单晶生长方法介绍

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按晶体生长的反应类型
复分解化学反应
络合分解法
氧化还原法
溶解度降低法
凝胶法生长CaWO4单晶示意图
烧杯双管育晶装置
1. Ca(NO3)2溶液 2. Na2WO4溶液
3. 蒸馏水
4.源自文库凝胶
5. CaWO4晶体
1-5均属于溶液法
溶液法特点:
• • • • 晶体可以在远低于熔点的温度下生长,避免了 分解、晶型转变。 容易生成大的均匀性良好的晶体 直接观察,为研究晶体形态和晶体生长动力学 提供方便。 时间长,温度要求高,组分复杂(是缺点)
溶液法-水热法合成石英水晶
石英(水晶)有许多重要性质,它广泛地应用于国防、电 子、通讯。冶金、化学等部门。石英有正、逆压电效应。 压电石英大量用来制造各种谐振器、滤波器、超声波发生 器等。 石英谐振器是无线电子设备中非常关键的一个元件,它 具有高度的稳定性(即受温度、时间和其它外界因素的影 响极小),敏锐的选择性(即从许多信号与干扰中把有用的 信号选出来的能力很强) ,灵敏性(即微弱信号响应能力强), 相当宽的频率范围(从几百赫到几兆频),人造地球卫星、导 弹、飞机,电子算机等均需石英谐振器才能正常工作。
制备过程
1、原料合成 制取高纯度的原料块(制备高质量的单晶原料,高纯很重 要)。天平准确称量所需的原料,放入洁净的料罐充分混匀, 等静压成料块。 2、温场设计 温场指温度在空间的分布。生长单晶体很重要的条件就是合 适的温度场。该温度场设计包括轴向温度梯度和径向温度梯 度。轴向温度梯度设计时要求固液界面处有较大的温度梯度, 而以上有较小的温度梯度(防止开裂、应力,并降低位错密 度)。径向温场对称,使籽晶在生长点外其它条件自发成核 的几率为零。 注意:不同单晶温场要求不同,因此,要实验、验证, 具体实验具体设计。
原理:在一定温度的溶液中置入晶核,搅拌下降温, 最后长成单晶。 特点:设备简单成本低 安全 晶体形状不易控制 主要仪器设备: 温控装置 搅拌装置 擎晶装置或晶核 育晶器 晶核--晶体生长的基础,例如:蜂蜜结晶、冬天结 冰。 搅拌--有利于提高晶体的完整性和规整性。
降温法制备单晶装臵示意图
5 溶胶-凝胶法(Sol-gel )
原理:以金属纯盐为原料,使其与有机溶剂混 合发生水解—聚合反应,生成透明凝胶。单晶 在凝胶中生长。 特点: 晶体在柔软而多孔的凝胶骨架中生长,有自由 发育的适宜条件 晶体在静止环境中生长,有利于提高晶体结果 的完整性 设备简单 难以长出大晶体
2)石英的生长机制 高温高压下,石英的生长过程分为:培养基 中石英的溶解、溶解的SiO2向籽晶上生长两个过 程。 而石英的溶解与温度关系密切,符合 Arrhenius方程: lgS = -△H/2.303RT 式中, S—溶解度;△H—溶解热;T—热力学 温度; R—摩尔气体常数,负号表示过程为吸热反应。
水热法生长 的石英单晶
4 、高温溶液法(助熔剂法)生长晶体
原理:高温下、加入助熔剂将多晶溶质溶解,然后降温, 生长单晶。最早1890年,红宝石合成,但是颗粒太小。 特点 1、适用性强 2、特别适用于难熔化合物和在熔点极易挥发、高温 有相变、非同成分熔融化合物 3、晶体生长慢,有少量杂质缺陷 4、比较容易得到大的晶体 5、液相的存在利于晶体的生长,故没有太多的晶核,更 有利于生成单晶 6、可以降低单晶生长的温度
(助熔剂法-缓慢蒸发法)
原料: MgO 80.6 g (15.7 mol%) Al2O3 204.0 g (15.7 mol%) 助熔剂:PbF2 2100 g (67.4 mol%) B2O3 10.0 g (1.0 mol%) 条件:铂坩埚,盖上开一个小孔 8h内缓慢加热到1250 C 10 – 15 d内缓慢蒸发完 用稀HNO3 洗去助熔剂 结果:晶体直径为10mm
主要仪器:水热反应釜
水热反应釜
水热法生长晶体装置
例:水热合成法制备石英单晶
* 石英单晶的用途: 雷达、声纳仪、 压电传感器、X-射线单色器
冷端 360C
籽晶 NaOH溶液 (0.1M )
* 制备条件: 0.1M NaOH 介质 釜内工作压力130~165MPa
