科密特平面研磨和抛光耗材
Kemet平面研磨机配液态金刚石研磨剂进行平面研磨及抛光技术
✦ 台置式系统
Kemet ( 科 密 特 ) 工 业 超 声 波 清 洗 系 统 ✦ 水式喷洒系统
✦ 全自动清洗系统
Kemet ( 科 密 特 ) 金 刚 石 产 品
Kemet ( 科 密 特 ) 国 际 有 限 公 司 已 有 5 0 年 的 丰 富 经 验 ， 是 世 界 领 先 的 、 制 造 研 究 及 工 业 用 途 的金刚石研磨产品的厂商之一。其广泛的标准配方范围包括液体、糊状体、悬浮液、凝胶 体和粘胶。
✦ 研磨盘及运载工具的运行速度通 过交流频率逆变器变动。
✦ 自动物件厚度控制。
✦ 若需要可为用户制造定制细磨、 砂磨或研磨盘。
Kemet ( 科 密 特 ) 超 音 波 系 统 用 于 清 洗 精 密 物 件
Kemet ( 科 密 特 ) 清 洗 系 统 有 高 效 率 的 洗 净 功 能 、 可 靠 和 重 复 一 致 。 Kemet ( 科 密 特 ) 能 提 供 多 种 清洗系统，从台置式系统到全自动清洗系统，能满足清洗多种不同元件和各行业严格的要求。
Kemet ( 科 密 特 ) 抛 光 研 磨 毡 垫 对于许多较软的材料而言，欲制造平直抛 光 表 面 ， 需 采 用 抛 光 研 磨 毡 垫 。 Kemet ( 科 密特)提供种类范围最广的自粘抛光研磨毡 垫，适合用于大多数的平面研磨机。
Kemet ( 科 密 特 ) 电 子 分 配 器 藉 由 触 控 感 应 装 置 来 进 行 分 配 Kemet ( 科 密 特 ) 液 态 金 刚 石 研 磨 剂 及 润 滑 液 。 数 字 显 示 装 置上显示的分配间隔、时间及气压一瞥可见。分配器达到 0.2gm（ 克 ） 的 分 配 准 确 度 ， 因 而 杜 绝 浪 费 和 简 化 成 本 控 制 。
第5章 超精密研磨与抛光(康仁科) 大连理工大学
固结磨料研磨
圆柱面和球面的研磨
5.5.1 液中研磨
磨料：微细的 磨料：微细的Al2O3磨粒 磨粒 研具： 研具：聚氨酯 加工液：过滤水、蒸馏水、 加工液：过滤水、蒸馏水、净化水 机理：将研磨操作浸入在含有磨粒的研磨剂中 机理： 进行，借助水波效果， 进行，借助水波效果，利用浮游的微细磨粒进 行研磨加工。以磨粒的机械作用为中心， 行研磨加工。以磨粒的机械作用为中心，由加 工液进行磨粒的分散，起缓冲和冷却作用。 工液进行磨粒的分散，起缓冲和冷却作用。 应用：加工硅片，可以得到完全高质量的镜面。 应用：加工硅片，可以得到完全高质量的镜面。
研具
磨粒
加工液 工件、 工件、研具相对速度 加工压力 加工时间 环境
温 度 尘 埃
室温设定温度± 室温设定温度±0.1℃ ℃ 利用净化槽、 利用净化槽、净化操作台
5.4 超精密平面研磨和抛光
超精密研磨和抛光是加工误差<0.1 µm，表面粗 糙度Ra<0.02 µm的加工方法。 用于制造高精度高表面质量的零件，如大规模 集成电路的硅片，不仅要求极高的平面度，极 小的表面粗糙度，而且要求表面无变质层、无 划伤。光学平晶、量块、石英振子基片平面， 除要求极高平面度、极小表面粗糙度外，还要 求两端面严格平行。
5.5 新原理的超精密研磨抛光
传统的研磨抛光方法是完全靠微细磨粒的机械 作用去除被研磨表面的材质， 作用去除被研磨表面的材质，达到很高的加工 表面。 表面。 最近出现新原理的研磨抛光方法其工作原理有 些已不完全是纯机械的去除， 些已不完全是纯机械的去除，有些不用传统的 研具和磨料。 研具和磨料。这些新的研磨抛光方法可以达到 分子级和原子级材料的去除， 分子级和原子级材料的去除，并达到相应的极 高几何精度和无缺陷无变质层的加工表面。 高几何精度和无缺陷无变质层的加工表面。
抛光耗材知识点总结大全
抛光耗材知识点总结大全一、抛光耗材的分类抛光耗材根据材质的不同可以分为金刚石抛光耗材、研磨粉抛光耗材和抛光液等几类主要类型。
1. 金刚石抛光耗材金刚石是一种非常坚硬的材料，具有极高的耐磨性和耐腐蚀性。
因此，金刚石抛光耗材通常被用于对硬质材料表面的抛光处理，如金属、硬质合金、玻璃、陶瓷等材料的抛光工艺中。
金刚石抛光耗材的主要形式包括金刚石砂轮、金刚石磨头、金刚石砂带等，适用于不同形状和尺寸的工件的抛光加工。
2. 研磨粉抛光耗材研磨粉是由磨料颗粒和粘结剂等组成的一种磨料材料，可以用于对各种材料进行表面抛光处理。
研磨粉抛光耗材主要包括氧化铝研磨粉、碳化硅研磨粉、氧化铁磨料、氧化锆研磨粉、氧化铬研磨粉等不同类型。
根据颗粒大小和形状的不同，可以选择不同规格和种类的研磨粉用于不同材料的抛光加工。
3. 抛光液抛光液是一种用于辅助抛光工艺的液体材料，通常由水和抛光剂等组成。
抛光液的主要作用是降低摩擦系数，减小表面磨损，提高抛光效率和质量。
根据不同的抛光要求和工件材料，可以选择不同类型和配方的抛光液，如金属抛光液、玻璃抛光液、陶瓷抛光液等。
抛光液还可以根据使用环境的不同分为水溶性抛光液和油溶性抛光液两种类型。
二、抛光耗材的特性和选用原则不同类型的抛光耗材具有不同的特性和优缺点，选用时需要根据工件材料、抛光要求、加工工艺等进行合理选择。
1. 金刚石抛光耗材的特性和选用原则金刚石抛光耗材具有极高的硬度和耐磨性，适用于对硬质材料的抛光加工。
选择金刚石抛光耗材时需要考虑工件的硬度、形状、尺寸等因素，合理选择金刚石磨具的规格、粒度和结合剂等参数，以获得最佳的抛光效果。
