第二讲:真空物理基础
真空物理基础要点
第2讲真空物理基础为了阐述真空技术中经常遇到的一些物理知识,特别是那些在真空行业中会经常遇到的一些基本物理定律和相关的理论问题,如理想气体定律、气体与蒸汽的性质、气体内部各种动力过程的规律以及气体与固体间相互作用的规律等一系列问题,对真空物理中的一些问题进行一些介绍是十分必要的。
2.1 理想气体定律及其状态方程本节所介绍的定律及相关公式是针对平衡状态下,符合理想气体的有关假设条件的前提下而得出的。
由于在真空技术中研究的气体大多数处于常温和低压状态下,因此在工程计算中应用这些定律基本上是符合实际的。
现就有关问题分述如下:2.1.1 气体定律气体的压力p(Pa)、体积V(m3)、温度T(K)和质量m(kg)等状态参量间的关系,服从下述气体实验定律:2.1.1.1 波义耳—马略特定律:一定质量的气体,当温度维持不变时,气体的压力和体积的乘积为常数。
即:pV=常数2-12.1.1.2 盖·吕萨克定律:一定质量的气体,当压力维持不变时,气体的体积与其绝对温度成正比,即:V常数T2-22.1.1.3 查理定律:一定质量的气体,当体积维持不变时,气体的压力与其绝对温度成正比,即:P/T=常数2-3上述三个公式习惯上称为气体三定律。
具体应用方式常为针对由一个恒值过程连结的两个气体状态,已知3个参数而求第4个参数。
例如:初始压力和体积为P1、V1的气体,经等温膨胀后体积变为V2,则由波义耳—马略特定律,即可求出膨胀后的气体压力为P2=P1V1/V2。
这正是各种容积式真空泵最基本的抽气原理。
2.1.1.4 道尔顿定律:相互不起化学作用的混合气体的总压力等于各种气体分压力之和,即:P=P1+P2+……P n2-4这里所说的混合气体中某一组分气体的分压力,是指这种气体单独存在时所能产生的压力。
道尔顿定律表明了各组分气体压力的相互独立和可线性叠加的性质。
2.1.1.5阿佛加德罗定律:等体积的任何种类气体,在同温度同压力下均有相同的分子数,或者说,在同温度同压力下,相同分子数目的不同种类气体占据相同的体积,人们把1mol 任何气体的分子数目N A 叫做阿佛加德罗数,N A =6.022×1023mol -1。
真空技术及应用系列讲座_杨乃恒先生主持
真空技术及应用系列讲座东北大学真空工程博士点,博士导师杨乃恒先生主持第一讲:真空科学的发展及其应用李云奇 95(2)………………………………………第二讲:真空物理基础张世伟 95(3)……………………………………………………第三讲:机械真空泵(一)(二)(三)(四)(五)张以忱 95(4)、(5)、(6)、96(1)、(2)……第三讲:机械真空泵(六)张以忱(东北大学)七、无油干式机械真空泵(一)概述无油干式机械真空泵(以下简称干式机械泵)是指泵能从大气压力下开始抽气,又能将被抽气体直接排到大气中去,泵腔内无油或其他工作介质,而且泵的极限压力与油封式机械真空泵同等量级或者接近的机械真空泵。
目前,真空行业使用的大多数机械真空泵都是用油、水或其它聚合物等流体充当泵的工作介质,在泵内起冷却、密封、润滑等多种作用。
随着科学技术的发展以及真空应用领域的扩大,原有的机械真空泵及其组成的抽气系统出现了两个急需解决问题:一是泵的工作介质返流污染被抽容器,而这种返流在许多情况下影响产品的质量、数量,增加设备的维护成本。
其次,由于某些工艺过程中的反应物质使真空泵内的介质严重变质,使泵不能正常工作。
对于普通的无油真空系统来说,虽然可用油封式真空泵加上冷阱或吸附阱之类附件来防止返流,但不能彻底解决问题,而且使系统显得复杂。
而使用适当型式的干式机械真空泵,则可以达到理想的使用效果。
干式机械真空泵的应用是广泛的,主要有以下几个方面:1)低压化学气相沉积中的多晶硅制备工艺中;2)半导体刻蚀工艺。
