平面双面研磨抛光
双面研磨抛光机安全操作及保养规程
双面研磨抛光机安全操作及保养规程双面研磨抛光机常用于对金属制品进行精细修整和表面光洁度的提高,同时也可用于对玻璃、陶瓷等物品进行研磨。
然而,对于使用不当或者维护不当的双面研磨抛光机,很容易造成安全事故。
为此,本文将介绍双面研磨抛光机的安全操作及保养规程。
一、双面研磨抛光机的安全操作1. 注意力集中,仔细检查在操作双面研磨抛光机前,首先要保持注意力集中,对机器的各个部分进行检查,确保机器处于正常工作状态。
特别是在第一次操作前,一定要认真阅读说明书和安全提示,熟悉机器的各项功能和性能,并了解机器的操作方法。
2. 穿戴安全防护用品操作双面研磨抛光机时,必须穿戴安全防护用品,包括工作服、工作鞋、安全手套、护目镜等,防止在操作时受伤。
3. 确保工作区域整洁在操作双面研磨抛光机时,要保持工作区域的整洁,防止在操作中因摆放物品杂乱无序而产生危险。
4. 确保机器处于稳定状态在操作前,必须保证双面研磨抛光机处于稳定状态,设置好硬件锁定等安全措施,防止在操作中因机器不稳定而产生危险。
5. 正确使用磨具在使用磨具时,要选择合适的磨头和磨粒,在操作时注意磨头的安装和磨具的摆放位置,确保磨具在操作中不会脱落或者磨粒飞溅,造成危险。
6. 控制操作时间在操作双面研磨抛光机时,要控制好每次操作的时间,避免因过度操作而过热和破坏。
7. 关闭机器并断电操作完成后,要及时关闭机器并进行断电操作,避免发生电气危险。
二、双面研磨抛光机的保养规程1. 操作完清洁在操作完成后,要及时清理机器中的切屑和灰尘,并使用吸尘器或者擦拭工具进行彻底清洁,确保机器表面整洁清爽。
2. 定期润滑机器润滑是保持机器稳定性的重要因素之一,在操作前要检查润滑油的量和润滑部位的摩擦情况,并定期为机器进行加油和润滑操作。
3. 定期检查磨具磨具是双面研磨抛光机最关键的部分,使用过一定时间后需要进行磨粒的更换和磨具的更换。
在更换过程中,要注意磨具的型号和规格,并根据需要进行调整和更换。
平面双面研磨抛光
(三) 象散偏差的判断 在样板的相互垂方向上作周边加压或一侧加压,当N>1光圈呈椭圆形, 在样板的相互垂方向上作周边加压或一侧加压,当N>1光圈呈椭圆形, 当N<1时,两垂直方向上的条纹弯曲度不同,则有象散偏差。 N<1时,两垂直方向上的条纹弯曲度不同,则有象散偏差。 1、局部偏差的判断 当一则加压时 中心低 条纹中心部位弯曲凹向背着加压点 中心高 条纹中心部位弯曲凹向朝着加压点 塌边 条纹边缘部位塌向加压点 翘边 条纹边缘部位翘高加压点 2、局部偏着的度量 1)中心局部偏差 它包括低光圈的中心低和中心高 2)边缘局部偏差 它包括低光圈的翘边和塌边 3)中心及边缘均有局部偏差 它是几种偏差的集合
二 平面双面抛光
技术参数 洗机和修盘 过滤抛光液
三 抛光常见问题
1.划痕 1.划痕 2.麻点 2.麻点 3.印迹 3.印迹 4.光圈变形 4.光圈变形 6. 破边
粘抛光模的方法
1.刷胶之前把胶摇动(3-4)分,必须上下方向摇不允许前后左右摇。 1.刷胶之前把胶摇动(3 2.胶晾干的时间以手背触摸胶面刚好不粘手为准。 2.胶晾干的时间以手背触摸胶面刚好不粘手为准。 3.要远离潮湿环境(严禁在抛光房粘膜子)。 3.要远离潮湿环境(严禁在抛光房粘膜子)。 4.刷胶不均匀时用丙酮或汽油抹掉后重新刷胶。不得在原胶层上补刷。 4.刷胶不均匀时用丙酮或汽油抹掉后重新刷胶。不得在原胶层上补刷。 5.粘抛光皮时单向粘,边粘边锤,用锤锤抛光面全部,重锤内外边缘。 5.粘抛光皮时单向粘,边粘边锤,用锤锤抛光面全部,重锤内外边缘。 6.用按模板,找出气泡,用针刺穿放气,然后再锤。 6.用按模板,找出气泡,用针刺穿放气,然后再锤。 7.修边用新刀片,与膜板成45度修掉多余的抛光皮。 7.修边用新刀片,与膜板成45 45度修掉多余的抛光皮。 8.上机压模3~4小时(中间夹塑料纸,防止水汽进入胶面) 8.上机压模3
双面修面研磨抛光机参数
双面修面研磨抛光机用途:广泛用于蓝宝石钟表玻璃、手机玻璃、玻璃基片、MP3面板、光学玻璃晶片、LED蓝宝石衬底、石英晶片、硅片、诸片、陶瓷基板、活塞环、阀片、铝铁硼、铁氧体、钼片、铌酸锂、钽酸锂、PTC热敏电阻、光盘基片、陶瓷密封环、硬质合金密封环、钨钢片等各种材料的双面研磨、抛光。
工作原理:本系列研磨机为精密磨削设备,上、下研磨盘作相反方向转动,工件在载体内作既公转又自转的游星运动。
磨削阻力小不损伤工件,而且两面磨削均匀,生产效率高。
特点:1、系列研磨机运行采用四台电机驱动,可以给上研磨盘、下研磨盘、齿圈、太阳轮单独进行调速,使研磨达到最理想的转速比,其太阳轮相对与其它三个转速比可作无级调速,使游轮可实现正转、反转,满足了不同研磨及修盘工艺的需求。
2、系列研磨机为下研磨盘升降方式,下研磨盘的高低位置可在总行程范围内随意停留自锁,以满足改变游轮啮合高低位置的需要。
3、系列研磨机采用四段压力,即轻压、中压、重压、修研的运行过程。
4、系列研磨机采用PLC程控系统,触摸屏操作面板,电机采用变频调速,电机转速与运行时间可直接输入触摸屏。
