微透镜阵列制作技术研究

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基于非接触式热压印技术的微透镜阵列制作

基于非接触式热压印技术的微透镜阵列制作
W ANG n —h n,XI n,Z c ol f c a i l c ne& E g er g uzogU i r t o cec S ho o h n a Si c Me c e n i e n ,H ahn nv sy f i e& T c nlg , h n4 07 , hn ) n i e i S n eh o y Wu a 30 4 C ia o
u s pp f sun c s ay whe i he modi o lwih t r u h— oes m u o i ne e s r l n usng t l ng to t h o g h l ,wh c a e c h e uie n fte e vr n e t i h c n r du e t e r q r me to h n io m n . Ke y wor s: mir lnsa a s;e na te se osi g;ph t l h r p d coe r y o tcl s mb sn o oi g a hy;t r u h— oes t ho g h l
t e a p id p e s r n h mb s ig t n t ef c so en c oe s swe e a ay e .T ee p rme t l e u t h w t a c oe s a — h p l r s u e a d te e o sn i o h o u ft f r ln e r n lz d e me h i h x ei n a s l s o h t r s mir ln r
ryswi o d s fc e t r sa d g st n p e iin c n be fbrc td b o a te s e a t g o ura e fa u e n hih po ii r cso a a i ae y c ntcl s mbo sn . Th p i m i i tt mp r t e i h o si g e o tmu mprn e e aur s

微透镜及其阵列研究概况

微透镜及其阵列研究概况

科技与创新┃Science and Technology & Innovation ·102·文章编号:2095-6835(2016)11-0102-02微透镜及其阵列研究概况*王峥一,武伟璐,牛邦玉(中国民航大学中欧航空工程师学院,天津 300300)摘 要:介绍了微透镜及其阵列的产生与发展,分析和比较了微透镜的制备方法。

此外,结合微透镜的光学性质简述了微透镜的应用,并展望了微透镜的应用前景。

关键词:微透镜;阵列;光学元件;微光学中图分类号:TH74 文献标识码:A DOI:10.15913/ki.kjycx.2016.11.102随着近代科技的不断创新和突破,当前的机械、设备、元件都已朝着光机电一体化的趋势发展,人类已经悄然进入微型时代。

从重达27 t的世界上第一台电子计算机的诞生,到如今纳米级的元器件,仅不到百年的时间。

人类利用大自然的恩赐不断地创新与传承,促进着文明的进步和科技的发展。

早在一千多年前,人们把透明水晶或宝石磨成透镜用于放大影像,制作出了最早的透镜。

而如今,科学家们模仿苍蝇的复眼,创造出了只有用显微镜才能观察到的透镜。

这便是微透镜和微透镜阵列。

1 微透镜及其阵列的产生与发展1.1 微透镜及其阵列的产生在20世纪70年代,细微加工技术的应用促使微电子学诞生。

微电子学的诞生使电路实现了微型化。

但大部分功能器件仍是常规尺寸。

于是,在20世纪80年代初期,首先出现了微机械和微电器。

为了与这些微型元器件匹配,光学也必须进入微型化时代。

因此,在20世纪80年代中后期便出现了微光学。

1970年,美国康宁公司3名科研人员采用改进型化学气相沉积工艺和高温拉丝技术,成功地制作出芯径只有几十微米且传输损耗只有20 Db/km的低损耗石英光纤,开创了微小光学的新篇章。