在这些生产工艺中往往用到或生成腐蚀性气体和研磨微粒;3)除半导体工艺外的某些产生微粒的工艺,不希望微粒混入泵油中,而希望微粒排出泵外,则用一定型式的干式机械真空泵可以满足要求;4)在化学工业、医药工业、食品工业中的蒸馏、干燥、脱泡、包装等,要防止有机溶剂造成污染,适合用干式真空泵;5)用做一般无油清洁真空系统的前级泵,以防止油污染。
近年来,干式机械真空泵得到迅速的发展,国外多家大真空公司都研制出了新型的干式机械真空泵。
真空物理基础
固体表面对气体分子的作用力; 物理吸附和化学吸附; 吸附/脱附速率; 吸附等温线; 混合气体的吸附; 表面迁移 管道有吸附作用时的非稳定气流; 气体在固体中的溶解、渗透和扩散; 电子碰撞脱附; 离子轰击固-气界面。 2009年8月 真空与过程装备系
第二讲:真空物理基础(二)
真空固-气界面现象概述
在真空物理的第一部分知识中,讨论了气体分子在空间中的现象, 主要是分子运动相关的内容。本部分的内容将针对固体表面和气体分子 之间的相互作用而展开,包括以下几个方面的内容: 固体表面发生的吸附及脱附现象; 气体分子在表面和空间的转换; 气体分子、微观粒子和表面的相互作用。 这些知识是理解某些真空获得、真空测量以及真空应用技术的基础。
2009年5月
真空与过程装备系
第二讲:真空物理基础(二)
2.23 电子碰撞脱附
荷电粒子(电子、离子)对固体表面的轰击,将会使表面温度升高,并产生 一系列的现象。其中一个很显著的效应就是使物理吸附发生脱附。这里需要注意 如下现实: 脱附的分子是超高真空系统的气体来源; • 单个电子和分子碰撞,传递能量很小; 产物会对某些器件产生影响(如电离规, • 激励后,可产生多种效果; 四极质谱计等); • 对物理吸附作用效果尤为明显。 使系统内气体成分发生变化。 三种表面状态下电子碰撞脱附的特点: • 单原子吸附层; • 厚吸附层的电子碰撞脱附; • 未知表面态的电子碰撞脱附; 电子碰撞脱附率为:
2009年5月
真空与过程装备系
第二讲:真空物理基础(二)
2.19 混合气体的吸附(置换现象)
当一个表面不是对单一气体而是对混合气体进行吸附时,会出现特 异现象,如置换现象。该现象说明某种气体吸附于真空表面时,将会把 早先吸附的其它气体分子置换出来。该现象在超高真空系统中极为重要, 因为该现象有可能改变系统中气体的成分。(CO置换氮气) 置换现象有如下特点: • 两种吸附气体可能先后吸附,也可能同时吸附; • 置换率取决于:置换气体种类、表面性质、覆盖度以及温度; • 物理吸附和化学吸附都可以发生置换现象; • 置换过程总是由脱附能高的
真空物理基础
超高真空 ﹤10-6(Pa)
气体分子密度极低,与器 壁碰撞的次数极少致使表 面形成单分子层的时间增 长;气态空间中只有固体 本身的原子几乎没有其他 原子或分子的存在。
利用气体分子密度极低与表面 碰撞极少,表面形成单一分子 层时间很长的原理实现表面物 理与表面化学的研究
1. 可控热核聚变的研究; 2. 时间基准氢分子镜的制作; 3.表面物理,表面化学的研究; 4. 宇宙空间环境的模拟; 5. 大型同步质子加速器的运转; 6. 电磁悬浮式高精度陀螺仪的制作。
常用真空泵的汉语拼音及名称
代号
W
D X H ZJ YZ L XD F K
名称
代号
往复真空泵
Z
定片真空泵
S
旋片真空泵
LF
滑阀真空泵
GL
罗茨真空泵(机械增压泵) DZ
余摆线真空泵
DG
溅射离子泵
IF
单级多旋片式真空泵
SZ
分子泵
PS
油扩散真空泵
P
名称
油扩散喷射泵(油增压 泵) 升华泵 复合式离子泵 锆铝吸气剂泵 制冷机低温泵 灌注式低温泵 分子筛吸附泵 水环泵 水喷射泵 水蒸气喷射泵