5、可根据用户要求增加光栅厚度控制系统,加工后的产品厚度公差可控制在±0.002mm范围内;平面度公差可控制在±0.001mm范围内。
设备规格:型号NMC-6BL NMC-7BL NMC-9BL NMC-12BL NMC-18BL研磨盘规格¢386×¢155×30t ¢510×¢185×20t ¢635×¢240×30t ¢772×¢260×40t ¢910×¢316×50t最大工件尺寸¢110mm ¢150mm ¢180mm ¢220mm ¢310mm游轮规格¢139.3mm(P.C.D) ¢195mm(P.C.D) ¢228.5mm(P.C.D) ¢283.6mm(P.C.D) ¢340mm(P.C.D)游轮数量5枚5枚5枚5枚5枚下部研磨盘转速0-60rpm 0-60rpm 0-60rpm 0-60rpm 0-50rpm最大功率 1.5kw 2.2kw 2.2kw 3.7kw 7.5kw外形尺寸800×1100×2100mmH 840×1260×2100mmH 1300×920×2400mmH 1400×1150×2500mmH 1600×1150×2500mmH重量760kg 850kg 1200kg 1800kg 2500kg注:如有需求其它规格、机种,可为其设计定做。
双面研磨抛光机原理
双面研磨抛光机原理
双面研磨抛光机是一种常用的研磨和抛光机械设备,广泛应用于金属、玻璃、陶瓷等材料的表面处理工艺中。
其原理主要包括双面研磨和双面抛光两个步骤。
在双面研磨过程中,机器的两个工作台分别安装有砂轮或研磨盘。
工作时,待处理材料夹持在两个工作台之间,然后两个工作台同时运转。
双面研磨抛光机会转动工作台,使得砂轮在材料表面来回研磨,以达到研磨和去除材料表面不均匀的目的。
双面抛光过程类似,机器上的两个工作台同样夹持待处理材料。
在运行时,工作台上设置了用于抛光的抛光盘或抛光布,两个工作台同时转动,使得抛光盘或抛光布在材料表面摩擦来回,实现抛光的效果。
抛光可以去除研磨过程中可能产生的划痕和瑕疵,同时还能提高材料表面的光洁度和平整度。
双面研磨抛光机的原理基于物理研磨和抛光的机制,通过研磨或抛光工具在材料表面的摩擦作用,去除不平整或不均匀的表面层,并在表面形成一层更加均匀、平整和光洁的表面。
该机器的双面作业设计能够提高生产效率,同时也可以减少人工操作和材料浪费。
总之,双面研磨抛光机采用了双面研磨和双面抛光的原理,通过研磨和抛光工具在材料表面的运动,实现材料表面的均匀、平整和光洁处理。
这种机器广泛应用于各种材料的加工和表面处理领域,为物料处理提供了高效和可靠的解决方案。
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双面研磨抛光机的设计
湘潭大学兴湘学院毕业设计说明书题目:硬脆质材料双面/研磨抛光机的设计____专业:机械设计制造及其自动化_________学号: 2010963032__________________ 姓名:王林森______ 指导教师:周后明____________________完成日期: 5月20___________________湘潭大学兴湘学院毕业论文(设计)任务书论文(设计)题目:硬脆材料双面研磨抛光机的设计学号:2010963032 姓名:王林森专业:机械设计制造及其自动化指导教师:周后明系主任:刘柏希一、主要内容及基本要求研磨抛光是硬脆材料获得光滑和超光滑高表面质量的重要加工方法。
本设计为硬脆材料双面研磨抛光机的设计,其主要技术指标与要求如下:1、研磨盘的直径:250mm;2、工件研具相对速度:5~500m/min,连续可调;3、运动形式:上研磨盘固定,下研磨盘与太阳齿轮、内齿轮转动4、整机形式:立式,要求构造简单、成本低设计要求:1、完成硬脆材料双面研磨抛光机的方案设计和选型论证2、硬脆材料双面研磨抛光机的结构设计,绘制部件装配图和主要零件图,图纸总量折合成A0,不少于2张3、撰写设计说明书,关键零件应进行强度和刚度计算,说明书字数不少于1~5万4、完成资料查阅和3000字的文献翻译二、重点研究的问题硬脆材料双面研磨抛光机的结构设计及相关强度校核。
三、进度安排四、应收集的资料及主要参考文献1、机械设计手册2、机械传动设计手册3、于思远,林彬. 工程陶瓷材料的加工技术及其应用[M] . 北京:机械工业出版社,2008.4、袁哲俊,王先逵. 精密和超精密加工技术-第2版[M]. 北京:机械工业出版社,2007.5、袁巨龙. 功能陶瓷的超精密加工技术[M]. 哈尔滨:哈尔滨工业大学出版社,20006、王先逵. 精密加工技术实用手册[M]. 