热端 400C
多晶原料
水热法制备石英单晶
式中x≥2。在接近石英培育的条件下,测得的x值约在7/3和5/2之间,
这意味着反应产物应当是Na2Si2O5、Na2Si3O7以及它们的电离和水解产 物。而Na2Si2O5和Na2Si3O7经电离和水解,在溶液中产生大量的
NaSi2O5-和NaSi3O7-。
因此,石英的人工合成含下述两个过程:
① 溶质离子的活化
原理: 用高温高压的溶液将溶质溶解,降温,溶液 过饱和后使溶 质析出,长成单晶。 水的作用:转递压力,提高原料溶解度 1928年,德国的科学家理查德· 纳肯(Richard Nacken) 创立。主要用来生产水晶和大多数矿物。 特点: 1、高温和高压可使通常难溶或不溶的固体溶解和重结晶。 2、晶体在非受限条件下生长,晶体形态各异、大小不受限制、 结晶完好。 3、适合制备高温高压下不稳定的物相 4、水处在密闭体系中,并处于高于沸点的温度,体系处在高 压状态。
• 缓慢降温法制备Y3Al5O12 (YAG) (助熔剂法-缓慢降温法) 原料: Y2O3 3.4 mol% 、 Al2O3 7.0 mol% • 助熔剂:PbO 41.5 mole%、PbF2 48.1 mol% • 条件: 1150 C 24 h 4 C/h 降温750 C 用稀HNO3 洗去助熔剂 • 结果: 晶体直径 3 – 13mm 1 – 1.5 g 收率 60 – 70 %
种类很多,原理和作用是 利用液体蒸发产生的温降 使晶体生长,液体称为载 冷剂,有水、醇类等。
主要仪器:擎晶装臵
蒸发冷却器(可组装)
蒸发法制备单晶示意图
蒸发法育晶装臵
1. 底部加热器 2. 晶体 3. 冷凝器 4. 冷却水 5. 虹吸管 6. 量筒 7. 接触控制器 8. 温度计 9. 水封
3 、水热合成法
按晶体走向和提拉方法的不同,又可分
自动提拉法--生产单晶、YAG等氧化物单晶
液封提拉法--生产GaAs单晶 导模提拉法--生产宝石、LiNBO3单晶 磁场提拉法--生产硅单晶 微重力法 双坩埚法
主要设备 加热源 温控设备(有梯度)
盛放熔体设备
旋转和提拉设备
气氛控制设备
或者 单晶炉及其配件
丘克拉斯基法生长单晶用设备
实验发现,由于石英的溶解,溶液的电导率下降大,表明溶液中 OH—离子和Na+离子明显减少。这就说 明,OH—离子和Na+离子 参与了石英溶 解反应。 有人认为,石英在NaOH溶液中的化学反应生成物以Si3O72-为主要形式, 而在Na2CO3溶液中则以SiO32- 为主要形式。它是氢氧离子和碱金属与石 英表面没有补偿电荷的硅离子和氧离子等起化学反应的结果。故,石英在 NaOH溶液中的溶解反应可用下式表示: SiO2(石英) + (2x-4)NaOH = Na(2x-4)SOx + (x-2) H2O
用于生产磷酸氧钛钾 (KTP) 具有大的非线性系数,大的容许温度和容许角 度,激光损伤阈值较高,化学性质稳定,不潮解, 机械强度适中,倍频转化效率高达70%以上等特性, 是中小功率固体绿光激光器的最好倍频材料。 主要性能: 透过波段: 0.35~4.5μm 电光系数: γ33=36Pm/V 折射率: nx=1.7377,ny=1.7453,nz=1.8297@1064nm 激光损伤阈值: 2.2GW/cm2@1064 nm 非线性光学系数: d33=13.7Pm/V 倍频转化效率: 45~70%
1)溶液法-水热法合成石英的装臵
高压釜的密封结构采用“自紧式”装臵。
自紧式高压釜的密封结构 培养石英的原料放在 高压釜较热的底部,籽晶 悬挂在温度较低的上部, 高压釜内填装一定程度的 溶剂介质。
水热法合成石英的装置
结晶区温度为330—350℃;溶解区温度为 360-380℃ ;压强为0.1-0.16GPa; 矿化剂为1.0-1.2mol/L 浓度的NaOH, 添加剂为LiF、LiNO3或者Li2CO3 。
3)影响石英晶体生长的因素
