半导体材料及其基本能带结构
半导体材料的能带结构分析
![半导体材料的能带结构分析](https://img.taocdn.com/s3/m/a1ec092f571252d380eb6294dd88d0d233d43c1b.png)
半导体材料的能带结构分析半导体材料是当今科技发展中至关重要的一部分,它们在电子、通信、光电等领域发挥着重要作用。
要了解半导体的性质和性能,我们需要深入研究其能带结构。
一、能带结构的基本概念能带结构是指固体材料中原子、分子或离子的能级在近邻原子的干扰下形成的能带分布。
它将所有能级按照能量从低到高分布在一定范围内。
通常将处于费米能级以上的能级称为导带,而处于费米能级以下的能级称为价带。
二、半导体材料的能带结构半导体材料的能带结构与其他几类材料有所不同。
对于导体材料,其能带结构中的价带和导带存在重叠,因此电子可以自由地从价带跃迁至导带,并形成电流;对于绝缘体材料,价带和导带之间的能隙非常大,几乎没有电子可以从价带跃迁至导带,因此电流很小。
而半导体材料则介于导体和绝缘体之间,其能隙较小,但不为零,因此在适当条件下,一些电子会从价带跃迁至导带,形成电流。
三、半导体材料的载流子类型导带中的电子可带负电荷,称为自由电子;而因价带中缺失电子而产生的空位则可带正电荷,称为空穴。
在半导体材料中,载流子既可以是电子也可以是空穴。
其中以硅材料最为常见,其能带结构特征明显。
四、掺杂对能带结构的影响通过掺杂,即在半导体材料中引入少量不纯物质,可以显著改变半导体的导电性能。
通常分为n型和p型两种掺杂方式。
1. n型半导体当半导体材料中掺入杂质原子,如砷或磷等,这些杂质原子与原有材料的原子替代位置形成共价键,形成更多自由电子,并且这些自由电子会处于导带中。
因此,n型半导体材料具有更高的导电性能。
2. p型半导体相反,当半导体材料中掺入杂质原子,如硼或铝等,这些杂质原子与原有材料的原子形成新的化学键,留下空位,构成更多的空穴。
因此,p型半导体材料具有更高的导电性能。
通过n型和p型半导体材料的组合,我们可以制造出各种半导体器件,如二极管、晶体管等,这些器件在电子学和通信领域具有重要应用。
五、调控能带结构的方法除了掺杂外,还可以通过调控半导体材料的结构和组合来改变其能带结构,以进一步优化其性能。
半导体材料的能带结构
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半导体材料的能带结构在当今科技发展日新月异的时代,半导体材料作为一种重要的材料在各个领域中发挥着关键作用。
而了解半导体材料的能带结构,对于我们深入理解其特性以及应用具有重要意义。
首先,什么是能带结构呢?简单来说,能带结构是指固体材料中电子能量与其位置之间的关系。
而对于半导体材料而言,其能带结构对于其电导率具有决定性的影响。
半导体材料的能带结构通常由价带和导带组成。
价带是指材料中电子处于最低能量状态的带,其能级较低且电子密度较高。
而导带则是指电子所占据的能级较高,且电子密度较低的带。
对于绝缘体材料而言,价带与导带之间的能隙较大,当外界施加电场时,由于电子无法跃迁至导带中,材料无法导电。
而对于金属材料而言,价带与导带之间的能隙几乎为零,电子可以自由地跃迁至导带中,因此金属具有良好的导电性能。
而半导体材料则处于绝缘体和金属之间的状态。
半导体的能带结构通常具有较小的能隙,当外界施加电场时,可以通过激发电子跃迁至导带中,从而实现导电。
这也是半导体材料在电子器件领域中得以广泛应用的原因之一。
在半导体材料的能带结构中,还有一个值得关注的现象是所谓的“空穴”。
在材料中,电子是带有负电荷的,而当电子从价带跃迁至导带时,原来的位置在价带中留下了一个不带电的缺陷,而这个缺陷被称为空穴。
空穴在半导体器件的工作中起着重要的作用,它们可以在材料中传导电荷,并参与电流的流动。
因此,掌握半导体材料中空穴的行为和运动规律对于理解半导体器件的工作原理具有重要意义。
此外,半导体材料的能带结构还会受到温度的影响。
在常温下,半导体材料的能带结构较为稳定,电子的行为可以由经典的物理学理论来描述。
但在较低的温度下,半导体材料的能带结构会发生变化,电子的行为则需要通过考虑量子力学的理论来解释。
这也解释了为什么有些半导体器件在低温环境下表现出特殊的性能。
综上所述,半导体材料的能带结构是决定其电导率的重要因素之一。
了解半导体材料的能带结构有助于我们理解其特性并应用于各个领域中,如电子器件、光电子学和能源等。
半导体材料中的电子结构与能带论模型
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半导体材料中的电子结构与能带论模型半导体材料是现代电子技术的基石,它们在各种设备中广泛应用,包括计算机、手机、电视等。
要理解半导体材料的性质和行为,首先需要了解其电子结构以及能带论模型。
本文将详细介绍半导体材料中的电子结构和能带论模型的基本概念和原理。
1.电子结构的基本概念电子结构是指描述半导体材料中电子位置和能量分布的方式。
在经典物理学中,电子被看作是粒子,其位置和动量可以同时被确定。
然而,在量子力学中,电子实际上表现出波粒二象性。
根据波动性,电子的位置无法被精确确定,只能通过波函数来描述其存在的概率。
在半导体材料中,电子结构可以通过计算电子的能级来描述。
能级是指电子处于不同能量状态的离散状态。
每个能级上只能容纳一定数量的电子。
半导体材料中的电子能级可以分为价带和导带,它们是能程最低的两个能级。
2.能带论模型的基本原理能带论模型是用来描述半导体材料中电子能量分布的重要理论。
根据这个模型,半导体材料的电子结构可以分为禁带和能带。
禁带是指电子不能占据的能量范围。
在禁带中,不存在可用的电子能级。
禁带上方是导带,其能级较高,允许电子在其中具有自由度。
而禁带下方是价带,其能级较低,只能容纳价电子。
在绝缘体中,禁带宽度很大,导带和价带之间不存在能级,电子无法跃迁。
然而,在半导体中,禁带并不是完全闭合的,它宽度相对较小,允许电子以一定概率跃迁到导带中。
这就是半导体材料在温度较高时具有可导电性的原因。