北京:机械工业出版社,20077、相关网络资信湘潭大学兴湘学院毕业论文(设计)评阅表学号2010963032 姓名王林森专业机械设计制造及其自动化毕业论文(设计)题目:脆硬质材料双面/研磨抛光机的设计湘潭大学兴湘学院毕业论文(设计)鉴定意见学号:2010963032 姓名:王林森专业:机械设计制造及其自动化毕业论文(设计说明书)30 页图表 5 张目录摘要 (2)第一章绪论 (4)1.1脆硬材料的一些简介 (4)1.2国内外研磨和抛光的历史及其发展现状 (4)第二章工作原理及基本要求 (6)2.1抛光机理 (6)2.2双面研磨机的工作原理 (6)2.3双面研磨机的主要特点 (7)2.4本次设计的主要方向 (8)第三章研磨与抛光的主要工艺因素 (9)3.1工艺因素及其选择原则 (9)3.2研磨盘和抛光盘 (10)3.3平面研磨使用的研具 (13)3.4磨粒 (13)3.5加工液 (13)3.6工艺参数 (13)第四章结构设计及相关强度校核 (14)4.1工件保持架的选择 (14)4.2小齿轮的选择 (15)4.3内齿圈的选择 (15)4.4保持架、内齿圈、小齿轮组成的轮系中各齿轮运动速度的确定 (16)4.5其他齿轮的选择 (17)4.5.1齿轮1的选择 (17)4.5.2齿轮2的选择 (17)4.5.3齿轮3和齿轮4的确定 (18)4.6轴承的选择及其参数 (19)4.7电动机的选择 (20)4.8轴的设计及强度校核计算 (21)总结 (23)参考文献 (24)附录 (25)硬脆材料双面研磨/抛光机的设计摘要:双面平面研磨是在传统研磨机构的基础上,通过改变研磨平面的数目从而来提高研磨精度和效率的一种研磨方式。
双面研磨抛光机的设计
双面研磨抛光机的设计1.设备结构:双面研磨抛光机的主要结构包括底座、主轴、砂轮、电动机、传动系统、控制系统等部分。
底座作为整个设备的基础部分,能够提供稳定的支撑。
主轴安装在底座上,用于固定砂轮和传递动力。
电动机通过传动系统将动力传递给主轴,驱动砂轮进行加工。
控制系统用于控制电动机的启停、转速和加工时间等参数。
2.砂轮选择:砂轮是双面研磨抛光机中至关重要的部分,其选择对加工效果有很大影响。
一般来说,对于金属材料可以选择金刚石砂轮,对于玻璃和陶瓷材料可以选择石英砂轮。
砂轮的粒度和硬度应根据加工材料的硬度和表面要求来选择。
3.电动机和传动系统:电动机是双面研磨抛光机的动力源,传动系统负责将动力传递给主轴。
电动机的功率应根据加工材料的硬度和加工表面的要求来确定。
传动系统应具备稳定的传动效果,以保证砂轮的正常运转。
4.控制系统:控制系统是双面研磨抛光机的智能化部分,用于控制设备的运行参数。
控制系统可以选择PLC控制或者微电脑控制,实现启停、转速调节和加工时间控制等功能。
通过控制系统,可以实现设备的自动化运行,提高生产效率。
5.安全保护:6.维护保养:总结:双面研磨抛光机是一种用于金属、玻璃、陶瓷等材料的表面加工设备。
其主要组成部分包括底座、主轴、砂轮、电动机、传动系统和控制系统等。
在设计过程中,应注意选择合适的砂轮、电动机功率和传动系统,配备安全保护装置,并进行定期的维护保养。
通过合理的设计和使用,双面研磨抛光机能够提高加工效率和质量,满足不同材料的加工需求。
平面抛光机的加工工艺
平面抛光机的加工工艺平面抛光机是一种用于加工金属和非金属材料的机器,通过磨削和抛光的方式来提高材料的表面光洁度和平整度。
平面抛光机的加工工艺可以分为以下几个步骤:预处理、研磨、抛光、清洗和检验。
首先是预处理。
在开始抛光之前,需要对材料进行预处理,包括清洗、去除表面污染物、去除锈蚀等。
这可以通过溶剂清洗、喷砂、电解清洗等方法来完成。
预处理的目的是为了提高抛光效果和材料的表面质量。
接下来是研磨。
研磨是通过砂带、砂轮等工具对材料进行磨削,以去除表面粗糙度和形成一定的表面粗糙度。
研磨可以采用不同的粒度和材料的砂带或砂轮,根据要求选择适当的磨削方式和参数。
研磨的目的是为了减小表面缺陷,提高材料的平整度和表面质量。
然后是抛光。
抛光是通过涂抹研磨膏、使用抛光布等工具对材料进行抛光,以进一步提高表面光洁度和平整度。
抛光可以使用不同颗粒的抛光膏和不同材质的抛光布,根据要求选择适当的抛光方式和参数。
抛光的目的是为了消除研磨过程中留下的痕迹和划痕,使表面更加光滑和均匀。
完成抛光后,需要进行清洗。
清洗可以去除抛光过程中产生的残渣和污染物,确保表面的干净和纯净。
清洗可以使用溶剂、超声波清洗机等方式进行,根据材料的要求选择适当的清洗方法和参数。
清洗的目的是为了提供一个干净的表面,便于后续的处理和使用。
最后是检验。
在加工完成后,需要对材料进行检验,以确保加工质量和满足要求。
检验可以通过目视检查、使用表面缺陷检测仪器等方式进行,根据要求选择适当的检验方法和参数。
检验的目的是为了判断抛光效果是否符合要求,对表面质量进行评估和记录。
总结来说,平面抛光机的加工工艺包括预处理、研磨、抛光、清洗和检验。
每个步骤都有其特定的目的和要求,通过合理的操作和控制,可以达到提高材料表面质量和满足要求的效果。
在实际应用中,根据不同材料的特性和要求,需要选择适当的加工工艺和参数,以获得最佳的加工效果。
平面研磨抛光机技巧【大全】
自平面抛光机机械抛光的一般过程如下:(1 )粗抛,一般选用绒布,百洁布等比例粗面的磨料(2 )半抛,主要是开平面,以免平面产生圆角,一般使用砂盘,合金盘(3 )精抛精抛主要使用比较光细的磨料。
自动平面抛光机使用中要注意的问题:(1 )定期清洗。
因为这样可以减少对机器的损伤及产品在生产过程中压伤(2 )当换用不同型号的砂纸时,抛光方向应变换45 °~ 90 °。