2. 研磨粉抛光耗材的特性和选用原则研磨粉抛光耗材具有颗粒尺寸均匀、磨削效率高等优点，适用于对各种材料的抛光加工。
选择研磨粉抛光耗材时需要考虑工件的材料、硬度、表面粗糙度等参数，合理选择研磨粉的类型和规格，以达到抛光要求和工艺标准。
3. 抛光液的特性和选用原则抛光液具有降低摩擦系数、冷却润滑、去除磨料屑等功能，适用于提高抛光效率和质量。
研磨抛光材料
研磨抛光材料研磨抛光材料是一种用于表面处理的材料，它可以使物体表面变得光滑、光亮，并且去除表面的瑕疵和不均匀性。
研磨抛光材料广泛应用于金属、塑料、玻璃、陶瓷等材料的加工和表面处理过程中。
在工业生产和日常生活中，研磨抛光材料都扮演着重要的角色，下面我们来详细了解一下研磨抛光材料的种类和应用。
研磨抛光材料的种类：1. 研磨液，研磨液是一种用于研磨和抛光的液体材料，它通常与研磨纸、研磨布等配合使用，能够提高研磨和抛光的效果，减少磨损和热量的产生。
2. 研磨纸，研磨纸是一种用于金属、木材、玻璃等材料表面研磨和抛光的材料，它的磨粒可以有效去除表面的瑕疵和不平整，使表面变得光滑。
3. 研磨布，研磨布是一种柔软的材料，用于对金属、塑料、陶瓷等材料进行研磨和抛光，它可以有效地去除表面的污垢和氧化物，提高表面的光洁度。
研磨抛光材料的应用：1. 金属加工，在金属加工过程中，研磨抛光材料被广泛应用，用于去除金属表面的氧化皮、锈斑等，使金属表面变得光滑、光亮。
2. 木材加工，在木材加工过程中，研磨抛光材料用于对木材表面进行研磨和抛光，使木材表面变得光滑、平整，提高木材的质感和美观度。
3. 玻璃加工，在玻璃加工过程中，研磨抛光材料被用于对玻璃表面进行抛光，去除表面的划痕和模糊，提高玻璃的透明度和光洁度。
4. 陶瓷加工，在陶瓷加工过程中，研磨抛光材料被用于对陶瓷表面进行研磨和抛光，使陶瓷表面变得光滑、细腻，增加陶瓷制品的观赏性和使用价值。
总结：研磨抛光材料在工业生产和日常生活中都扮演着重要的角色，它能够有效地改善材料表面的质量和外观，提高材料的使用性能和附加值。
随着科学技术的不断发展和进步，研磨抛光材料的种类和应用范围也在不断扩大和深化，为各行各业的发展和进步提供了有力支持。
希望本文所介绍的研磨抛光材料的种类和应用能够对大家有所帮助，促进研磨抛光材料的进一步发展和应用。
Chemlok 213一次性表面处理说明书
Chemlok® 213 Technical Data SheetChemlok® 213 is a one-coat surface treatment used to affix castable and RIM urethane elastomers to metal.It is composed of a mixture of polymers, curatives and pigments dissolved in an organic solvent system. Chemlok 213 can also be used to affix a wide variety of both polyether and polyester castable urethanes to metal, as well as affix certain thermoplastic polyurethanes (TPU). Features and Benefits:Versatile – affixes metal to a wide variety of polyether and polyester castable urethanes of varying hardness, based on both TDI and MDI.Economical – eliminates the need to inventory several surface treatments due to its versatility.Convenient – requires only a single coat for most applications, minimizing application costs; affixes RIM urethane elastomers directly to aluminum or steel without the need for primers or prebaking.Process Compatible – accommodates a wide range of processing conditions, including extended prebake. Environmentally Resistant – adds durability for harsh environment exposure, including salt spray and water and temperature exposures, when used with Chemlok 219. Time Saving – requires no agitation in preparation for use or during application, saving application time and reducing the potential for application