3.载流子的产生和行为在半导体材料中,载流子是指带电粒子,即电子和空穴。
这些载流子是由外部能量提供的,例如热能或光能。
在半导体材料中,载流子的产生方式有两种:热激发和光激发。
热激发是指载流子通过吸收热能从价带跃迁到导带。
光激发是指通过吸收光能从价带跃迁到导带。
光激发是半导体材料中最重要的载流子产生方式之一,也是光电器件工作的基础。
载流子在半导体中的运动行为受到电子结构的限制。
在导带中,载流子可以随意移动,具有自由度。
半导体材料的电子结构和能带理论
![半导体材料的电子结构和能带理论](https://img.taocdn.com/s3/m/61d1bb7c590216fc700abb68a98271fe910eafc6.png)
半导体材料的电子结构和能带理论半导体材料是一种独特的材料,它在电学特性上介于导体和绝缘体之间。
要理解半导体材料的特性,我们需要研究其电子结构和能带理论。
1. 电子结构的基本概念电子结构指的是材料中电子的分布情况和能级排布。
在半导体材料中,电子受到原子核的吸引力而固定在能级中。
每个原子都有自己的能级,由能量最低的基态电子能级到较高能量的激发态电子能级。
2. 能带理论的基本原理根据能带理论,半导体材料中的电子能级可以分为两个区域:价带和导带。
价带是指最高占据电子能级的区域,而导带是指电子可以自由移动的区域。
两者之间存在一个禁带,即无电子能级存在的区域。
3. 共价键与价带在半导体材料中,原子通过共价键结合在一起形成晶格。
共价键的形成是通过电子在原子间的共享而实现的。
共价键的强度取决于原子之间的距离和原子轨道的匹配程度。
当共价键形成时,原子的电子将占据能量最低的共价键能级,从而形成价带。
4. 杂质和能带当半导体中引入少量的杂质原子时,会对电子结构和能带产生显著的影响。
掺杂分为两类:n型和p型。
n型半导体是指引入能够提供多余电子的杂质原子,使得导带中的电子数量增加。
相反,p型半导体是指引入能够接受电子的杂质原子,使得价带中的电子数量减少。
5. 能带隙与导电性能带隙是指价带和导带之间的能量差。
当容易电子能级的跃迁过程中,电子需要克服足够的能量才能进入导带,这就是能带隙。
能带隙的大小决定了半导体的导电性能。
对于绝缘体,能带隙较大,不容易形成电子跃迁;对于金属,能带隙不存在,导电性很好;而半导体的能带隙适中,介于两者之间。
6. 温度对导电性的影响半导体材料的导电性还受到温度的影响。
根据能带理论,随着温度升高,价带中的电子会获得更多的能量,一部分电子会进入导带中,导致导电性增强。
这就是为什么在室温下,半导体材料的导电性较好。
总结:半导体材料的电子结构和能带理论是研究半导体特性的重要基础。
通过对电子结构和能带的研究,可以更好地理解半导体材料的导电性质和行为。
导体、绝缘体、半导体的能带结构
![导体、绝缘体、半导体的能带结构](https://img.taocdn.com/s3/m/9dcf839dcf84b9d529ea7aa8.png)
体中,价带电子被紧密的束缚在其原子周围。
▲ 一般来说,绝缘体的禁带宽度比较大
Eg 3 ~ 6eV
满带 绝缘体
空带
3. 导体一般有两种能带结构:
A) 价带(价电子)只填入了部分电子 B) 满带与导带(或空带)重叠
4. 半导体
半导体的能带特点: 最高的满带(价带)与最低的空带(激发
态)间的禁带宽度较小。 在外界作用下,有两个结果:
Si
Si
E
导带
施主能级 — —局域能级
Eg
满带
Ei ~ 102 eV
电子型半导体
五价原子砷掺入四价硅中,多余的
价电子环绕 As 离子运动
Si
Si
e
Si Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
As
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
★ P 型半导体:例如,在硅半导体中掺入少量三价元素
Si
电子
e
导带
Eg
e
禁带 满带
空穴
锗晶体中的正常键
Ge
Ge
Ge
Ge
Ge
Ge
Ge
Ge
Ge
电子被激发,晶体中出现空穴
e
e Ge
Ge
Ge
Ge
Ge
Ge
Ge
Ge
Ge
(2) 掺杂半导体: 通过掺入部分杂质,提高半导体的导电性能,改善导电机构。
★ N 型半导体:例如,在硅半导体中掺入少量五价元素
Si
Si
P
理解半导体材料的能带结构与导电性质
![理解半导体材料的能带结构与导电性质](https://img.taocdn.com/s3/m/f831ab511fb91a37f111f18583d049649b660ee1.png)
理解半导体材料的能带结构与导电性质半导体材料是现代电子技术中不可或缺的重要组成部分。
理解半导体材料的能带结构与导电性质对于我们深入了解其工作原理和应用具有重要意义。
本文将从能带结构和导电性质两个方面进行探讨。
一、能带结构能带结构是描述半导体材料电子能量分布的一种模型。
根据量子力学理论,电子在固体中的运动是受限的,只能存在于特定的能级上。
在半导体中,由于原子间的相互作用,电子能级会发生分裂,形成上下两个能带,即价带和导带。
1. 价带价带是指半导体材料中电子处于最低能级的能带。
在价带中,电子的能量较低,电子云较为密集,电子之间的相互作用较强。
由于电子填满了所有可用的能级,所以价带中的电子无法自由移动,因此价带中的电子不能导电。
2. 导带导带是指半导体材料中电子能量较高的能带。
在导带中,电子的能量较高,电子云较为稀疏,电子之间的相互作用较弱。
导带中的电子可以自由地移动,因此导带中的电子具有导电性。
3. 禁带禁带是指价带和导带之间的能量间隙。
在禁带中,没有能级可供电子占据,因此禁带中没有电子存在。
禁带的宽度决定了半导体材料的导电性质,宽禁带的半导体材料通常是绝缘体,而窄禁带的半导体材料则可以表现出导电性。
二、导电性质半导体材料的导电性质与其能带结构密切相关。
根据半导体材料的导电性质,可以将其分为P型半导体和N型半导体。
1. P型半导体P型半导体是指在纯净半导体基础上通过掺杂杂质原子(如三价元素硼)而形成的半导体材料。