这里有一个需要注意的必须用100%纯棉花沾取酒精之类的清洁液对抛光表面进行仔细的擦拭,因为一颗很小的沙砾留在表面都会毁坏接下去的整个抛光工作。
从砂纸抛光换成钻石研磨膏抛光时,这个清洁过程同样重要。
在抛光继续进行之前,所有颗粒和煤油都必须被完全清洁干净。
(3 )为了避免擦伤和烧伤工件表面,需要专用的抛光纸抛光时必须特别小心。
因而有必要加载一个轻载荷以及采用两步抛光法对表面进行抛光。
研磨抛光机应注意以下几点:(1 )这种抛光必须尽量在较轻的压力下进行特别是抛光预硬钢件和用细研磨膏抛光时。
(2 )当使用钻石研磨抛光时,不仅是工作表面要求洁净,工作者的双手也必须仔细清洁。
(3 )每次抛光时间不应过长,时间越短,效果越好。
如果抛光过程进行得过长将会造成机器寿命过短。
新型高速平面研磨机是超精密加工中一种重要加工方法,其优点是加工精度高,加工材料范围广。
但传统研磨存在加工效率低、加工成本高、加工精度和加工质量不稳定等缺点,这使得传统研磨应用受到了一定限制。
新型高速平面研磨机解决了传统研磨存在的绝大部分缺点,提高了研磨技术水平,在保证平面研磨加工精度和加工质量(达到了纳米级)的同时,还显著降低加工成本,提高加工效率,使平面研磨技术进一步实用化,有利于研磨技术的推广应用,促进了我国精密加工技术、先进制造技术的进步,增强我国在加工制造领域的竞争实力,特别是对振兴东北老工基地具有十分重要的现实意义。
金实力平面研磨机注意事项:平面研磨机操作者必须熟悉设备一般结构及性能,不得超性能使用设备。
UNIPOL-160D双面研磨抛光机说明书
双面研磨抛光机说明书
UNIPOL-160D
天津品创科技发展有限公司
产品简介
UNIPOL-160D双面研磨抛光机主要用于石英晶片、蓝宝石、陶瓷、玻璃、金属等片状材料的精密双面研磨抛光。
本机采用涡轮蜗杆减速机为传动机构,通过齿轮组实现上、中、下三轴不同速度、不同方向的转动,使上、下研磨抛光盘和中间太阳轮产生速度差以及相对运动,而样件置于太阳轮驱动的载样齿轮内孔中,从而对其进行双面研磨抛光。
主要特点
1、转速采用手动调整变频器频率的控制方式。
2、可同时对4片最大尺寸为Φ2"的基片进行双面研磨抛光。
3、可进行薄片的双面减薄。
4、是双面研磨抛光Si、Ge、氧化物单晶基片的理想工具。
技术参数
传真:************。
硬脆材料双面研磨抛光机的设计
目录摘要 (2)第一章绪论 (4)1.1脆硬材料的一些简介 (4)1.2国内外研磨和抛光的历史及其发展现状 (4)第二章工作原理及基本要求 (6)2.1抛光机理 (6)2.2双面研磨机的工作原理 (6)2.3双面研磨机的主要特点 (7)2.4本次设计的主要方向 (8)第三章研磨与抛光的主要工艺因素 (9)3.1工艺因素及其选择原则 (9)3.2研磨盘和抛光盘 (10)3.3平面研磨使用的研具 (13)3.4磨粒 (13)3.5加工液 (13)3.6工艺参数 (13)第四章结构设计及相关强度校核 (14)4.1工件保持架的选择 (14)4.2小齿轮的选择 (15)4.3内齿圈的选择 (15)4.4保持架、内齿圈、小齿轮组成的轮系中各齿轮运动速度的确定 (16)4.5其他齿轮的选择 (17)4.5.1齿轮1的选择 (17)4.5.2齿轮2的选择 (17)4.5.3齿轮3和齿轮4的确定 (18)4.6轴承的选择及其参数 (19)4.7电动机的选择 (20)4.8轴的设计及强度校核计算 (21)总结 (23)参考文献 (24)附录 (25)硬脆材料双面研磨/抛光机的设计摘要:双面平面研磨是在传统研磨机构的基础上,通过改变研磨平面的数目从而来提高研磨精度和效率的一种研磨方式。
其加工原理就是利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒,通过研具与工件在一定压力下的相对运动对加工表面进行精整加工,从而来实现加工精度的要求。
本文通过对平面研磨机构多种运动方式的分析,以及研磨精度要求,并结合现有研磨机,从而设计出一种新型的行星式双面平面研磨机构,并对其运动轨迹做了具体研究。
这种研磨方式不仅解决了传统研磨存在加工效率低、加工成本高、加工精度和加工质量不稳定等缺点,提高了研磨技术水平,保证研磨加工精度和加工质量,而且还可以实现在一定范围内不同直径圆柱工件的研磨,提高了加工效率,降低了加工成本,使研磨技术进一步实用化。