errors. Non-settling Chemlok 213 is ready to dip or brush when opened. Fast Drying – dries fast to allow rapid turnaround times, reducing the number of coated parts kept in inventory. Durable – provides high strength performance greater than the tear strength of the urethane substrate. Elastomers:• Millable Urethane• Castable Urethane• Thermoplastic Urethane (TPU) Application:Surface Preparation – Thoroughly clean metal surfaces prior to application. Remove protective oils, cutting oils and greases by solvent degreasing or alkaline cleaning. Remove rust, scale or oxide coatings by suitable chemical or mechanical cleaning methods.For further detailed information on surface preparation of specific substrates, refer to Chemlok application guide. Mixing – No agitation is required before or during use.If dilution is needed, use Chemlok 248 thinner and mix thoroughly. Note proper dilution for the various application methods is best achieved by experience.Applying – Apply Chemlok 213 in a uniformly thin coat by brush, spray or dip methods. To avoid film bubbling, do not apply Chemlok 213 to substrates hotter than 82°C (180°F). Regardless of application method, the dry film thicknessof Chemlok 213 should be 19.05-31.75 micron (0.75-1.25 mil). Thicker films caused by repeated brushing orimproper dipping drainage can compromise performance.Chemlok 213 — Technical Data SheetParker LORDEngineered Materials Group 111 LORD DriveCary, NC 27511-7923USAValues stated in this document represent typical values as not all tests are run on each lot of material produced. For formalized product specifications for specific product end uses, contact the Customer Support Center.Information provided herein is based upon tests believed to be reliable. In as much as Parker LORD has no control over the manner in which others may use this information, it does not guarantee the results to be obtained. In addition, Parker LORD does not guarantee the performance of the product or the results obtained from the use of the product or this information where the product has been repackaged by any third party, including but not limited to any product end-user. Nor does the company make any express or implied warranty of merchantability or fitness for a particular purpose concerning the effects or