掺杂杂质原子的电子结构与半导体材料的能带结构不匹配,导致在价带中形成了缺电子的空穴。
这些空穴可以看作是正电荷的载流子,因此P型半导体中主要是空穴参与导电。
2. N型半导体N型半导体是指在纯净半导体基础上通过掺杂杂质原子(如五价元素磷)而形成的半导体材料。
掺杂杂质原子的电子结构与半导体材料的能带结构不匹配,导致在导带中形成了额外的自由电子。
这些自由电子可以自由移动,因此N型半导体中主要是自由电子参与导电。
第一章 半导体的物质结构和能带结构
![第一章 半导体的物质结构和能带结构](https://img.taocdn.com/s3/m/d5ba26469e3143323868937e.png)
各种半导体的构成元素大多位于元素周期表中居中的位置, 其构成元素的电负性(化合物半导体的平均电负性)属中等水平。
二、共价结合与正四面体结构
• 1、原子排列近程序的3个基本要素
•
配位数、键长和键角
• 2、共价结合的配位数
• 元素型共价键晶体的配位数遵从8-N法则;
• 化合物型共价键晶体的配位数等于其平均价电子数。
He 3.58 Ne 4.44 Ar 3.46 Kr 3.24 Xe 3.02 Rn 3.0
Na 0.72 Cu 0.79 Ag 0.57 Au 0.64
(Phillips尺度考虑了价电子的屏蔽) Mg 0.95 Al 1.18 Si 1.41 P 1.64 S 1.87 Zn 0.91 Ga 1.13 Ge 1.35 As 1.57 Se 1.79 Cd 0.83 In 0.99 Sn 1.15 Sb 1.31 Te 1.47 Hg 0.79 Tl 0.94 Pb 1.09 Bi 1.24
一些元素的电负性 (Pauling尺度)
B 2.0 Al 1.5 Ga 1.6 In 1.7 Tl 1.8
C 2.5 Si 1.8 Ge 1.8 Sn 1.8 Pb 1.8
N 3.0 P 2.1 As 2.0 Sb 1.9 Bi 1.9
O 3.5 S 2.5 Se 2.4 Te 2.1
F 4.0 Cl 3.0 Br 2.8 I 2.3
第一章 半导体的物质结构和能带结 构
§1.1 半导体的晶格结构和结合性质
• 固态晶体具有多种结晶形态,分属7大晶系14种类型。结 晶半导体大多数属于立方(cubic)晶系和六方(Hexagon)晶 系,且都是四面体(tetradron)结构。只有少数半导体具有 其他结构。
半导体材料中的能带结构和载流子输运机制
![半导体材料中的能带结构和载流子输运机制](https://img.taocdn.com/s3/m/beeeaf6b7275a417866fb84ae45c3b3566ecdd4f.png)
半导体材料中的能带结构和载流子输运机制半导体材料在现代科技中扮演着至关重要的角色,广泛应用于电子器件、光电子器件等领域。
要理解半导体材料的性质和性能,我们需要研究半导体材料中的能带结构和载流子输运机制。
一、能带结构能带结构是描述物质中电子能级分布的一种模型。
对于半导体材料来说,能带结构由价带和导带组成。
1. 价带:价带是能量较低的带,其中填满了电子。
在固体中,原子间的电子交互作用使得原子能级分裂成离散的能带,在固体中表现为连续的能量带。
价带中的电子处于较稳定的状态,不易被激发到导带。
2. 导带:导带是能量较高的带,其中没有电子。
当外界能量作用于原子或者晶格时,电子可获得足够的能量从价带跃迁到导带。
导带中的电子具有较高的能量,容易参与导电过程。
半导体的能带结构与金属和绝缘体有所不同。
金属中,价带与导带重叠,使得电子能够自由移动,导电性能好;而绝缘体中,价带与导带之间存在较大的能隙,电子能量不足以跃迁到导带,因此其导电性能很差。
半导体的能带结构介于金属和绝缘体之间,存在较小的能隙,能够通过适当的能量激发将电子从价带跃迁到导带,从而实现电子的导电。
二、载流子输运机制载流子是指电子和空穴,它们是半导体材料中的导电粒子。
载流子的输运过程影响着半导体材料的导电性能。
1. 电子输运:电子由外界电场驱动,从一个位置向另一个位置移动。
在半导体中,电子的输运通常分为漂移和扩散两种情况。
漂移是指电场作用下,电子沿着电场方向移动,与杂质或晶格碰撞,导致速度减小;扩散是指电子在浓度梯度作用下,从高浓度区域向低浓度区域扩散。
电子输运的基本原理可以用经典电动力学和半导体物理学中的牛顿第二定律和欧姆定律描述。
2. 空穴输运:空穴是电子跃迁到导带中留下的一个“空位”,在半导体材料中的移动过程也被称为空穴的输运。
空穴的运动类似于正电荷的运动。
当外界电场作用于半导体材料时,空穴会受到电场力的驱动,从一个位置移动到另一个位置。
空穴的输运过程中,同样存在漂移和扩散两种情况。
半导体能带结构解析
![半导体能带结构解析](https://img.taocdn.com/s3/m/12a89c39f56527d3240c844769eae009581ba2c0.png)
02
施主掺杂会增加导带的有效电子状态密度,提高电子的浓度,
而受主掺杂则相反。
通过控制掺杂的种类和浓度,可以实现对半导体能带结构的调
03
控,进而优化其性能。
压力
01
压力可以改变半导体的晶格常数和原子间距,从而影
响其能带结构。
02
在高压条件下,半导体能带结构会发生弯曲和重叠,
导致电子半导体能带结构的影响因 素
温度
随着温度的升高,半导体能带中的电子被激发到 导带,导致费米能级上升,导电性能增强。
温度变化会影响半导体的热激发过程,从而影响 其电学性能和光学性能。
温度对半导体能带结构的影响是温度依赖性的, 因此需要在特定温度下研究半导体的性质。
掺杂
01
掺杂可以改变半导体的能带结构和电子状态,从而改变其电学 和光学性质。
的激发态。
特性
02
导带中的电子具有较高的能量,移动较为容易,是半导体导电
的主要来源。
影响
03
导带的能量位置和宽度决定了半导体的导电性能和光吸收性质。
禁带
定义
禁带是价带和导带之间的 能量范围,代表电子从价 带跃迁到导带所需的能量。
特性
禁带的宽度决定了半导体 的光电性能和热电性能。
影响
禁带的宽度对半导体的应 用范围和性能具有重要影 响。