关键词:双面研磨;结构设计;轨迹曲线Double-sided Grinding Of The Hard-brittle Materials/PolishingMachine DesignAbstract:Double-sided plane grinding is the traditional grinding institutions, and on the basis of the number of by changing the grinding plane to improve the grinding efficiency and precision of a kind of grinding way. Its processing principle is to use the coating or pressure with embedded in the research on the abrasive particles with and workpiece, through research in the relative movement under certain pressure of machining surface finish machining, thus to realize the machining accuracy of requirements.This thesis through to plane grinding institutions of various sports mode analysis, and grinding accuracy requirement, and combine existing grinding machine, thus designed a new double plane grinding mechanism, and to its trajectory made specific research. This kind of grinding way not only solves existing traditional grinding machining efficiency is low, the processing cost, high machining accuracy and processing quality unstable shortcomings, improves grinding technology level and guarantee of grinding accuracy and processing quality, but also can realize within the scope of certain and different cylinder workpiece, improves the grinding machining efficiency and reduce the processing cost, make grinding technology further practional utilization.Key words:Double-sided Grinding ;Structure Design ;Path Curves第一章绪论1.1 硬脆材料的一些简介硬脆材料例如陶瓷、白宝石单晶、微晶玻璃等以优良特性得到广泛的应用。
超精密平面研磨和抛光
超精密平面研磨和抛光一、精密平面的研磨机二、平面研磨使用的研具1)特种玻璃,或用在加工成平面的金属板上涂一层四氟乙烯或镀铅和铟;优点:能得到高精度的平面缺点:研具层寿命短2)使用半软质研磨盘或软质研磨盘优点:研磨出的表面变质层很小,表面粗糙度也很小;缺点:研磨盘不易保持平面度三、平面研磨时工件和软质研具的磨损量工件与研具两者的任意点A处的加工量和研具磨损量,相对于两者的中心各自画圆弧与横轴相交,从交点出发每20min间隔与纵轴平行地上升或下降。
工件形成凸面,研具在半径上形成凹面使用ηp小的研具效果好。
使用ξ小的研具能有效地控制平面度的恶化,但ξ太小时,压力偏差较大,反而易引起平面度的恶化。
而当ξ较大时,只要加工量少,由于压力偏差较小,初始的平面度不会产生多大的恶化。
四、平行度和晶体方位误差的修正平行度的修正研磨是使被加工面与基准平面的角度误差达到最小值。
单面研磨法采用使工件附加偏心压力。
晶体方位误差的修正加工是以晶格面作参照物进行研磨的。
五、获得高质量平面研磨抛光的工艺规律1)研磨运动轨迹应能达到研磨痕迹均匀分布并且不重叠。
2)硬质研磨盘在精研修形后,可获得平面度很高的研磨表面,但要求很严格的工艺条件。
3)软质(半软质)研磨盘易获得表面粗糙度值极小和表面变质层甚小的研磨抛光表面,但不易获得很高的平面度。
4)使用金刚石微粉等超硬磨料可获得很高的研磨抛光效率。
5)研磨平行度要求很高的零件时,采用(1)上研磨盘浮动以消除上下研磨盘不平行误差;(2)小研磨零件实行定期180度方位对换研磨,以消除因研磨零件厚度不等造成上研磨盘倾斜而研磨表面不平行;(3)对各晶向硬质不等的晶片研磨时,加偏心载荷修正不平行度。
6)为提高研磨抛光的效率和研磨表面质量,可在研磨剂中加入一定量的化学活性物质。
7)高质量研磨时必须避免粗的磨粒和空气中的灰尘混入,否则将使研磨表面划伤,达不到高质量研磨要求。
参考资料:/。
双面磨床的工作原理是什么
双面磨床的工作原理是什么双面磨床是一种常见的机床,用于对各种材料的两个平面进行磨削,同时可完成研磨、抛光和划线等加工。
它的工作原理很多人并不了解,下面将介绍一下双面磨床的工作原理。
一、双面磨床的结构双面磨床的结构包含两个工作台,分为主动工作台和从动工作台,主动工作台通常有驱动装置,用于带动磨料进行磨削。