results of such use.WARNING — USER RESPONSIBILITY . FAILURE OR IMPROPER SELECTION OR IMPROPER USE OF THE PRODUCTS DESCRIBED HEREIN OR RELATED ITEMS CAN CAUSE DEATH, PERSONAL INJURY AND PROPERTY DAMAGE.This document and other information from Parker-Hannifin Corporation, its subsidiaries and authorized distributors provide product or system options for further investigation by users having technical expertise.The user, through its own analysis and testing, is solely responsible for making the final selection of the system and components and assuring that all performance, endurance, maintenance, safety and warning requirements of the application are met. The user must analyze all aspects of the application, follow applicable industry standards, and follow the information concerning the product in the current product catalog and in any other materials provided from Parker or its subsidiaries or authorized distributors.To the extent that Parker or its subsidiaries or authorized distributors provide component or system options based upon data or specifications provided by the user, the user is responsible for determining that such data and specifications are suitable and sufficient for all applications and reasonably foreseeable uses of the components or systems.©2021 Parker Hannifin - All Rights ReservedInformation and specifications subject to change without notice and without liability therefor. Trademarks used herein are the property of their respective owners.OD DS6058CE 04/21 Rev.1Chemlok 219 is an excellent surface treatment to use with Chemlok 213. For castable urethane, the properties of Chemlok 219 and Chemlok 213 are complimentary - Chemlok 219 provides excellent protection as a primer for the metal; Chemlok 213 works well with RIM, TPU and castable polyurethanes. Chemlok 213 is also tolerant of processing conditions such as long prebakes. Together, they increase resistance to a variety of environmental elements.When using Chemlok 219 as a primer, first apply Chemlok 219 and allow it to air-dry. Then apply Chemlok 213 and allow to air-dry. The combination is then prebaked at 121°C (250°F) for the desired time.Drying/Curing – Allow coated parts to air-dry for 30-60 minutes at room temperature. Forced drying can speed the process at temperatures up to 