真空计名称 高真空电离真空计 高压力电离真空计 B-A计 宽量程电离真空计 放射性电离真空计 冷阴极磁放电真空计 磁控管型电离真空计 热辐射真空计 分压力真空计
测量范围(Pa) 10-1~10-5 102~10-4 10-1~10-8 10~10-8 105~10-1 1~10-5 10-2~10-11 10-1~10-5 10-1~10-14
1. 稀有金属、超纯金属和合金、半导体材料的真空熔炼和精制;常用 结构材料的真空还原冶金; 2. 纯金属的真空蒸馏精练;放射性同位素蒸发; 3. 难熔金疆的真空烧结; 4. 半导体材料的真空提纯和晶体制备; 5. 高温金相显微镜及高温材料实验设备的制造; 6. 真空镀膜,离子注入.膜层刻蚀等表面改性; 7. 真空工业的电光管、离子管、电子源管、电子束管、电子衍射仪, 电子显微镜、 x光显微镜,各种粒子加速器、能谱仪、核辐射谱仪, 中子管、气体激光器的制造; 8. 电子束除气、电子束焊接,区域熔炼,电子束加热
真空技术基础讲解学习
排气管等组成。定子两端被密封形成一个密封的
泵腔。泵腔内,偏心地装有转子,实际相当于两
个内切圆。沿转子的轴线开一个通槽,槽内装有
两块旋片,旋片中间用弹簧相连,弹簧使转子旋
26
转时旋片始终沿定子内壁滑动。
机械泵的抽气原理
机械泵的结构
罗茨(Roots)真空泵(无油泵)
工作原理:
泵体内两个呈8字型的转子以相反的方向旋转, 转子的咬合精度很高,且转子间,转子与泵体间无 需油作密封,转速高,抽速快。
现代的有扩散泵
7
今天的真空技术,已能获得和测量从大气压(105pa )到10-13pa,压力范围达18个数量级,并随着某些新 应用的开拓而要求一步步地接近“理想真空”。
今天的真空技术: 105pa~ 10-13pa
8
真空技术的应用领域
电子技术、航空航天技术、加速器、表面物理、微电子 、材料科学、医学、化工、冶金、日常生活等各个领域 。 (电子管、电视管、加速器、电子显微镜、镀膜、杜瓦绝 热)
真空技术基础
真空 (VACUUM)
“真空”这一术语译自拉丁文Vacuo,其意义是虚无。 真空应理解为气体较稀薄的空间。在指定的空间内,低于 一个大气压力的气体状态统称为真空。 自然真空:宇宙空间所自然存在的 人为真空:人类利用真空泵抽取所获得的 绝对真空:完全没有气体的空间状态 相对真空:气体稀薄,分子数较少的状态
(a)进气
(b)隔离
(c)压缩 (d)排气
高真空用真空泵
高真空泵分为两类 (1)转移动量给气态分子而抽吸气体
扩散泵 (vapour pump) 分子泵 (turbo pump)
(2)俘获气体分子
冷泵 (Cryo Pump) 离子泵 (Ion pump)
真空技术及应用系列讲座第十讲_真空密封_王继常6
667 1. 3×10-7 746
—
—
—
536 1. 3×10-6 609
p 3. 27×104 1. 07×105 1. 3×10-5 1. 3×10-6
— 1. 3×10-5
( 未完待续)
关于举办 2001 年国际真空展的通知
各真空及其应用企事业单位:
“国际真 空设备、仪器、仪表与应用 新产品 交流展 示会” ( 以下简 称国际真空 展) 是 由中国真空 学会与中 国通用机 械 真 空设备行 业协会联合 定期( 每两年一次) 举办 的国际真 空 展示会。第六届国际真空展将 于 2001 年 10 月 16~19 日在 北京国际会议中心( 亚运村地区) 举办。
图 33 O 形真空橡胶圈动密封结构
( b) J 型橡胶圈密封 J 型橡胶圈密封即所谓威尔逊密封, 是真空度 不高于 10-4 Pa 的真空设备中应用最广泛的一种动 密封。在这种密封结构中, 真空橡胶垫片的边缘部分 被金属衬垫紧紧固定、垫片的中心孔孔径比轴径小