03
在半导体中,由于能带间隙的存在,热电子不易散射,因此 热导率较高。
06 能带结构在半导体技术中 的应用
电子器件
晶体管
能带结构决定了半导体的导电性能,是 制造晶体管等电子器件的基础。通过调 整能带结构,可以控制电子的流动,从 而实现信号放大、开关等作用。
集成电路
集成电路中包含多个晶体管和其他电 子元件,能带结构的研究对于理解集 成电路的工作原理、优化设计以及提 高性能具有重要意义。
5-1半导体材料及其基本能带结构
![5-1半导体材料及其基本能带结构](https://img.taocdn.com/s3/m/8c51f574561252d380eb6ed3.png)
3. 半导体的带隙
被束缚的电子要成为自 由电子,就必须获得足 够能量从而跃迁到导带 ,这个能量的最小值就 是带隙(禁带宽度)。
导带
禁带
h
价带
Ec Eg
Ev
禁带宽度是半导体的一个重要特征参量,其大小主要决定于半 导体的能带结构,即与晶体结构和原子的结合性质等有关。 禁带宽度对于半导体器件性能的影响是不言而喻的,它直接决 定着器件的耐压和最高工作温度。 (金刚石、BJT)
即可以简单关系式表示晶体中,受到原子核周期性势场影 响的电子能量。
半导体的基本能带结构 三. 带边有效质量
一模一样 的球
模拟说明
两个容器中之球落底时间不同,这是因 为浮力不同。换个方向思考,将球落底 所受的力只想成重力,不去计算浮力问 题,可想成两个容器中球的质量不同, 才造成落地时间不同。
水
油
同理,自由电子与晶体中电子所受的力场不同,所以能量不 同,但晶体中的力场不易得知,故换个想法,将晶体中质量 修正为有效质量,则可不直接处理力场的问题,因此自由电 子的相关公式皆可使用。 有效质量是将周期性势场对电子的作用考虑了进去,电子在 晶体中远动时可以看作是质量为mn*的自由电子。
室温电阻率: 导 体: <10-4 · cm 【例如: 铜 10-6 · cm】; 半导体:10-3 · cm<<108 · cm 【锗 0.2 · cm】; 绝缘体: >108 · cm【玻璃1010~ 1014 · cm 】。
半导体材料的电阻率对其杂质含量、环境温度、以及光照、 电场、磁场、压力等外界条件有非常高的灵敏性——可控。
曲线越”胖”,曲率越小,有效质量越大。 曲线越”瘦”,曲率越大,有效质量越小。
通过在晶体中引入应变来改变能带结构, 可降低有效质量和减小散射几率,以达到提高 载流子迁移率的目的——应变工程
半导体材料的能带结构演化分析
![半导体材料的能带结构演化分析](https://img.taocdn.com/s3/m/44b9295e6ad97f192279168884868762caaebba7.png)
半导体材料的能带结构演化分析近年来,半导体材料在电子、光电子等领域得到了广泛应用。
而半导体材料能带结构的演化分析对于深入理解其性质和应用至关重要。
本文将介绍半导体材料能带结构的基本概念,以及在不同情况下的演化过程和影响因素。
1. 半导体材料能带结构的基本概念能带结构是描述半导体材料中电子能级的分布情况的概念。
在晶体中,电子的能量状态被分为多个能级,这些能级可以形成一个连续的能带。
能带中被占据的能级称为价带,未被占据的能级称为导带。
半导体材料中的能带结构通常包括价带和导带之间的能隙,这决定了材料的导电性质。
2. 半导体材料能带结构的演化过程在不同条件下,半导体材料的能带结构会发生演化。
例如,当温度升高时,能带之间的能隙会变窄,这是由于热能的影响导致原子振动增加,使得电子占据的状态更加分散。
这种情况下,半导体的导电性会增加。
另外,当施加外加电场或光照时,也会导致半导体材料能带结构的演化。
外加电场会引起能带的倾斜,导致能隙变化,进而影响导电性。
而光照则会引起能带的激发和电子跃迁,改变能带填充状态,从而改变导电性质。
3. 影响半导体材料能带结构演化的因素半导体材料能带结构的演化受到多种因素的影响。
首先是晶体结构的性质,不同的晶体结构会影响材料的晶格常数和维度,进而影响能带的分布和能隙的大小。
其次是杂质和缺陷的存在,这些会引起能带的改变和散射,影响导电性质。
此外,外加电场、光照等外界条件也会对能带结构产生重要影响。
4. 应用分析半导体材料的能带结构演化分析对于应用非常重要。
例如,在电子器件中,了解半导体材料的能带结构演化可以确定最佳工作条件,提高器件性能。
另外,在太阳能电池等光电子器件中,能带结构的演化分析可以帮助优化能源转换效率。
总之,半导体材料的能带结构演化分析是一个重要而复杂的研究领域。
通过对能带结构的深入研究和分析,可以更好地理解半导体材料的性质和应用,为科学研究和技术进步提供支持。
未来随着新材料和新技术的涌现,对半导体材料能带结构演化的研究将会变得更加重要和有意义。
半导体的基本能带结构
![半导体的基本能带结构](https://img.taocdn.com/s3/m/4b4b2e145022aaea988f0fc6.png)
光子的能量满足
长波极限
2c
Eg
0
2c
Eg
—— 本征吸收边,发生本征光吸收的最大光的波长
07_01_半导体的基本能带结构 —— 半导体电子论
本征边附近光的跃迁 1) 竖直跃迁 —— 直接带隙半导体 k空间电子吸收光子从价带顶部 跃迁到导带底部
状态
满足能量守恒
满足准动量守恒的选择定则
k ' k pphoton
价带顶部电子的波矢
光子的波矢
07_01_半导体的基本能带结构 —— 半导体电子论
准动量守恒的选择定则 —— 跃迁的过程中,电子的波矢可以看作是不变的 在能带的图示上,初态和末态 几乎在一条竖直线上,价带顶 和导带底处于k空间的同一点 —— 称为竖直跃迁 —— 直接带隙半导体 直接带隙半导体
07_01_半导体的基本能带结构 —— 半导体电子论
2) 非竖直跃迁 —— 间接带隙半导体 k空间电子吸收光子从价带顶部 跃迁到导带底部 状态
且
过程满足能量守恒
—— 单纯吸收光子不能使电 子由价带顶跃迁到导带底, 电子在吸收光子的同时伴随 着吸收或者发出一个声子
能量守恒 Ek