93°C (200°F).After application on a part, Chemlok 213 is precured on the part to increase the overall environmental resistance. The large metal parts, which act as heat sinks, are preheated prior to casting.Chemlok 213 allows a wide tolerance for prebakeconditions. Without compromising performance, Chemlok 213 can prebake for as long as 16 hours in temperatures as high as 121°C (250°F).When used with Chemlok 219 as a primer, both systems will tolerate prebakes as high as 163°C (325°F) for 2 hours.When using the two-coat system of Chemlok 219 as a primer under Chemlok 213, optimum performance requires prebaking. A minimum of two hours at 121°C (250°F) is recommended. For large parts such as roller cores, baking may extend from four to eight hours at 121°C (250°F), depending upon size.Cleanup – Remove uncured Chemlok 213 with solvents such as MEK and xylene. Remove cured Chemlok 213 by grit blasting, grinding or belt sanding.Shelf Life/Storage:Shelf life is one year from date of shipment when stored by the recipient at 21-27°C (70-80°F) in original, unopened container. Do not store or use near heat, sparks or open flame.Cautionary Information:Before using this or any Parker LORD product, refer to the Safety Data Sheet (SDS) and label for safe use and handling instructions.For industrial/commercial use only. Required to use under organized emissions. Must be applied by trained personnel only. Not to be used in household applications. Not for consumer use.Chemlok® 213是一款单涂表面处理剂，用于帮助和促进浇注型和反应注射型(RIM)聚氨酯弹性体附着至金属。
惠普 LaserJet Pro MFP M25-M27 用户指南说明书
实验室耗材大全
实验室耗材大全一、样品瓶样品瓶适用于各种药物中间体、高附加值化学品、生物制剂、化妆品、香精香油等产品的分装，适合产品的长时间储存与运输，具有极好的密封性能。
宁波海曙恒隆实验仪器有限公司主要经营super—tech、安捷伦、tedia等进口品牌，盖子有黑色和白色等多种颜色可供选择，垫片有PE 垫、PTFE 垫等多个规格可供样品瓶架为了放置样品,减少空间，方便取放。
恒隆提供各种款式花式样品瓶架，适用各种1、用途：适用于0.1～100mL移液管2、使用方法：0。
1~100mL移液管顶端套入吸球，吸液速度可根据吸入控制杆的位置连续变化；将控制杆向下扳，则液体流出。
3、产品特点：a. 手感舒适,便于操作。
b. 精确的移液控制。
c。
适合0。
1～100ml各种量液用塑料和玻璃移液管。
d. 使用0。
45μm过滤器，可更换。
e。
可方便快捷进行维护和保养。
f. 五种颜色（黑、红、粉、绿、黄)四、固相萃取装置与耗材1、固相萃取(Solid—Phase Extraction 简称ＳＰＥ)是近年发展起来一种样品预处理技术, 由液固萃取和柱液相色谱技术结合发展而来，主要用于样品的分离、纯化和浓缩,与传统的液液萃取法相比较可以提高分析物的回收率、更有效的将分析物与干扰组分分离减少样品预处理过程，操作简单，省时,省力。
SPE可以延长色谱柱的使用寿命、提高检测限.广泛用于医药、食品、环保、商检、农药残留等领域。
我公司提供SPE装置、控制阀（夸克）、通用连接头、过滤筛板、SPE空管柱、筛板,也可以按用户要求装填SPE柱。
原理:固相萃取是一个包括液相和固相的物理萃取过程。