20% ~35% , 安装好后弹性体在密封中呈截锥形( 如 图 34 所示) , 在大气压力作用下获得良好密封。使用 时必须注意此截锥的大底应位于真空一侧, 大气压 力才有压紧作用; 如密封垫装反了, 将不能起真空密 封作用。这种密封结构适用于线速度小于 2 m/ s, 转 速不高于 2000 r/ m in 的真空转轴密封。
500
< 10-10
711
500
< 10-10
600
500
< 10-10
823
300
< 10-10
474
p 1. 3×10-4
40 1. 3×10-7 1. 3×10-8 1. 3×10-7 1. 3×10-7
第真空技术基础课件ppt
吸附 N2、O2、Ar;
4)油因参扩考端散气泵压固(定,D因if而fu温s度io、n电P阻u、m流过p)电流不变,
借助其补偿作用可比对求出待测腔体内的气体压力。
结果:得到了“真空”的定义和大气压的定义与量度依据!
2)在气体种类和温度一定的情况下:
高真空阀和冷阱
双级:105~10-2 Pa
02×1023 个/mol;
1 真空技术基础
1.2 真空的获得
真空泵的分类及常用工作压强范围
旋片式机械泵(Rotary Pump)
气 体
罗茨泵(Booster Pump / Roots Pump)
输 油扩散泵(Diffusion Pump)
运 涡轮分子泵(Turbomolecular Pump)
了解真空的基本概念和知识,掌握真空的获得和测量技术基础知识 1958年为纪是念了托解里切薄利膜,材用托料(制tor备r)技代替术了的m基mH础g:!1 torr=1 mmHg
013×105
1.1
P真a=空1. 的基本知识
罗茨泵(Booster Pump / Roots Pump)
罗茨泵(Booster Pump / Roo中ts P学ump物) 理内容:1643年 托里切利 (Torricelli) 著名的大气压实验
内侧活性炭表面
吸附 H2、He、Ne
结果:得到了“真空”的定义和大气压的定义与量度依据!
特 点:1)响应速度比热偶真空计快得多;
1)初级冷头(外侧温度 = 50~80 K):吸附 水气、CO2 等;
阻止油气回流的Baffle
物理意义:是描(述稀d)薄气典体型流高动状真态空的系准数统!组合
2011-2真空技术基础
器壁
A 所受平均冲力 1
v
F
A1
2 vx
Nm x
y
z x
气体压强
A2
o
z
x
N n xyz
F Nm 2 p vx yz xyz
2 vx
统计规律
1 2 v 3
分子平均平动动能
1 2 k mv 2
2 p n k 3 16
压强的物理意义 统计关系式
2 p n k 3
39
40
• 关于气体分子对所接触固体表面(如容器壁)的 碰撞问题,可以从入射方向和入射数量二方面加 以讨论。若一立体角dω与面积元ds的法线间的 夹角为θ,则单位时间内由dω方向飞来碰撞到 ds上的气体分子数目dNθ与cosθ成正比,这就 是通常所说的余弦定律: • •
19
f (v )
S
dN f ( v)dv dS N 速率位于v v dv 内分子数
o
v1 v2
v
dN Nf ( v)dv
v v1 v2 区间的分子数 N v 2 N f ( v)dv 速率位于 1
速率位于 v1 v2 区间的分子数占总数的百分比
N ( v1 v2 ) v2 S v f ( v)dv 1 N
f (v)
物理意义
dS
o
v v dv
v
表示在温度为 T 的平衡 状态下,速率在 v 附近单位 速率区间 的分子数占总数的 百分比 . 表示速率在 v v dv 区间的分子数占总分子数的 百分比 .