科学的进步总是与技术的发展相得益彰,光学元件的微型化势必会向阵列元器件方向发展。

因此,在20世纪80年代中后期,一种新型的微光学阵列器件发展起来。

微透镜阵列的光刻胶热熔制作技术

微透镜阵列的光刻胶热熔制作技术
[5] [ 1, 2 ]
熔法具有制作周期短 、制作成本低 、效率高等优 点 , 因而成为研究的热点 。本文介绍了光刻胶热熔 法制作微透镜阵列的原理 、工艺流程 、关键技术并 给出了实验结果 。
1 微透镜阵列的设计与制作
利用光刻胶热熔法制作微透镜阵列的原理如图
1 所示 , 在基片上涂上一定厚度的光刻胶 , 在圆形
设曝光后圆柱的底面直径 (即掩模板直径 ) 为 D、高度 (即涂胶厚度 ) 为 t, 融化后球冠曲率 半径为 R、球冠高度为 h, 如图 2 所示 。假设融化 π 3 2 后 , 球冠的体积 ( V2 =πH R - H ) 变为圆柱体 3 π 2 积 ( V1 = D t) 的 k 倍 , 即 V2 = kV1 , 则可求出为 4
图 1 微透镜阵列制作工艺流程
F ig 11 Fa b rica tio n se que nce o f the m ic ro le n s a rra y
分 , 这样就使得圆柱体阵列的体积减小 , 因此 k 一 般可取 018 左右 , 但 k 的精确数值则要由具体的实 验环境和实验设备决定 。
14
长春理工大学学报
2006 年
到 140 ℃, AZ1805 型 正 性 光 刻 胶 的 温 度 范 围 是
160 ℃ 到 180 ℃。
精度高且稳定可靠的技术 , 下面主要对此技术进行 研究 。 离子束刻蚀技术是指用具有能量单色性很强及 一定密度的大面积 、准直均匀离子束发射到材料表 面 , 通过离子撞击表面原子与材料原子间的级联碰 撞过程 , 离子将其携带的动量 (能量 ) 转移给材 料原子 , 打破原子间的结合并产生活化原子的动量 矢量反转 , 形成材料原子的物理溅射 , 从而使材料 被蚀去一定的厚度的过程 。 然而 , 由于光刻胶与石英基片的刻蚀速率不 同 , 刻蚀后微透镜阵列的面形与光刻胶微透镜阵列 的面形有很大的差别 。为使光刻胶与石英基片具有 相同的刻蚀速率 , 可以采用反应离子刻蚀法 , 即在 刻蚀过程中加入反应气体 , 通过控制气体与石英基 片及光刻胶的反应来达到相同的刻蚀速率 。例如 , 加入氟化物气体会增大石英基片的刻蚀速率 , 加入 氧气会增大光刻胶的刻蚀速率 。 另外 , 由于利用光刻胶热熔法制作的微透镜阵 列存在球差 , 而且相对孔径较大 , 通过加入不同的 反应气体并调节气体的浓度可以减小球差并制作出 相对孔径较小的微透镜阵列 , 甚至还可以制作出非 球面结构的微透镜阵列 。 本文利用反应离子刻蚀技术对图 3 所示的光刻 胶微透镜阵列进行刻蚀实验 , 经过充分的刻蚀 , 便 可在将微透镜阵列面型转移到玻璃基底上 , 如图 4 所示 。

微透镜阵列光学器件的制备与应用

微透镜阵列光学器件的制备与应用

微透镜阵列光学器件的制备与应用光学器件是一类用来产生、传播、控制和检测光辐射的装置。

其中,微透镜阵列光学器件(micro lens array optical device)是一种用于进行光场模拟、成像、调制和耦合的重要光学器件。

本文将介绍微透镜阵列光学器件的制备与应用。

制备1. 加工技术微透镜阵列光学器件的制备主要包括两个过程:微透镜的加工和阵列的制备。

微透镜的加工工艺主要有两种:一种是表面加工法,另一种是体积加工法。

表面加工法主要是通过刻蚀、抛光、激光加工等方式制造微透镜。

体积加工法主要是通过光刻、电子束曝光等方式将透镜结构“写入”到聚合物或硅等物质中。

这两种加工技术都可以制造出高精度的微透镜。

2. 生长技术生长技术是一种新兴的微透镜制备方法。

该方法采用类似于半导体生长工艺的方法,在厚度为纳米级的生长晶体上形成微透镜结构。

这种技术可以生产具有高质量和可控性的微透镜。

应用1. 光学成像微透镜阵列光学器件可以通过多个微透镜将光线聚焦,从而形成图像。

应用在数码相机、手机摄像头、望远镜等光学成像领域,具有很好的效果。

此外,微透镜阵列光学器件还可以用于各种图像处理领域,如数字水印技术、三维成像等。

2. 显示技术微透镜阵列光学器件在显示技术上也有广泛应用。

它可以作为显示屏的整个背光源或背光改进部分的分组区域。

此外,还可以实现二维和三维图像的切换,具有重要的商业价值。

3. 光通信微透镜阵列光学器件在光通信技术上的应用非常广泛。

它可以用于微型光学系统中的耦合器、波分复用设备、光互连芯片和光开关等。

在光通信领域,它的应用可以显著提高光纤互连设备的效率。

总结微透镜阵列光学器件制备的技术不断发展和创新,其应用不断拓展和延伸。

未来,它将在更多的领域发挥出重要作用,推动光学技术的不断发展和进步。

微透镜阵列的设计、制作及与CCD的集成技术

微透镜阵列的设计、制作及与CCD的集成技术

微透镜阵列的设计、制作及与CCD的集成技术一、本文概述随着光学技术的不断发展,微透镜阵列作为一种重要的光学元件,其在光学成像、光电子器件、光通信等领域的应用越来越广泛。