在固相萃取过程中，固相对分析物的吸附力大于样品母液,当样品通过固相萃取柱时,分析物被吸附在固a 、 SPE固相萃取小柱-控制阀(夸克）SPE固相萃取小柱—控制阀是用于样品的预处理，通过样品的分离，纯化和浓缩，提高样品进行液相、气相分析的速度，去除杂质，延长色谱设备的使用寿命，避免色谱系统的污染。
pressvestspeed
IPS PressVest Speed快速包埋材使用说明适应症IPS PressVest Speed快速包埋材料可以适用与下列由义获嘉伟瓦登特公司生产的压铸型瓷块并在EP500，EP600和EP600Combi中压铸：-IPS e.max Press-IPS e.max ZirPress- IPS Empress2- IPS Empress Cosmo禁忌症-铸造金属-IPS Empress涂层技术（1180℃）-超出厂商所列出的适应症范围配货方式-IPS PressVest Speed2.5公斤25袋，每袋100克包埋粉0.5升包埋液1个量杯- IPS PressVest Speed5公斤50袋，每袋100克包埋粉1升包埋液1个量杯储藏-储藏温度为18-23℃-包埋粉干燥储存-包埋液储存温度不要低于5℃（易结冰）-不要使用已结冰的包埋液如果包埋液意外结冰,不要再使用(结晶化)操作温度-室内温度为18-23℃-操作温度主要会影响材料凝固-操作温度过高会加速化学反应-操作温度过低会减慢化学反应包埋圈和-请只使用适合IPS e.max瓷块的IPS e.max -请只使用适合IPS e.max瓷块的压瓷棒包埋系统(100克和200克) 包埋系统(100克和200克)-IPS e.max瓷块必须与IPS e.max压瓷棒联合使用。
IPS e.max压瓷棒的直径是13毫米所不适合IPS Empress包埋系统。
-请使用IPS硅橡胶包埋圈。
此包埋圈适用于IPS e.max也适用于IPS Empress包埋系统。
粉/液配比-100克粉：27毫升专用液-200克粉：54毫升专用液混合配比：参考百分比值可根据需要调整,但稀释浓度不要少于40%.真空搅拌时间-2.5分钟(室温下大约350rpm)-如果使用高速搅拌机,相应缩短真空搅拌时间包埋-当把材料倒入包埋圈中时,用石膏振荡机轻微振荡.防止过度摇晃.工作时间-大约6-7分钟(室温下混合搅拌机转速大约350rpm)凝固时间-30分钟(最低30分钟到最多45分钟)-在包埋材料凝固时不要触碰包埋圈预热-850摄氏度-一定要在850摄氏度时将凝固的包埋圈放入预热炉内当温度达到850摄氏度时-100克圈-最少45分钟保持时间-200克圈-最少60分钟-如果多个圈（超过2个）一起预热，每加一个圈增加15分钟重要提示-请遵守相应的操作说明来准备修复体，安插铸道，包埋，剥圈和清洁铸瓷修复体。
透明陶瓷的研磨
透明陶瓷的研磨抛光透明陶瓷的特性：透明陶瓷不仅有优异的光学性能，而且耐高温，一般它们的熔点都在2000℃以上。
如氧化钍-氧化钇透明陶瓷的熔点高达3100℃，比普通硼酸盐玻璃高1500℃。
透明陶瓷的透明度、强度、硬度都高于普通玻璃，它们耐磨损、耐划伤，用透明陶瓷可以制造防弹汽车的窗、坦克的观察窗、轰炸机的轰炸瞄准器和高级防护眼镜等。
实验材料：镥铝石榴石透明陶瓷实验目的：对透明陶瓷进行研磨并抛光，观察抛光后的试样的表面状态实验设备：由沈阳科晶自动化设备有限公司制造的UNIPOL-802自动精密研磨抛光机、GPC-50A精确磨抛控制仪、MTI-3040加热平台UNIPOL-802自动精密研磨抛光机GPC-50A精确磨抛控制仪MTI-3040加热平台图一实验所使用的的设备图实验所用耗材：由沈阳科晶自动化设备有限公司销售的刚玉磨料（W28、14、7）、粒度为W1.5的金刚石悬浮抛光液、聚氨酯抛光垫、铸铁花盘、铝盘、石蜡棒，实验所用的耗材的图片如图二所示：刚玉磨料金刚石悬浮抛光液聚氨酯抛光垫铸铁花盘铝盘石蜡棒图二实验所使用的的耗材图实验过程：①固定样品首先，将试样片与GPC-50A精确磨抛控制仪的载样块放置到MTI-3040加热平台上进行预热，待试样和载样块温度达到石蜡的熔化温度（约80℃左右）后，将石蜡涂于载样块表面中心处将要固定试样片的位置，然后将试样片放置于载样块上熔化的石蜡上方，再将固定样品的载样块移下加热平台，放置到平台上进行空冷。
当载样块和试样片冷却到室温后将载样块安装到GPC-50A精确磨抛控制仪上，此时样品的固定过程已经完成。
②研磨将固定好样品的精确磨抛控制仪放置到UNIPOL-802自动精密研磨抛光机上，磨抛仪下部的中线处要与研磨机摆臂的胶圈相接触，保证工作时摆臂会平稳推动磨抛控制仪运行并进行抛光。
本实验研磨透明陶瓷时首先使用铸铁研磨盘搭配W28的刚玉磨料对试样进行研磨，研磨过程中不断观察研磨盘中磨料的余量，当磨料消耗过多时应向铸铁研磨盘中适当添加磨料以保证研磨过程的连续进行。
超精研磨技术
PTG研磨等级
DP 100 DP 100
DP 50 DP 50 DP 50 DP 20 DP 20 DP 20
DP 14 DP 14
研磨液
为达到最佳细磨和／或研磨效果，应采用专门配方的经过 普通水或去离子水稀释的研磨液。
研磨液浓 度影响材料去除率和表面洛氏硬度，需要增加 其它过程控制方法。
研磨液
研磨液
液流量和循环 为在较大机器上取得最佳效果，买一台离心机，并同时使
用水过滤器。 使用中过滤器和离心机应每天清理。 *购买Omnifilter U25 和RS2过滤器或相当系统。
