相平衡
在一个多相体系中,如果他的各个相关相之间彼 此互相转化的速率都相等,也就是各个物质在每 一相中的化学势都相等,我们就说这个体系处于 相平衡状态。
研究相平衡也就是研究平衡系统中相的数目,状 态和性质与各个变数之间的关系。
相平衡是相对的,有条件的。在相平衡状态时, 同一相内成分必须时均匀的,恒定的,温度也必 须是恒定的,其他影响平衡的外界条件,诸如电 场,磁场都必须是不变的。
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8 相变
在一定条件下,两个相互接触的相之间宏观 的物质变动。