N 0
dN f ( v)dv dS N
归一化条件
dN 0 f ( v)dv 1 N
5
《真空技术基础》课件2
THANKS
感谢观看
机遇和挑战。
真空技术的突破
目前,真空技术已经广泛应用于各个领域,如电子、能源、环保等。未来,随着技术的 不断突破,真空技术的应用领域将进一步扩大,为人类社会的发展带来更多的便利和效
益。
真空技术在新能源领域的应用
太阳能光伏产业
真空技术在太阳能光伏产业中发 挥着重要作用,如太阳能电池的 制造需要高真空环境,而真空镀 膜技术可以提高太阳能电池的光
详细描述
真空镀膜技术利用物理或化学方法,在材料表面形成一层具 有特殊性能的薄膜,如高硬度、高耐磨性、高反射率等。这 种技术广泛应用于眼镜、钟表、手机等产品的表面处理,提 高产品的外观和性能。
真空热处理技术
总结词
真空热处理技术是一种在真空中对金属材料进行加热和冷却处理,以达到改变 材料性能的工艺。
详细描述
气体净化
对进入系统的气体进行净化处理,以 减少气体杂质对密封面的磨损和腐蚀 。
定期维护
对密封件进行定期检查和维护,以保 证密封效果和延长使用寿命。
04
真空技术的应用实例
真空镀膜技术
总结词
真空镀膜技术是一种在真空中将金属、非金属或化合物蒸气 沉积在材料表面形成薄膜的工艺,广泛应用于光学、电子、 机械、建筑等领域。
真空电子器件制造技术需要在高真空条件下进行,以保证电子器件的性能和稳定 性。这种技术广泛应用于电视、电脑、手机等电子产品中,是现代电子工业的基 础之一。
真空在科研领域的应用
总结词
真空在科研领域的应用广泛,如真空镀膜、真空热处理、真空电子器件制造等,为科学研究提供了重要的实验手 段和基础条件。
培训系列之2(张世伟)真空工程理论基础
真空中气体的流动
气体流动的状态与特征
湍
流 —
粘滞流 —
过渡流 — 分子流 —
经作者授权,版权归东北大学真空与流体工程研究中心与原作者共有。未经本中心及原著者 同意,任何人或任何单位不得私自拷贝、刻录、传播、转载本讲义,或用于商业用途。
真空中气体的流动
气体流动状态的判别——判据
雷诺数 湍 流
东北大学第八期《真空技术》培训班讲义之二
2011,5.13~2011.5.23
真空工程 理论基础
主讲人:东北大学 张世伟
经作者授权,版权所有归东北大学真空与流体工程研究中心与原作者共有。未经本中心及原著者同意, 任何人或任何单位不得私自拷贝、刻录、传播、转载本讲义,或用于商业用途。
真空的性质与应用
真空的力学性质 真空与大气之间存在压力差约为:
1kgf / cm2 真空力学性质特点:无处不在,而且均 匀恒定,可以作为良好的动力来源。
经作者授权,版权归东北大学真空与流体工程研究中心与原作者共有。未经本中心及原著者 同意,任何人或任何单位不得私自拷贝、刻录、传播、转载本讲义,或用于商业用途。
真空的性质与应用
沸点降低与蒸发加强 在真空中,物质的性质发生变化:液体沸点降低,
蒸发升华加强。 液面上方大气压等于饱和蒸汽压时液体沸腾,同 时飞出液面的分子易于扩散。 如:青藏高原大气压力为380Toor,水的沸点为 80 ℃。铝在一个标准大气压时要2400℃时才能 蒸发,在 10-3 Pa 只要847℃就大量蒸发。
适合于将各个分散物向集中地输送(气压输送恰 好相反)。 使用实例:吸尘器;伦敦的邮政信件传递;粮食、 冶金配料等颗粒物料的输运;等等。