微透镜阵列的设计、制作及与CCD(电荷耦合器件)的集成技术,是提升微透镜阵列性能、拓展其应用范围的关键环节。

本文旨在全面介绍微透镜阵列的基本概念、设计原理、制作方法,以及其与CCD的集成技术,为相关领域的研究人员和技术人员提供有益的参考。

本文将介绍微透镜阵列的基本概念和特点,阐述其在不同领域的应用价值。

然后,详细阐述微透镜阵列的设计原理,包括透镜形状、尺寸、间距等参数的确定,以及优化设计方法。

接着,介绍微透镜阵列的制作技术,包括模具制作、材料选择、加工工艺等,以及制作过程中可能遇到的问题和解决方法。

本文将重点探讨微透镜阵列与CCD的集成技术。

首先介绍CCD的基本原理和特性,然后详细阐述微透镜阵列与CCD的耦合技术,包括耦合方式的选择、耦合效率的提高等。

还将介绍集成后系统的性能测试和优化方法,以及集成技术在不同领域的应用实例。

通过本文的阐述,读者可以全面了解微透镜阵列的设计、制作及与CCD的集成技术,为相关领域的研究和应用提供有益的借鉴和指导。

二、微透镜阵列的设计微透镜阵列的设计是制造高质量成像系统的关键步骤。

微透镜阵列的设计涉及多个方面,包括透镜形状、尺寸、焦距、填充因子以及阵列的整体布局。

透镜的形状是设计的核心。

常见的微透镜形状有球面、非球面和柱面。

选择合适的形状可以优化成像质量和系统性能。

例如,非球面透镜能够减少像差,提高成像的清晰度。

透镜的尺寸和焦距决定了成像系统的放大倍数和视场。

设计过程中,需要根据实际应用场景确定合适的尺寸和焦距。

例如,在需要高分辨率成像的应用中,可能需要更小的透镜尺寸和更短的焦距。

填充因子也是设计中的重要参数。

填充因子指的是透镜占据其单元格的比例。

较高的填充因子可以提高成像系统的光利用率,但也会增加制造的难度。

微透镜阵列的设计、制作及与CCD的集成技术

微透镜阵列的设计、制作及与CCD的集成技术

微透镜阵列设计
3、光路调整:优化光路,提高微透镜阵列的聚焦精度和光能利用率,以达到 最佳成像效果。
微透镜阵列设计
在设计中,可以使用光学仿真软件,如Zemax、Code V等,对设计进行模拟 和优化。
CCD集成技术
CCD集成技术
CCD(电荷耦合器件)是一种常用的图像传感器,可以将光线转化为电子信号。 与微透镜阵列结合使用,可以大幅提高图像采集的分辨率和灵敏度。
应用实例
4、提高成像速度:采用并行处理的原理,可以将原来需要多次扫描才能完成 的成像过程缩短到一次扫描就能完成,从而提高成像速度。
应用实例
5、增加景深:通过调节微透镜阵列的排布密度和焦距,可以在保证分辨率的 同时增加景深范围。
应用实例
6、增强灵敏度:通过优化微透镜的材料、形状和排布方式等参数,可以提高 光收集效率并进而增强灵敏度。例如在病理学研究中,这可以帮助医生更准确地 识别细胞病变。
微透镜阵列的设计、制作及与 CCD的集成技术
01 引言
目录
02 微透镜阵列设计
03 CCD集成技术
04 微透镜阵列制作
05 应用实例
引言
引言
微透镜阵列是一种由微小透镜组成的阵列,具有优异的光学性能和紧凑的结 构,在图像处理、生物医学、光电子学等领域具有广泛的应用前景。本次演示将 详细介绍微透镜阵列的设计、制作及与CCD集成技术的应用,以期为相关领域的 研究人员提供参考。
微透镜阵列设计
微透镜阵列设计
微透镜阵列的设计主要涉及微透镜材料的选取、阵列结构的优化和光路调整 等方面。在设计过程中,需要考虑以下几点:
微透镜阵列设计
1、材料选择:根据应用需求,选择具有优异光学性能和稳定物理性质的微透 镜材料,如硅、玻璃等。