• 单晶生长速率的影响因素: 温度、温差、溶液过饱和度 • 在一定温差条件下,晶体的生长速率(mm/d为单位)的对 数与生长区的温度的倒数呈线性关系。 • 在一定的生长温度下,溶解区与生长区的温差越大,晶体 生长得越快,基本呈线性关系。但在实际晶体生长过程中, 晶体生长不能太快,否则晶体 质量会明显下降。 • 压强是高压釜内的原始填充度、温度和温差的函数。提高 压强会提高生长速率,这实际上是通过其它参数(溶解度和 质量交换等情况)来体现的。在温度较低时,填充度与生长 速率呈线性关系,在温度较高时线性关系被破坏。 • 在高温下,相应地提高填充度和溶液碱浓度可以提高晶体 的完整性。
单晶生长方法介绍
1、普通降温法生长单晶 是溶液法制备单晶中最简单的一种,适合实 验室制备单晶。最初用于生长二磷酸腺甙 (ADP, 1947年英国人托德合成,一种人工 生物单晶体) 、磷酸二氢钾(KDP )、磷酸二 氘钾(DKDP)等的单晶体。 KDP和DKDP晶体均具有光电子性能、非线 性性能和高压光学性能,还具有高的激光损 伤阈和高的光学均一性,已经被广泛用作 Nd:YAG和Nd:YLF(LiYF4)激光器产生的 第2、3、4谐波的频率倍增器。
提拉法生长单晶 特点: 1、从同组成的熔体中生长单晶的主要方法。 2、广泛用于生长Si、Ge、Ga、As等半导体单晶材料 3、为防止物料中As、P等的损失,反应经常在高压、惰 性气氛中进行。 4、生长过程中可以方便的观察晶体的生长状况。 5、熔体表面生长单晶,不与坩埚接触,能显著减少晶体 的应力,并防止埚壁的寄生成核。 6、可以方便的使用定向籽晶和“缩颈”工艺 7、生长过程易控制,速度快,易于得到大尺寸和高质量 的单晶
石英滤波器具有比一般电感电容做的滤波器体 积小,成本低,质量好等特点。在有线电通讯中 用石英滤波器安装各种载波装臵,在载波多路通 讯装臵(载波电话、载波电视等)的一根导线上 可以同时使用几对、几百对、甚至几千对电话而 互不干扰。使用石英的可透过红外线、紫外线和 具有旋光性等特点,在化学仪器上可做各种光学 镜头,光谱仪透镜等。
NaSi3O7- + H2O = Si3O6- + Na+ + 2OH-
NaSi3O5- + H2O = Si2O4 - + Na+ + 2OH— ② 活化了的离子受生长体表面活性中心的吸引(静电引 力、化学引力和范德华引力),穿过生长表面的扩散 层而沉降到石英体表面。 关于水晶晶面的活化,有不同的观点,有人以为是由 于晶面的羟基所致,所以产生如下反应,形成新的晶胞层: Si-OH + (Si-O)- → Si-O-Si + OH-
水浴育晶装置 1. 擎晶杆 2. 晶体 3.转动密封装置 4. 浸没式加热器 5. 搅拌器 6. 控制器 7. 温度计 8. 育晶器 9. 有孔隔板 10. 水槽
2、蒸发法生长单晶
属于溶液法,适合实验室制备单晶。
原理:将臵有晶核的高温液体体系,在蒸发冷 却器的作用下冷却,获得单晶。
特点:较简单 成本较普通降温法高 可制备规则单晶
3、物料熔融 将装料的坩埚(或料罐)在温度场中加热直至 熔融 加热方式:电阻加热、感应加热 电阻加热法:用石墨、钨等对盛有原材料的坩埚 加热,也可以做成复杂的加热器,起到盛料和 加热的两个目的。该法特点是成本低、可以使 用大电流、低电压电源。 感应加热法:利用中频或高频交流电通过线圈时 产生的交流电磁场,臵于线圈内的铱( Ir)或 白金( Pt)坩埚中产生涡流发热,从而融化 坩埚内的原材料。特点是可提供较干净的生长 环境,能快速改变参数而进行精密控制,但成 本费用高。
应用范围: 用于各种固体激光系统,特别是Nd :
YAG 激光器的倍频和光参量振荡,集成
光学的波导器件。
从冷却工艺上又可分 缓冷法(缓慢冷却法) 溶剂蒸发法(缓慢蒸发法)
温差法
助熔剂反应法
叫法也改变了,如助熔剂-缓冷法、助熔 剂-蒸发法等。
例:助熔剂法生长MgAl2O4单晶
缓慢蒸发法制备MgAl2O4
许多工业上重要的单晶都可通过水热法生长。
材料 Al2O3 Al2O3 ZrO2 TiO2 GeO2 CdS 温度/℃ 450 500 600~650 600 500 500 压强/GPa 0.2 0.4 0.17 0.2 0.4 0.13 矿化剂 Na2CO3 K2CO3 KF NH4F
水热法生长晶体示意图
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