07_01_半导体的基本能带结构 —— 半导体电子论
间接带隙半导体
零带隙半导体 —— 带隙宽度为零
07_01_半导体的基本能带结构 —— 半导体电子论
—— 半导体带隙宽度和类别可以通过本征光吸收进行测定 —— 用电导率随温度的变化来测定
电子-空穴对复合发光 本征光吸收的逆过程 —— 导带底部的电子跃迁 到价带顶部的空能级,发出 能量约为带隙宽度的光子
07_01_半导体的基本能带结构 —— 半导体电子论Biblioteka §7.1 半导体的基本能带结构
半导体材料的能带结构与光电性能
![半导体材料的能带结构与光电性能](https://img.taocdn.com/s3/m/181f567d366baf1ffc4ffe4733687e21ae45ff48.png)
半导体材料的能带结构与光电性能半导体材料是一类重要的材料,在电子器件和光电器件中具有广泛的应用。
这些材料的特殊性质与其能带结构和光电性能密切相关。
半导体材料的能带结构是指在能级分布图中,能量与电子能级之间的关系。
在固体中,电子的能量级可以分为两种:价带和导带。
价带是指电子能量较低的带,其中填满了大量的电子。
导带是指电子能量较高的带,其中没有或只有少量电子。
在能带之间的间隙称为带隙,带隙的大小决定了材料的导电特性。
半导体材料的能带结构具有多样性。
最简单的半导体是硅材料,其能带结构由价带和导带组成,它们之间的能带隙较大,约为1.1电子伏特。
这决定了硅材料在室温下几乎不导电,需要外加能量才能激发电子跃迁至导带中。
相比之下,其他半导体材料的能带结构可能更加复杂。
例如,镓砷化物具有窄带隙,约为1.42电子伏特,因此在室温下就能实现电流的导通。
而铜铟镓硒等化合物则表现出较大的带隙,适用于太阳能电池等高效光电器件。
除了能带结构之外,半导体材料的光电性能也是其重要特性之一。
光电性能指的是材料对光的响应和转换能力。
在光照射下,半导体材料的电子会被光子激发,从价带跃迁至导带,形成电子空穴对。
电子空穴对的产生使得材料具有导电性,可以用于电子器件的制造。
此外,半导体材料还能发生光致发光和光致发射现象。
光致发光是指在外加电场或光照射下,半导体材料发出可见光或近红外光。
这种现象的应用广泛,例如LED灯和激光器等。
而光致发射则是指在光照射下,半导体材料从导带向价带跃迁,释放出能量,产生电子或声子等。
这种现象可以用于红外传感器和光电探测器等光电器件。
半导体材料的能带结构与光电性能之间存在着密切的关系。
能带结构决定了材料的导电特性和能带隙大小,而光电性能则取决于材料对光的吸收和发射能力。
通过调控能带结构和光电性能,可以使半导体材料在不同领域发挥出更加优化的性能。
例如,在太阳能电池中,通过调整材料的能带结构,可以使其对可见光和红外光的吸收能力增强,从而提高光电转换效率。
半导体材料中的能带理论
![半导体材料中的能带理论](https://img.taocdn.com/s3/m/18b864e15122aaea998fcc22bcd126fff7055d14.png)
半导体材料中的能带理论半导体是一种介于导体和绝缘体之间的材料,它具有介电常数较大、禁带宽度较小的特点,使得半导体具备了一些独特的物理和电学特性,因此在现代电子工业中得到了广泛的应用。
而能带理论是描述半导体材料电学特性的关键理论,本文将简要介绍半导体材料中的能带理论。
一、能带结构半导体中的电子能量是量子化的,只能取离散值,禁带是能带间,其中不存在任何能态。
禁带的带宽被称为“禁带宽度”,半导体的禁带宽度一般在0.2~2.0电子伏之间。
半导体的能带结构也称作“布拉格结构”,包括导带和价带两部分。
从能量低到高,能带结构可分为:价带、禁带、导带、导带。
二、载流子和掺杂载流子是真正实现能量传递的物体,也是半导体材料的一种重要特性。
载流子分为电子和空穴两种。
在半导体中,掺杂是引入杂质来改变半导体本身的电性。
掺杂主要分为施主和受主掺杂,施主掺杂通常是弥散的五价元素掺杂,受主的通常是弥散阴离子掺杂。
三、费米能级和掺杂材料的禁带结构在空间一个位置处电子密度恒定的状态被称为“热平衡状态”,在半导体中热平衡载流子的分布可以通过费米-狄拉克分布函数进行描述。
费米能级(Ef)是所有热平衡载流子都能够达到的电势能量较低的状态的能量,它随着原子间距的变化而变化。
掺杂后半导体中添加施主或受主材料时禁带宽度会发生变化,这是由于新材料原子与原有的原子有轻微区别的缘故,而原有原子间距改变,进而导致费米能级位置变化。
四、载流子的电子迁移和复合半导体中载流子的运动与电子迁移有关,载流子沿电场方向迁移而形成电流。
复合是指电子和空穴重新结合而减少载流子浓度的过程。
在复合过程中会释放出能量,这种能量可以是光子或声子。
复合速率决定了半导体的响应速度,它与载流子浓度直接相关,即浓度越高,复合速率越快。
五、PN结和半导体激光器PN结是一种由P型半导体和N型半导体组成的电子器件。
这种器件中,N型半导体中的自由电子与P型半导体中的空穴相遇,产生复合,导致带电粒子互相抵消,形成绝缘带区,这就形成了PN结。
第六章半导体的物质结构和能带结构
![第六章半导体的物质结构和能带结构](https://img.taocdn.com/s3/m/a872c7517ed5360cba1aa8114431b90d6c8589a5.png)
第六章半导体的物质结构和能带结构第6章异质结和纳米结构1、试讨论用窄禁带n 型半导体和宽禁带p 型半导体构成的反型异质结中的能带弯曲情况,画出能带图。
答:2、仿照第4章对pn 同质结的讨论方法,完成突变pn 异质结接触电势差表达式(6-5)和势垒区宽度表达式(6-7)的推导过程。
解:设p 型和n 型半导体中的杂质都是均匀分布的,其浓度分别为N A1和N D2。
势垒区的正负空间电荷去的宽度分别为(x 0-x 1)=d 1,(x 2-x 0)=d 2。
取x=x 0为交界面,则两边势垒区中的电荷密度可以写成-=<<-=<<22201101)(,)(,D A qN x x x x qN x x x x ρρ 势垒区总宽度为211002)()(d d x x x x X D +=-+-=势垒区的正负电荷总量相等,即Q x x qN x x qN D A =-=-)()(022101Q 就是势垒区中单位面积上的空间电荷数值。