模压微透镜阵列制作方法

模压微透镜阵列制作方法

模压微透镜阵列制作方法引言:微透镜阵列是一种常用于光学成像和显示技术中的关键元件。

其制作方法多种多样,其中模压方法是一种常见且有效的制备技术。

本文将介绍模压微透镜阵列的制作方法及其工艺流程。

一、材料准备在进行模压微透镜阵列制作之前,需要准备以下材料:1. 透明光刻胶:用于制作微透镜阵列的基底材料;2. 硅片:作为模具,用于制作微透镜的模板;3. 纳米压印机:用于进行模压加工的设备;4. 光源:提供光照条件;5. 显微镜:用于观察微透镜阵列的形貌。

二、工艺流程1. 制备模板:使用光刻工艺将硅片上的图案进行曝光和显影,形成微透镜的模板。

模板的形状和大小可以根据需求进行设计和优化。

2. 涂覆光刻胶:将透明光刻胶均匀涂覆在基底材料上,通过旋涂等方法使其形成一定的厚度和均匀的膜层。

3. 模压加工:将制备好的模板与涂覆了光刻胶的基底材料放置在纳米压印机中,调整好压力和温度参数后进行模压加工。

通过施加压力和温度使模具上的微透镜图案传递到光刻胶层上,形成微透镜阵列的结构。

4. 硬化光刻胶:将模压加工后的光刻胶进行硬化处理,通常使用紫外光照射或热处理方法进行。

5. 分离模板:将硬化后的光刻胶与模板进行分离,通常使用化学溶解或机械剥离的方法。

6. 检测与清洗:使用显微镜对制备好的微透镜阵列进行形貌检测,确保微透镜的形状和尺寸符合要求。

然后,使用合适的溶剂对微透镜阵列进行清洗,去除残留的光刻胶和污染物。

7. 测试与封装:将清洗干净的微透镜阵列进行光学性能测试,如聚焦能力和透光率等。

最后,根据具体的应用需求,对微透镜阵列进行封装,以保护其结构和性能。

三、优缺点模压微透镜阵列制作方法具有以下优点:1. 制备简单:相比于其他制备方法,模压方法操作简单,不需要复杂的设备和工艺流程。

2. 高精度:模压方法可以制备出具有高精度的微透镜阵列,能够满足许多高精度光学应用的需求。

3. 批量生产:模压方法可以实现对大面积基底材料的批量制备,适用于大规模生产需求。

微透镜阵列光学系统的设计与制造

微透镜阵列光学系统的设计与制造

微透镜阵列光学系统的设计与制造随着科技的不断发展,微型化技术的应用越来越广泛。

其中,微透镜阵列光学系统既是一种微型化技术,也是一种光学应用技术。

它可以被广泛应用于光学成像、光学传感、光学显示、光学通信等众多领域。

在本次文章中,我们将探讨微透镜阵列光学系统的设计与制造。

一、微透镜阵列光学系统的原理微透镜阵列光学系统是通过在平面上堆积多层透镜阵列的方式来形成微型化的光学系统。

其原理是利用透镜的成像原理来对传入的光进行聚焦和分离。

在阵列中,不同的透镜可以聚焦和分离不同的波长和角度的光,进而实现复杂的光学效果。

二、微透镜阵列光学系统的设计流程微透镜阵列光学系统的设计流程主要分为以下三个步骤:1、确定系统需求并进行系统仿真在进行微透镜阵列光学系统设计时,首先需要明确系统的需求和性能指标,进而选定合适的透镜类型和阵列结构。