金刚砂粒粘合程序
PTG公司建议，因为进行水基加工，采用铝盘可获取最佳效果。但是也可
以采用在顶部和侧面全部涂了两遍抗水性环氧树脂的铸铁盘。
研磨液
液流量与循环 对于较小机器，在研磨盘上方装一个流量2-4升／分（尺
寸为3B-8B）的喷咀即可。
对较大机器要采用，流量为6-16升／分（9B，13-20B）的双 喷咀系统。
部件在上机器加工前，要先用研磨液彻底湿润表面。在加工过 程中应保持研磨液复盖全部盘面。
没有足够的研磨液金刚砂粒会过热，甚至达到熔点、成釉状或烧 毁。
金刚砂团粒粘合程序
在底面涂环氧树脂 。 把团粒放准在记号上，并用姆指使劲按。 对较大的盘，使用刮刀或带沟状齿（1mm以下）的抹子在
断面上涂薄层环氧树脂，而后把团粒放在表面上。 仅在15-20分钟内可工作的部位涂上环氧树脂。而后移到
盘的表面喷砂或粗砂纸 打成粗糙表面以准备粘 合。
金刚砂团粒粘合程序
通过底面喷砂以去除团粒底部的釉状物质。注意顶部和底部的差别。
金刚砂团粒粘合程序
对于较大的盘，PTG公司准备送给你一份团粒布置图。我们需要你提 供内、外径和基材尺寸以便在盘上进行设计布置。
TEMCO磨擦盘的说明
根据摩擦原理，在纺丝过程中，摩擦盘与丝之间产生的摩擦力是决定捻度的一个重要因素。
1、为了高品质的需求除了制造各种摩擦装置，TEMCO公司还为制造高质量的摩擦盘而花费了许多时间和精力。
在设计和制造这些摩擦盘的过程中，尤其把重点放在了摩擦盘的几何形状、表面结构、外形轮廓和材料这几个方面上。
因此，这些复杂的摩擦盘特别适用于高速纺丝和丝质量要求高的地方，如以下几方面的要求：·卷曲收缩率·丝的韧度、强度·伸长度·丝的纯度·丝的磨损尽可能减少2、针对所有的摩擦装置针对每一种装置类型TEMCO公司提供了相匹配的摩擦盘，轴尺寸有8、1、12、14.45、16mm，厚度有4mm、6mm、9mm，还有各种材料的直径为45mm、50mm、52mm的摩擦盘。
他们适用于市场上所有的摩擦装置。
特别推荐适用于各种纺丝范围的摩擦盘组合（第5页）。
3、采用聚氨脂摩擦盘（PUR FS）能纺出质量更好的丝聚氨脂摩擦盘不会影响丝的光洁度。
使用PUR盘纺丝，质量明显比使用硬质材料的盘好。
提高后的特性更有助于获得高的卷曲伸缩率、高强度和磨损小的丝。
聚氨脂材料提高后的优点如下：·光洁度更好·磨损更小·寿命更长另外，高精度盘更能确保在高速下获得所需的工作速度。
所设计的PUR盘适用于各种纺丝领域。
他们通常用于加工极细丝和成形好的丝。
4、镍合金涂层、陶瓷盘镍合金摩擦盘自介绍摩擦纺丝以来就被使用了。
严格控制涂层的粒子大小和粒子含量来确保表面质量的坚韧性。
4μ和6μ两种粒子的不同表面结构适用于所有的纺丝范围。
由于镍合金盘的耐磨性，使他有了更好的特性。
5、丝的入口和出口角这个角度由陶瓷盘确定。
特别是瓣状硬铬材料的引导盘可获得均匀张力的丝。
现使用两片导入盘来帮助获得最佳的入丝角度。
均匀张力的丝决定了丝的捻度。
在聚氨脂摩擦盘工作时使用若干引导盘能使PUR盘的寿命更长。
如果需要的话，我们也可以根据用户所需来设计陶瓷引导盘。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
Micro Abrasives 高 度 专 业 化 而 又 灵 活 的 器 材 设置。能独特的提供特级研磨剂真正的用 户定制化。
MICROGRIT 研 磨 砂 的 种 类 包 括 ： 氧 化 铝 、 氧化铈、碳化硅、碳化硼、及Microlap浆 （Microlap Slurries）。
✦ 台置式系统
Kemet ( 科 密 特 ) 工 业 超 声 波 清 洗 系 统 ✦ 水式喷洒系统
✦ 全自动清洗系统
遍及世界
法国
Kemet Europe S.A.R.L.
荷兰
Kemet Europe B.V.
英国
Kemet International Ltd
比利时及卢森堡
Kemet Europe B.V.B.A.
Kemet® 平 面 研 磨 机 配液态金刚石研磨剂 进行平面研磨及抛光技术
Kemet ( 科 密 特 ) 平 面 研 磨 抛 光 系 统 提 供 的 平 面 抛 光 方 法 ， 效 率 最 高 ， 可 靠 性 最 好 。 Kemet ( 科 密 特 ) 平 面 研 磨 抛 光 机 和 平 面 研 磨 抛 光 系 统 ， 采 用 当 今 最 前 沿 的 尖 端 研 磨 技 术 ， 与 Kemet ( 科 密 特 ) 金 刚 石 产 品 配 套 使 用 时 ， 效 果 尤 为 出 色 。
Kemet ( 科 密 特 ) 15 研 磨 及 抛 光 机
台式精密金刚石平面研磨抛光机
Kemet ( 科 密 特 ) 15 台 式 研 磨 机 采 用 刚 性 金 属 构造，配有高度可调式工作台。机床包含 一个数字过程计时器和一套全自动金刚石 研磨液分配系统。
选配项目
✦ 变速
✦ 适用于提卸式研磨盘系统
Kemet ( 科 密 特 ) 36 精 密 金 刚 石 平 面 研 磨 及抛光机
精密金刚石平面研磨及抛光机
Kemet ( 科 密 特 ) 36 精 密 金 刚 石 平 面 研 磨 及 抛 光 机有一个用于支撑变速箱、驱动电机和工作 台固定的焊接管形截面钢架。作为此机器整 体的一部分，一个复合研磨剂进料及废料槽 配置于此机器的提升盖板后面。此机器结合 一个软起动器，软起动器能使研磨盘在预定 时间内从静止状态平稳地加速到全速。