因此上式可以简化为120210)()(A D N N x x x x =-- 设V(x)代表势垒区中x 点得电势,则突变反型异质结交界面两边的泊松方程分别为)()(0111212x x x qN dx x V d A <<=ε )()(2022222x x x qN dx x V d D <<=ε ε1ε2分别为p 型及n 型半导体的介电常数。
对以上两式分别积分一次得)()(011111x x x C x qN dx x dV A <<+=ε )()(202222x x x C x qN dx x dV D <<+=ε C1‘C 2是积分常数,有边界条件决定。
因势垒区外是电中性的,电场集中在势垒区内,故边界条件为0)(1111=-==x x dx dV x E0)(2222=-==x x dx dV x E注意,在交接面处的电场并不连续,但电位移连续[即)()(022011x E x E εε=]。
半导体的基本能带结构及杂质和缺陷
![半导体的基本能带结构及杂质和缺陷](https://img.taocdn.com/s3/m/e6f991ee172ded630b1cb646.png)
当光照射到半导体时,价带中的电子就会吸收光子的能量而跃迁到导带中,这个过程称为本征光吸收。本征光吸收的光子能量必须满足
上式表明存在有长波限
即为本证吸收边。在本证吸收边附近的光跃迁有两种类型,而直接间隙半导体和间接间隙半导体正是根据这两种不同类型的跃迁定义的。
.导带底与价带顶在k空间中的相同位置,当电子吸收光子能量从价带顶的k态跃迁导带底的k’态,其准动量守恒定律为:
【一】半导体中电子的共有化状态(半导体的基本能带结构)
半导体的能带与导体绝缘体的区别。
虽然所有固体都包含大量的电子,但有的具有很好的电子导电的性能,有的则基本上观察不到任何电子导电性,这一基本事实曾长期得不到解释。在能带理论的基础上,首次对为什么有导体,绝缘体和半导体的区分提出了理论上的说明,这是能带论发展初期的一个重大成就。所以我们先讨论一下导体半导体绝缘体能带的区别。
另一种情形为,半导体的能隙比较小,在能隙中存在着由低价杂质元素产生的新能级。热激活足以使费米能级上的电子跃迁到杂质能级,从而在价带中留下电子空穴。于是在外电场作用下,通过价带中电子空穴的迁移也产生电流。由于电子空穴的行为类似于带正电荷的粒子,故这类半导体称为P型半导体,而杂质原子即为受主原子。
(3)按杂质能级在禁带中所处位置,可分为浅能级杂质和深能级杂质;
(二)、缺陷:晶格原子的周期性结构受到破坏(晶格结构的不完整)。
半导体材料的能带结构
![半导体材料的能带结构](https://img.taocdn.com/s3/m/507f5068e3bd960590c69ec3d5bbfd0a7956d589.png)
半导体材料的能带结构半导体材料的能带结构:探索微观世界的奇妙之旅引言:在当代科技高速发展的背景下,半导体材料成为了现代电子器件的基础。
半导体材料中的能带结构是理解其物理特性的关键。
本文将深入探讨半导体材料的能带结构,带您进入微观世界的奇妙之旅。
一、能带结构的概念当我们将目光投向一个半导体晶体时,我们会发现它由许多原子组成的晶格构成。
而这些原子中的电子则处于不同的能级上。
当晶体被激发或加热时,电子将跃迁至不同的能级,这种能级之间的转变便形成了能带结构。
二、价带与导带:电子的行为取决于能带结构半导体材料中的能带结构分为价带和导带。
价带中的电子受束缚,行为相对受限。
而导带中的电子则具有相对自由的运动能力。
这种区别决定了半导体材料的导电性能。
三、能带间隙:半导体与绝缘体的界限半导体材料与绝缘体之间的主要区别在于能带间隙。
能带间隙指的是价带与导带之间的能量差异。
当能带间隙较小时,电子很容易通过外界的激励跃迁至导带中,形成导电性。
而当能带间隙较大时,电子很难克服这一差距,从而形成绝缘体的特性。
四、半导体材料类型的能带结构表现1. 本征半导体:本征半导体是指未掺杂的纯净半导体材料。
正如其名,本征半导体的能带结构类似于纯净的半导体材料,价带与导带之间的能隙相对较小。
2. N型半导体:N型半导体由P型掺杂材料中掺入杂质而形成,掺入的杂质通常是具有多余电子的元素。
由于杂质原子中的额外电子,N型半导体的导带中会出现额外的电子,提高了导电性。
3. P型半导体:P型半导体则相反,是由N型掺杂材料中掺入杂质而形成,这些杂质通常是具有少一个电子的元素。
由于杂质原子中的缺失电子,P型半导体的导带中会出现额外的空穴,影响了导电性。
五、半导体材料的应用半导体材料具有很多重要的应用领域。
首先,我们熟悉的晶体管就是基于半导体材料的产物。
通过控制半导体材料中的能带结构,晶体管可以实现电流的控制和放大。
另外,半导体材料还广泛应用于光电子学领域。
物理化学中的电子能带结构和半导体材料
![物理化学中的电子能带结构和半导体材料](https://img.taocdn.com/s3/m/d6f2fda8dbef5ef7ba0d4a7302768e9951e76e6d.png)
物理化学中的电子能带结构和半导体材料电子能带结构和半导体材料在物理化学中是一个丰富的话题。
本文将介绍这个领域的一些主要内容,并探讨它们在科学研究和工业应用中的意义和前景。
一、电子能带结构的基本概念电子能带结构是指固体中电子能量的分布情况。
在一个晶体中,由于硬球近似下的电子之间的相互作用和周期性重复的晶格结构,导致电荷密度、电荷流动和能量分布都受到晶体结构的严格限制。
因此,能量分布呈现出阶梯状的分布规律,形成所谓的能带。
类似音乐中的音阶,电子也可以在各个能带中运动。
电子能带结构对固体的物理性质起着重要作用,例如电导性、热导性、光学性质、磁学性质等都与能带结构有关。
由此,电子能带结构也是材料科学的核心内容之一。
二、半导体材料的特点与应用半导体是指电导性介于导体和绝缘体之间的物质。