然后,可以运用光学仿真软件来进行系统仿真,验证系统设计参数是否能够满足要求。

2、设计和优化微透镜阵列在确定好系统需求和仿真结果之后,就可以开始设计微透镜阵列的结构。

微透镜阵列的设计需要考虑各种因素,如透镜直径、透镜间距、透镜形状、透镜材料等,进而通过优化设计来改善系统的性能。

3、制造微透镜阵列经过设计和优化之后,就需要制造微透镜阵列。

微透镜阵列的制造过程包括掩模制备、光刻、干蚀刻和抛光等步骤。

其中,掩模制备和光刻是制造微透镜阵列最关键的步骤之一。

三、微透镜阵列光学系统的制造工艺微透镜阵列光学系统的制造工艺主要包括以下几个步骤:1、掩模制备掩模制备是制造微透镜阵列的第一步,其主要目的是利用光刻技术制备高质量的掩模模板。

掩模可以是光刻胶或金属膜制成的图案。

在微透镜阵列制备中,掩模的准确性和稳定性非常重要,直接关系到制造微透镜阵列的质量。

2、光刻光刻是将掩模模板上的图案通过光刻技术转移到光刻胶或者金属膜上的过程。

在光刻时,需要控制光线的波长、强度和角度等参数,进而得到高精度的微透镜阵列。

3、干蚀刻干蚀刻是通过物理或化学方式,将掩模模板上的图案转移到光刻胶或者金属膜上的过程。

微透镜阵列超精密加工实验教学探索

微透镜阵列超精密加工实验教学探索

ISSN1006-7167CN31-1707/TRESEARCHANDEXPLORATIONINLABORATORY第39卷第12期 Vol.39No.122020年12月Dec.2020 微透镜阵列超精密加工实验教学探索张胜辉a, 刘 强a, 赵荣丽a,b, 成思源a, 冷杰武a(广东工业大学a.省部共建精密电子制造技术与装备国家重点实验室,b.广东省微纳加工技术与装备重点实验室,广州510006)摘 要:微透镜阵列被广泛应用于军用及民用领域的许多新型光学系统中,其结构尺寸为微米级,加工精度要求高。

为了培养机械类学生的工程实践能力及动手能力,基于广东省微纳加工技术与装备重点实验室研发的微结构微冲压机床,探讨了其工艺过程及原理,学生通过掌握微冲压机床的工作原理、加工技术,设计加工工件参数及实验方法,在模具钢上加工微米级的微透镜阵列,并用在位测量系统测量其加工精度。

通过本实验有助于学生掌握机械领域的先进知识,锻炼学生的动手能力、设计能力。

关键词:微透镜阵列;超精密加工;实验教学;创新能力中图分类号:G642.0 文献标志码:A 文章编号:1006-7167(2020)12-0184-04ExperimentalTeachingExplorationonUltra precisionMachiningofMicroLensArraysZHANGShenghuia, LIUQianga, ZHAORonglia,b, CHENGSiyuana, LENGJiewua(a.StateKeyLaboratoryofPrecisionElectronicManufacturingTechnologyandEquipment,b.GuangdongProvincialKeyLaboratoryofMicro NanoManufacturingTechnologyandEquipment,GuangdongUniversityofTechnology,Guangzhou510006,China)Abstract:Microlensarraysarewidelyusedinmanynewopticalsystemsinmilitaryandcivilfields.Thedimensionalaccuracyismicron,hence,highprocessingaccuracyisrequired.Inordertocultivatetheengineeringpracticeabilityandpracticalabilityofmechanicalstudents,basedonthemicrostructurepunchingmachinedevelopedbyGuangdongProvincialkeylaboratoryofmicro nanomanufacturingtechnologyandequipment,thetechnologicalprocessandprincipleofthemicropunchingmachinearediscussed.Bymasteringtheworkingprincipleandprocessingtechnologyofthemicropunchingmachine,theworkpieceparametersandexperimentalmethodaredesigned,andthemicronlevelmicrolensarrayismachinedonthemoldsteelbystudents.ThemachiningaccuracyofMLAsismeasuredbytheon sitemeasurementsystem.Throughthisexperiment,studentscangrasptheadvancedknowledgeinmechanicalfield,andexercisetheirpracticalabilityanddesignability.Keywords:microlensarrays;ultra precisionmachining;experimentalteaching;innovativeability收稿日期:2019 12 18基金项目:国家自然科学基金青年基金项目(51605101);广东省高等教育教学改革项目(粤教高函[2016]236号,粤教高函[2018]1号);广东工业大学本科教学工程项目(广工大教字[2017]101号,[2019]70号)作者简介:张胜辉(1974-),男,广东河源人,硕士,实验师,从事机电传动与控制、数据库原理及应用的实验教学与研究。