Kemet ( 科 密 特 ) 金 刚 石 产 品 可 分 为 以 单 晶 金 刚 石 研 磨 粉 (Mono-crystalline Diamond Powder) 制 成 的 标 准 级 ， 或 以 多 晶 金 刚 石 研 磨 粉 (Polycrystalline Diamond Powder) 制 成 的 高 等 级 。 不 论 是 标 准级或高等级，都是采用最高品质的原金刚石粉，而且必须符合两项重要标准：外形和粒 度的指标。
选配项目
✦ 变速
✦ 温度控制
✦ 可调整工作台式
✦ 气动提升或开面式
✦ 3或4个调整环式
Kemet ( 科 密 特 ) 复 合 研 磨 盘 以 合 成 树 脂 、 金属微粒和其他材料均匀混合而制成。 对于现今的高级研磨技术要求此研磨盘 和 科 密 特 液 态 金 刚 石 研 磨 剂 (Kemet Liquid Diamond) 一 同 使 用 时 效 果 尤 其 理 想 。
KEMET FAR EAST PTE LTD
32 Ang Mo Kio Industrial Park 2, #02-12, Sing Industrial Complex, Singapore 569510
Tel: (65) 6482 0990 Fax: (65) 6481 1363 Email: sales@.sg
Kemet ( 科 密 特 ) 抛 光 研 磨 毡 垫 对于许多较软的材料而言，欲制造平直抛 光 表 面 ， 需 采 用 抛 光 研 磨 毡 垫 。 Kemet ( 科 密特)提供种类范围最广的自粘抛光研磨毡 垫，适合用于大多数的平面研磨机。
Kemet ( 科 密 特 ) 电 子 分 配 器 藉 由 触 控 感 应 装 置 来 进 行 分 配 Kemet ( 科 密 特 ) 液 态 金 刚 石 研 磨 剂 及 润 滑 液 。 数 字 显 示 装 置上显示的分配间隔、时间及气压一瞥可见。分配器达到 0.2gm（ 克 ） 的 分 配 准 确 度 ， 因 而 杜 绝 浪 费 和 简 化 成 本 控 制 。
MICROGRIT 研 磨 砂 的 应 用 包 括 - 抛 光 剂 ： 陶瓷、金属、矿物及水晶、精密光学 玻璃、钢球的研磨及抛光，摩擦粉末 材料，玻璃研磨，镜片玻璃研磨及抛 光，压力喷砂研磨，石英半导体研磨、 切割及抛光、岩石表面处理及滚磨。
纤细双面研磨及抛光机
纤 细 双 面 研 磨 及 抛 光 机 (Nanofin Dual Face Grinding, Lapping And Polishing Machine) 除 能 在 范 围 广 泛 的 材 料 上 制 造 精密和重复一致的加工效果外，还能 执行复杂的常规操作。
Kemet ( 科 密 特 ) 精 密 平 直 度 测 量 仪 此测量仪用于监测研磨盘的平直度，而研磨盘的平直度则 指示研磨物件的平直度有公制和英制度量仪供选择。每个 测量仪都配有一个硬化钢主控平面和并保存在一个坚固的 盒子包装。
Kemet ( 科 密 特 ) 金 刚 石 产 品
Kemet ( 科 密 特 ) 国 际 有 限 公 司 已 有 5 0 年 的 丰 富 经 验 ， 是 世 界 领 先 的 、 制 造 研 究 及 工 业 用 途 的金刚石研磨产品的厂商之一。其广泛的标准配方范围包括液体、糊状体、悬浮液、凝胶 体和粘胶。
✦ 5个运载工具均为齿轮驱动以进 行稳定操作从而加工易碎零件。
✦ 研磨盘及运载工具的运行速度通 过交流频率逆变器变动。
✦ 自动物件厚度控制。
✦ 若需要可为用户制造定制细磨、 砂磨或研磨盘。
Kemet ( 科 密 特 ) 超 音 波 系 统 用 于 清 洗 精 密 物 件
Kemet ( 科 密 特 ) 清 洗 系 统 有 高 效 率 的 洗 净 功 能 、 可 靠 和 重 复 一 致 。 Kemet ( 科 密 特 ) 能 提 供 多 种 清洗系统，从台置式系统到全自动清洗系统，能满足清洗多种不同元件和各行业严格的要求。
Kemet (科密特)金刚石产品由: Kemet International Ltd, UK英 国 总公司生产 其 品 质 系 统 经 由 英 国 标 准 协 会 （BSI）注 册 英国标准协会（BSI）认证或注册号码：Q 05919 BS EN ISO 9002 : 1994
标准、客户定制 及特级研磨剂
日本
Kemet Japan Company Ltd
澳大利亚
Kemet Australia Pty Ltd
新加坡
Kemet Far East Pte Ltd
马来西亚பைடு நூலகம்
Kemet Precision (M) Sdn Bhd
技术服务
Kemet Far East ( 科 密 特 远 东 ) 备 有 最 全 面 的 研 磨 、 抛 光 、 珩 磨 、 磨 料 流 动 加 工 和 次 微 米 表 面 加 工 设 备器材。我们的销售及技术人员组合将很高兴为客户提供在制程方面的需要和协助。
ISO 9001 : 2000 Cert No. 2467
Kemet ( 科 密 特 ) 单 色 光 机 组 在使用光学平面评估加工元件的平直度时获取精确尺寸及 对比边纹图形，视野必须以单色光机组照明。单色光机组 即其全部光线实质上波长相等的灯。 在 与 Kemet ( 科 密 特 ) 光 学 平 面 一 同 使 用 时 ， 清 楚 显 示 平 直 度 读 数 。