从动工作台通过设备的传动装置与主动工作台相连,以实现对工件的夹持和运转。
二、双面磨床的工作过程双面磨床的工作过程是指两个磨料成对旋转,以同时磨削工件的两个平面,且工件不断对换位置,直到达到所需尺寸的过程。
整个工作过程分为以下几个阶段:1.上下磨削工作台驱动过的两个磨料同时磨削工件的两个平面,完成上下面的磨削。
2.旋转磨削工作台驱动过的两个磨料开始互相旋转,切向运动,对工件进行研磨、抛光等加工。
3.对换磨削工件在完成一定的加工后,需要对换位置以继续进行磨削,从动工作台负责夹持工件,进行对换。
通过这样一系列阶段的循环,最终,双面磨床可以完成对工件的两面同时磨削的目的,使其表面非常光滑、平整,达到所需的规格尺寸,形状和表面粗糙度。
三、双面磨床的应用领域双面磨床的应用范围非常广泛,主要用于对各种材料进行磨削,如金属材料、陶瓷、水晶、玻璃等。
它可以满足高精度、高效率、高稳定性等多种加工需求。
双面磨床可以应用于航空航天、机械加工、汽车工业、电子业、精密仪器等行业。
四、双面磨床的特点双面磨床具有以下几个特点:1、双面同时磨削,提高了生产效率。
2、磨削效果好,表面光洁度高,通过去掉表面缺陷去除局部硬化,提高零件寿命。
3、磨削方式较为柔和,能够保持工件的完整性,不会损坏工件。
4、适用于大型批量生产,且精度稳定可靠。
五、结语综上所述,双面磨床是一种非常常见的机床,它的工作原理是利用两个工作台的相互配合、旋转、交替磨削工件的两个平面,达到高效的磨削效果。
它是现代工业生产中不可或缺的一种高精度加工设备,近年来得到越来越广泛的应用。
双面抛光工艺研究报告
双面抛光工艺研究报告抛光工艺是一种常用于表面处理的方法,它可以在材料表面获得光亮、平滑和反射性较高的效果。
在抛光工艺中,双面抛光是一种常见的方法,它可以同时处理材料的两个表面,提高工作效率并确保双面的表面质量一致。
本文将对双面抛光工艺进行研究,并探讨其影响因素、优势和应用领域。
首先,我们需要了解双面抛光工艺的具体步骤。
一般而言,该工艺包括粗磨、细磨和抛光三个主要步骤。
粗磨通常使用颗粒较大的砂轮或磨料进行,目的是去除材料表面的粗糙度和瑕疵。
细磨则采用颗粒较细的磨料,以获得更加光滑的表面。
最后,抛光采用磨料和抛光液进行,以进一步提高表面的光亮度和反射性。
在进行双面抛光时,需要注意以下几个影响因素。
首先是工艺参数的选择,如磨料的种类、颗粒大小和抛光液的组成等。
这些参数的选择将直接影响到双面抛光的效果。
其次是机械设备的选择和调整,包括抛光机的旋转速度、送料速度和抛光头的硬度等。
正确的设备选择和调整,能够提高双面抛光的一致性和稳定性。
第三个因素是工作环境的控制,如温度、湿度和尘埃等。
这些环境因素对双面抛光结果的影响也不可忽视。
双面抛光工艺相较于单面抛光有一些明显优势。
首先是效率的提高。
由于能够同时处理两个表面,双面抛光相较于单面抛光可以更快地完成工作。
其次是表面质量的保证。
双面抛光能够确保两个表面的质量一致,避免出现单面抛光后出现差异。
此外,双面抛光还可以减少材料的曲率,提高材料的平整度。
双面抛光工艺在许多领域有着广泛的应用。
其中最常见的是电子和光电行业。
在这些领域中,双面抛光可以用于加工晶片、玻璃基板和光学镜头等材料,以提高它们的光学性能和可靠性。
此外,双面抛光还可以应用于金属制造、陶瓷加工和玉石雕刻等领域,以获得高质量的双面表面。
总结而言,双面抛光工艺是一种常用且重要的表面处理方法。
通过选择合适的工艺参数、调整机械设备以及控制工作环境,可以实现高效、均匀和高质量的双面抛光效果。
双面抛光在电子、光电和其他领域有着广泛的应用前景,可以帮助提升材料的性能和可靠性。
什么是平面研磨抛光?
很多人对平面研磨还不是很清楚,也很多朋友苦于找不到好的方法来处理物体表面的光色处理。
研磨和抛光是同一种,原理一样。
只是对于表面质量而言,抛光的比研磨
要更高一些其实可以说是研磨的后道工序,可以在同一台上同时实现研磨和抛光。
研磨分为,精磨,抛光则分为粗磨,精抛也叫光色镜面处理。
很多时候我们都是三道工序来进行产品表
面质量的加工:粗磨,精磨,镜面抛。
有了这三道工序,工件表面的,,粗糙度就相当高了。
有些客户精度要求没那么高的,特别是粗糙度要求没有那么高就只采用前两道工序,或者是
精磨这一道工序。
平面研磨就是在平整的表面上进行一个研磨,抛光工作,具体的要看工
件表面本身的质量,以及客户要求达到的质量。
就比如下图的表面就是经过平面研磨的产
品效果图:
研磨和抛光可以在同一台平面抛光机上实现,但是所用的配置却不一样。
研磨需要用研磨盘和,抛光则是用抛光液和抛光盘,,抛光布,等。
所用在一台平面抛光机上实现研磨和抛光时需要研磨后更换盘,液体等配置。
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平面双面研磨抛光学校名称:重庆职业技术学院院系名称:电子工程系学生学号:20042348平面双面研磨抛光学科、专业:光电技术应用学生姓名:李士全指导老师姓名:王君重庆职业技术学院电子工程系摘要光学加工中,抛光就是研磨,是精磨以后的主要工序。