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第二讲:真空物理基础对于任何一种真空产品或一项真空工艺,都有着专门的物理知识作为其工作原理的基础。
但本次讲座所要介绍的,仅仅是那些在真空行业的各个领域中都会经常遇到的最基本的物理知识。
主要包括气体及蒸汽的性质及其内部各种动力过程的规律(空间过程)、气体与固体间的作用规律(器壁过程)以及气体流动的规律。
限于篇幅,每个方面只能作简单的介绍。
一、理想气体定律首先应该说明,本节及以后几节中所介绍的定律和公式,是针对平衡状态下的理想气体得出的。
不过,常温(与室温相比)低压(相对大气压而言)下的各种气体都可以看作是近似程度相当好地理想气体,因此,我们可以放心地把这些定律和公式应用于真空工程的绝大部分计算之中。
这其中包括通常所涉及到的各种气体,甚至于接近饱和的蒸汽(如水蒸汽);也包括各类气体状态过程,甚至于明显的非平衡状态(如气体的流动过程)。
气体的压力p(Pa)、体积V(m3)、温度T(K)和质量m(kg)等状态参量间的关系,服从下述气体实验定律:1、波义耳~马略特定律:一定质量的气体,若其温度维持不变,气体的压力和体积的乘积为常数pV = 常数(1)2、盖·吕萨克定律:一定质量的气体,若其压力维持不变,气体的体积与其绝对温度成正比 V/T = 常数(2)3、查理定律:一定质量的气体,若其体积维持不变,气体的压力与其绝对温度成正比。
p/T = 常数(3)上述三个公式习惯上称为气体三定律。
具体应用方式常为针对由一个恒值过程连结的两个气体状态,已知3个参数而求第4个参数。
例如:初始压力和体积为P1、V1,的气体,经等温膨胀后体积变为V2,则由波义耳--马略特定律,可求得膨胀后的气体压力为P2 = P1V1/V2。
这正是各种容积式真空泵最基本的抽气原理。
4、道尔顿定律:相互不起化学作用的混合气体的总压力等于各种气体分压力之和。
P = P1 + P2+····+ P n (4)这里所说的混合气体中某一组分气体的分压力,是指这种气体单独存在时所能产生的压力。
道尔顿定律表明了个组分气体压力的相互独立和可线性叠加的性质。
5.阿佛加德罗定律:等体积的任何种类气体,在同温度同压力下均有相同的分子数;或者说,在温度同压力下,相同分子数目的不同种类气体占据相同的体积。
1mol任何气体的分子数目叫做阿佛加德罗数,N A = 6.022×1023mol-1。
在标准状态下(p o = 1.01325×105Pa,T o = 0o C),1mol 任何气体的体积称为标准摩尔体积,V o = 2.24×10-2m3mol-1。
根据上述气体定律,可得到反映气体状态参量p、V、T、m之间定量关系的理想气体状态方程:pV = m/M(RT) (5)式中的M为气体的摩尔质量(kg/mol),R为普适气体常数,R=8.31J/(mol·K)。
在已知p、V、T、m四参量中的任意三个量时,可由此式求出另外一个值。
例如气体的质量m = pVM/(RT)一定质量的气体,由一个状态(参量值为p1、V1、T1)经过任意一个热力学过程(不必是恒值过程)变成另一状态(参量值为p2、V2、T2),根据状态方程,可得到关系式:p1V1/T1 = p2V2/T2 (6) 对(5)变换,还可计算单位体积空间内的气体分子数目和气体质量,即气体分子数密度n(m-3)和气体密度p(kg/m3)n = mN A/MV = pN A/RT = p/kT (7)p = m/V = pM/RT (8)系数k = R/N A = 1.38×1023J/K 称为波尔兹曼常数。