与导体相比,半导体具有以下特点:1. 在室温下的电阻率较高,但随温度升高而减小;2. 在绝缘体和导体之间存在能隙,即在能带中有一段能量范围内无法存在电子,极化率低,其热膨胀系数也相当低;3. 当半导体处于高温或受到外界电场的作用时,会发生电离现象,即某些材料中的原子可以失去或获得一个电子,形成自由电子和空穴。
半导体材料的应用非常广泛。
它们可以用来制造晶体管、光电器件、太阳能电池板、发光器件和电子存储器等,其中最著名的就是计算机芯片。
三、半导体材料的能带结构半导体材料的电子能带结构和晶体体系有关。
最简单的情况是二元化合物,例如氧化锌(ZnO)或氧化硅(SiO2)。
这些材料的晶格实际上是由两种简单的构件,相互连接而成的。
当这些构件在空间上排列成周期性结构时,会形成三种晶体类型:立方晶系、六方晶系和四方晶系。
半导体材料的能带分为价带和导带。
价带是在绝缘体物质中存在价电子的最高能带,它表示具有低能量的电子占据可以促进材料的导电性。
而导带是第一个具有可空能态的电子带。
当外部能量提高,电子可以跃迁到导带中,从而形成导电。
半导体采用多种方法控制能量差,例如在半导体中掺杂杂质、施加电场或通过热电子激发等方法控制。
半导体材料能带结构理论及其在电子学中的应用
![半导体材料能带结构理论及其在电子学中的应用](https://img.taocdn.com/s3/m/08f7ebeb294ac850ad02de80d4d8d15abe23002a.png)
半导体材料能带结构理论及其在电子学中的应用引言:半导体材料在现代电子学中发挥着重要作用,其能带结构理论是理解和解释其电子性质的基础。
本文将探讨半导体材料的能带结构理论以及其在电子学中的应用。
1. 能带结构理论的基本原理半导体材料的能带结构理论是基于固体中电子的能量分布。
根据量子力学理论,电子在晶格中的运动被描述为波动函数,而这些波动函数会在晶体中形成能量分布区域,即能带。
半导体材料的能带结构由价带和导带组成。
价带是能量最低的带,其中填满了电子。
导带则是能量较高的带,其中没有或仅有少量电子。
对于半导体材料来说,导带和价带之间存在一个带隙,能量差异较大,能够阻碍电子的传输。
这个带隙的大小是半导体材料的重要参数,决定了其导电性质。
2. 半导体的类型根据价带和导带之间的带隙大小,半导体材料可以分为两类:直接带隙半导体和间接带隙半导体。
直接带隙半导体的能带结构中,导带和价带在动量空间中交叉。
由于电子的动量守恒,电子在吸收或放出能量的过程中,不仅需要改变能量,还需要改变动量。
这使得直接带隙半导体在光学和激光器等领域有着广泛的应用。
间接带隙半导体的能带结构中,导带和价带在动量空间中不交叉。
在能带间的跃迁中,电子不仅需要改变能量,还需要改变动量,因此发生的概率较低。
这使得间接带隙半导体在电子器件中的应用相对较少,但在光电转换和太阳能电池等领域仍有重要作用。
3. 应用领域半导体材料的能带结构理论在电子学中具有广泛的应用。
3.1. 半导体器件半导体材料的能带结构理论为半导体器件的设计和制造提供了基础。
例如,半导体二极管和晶体管使用了半导体材料的特性来控制电流的流动,实现电子的放大和开关控制。
能带结构理论可以帮助我们理解这些器件的工作原理,并优化其性能。
3.2. 光电子学半导体材料的能带结构理论在光电子学中有着广泛的应用。
半导体光电二极管可以将光信号转换为电信号,用于光通信和光电传感器等领域。
能带结构理论不仅可以解释光电二极管的工作原理,还可以指导材料的选择和器件的设计。
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半导体的基本能带结构
一. 半导体材料
5. 半导体材料的应用
信息处理与存储
信息感测
通信、雷达
显示
半导体照明
半导体的基本能带结构
太阳能电池、热电转换
一. 半导体材料
半导体的 性质与用途
电子运动 的多样化
半导体的 能带结构
能带工程
能带裁剪 杂质工程 应变工程 缺陷工程
……
半导体基本能带结构
为浮力不同。换个方向思考,将球落底
所受的力只想成重力,不去计算浮力问
题,可想成两个容器中球的质量不同,
才造成落地时间不同。
水
油
同理,自由电子与晶体中电子所受的力场不同,所以能量不 同,但晶体中的力场不易得知,故换个想法,将晶体中质量 修正为有效质量,则可不直接处理力场的问题,因此自由电 子的相关公式皆可使用。
超高速、低功耗、低噪音器件和电路,光电子器件和光电集成 增大晶体直径(4~6 inch) 、提高材料的电学和光学微区均匀性 超晶格、量子阱材料
❖ 第三代半导体,宽禁带半导体(以GaN,SiC,ZnO,金
刚石等为代表)
高频大功率、耐高温、抗辐照半导体微电子器件和电路
❖ 新型半导体,以稀磁半导体,低维半导体等为代表
迁的概率要小得多
半导体的基本能带结构
二. 半导体的带隙
3. 半导体的带隙
电子-空穴对复合发光
半导体的基本能带结构
二. 半导体的带隙
Tips
带隙是半导体重要的物理参数
导电性 器件耐压 工作温度 发光 光吸收
带隙的确定、直接带隙与间接带隙
5.1 半导体及其基本能带结构
一. 引言——半导体 二. 半导体的带隙 三. 带边有效质量
半导体的基本能带结构
一. 半导体材料
4. 半导体材料的发展趋势
材料体系的发展 ❖ 第一代半导体,元素半导体(以Si和Ge为代表):
晶圆尺寸越来越大(8~12inch) 、特征线宽越来越小(32nm) SOI、GeSi、Strain Silicon,high K栅介质
❖ 第二代半导体,化合物半导体(以GaAs,InP等为代表)
带边有效质量
2. 带边有效质量
一般半导体中的载流子,往往就是处在能带底(电子)或 能带顶(空穴)附近,故都可以采用有效质量概念。
E P2 2k2 2mn* 2mn*
mn *(2p E22)1( 122kE22)1
可由能带图(E-P图或E-k图)的曲率倒数求得。
曲线越”胖”,曲率越小,有效质量越大。 曲线越”瘦”,曲率越大,有效质量越小。
F mn*a eE
a
eE mn*
eE mn*
eE m*p
半导体的基本能带结构