工件在精磨之后,虽然具有一定的光滑和规则的表面形状,但它还不完全透明而且表面形状也不是所要求的,需要经过抛光才能成为所要求的抛光表面。
研磨抛光是获得光学表面的最主要的工序。
平面双面研磨抛光顾名思义就是对大量平面零件上下两个表面同时加工进行高速抛光。
抛光中主要的是对磨盘的修正(修盘)、工艺参数、抛光液的浓度、PH值、机器的清洗等系列的掌握和理解。
抛光是零件加工中的最后工序,质量的要求很高,面对划痕、麻点、破边等系列的问题都有他的解决方法。
光学玻璃在抛光过程中及抛光下盘以后的腐蚀问题,长期以来一直影响着这些光学玻璃零件的加工质量和生产效率。
例如对化学稳定性差的光学玻璃抛光液中,添加适当的pH值调节剂,减少了一系列化学稳定性差的光学玻璃在抛光过程中的腐蚀问题,显著提高了抛光表面质量和合格率,并进一步提高了光学玻璃零件加工的效率和效益及其工艺技术水平。
在科技领先的现在,具有丰富的理论知识、实践经验、可操作技术才能进一步提高了光学冷加工的效率和效益及其工艺技术水平,在光学以后的发展进步中才有立足之地,。
关键词:修盘、PH值、疵病1平面双面研磨抛光目录引言 (1)一、抛光的基础 (2)二、平面双面抛光 (3)三、抛光常见问题及处理方法 (7)四、总结 (11)参考文献 (11)2重庆职业技术学院电子工程系引言如今我们不难发现,军用武器系统中几乎都装备有各种各样的光电传感器件,而在这些光电传感器件中,或多或少都采用了各种样式的光学零件。
从美国陆军所作的一项调查报告的材料中我们知道,1980~1990年美国军用激光和红外热成像产品所需要的各种光学零件就有114.77万块,其中球面光学零件为63.59万块,非球面光学零件为23.46万块,平面光学零件为18.1万块,多面体扫瞄镜为9.62万块。
拿M1坦克为例,其大约使用了90块透镜、30块棱镜以及各种反射镜、窗口和激光元件。
又如一具小小的AN/A VS-6飞行员夜视眼镜就采用了9块非球面光学零件和2块球面光学零件。
从70年代开始,以红外热成像和高能激光为代表的军用光学技术迅速发展。
军用光学系统不但要求成像质量好,而且要求体积小、重量轻、结构简单。
这对光学加工行业是一个严峻考验。
为了跟上时代发展的步伐,设计和制作出质地优良的光学成像系统,光学零件加工行业于70年代开展了大规模技术革命和创新活动,研究开发出许多新的光学零件加工方法,如非球面光学零件的加工法。
近10多年来,新的光学零件加工技术得到进一步地推广和普及。
目前,国外较为普遍采用的光学零件加工技术主要有: 计算机数控单点金刚石车削技术、光学玻璃透镜模压成型技术、光学塑料成型技术、计算机数控研磨和抛光技术、环氧树脂复制技术、电铸成型技术……以及传统的研磨抛光技等。
3平面双面研磨抛光一抛光的基础(一)抛光机理现在的抛光可归纳为三种理论:机械磨削理论、化学作用理论、表面流动理论。
三种理论在不同程度上都有一定的正确性。
1.机械磨削理论抛光是研磨的继续,抛光与研磨的本质是相同的,都是尖硬的磨料颗粒对玻璃表面进行微小切削作用的结果。
但由于抛光是用较细颗粒的抛光剂,所以微小切削作用可以在分子大小范围内进行。
由于抛光模与工件表面相当吻合,因此抛光时切向力特别大,从而使玻璃表面凸凹的微痕结构被切削掉,逐渐形成光滑的表面。
2.化学作用理论抛光过程是在玻璃表面、抛光剂、抛光模和水的作用下,发生的错综复杂的化学过程。
主要是玻璃表面发生的水解过程。
3.表面流动理论玻璃表面由于高压和相对运动,摩擦生热致使表面产生塑性流动,凸起的部分将凹陷填平,形成光滑的抛光表面。
这种理论的试验依据是:抛光表面用金刚石划成图案,然后抛掉,再用酸腐蚀,结果看到划痕再现。
另一试验发现,由抛去厚度计算的抛去重量比实测的大得多,于是认为抛去的玻璃填到表面凸凹层的谷部。
由此说明抛光过程是流动作用的覆盖,但这与工件抛光后有重量减轻的事实相矛盾,另外,软化点的玻璃,抛光速率低,这也可以说明这种理论的正确性,但它不适用ZK9和所有硼酸玻璃。
综上所述,抛光过程是极其复杂的,至今没有得出完善而统一的结论。
但是普遍承认的观点是:机械磨削作用是基本的,化学作用是重要的,至于表面流动理论也可能存在。
(二)光圈的识别与度量1、什么是光圈?被检查镜片表面面形与标准曲率半径的原器面形有偏差时,它们之间含形成对称的契形空气间隙,从而形成等厚干涉条纹,有日光照射下可见到彩色光环(此时空气隙,呈环形对称),这种彩色的光环称为光圈,我们通常观察光圈数(即面本数)以红色光带为准。
2、光圈的识别1)周边加压法低光圈当空气隙减小时,条纹从边缘向中心移动4重庆职业技术学院电子工程系高光圈当空气隙减小时,条纹从中心向边缘移动2)色序法当光圈数N>1,白光照明。
低光圈从中心向到边缘移动的颜色序列为“蓝红黄”高光圈从中心向到边缘移动的颜色序列为“黄红蓝”3)一则加压法当光圈数N>1,低光圈条纹弯曲凹向背着加压点高光圈条纹弯曲凹向朝着加压点3、光圈的度量1)当光圈数N>1时以有效检验范围内直径方向最多条纹数的一半来度量2)当光圈数N<1时①单色光照明时,以通过直径方向上干涉条纹的弯曲量h相对于条纹的间距的比值来度量,光圈数N为:N=h/H②用白光照明低光圈的翘边和塌边(三)象散偏差的判断在样板的相互垂方向上作周边加压或一侧加压,当N>1光圈呈椭圆形,当N<1时,两垂直方向上的条纹弯曲度不同,则有象散偏差。