二、气体分子运动论基础1. 处于平衡状态的理想气体分子,其热运动速度的分布服从麦克斯韦速度分布定律。
气体分子热运动率介于v~v+dv之间的几率为dN/N = F(v)dv = 4π(m o/2πkT)3/2·exp·(-m o v2/2kT)·v2dv (9) 式中F(v)是速率v(m/s)的连续函数,称为速率分布函数。
m o = M/N A,为一个气体分子的质量(kg)。
利用速率分布函数,可以计算出反映分子热运动强度的三种特征速率。
最可几速率v m是在气体分子所具有的各种不同热运动速度中出现几率最大的速度,即与F(v)最大值相对应的v值;所有气体分子热运动速度的算术平均值叫算术平均速度v;把所有气体分子的速度的平方加起来,然后被分子总数除,再开方就得到均方根速度v s。
它们的计算公式如下:2.理想气体的压力基本公式,将气体分子微观热运动的强弱直接与宏观上的气体压力定量联系起来:P = 1/3(nm o v s2 = 1/3(pv s2) (11)3.气体中一个分子与其它分子每连续二次碰撞之间所走过的路程称为自由程,自由程有长有短,差异很大,但大量自由程的统计平均值却是一定的,称为平均自由程页λ(m)。
单一种类气体分子的平均自由程为(12-见下文)如果是含有k种成份的混合气体,则(13)式中σ是气体分子的有效直径(m),下标l、j分别代表第1、j种气体成份的参数。
还可定义电子和离子在气体中运动的平均自由程λe和λi(m)。
需要强调说明的是,这里所说电子或离子的自由程,是指电子或离子在气体中运动时与气体分子连续二次碰撞间所走过的路程,而没有考虑电子或离子本身之间的碰撞,所以电子和离子平均自由程计算式中出现的都是气体分子的参数,而与电子或离子的空间密度无关。
(14)(15)4.气体分子的某一次自由程取值完全是随机的,但大量自由程的长度分布却服从一定的统计规律。
气体分子自由程大于一给定长度χ的几率为(16)类似地可得出,电子或离子在气体中运动的自由程大于一给定长度χ的几率为(17)(18) 利用这种分布规律,结合平均自由程计算公式(12)~(15),可以计算出做定向运动的粒子束流穿过空间气体时的散失率,或根据所限定的散失率确定空间气体所必须达到的真空度。
例如:一台离子束真空设备中,高能离子流由离子源射向25cm处的靶,若要求离子流与真空室内残余气体分子碰撞的散失率小于5%,那么温度为27o C的残余气体压力应为多少?根据题意,可知当χ=O.25m时,要求P i(λi>χ)≥1%~5%,由(18)式,解出exp(-0.25/λ)≥0.95,则λi≥0.25/(-ln0.95),即λi≥4.87m。
再将此结果代入(15)式得kT/πσ2p≥4.87m;i取空气的分子有效直径σ=3.72 ×10-10m,则要求残余气体压力p≤1.38 ×10-23 ×300/(π×3.722×10-20×4.87),即p≤1.95 ×10-3Pa。
5.关于气体分子对所接触固体表面(如容器壁)的碰撞问题,可以从入射方向和入射数量二方面加以讨论。
若一立体角dw与面积元ds的法线间的夹角为θ,则单位时间内由dw方向飞来碰撞到ds上的气体分子数目dNθ与cosθ成正比,这就是通常所说的余弦定律:(19) 单位时间内碰撞在固体表面单位面积上的气体分子数目称为气体分子对表面的入射率ν(m-2s-1),其计算式为:(20)根据平衡状态的假设,气体分子飞离固体表面时的方向分布及数量应与入射相一致,因此仍可按式(19)、(20)计算。