由左式分析,可知价带的电子 (具有负的有效质量)运动行 为可视为带正电的粒子(具有 正的有效质量),此带正电的 粒子即为空穴,其有效质量以
mp*表示。-mn*=mp*
三. 带边有效质量
3. 有效质量的测量——回旋共振
+4
+4
+4
导带 禁带Eg
+4
+4
+4
价带
自由电子定向移动
形成外电子电流场E
束缚电子填补空穴的 定向移动形成空穴流
半导体的基本能带结构
对硅(sp3):成键态——价带 反键态——导带
二. 半导体的带隙
空穴
价带上的电子由于本征激发跃迁到导带上,留下一个空 着的状态。这个在几乎充满的能带中未被电子占据的空量 子态称为空穴。
间接带隙
二. 半导体的带隙
3. 半导体的带隙
直接带隙与间接带隙
直接带隙
间接带隙
❖ 价带的极大值和导带的极 ❖ 价带的极大值或导带的极 小值都位于k空间的原点上 小值不位于k空间的原点上
❖价带的电子跃迁到导带 时,只要求能量的改变, 而电子的准动量不发生变 化——直接跃迁
❖价带的电子跃迁到导带 时,不仅要求电子的能量 要改变,电子的准动量也 要改变——间接跃迁
3. 半导体的带隙
导带
禁带
h
价带
被束缚的电子要成为自
由电子,就必须获得足
Ec Eg
够能量从而跃迁到导带 ,这个能量的最小值就 是带隙(禁带宽度)。
Ev
禁带宽度是半导体的一个重要特征参量,其大小主要决定于半 导体的能带结构,即与晶体结构和原子的结合性质等有关。
禁带宽度对于半导体器件性能的影响是不言而喻的,它直接决 定着器件的耐压和最高工作温度。 (金刚石、BJT)
回旋共振法用途
推测或验证材料的能带结构,确定能谷在布里渊区的哪 些对称轴上 。
测定电子和空穴和有效质量(各向同性,各向异性)
❖ 等能面为球面(m*为各向同性)时情况
在恒定外磁场中,晶体中的电子(或空穴)将作螺旋运动
,回转频率:0 = qB/mn*。
若在垂直于磁场方向加上频率为ω 的交变电场,当ω=ω0 时,交变电场的能量将被电子共振吸收,这个现象称为回旋 共振。
固体理论
第五章 半导体电子论 Electron theory of semiconductor
微电子与固体电子学院 朱俊
5.1 半导体及其基本能带结构
一. 半导体材料 二. 半导体的带隙 三. 带边有效质量
1. 半导体的定义
半导体是电阻率介于导体和绝缘体之间,并且具有
负的电阻温度系数(NTC)的材料。
P2 2k2
E
2m0 2m0
将其中的自由电子质量修正成 mn*(电子在晶体中的有效 质量),则以上公式 变为 E P2 2k2 2mn* 2mn*
即可以简单关系式表示晶体中,受到原子核周期性势场影
响的电子能量。
半导体的基本能带结构
三. 带边有效质量
一模一样
模拟说明
的球
两 <10-4 ·cm 【例如: 铜 10-6 ·cm】; 半导体:10-3 ·cm<<108 ·cm 【锗 0.2 ·cm】; 绝缘体: >108 ·cm【玻璃1010~ 1014 ·cm 】。
半导体材料的电阻率对其杂质含量、环境温度、以及光照、 电场、磁场、压力等外界条件有非常高的灵敏性——可控。
半导体的基本能带结构
一. 半导体材料
2. 半导体独特的物理性质
整流效应
光电导 效应
I 电流 正向
反向 0 V 电压
负的电阻温度 光生伏特
(NTC)效应
效应
R
T
霍尔效应
半导体的基本能带结构
一. 半导体材料
3. 半导体的分类
(1). 化学组分1和.3结半构导的不体同材,料可的分分为类:
元素半导体: Si,Ge,Diamond, Carbon nanotube,
电子浓度ni = 空穴浓度pi 在外电场的作用下,产生电流
—— 电子流和空穴流
电子流 自由电子作定向运动形成的
与外电场方向相反 自由电子始终在导带内运动
空穴流 价电子递补空穴形成的
与外电场方向相同
始终在价带内运动
用空穴移动产生的 电流代表束缚电子移 动产生的电流
半导体的基本能带结构
二. 半导体的带隙
半导体的基本能带结构
三. 带边有效质量
4. 常用半导体的有效质量
(1) Si和Ge的导带底附近有效质量
半导体的基本能带结构
一. 半导体材料
4. 半导体材料的发展趋势
材料维度的发展
❖ 由三维体材料向薄膜、两维超晶格量子阱、一维量 子线和零维量子点材料方向发展。
三维体材料:电子在其中可以自由运动而不受限制的材料。
二维超晶格、量子阱材料、二维原子晶体:电子在X、Y平面 里可以自由运动,在Z方向电子运动受到了限制。
价电子是我们要研究的对象
二. 半导体的带隙
2. 半导体能带的形成
E
空带
空带
导带
禁带
Eg
满带
价带
Ec——导带底 Ev——价带顶
满带
T=0时,能量最低的空带——导带 能量最高的满带——价带
导带底与价带顶能量之差——带隙(禁带宽度)
半导体的基本能带结构
二. 半导体的带隙
2. 半导体能带的形成
共价键内的电子 称为束缚电子 挣脱原子核束缚的电子 +4 价带中+留4 下的空称位为+4自由电子 称为空穴
通过在晶体中引入应变来改变能带结构, 可降低有效质量和减小散射几率,以达到提高
载流子迁移率的目的——应变工程
半导体的基本能带结构
三. 带边有效质量
2. 带边有效质量
空穴有效质量
mn *(2p E22)1( 122kE22)1
价电带电子的E-k图曲率为负,所 以此区电子的有效质量为负。
考虑牛顿运动定律
半导体的基本能带结构
二. 半导体的带隙
带隙Eg的测量
3. 半导体的带隙
本征光吸收:光照将价带中的电子激发到导带中,形成电 子—空穴对,这一过程称为本征光吸收。光子的能量满足:
h =hc/≥Eg
电导率随温度变化
半导体的基本能带结构
二. 半导体的带隙
3. 半导体的带隙
直接带隙与间接带隙
直接带隙
半导体的基本能带结构
❖ 直 接 禁 带 半 导 体 —— ❖ 间 接 禁 带 半 导 体 ——
GaAs,GaN,ZnO
Si,Ge, SiC
半导体的基本能带结构
二. 半导体的带隙
GaAs的能带结构 ——直接带隙
3. 半导体的带隙
Si的能带结构 ——间接带隙
本征光吸收确定 直接带隙与间接
带隙
❖ 直接跃迁,效率高——适合做发光器件和其他光电子器件 ❖ 间接跃迁为了能量守恒,必须有声子参加,因而发生间接跃