1、局部偏差的判断当一则加压时中心低条纹中心部位弯曲凹向背着加压点中心高条纹中心部位弯曲凹向朝着加压点塌边条纹边缘部位塌向加压点翘边条纹边缘部位翘高加压点2、局部偏着的度量1)中心局部偏差它包括低光圈的中心低和中心高2)边缘局部偏差它包括低光圈的翘边和塌边3)中心及边缘均有局部偏差它是几种偏差的集合二平面双面抛光平面双面抛光顾名思义就是对大量平面零件上下两个表面同时加工进行高速抛光。
使用加工机器:9B、16S、6B等双面抛光机。
以9B为例:技术参数:1.加工产品最大尺寸:φ150mm5平面双面研磨抛光2.加工产品最小肉厚:0.2mm3.油轮使用数量:5pcs开机条件:1.测酸碱度ph值:5~6.62.测抛光粉浓度:1.025~1.0353.检查并打扫机台清洁卫生4.检查并打扫环境清洁卫生5.检查擦拭布清洁卫生6.同盘零件厚度小于或等于0.017.检查精磨来料的干净程度是否符合要求8.满足上述条件方可开机加工零件,否则不能开机加工。
(一)抛光前的准备1.选料在精磨加工完工件中,难免由于各种原因导致粗磨完工件或精磨完工肉厚过大在没经过确认真正精磨完工而混入精磨完工件之中。
由于同盘之零件厚度差必须小于或等于0.01mm,零件肉厚个别过于偏大致使磨盘挂盘,因此,我们要把肉厚偏大的零件用专用的在一定尺寸限制的卡规挑选出来的过程称为选料(或卡料)。
精磨完工件来料用专用零件流转盒装放在制定位置中,点检来料数量干净程度是否符合要求把同肉厚的零件放在一起且不可放置太高以免误撞打坏零件。
卡料:首先,左手轻扶零件以免零件晃动;然后,右手用卡规从零件一侧穿过零件。
卡料时不要速度太快眼要准、手要稳且用力不要太大防止卡规卡破零件表面和柱面,影响零件抛光质量良品率。
选料是抛光工序的首要环节,选料选的准直接影响抛光的产量和质量。
2.洗机和修盘双面抛光机长时间的使用导致机器中和抛光膜层上残留大量的抛光残渣,同时抛光膜变形零件面本数太多和亚斯不良。
因此,开机之前首先要洗机修盘。
修盘:首先,将三个金刚石修磨盘按标注方向朝上均匀的摆放在抛光盘下磨盘上(摆放前注意内外齿圈上是否有堆积的干抛光粉,若有必须先除掉这些抛光粉以后方可摆放金刚石修磨盘)。
然后关掉冷却液,开机让修磨盘空转几圈,观察三个修磨盘上下表面是否完全与抛光模贴合,若贴合良好停机放下上模板打开冷却液开关,开机进行修盘:1)抛光盘若边缘高中间低:正转2)抛光盘若边缘低中间高:反转3)平模修毛:两正一反(修模正反圈数,以保证模盘表面平整为度)。
6重庆职业技术学院电子工程系注:修模时间以模具修到位为度,时间越短越好。
洗机:修盘结束后,取出修磨盘放上洗机专用毛刷。
关掉冷却液连接水管开机转3-5分钟取出毛刷用手摸洗上下磨盘无其它即可,清洗下磨盘是使之转到高速用水管冲洗机器。
3.过滤抛光液抛光液经长期使用含很多的赃物一定要过滤从新配制,因为这关系到零件抛光的质量和效果。
抛光液的浓度在抛光过程中会发生变化,有时浓度反而高了,这是因为液体蒸发的缘故,也可能随着抛光时间的推延,玻璃粉也参与在抛光液中间促使抛光液的浓度变高。
为了控制抛光液的浓度,我们的工艺是每一周期(如4小时)添加配比好的新鲜抛光液,以控制抛光液的浓度相对稳定。
另外,每天上班前将储液桶内上面1/3的抛光液用胶管吸掉,再倒入新鲜的配比的抛光液。
(二)抛光1.上盘1)将5个行星轮清洗干警均匀的摆放在下磨盘上,不要打开抛光液,开机样行星轮在磨盘上空转几圈,确认行星轮运行正常。
关机,将精磨来料用水漂洗一下防止残留金刚砂和其它物质影响抛光质量。
将不同的零件按所规定的数量在行星轮中装好零件(装零件时每只手只能拿1-2个零件不要为了追加产量节省时间拿太多,会使零件相互碰撞产生破裂等不必要的影响质量)。
开机,让行星轮和零件在磨盘上空转几圈,以确认行星轮中零件被正确安装。
2)用干净的手(或毛刷)将上磨盘摸(或刷)一遍,确认上磨盘无零件或其它存在。
3)降下上磨盘至零件上表面,观察上下模合缝隙宽度是否均匀。
完成上述工作后,打开抛光液控制开关并调节到合适的大小,开机加工零件。
2.抛光根据加工零件的各项要求设置要加工的时间和压力,第一次打时间不一次打太多防止万一零件光圈和压斯不良。
由于抛光液在加工过程中转变,同尺寸的零件上一盘时间一般多加200左右具体以实际情况而定。
工艺参数:1)抛光波浓度及pH值抛光时常选用一定浓度的抛光液,浓度太高时,虽然增加去除率,提高效率,但容易造成塌边。
抛光液的酸碱度(pH值)也会影响表面精度。
pH 值对一定精度的微晶玻璃(Zerodur)面形及粗糙度有影响,对白宝石影响不太明显:浓度与的综合作用在抛光中亦不可忽略。
抛光中应根据不同材料7平面双面研磨抛光8 表面化学特性来调节抛光波的pH 值。
2)转速抛光时,上下主轴的转速范围为0━60rpm ,对抛光精度影响不大。
应根据机床的实际情况来选择之。
当转速高时,由于离心力的作用使得抛光液甩向液罩,有必要加一挡板,使抛光液流向工件,使抛光更充分。