克努曾余弦反射定律还说明,不论气体分子的入射方向怎样其反射都服从(19)式的余弦规律。
6.如果两个相连通的真空容器温度不同,那么内部气体达到状态平衡时的参数也会有差异。
在低真空条件下,即粘滞流态时,二容器的平衡条件是压力相等,二容器内气体压力、温度及分子数密度间关系为:p1 = p2和n1/n2 = T2/T1 (21)在高真空条件下,即分子流态时,二容器内气体达到动力平衡的条件是在连通处的入射率γ相等,从而有关系:(22)这种由于温度不同而引起气体流动,平衡时产生压力梯度的现象,称为热流逸现象。
它会给真空测量带来误差。
例如某真空电阻炉热场区温度为1800K,通过细管连接的真空规管工作在300K温度下,若规管测得压强为2×10-4Pa,则可由(22)式算得炉内的真实气体压力为(22-1)三、蒸汽所谓蒸汽(又称可凝性气体),是相对于永久气体(或称非可凝性气体)而言的。
对于任何一种气体,都存在有一个临界温度,在临界温度以上的气体,不能通过等温压缩发生液化,称为永久气体;而在临界温度以下的气体,靠单纯增加压力即能使其液化,便是蒸汽。
空间中的蒸汽分子返回到液体内去的过程叫做凝结。
蒸汽的凝结率W[kg/(m2·s)],即单位时间内在单位面积液面上凝结的蒸汽质量,可借助(20)式计算(23)式中α为凝结系数,p v为蒸汽的分压力。
凝结的逆过程,即液体分子飞到空间变成蒸汽的现象,叫蒸发。
单位时间通过单位面积液面蒸发的质量叫蒸发率Gv[kg/(m2·s)]在汽、液共存的条件下,蒸发和凝结现象同时存在,若蒸发率大于凝结率,则宏观上表现为液体的蒸发;若蒸发率小于凝结率,则宏观上表现为蒸汽的凝结;二者相等时,则处于饱和状态,此时空间蒸汽的压力称为对应平衡温度下的饱和蒸汽压p s。
物质的饱和蒸汽压随着温度的升高而增大。
液体的蒸发率与对应温度下的饱和蒸汽压间的关系为(24)此式常用于蒸发镀膜中金属蒸发量的计算。
一种蒸汽的实际压力p v与其对应温度下的饱和蒸汽压p s之比,称为蒸汽当时的饱和度。
作为最常用的一项指标参数,常把空气中水蒸汽的饱和度定义为空气的相对温度,相对温度(%) = p v H20/p s H20 ×100%(25)例如:工程中定义标准环境条件为温度20o C,相对湿度65%,大气压力101325Pa。
已知水蒸汽在20o C时的饱和蒸汽压为2333Pa(17.5托),则可计算出标准环境条件下大气中水的分压力为0.65 × 2333 = 1516Pa(11.375托)。
饱和蒸汽压的存在,是蒸汽有别于理想气体模型的根本之处,也是我们要将蒸汽的性质单独作为一节讨论的原因。
在真空工程中,在蒸汽没有达到饱和之前,即饱和度<1时,我们可以使用前面介绍的理想气体定律和公式来描述蒸汽的性质;而蒸汽一旦达到饱和,情况却大不相同,如果我们对饱和蒸汽继续作等温压缩,蒸汽压力将不再升高而是维持饱和蒸汽压的值不变,即不再服从波义耳--马略特定律,为多余部分的蒸汽将凝聚为液态或固态;反之,在饱和蒸汽与其凝聚相(液态或固态)平衡共存的情况下,对蒸汽作等温膨胀,蒸汽的压力也不会降低,而是其凝聚相不断蒸发或升华来补充蒸汽,直至全部变成蒸汽为止。
饱和蒸汽与其凝聚相间的这种等温相变,尤其是水蒸汽的存在,在真空工程中有着不容忽视的影响。