基于micro-led微透镜阵列的光学设计及应用研究

基于micro-led微透镜阵列的光学设计及应用研究

基于micro-led微透镜阵列的光学设计及应用研究1. 引言1.1 概述本文主要研究基于micro-LED微透镜阵列的光学设计及应用。

随着科技的发展和人们对高质量显示和光通信等领域需求的增加,微LED技术作为一种新的光电子器件逐渐受到关注。

而微透镜阵列作为提高光学系统性能的关键元件之一,在微LED技术中也扮演着重要角色。

1.2 文章结构本文共分为五个部分。

首先,在引言中对研究主题进行了概述,并介绍了文章的结构组成。

其次,在第2部分中,将对微LED技术进行概述,并介绍微透镜阵列的背景知识。

第3部分将探讨光学设计方法的研究,包括光学系统基本理论、基于微透镜阵列的设计原理分析以及常用优化算法的应用。

在第4部分中,将详细探讨基于micro-LED微透镜阵列的光学应用研究,包括显示器件中的设计与模拟研究、光通信中微LED与微透镜结合的应用探索以及生物医学领域中基于微透镜阵列的激光成像技术研究。

最后,在第5部分中,将对研究进行总结,并提出存在的问题和下一步的研究展望。

1.3 目的本文的目的是探索基于micro-LED微透镜阵列的光学设计及应用。

通过对微LED技术、微透镜阵列以及光学设计方法进行深入研究,旨在为相关领域的技术发展提供理论支持和实践指导。

同时,通过具体的案例研究和应用探索,期望能够开拓micro-LED与微透镜结合在显示器件、光通信和生物医学领域等方面的新应用,并为相关产业提供创新思路和技术解决方案。

2. 微LED技术概述:2.1 微LED原理:微LED是一种基于发光二极管(LED)的新型显示技术。

它采用微米级的LED芯片作为显示像素,通过控制电流使其发出所需颜色的光。

微LED具有高亮度、高对比度、高刷新率和低功耗等优点,被认为是下一代显示技术的发展方向。

微LED原理是通过外加电压在特定材料中产生电子-空穴复合效应,从而导致LED芯片发射光线。

当正向电压施加到p端(带阳性杂质),负向电压施加到n 断(带阴性杂质),会形成一个类似于pn结构的二极管。

用于短波红外探测器的微透镜阵列制作

用于短波红外探测器的微透镜阵列制作

⽤于短波红外探测器的微透镜阵列制作摘要:采⽤光刻胶热熔法制作具有特定尺⼨的微透镜,制作的微透镜能将微透镜阵列技术应⽤于短波1µm~3µm红外探测器中,有效地提⾼探测器件的光电性能。

采⽤AZ P4620厚光刻胶,利⽤紫外光刻技术,对透镜制作中的前烘、曝光和显影、坚膜、热熔等⼯艺进⾏了深⼊细致的实验研究,确定了最优的⼯艺参数,实现了球冠直径在(5.5±0.5)µm,曲率半径3µm 的微透镜,且透镜有很好的均匀性和⼀致性,满⾜近红外探测器件的要求。

关键词:微透镜阵列;光刻胶热熔法;前烘;热熔1.引⾔随着科技的进步,当今社会的仪器和设备都向光、机、电集成的⽬标发展。

由于传统⽅法制造出来的光学元件⼯艺复杂、重量⼤且元件尺⼨⼤,因此很难满⾜当今社会的需求。

直径超⼩的透镜与透镜阵列成为了新的研究⽅向,这种透镜与透镜阵列具有体积⼩、重量轻、便于集成化、阵列化等优点,被⼴泛应⽤于光束整形、光学器件互连、三维成像增强等领域[1]。

若将微透镜阵列应⽤于红外探测器件可以实现在不增加器件噪声的前提下,增加器件的等效光敏⾯积,从⽽实现探测器件性能的提升。

针对近红外波段的探测器件,根据探测波长范围和微透镜材料特性,需要制作特定尺⼨的微透镜阵列,来满⾜⼯作在1µm~3µm 波段的探测器件的需求。

⽬前,制作微透镜阵列的⽅法有离⼦交换法[2]、光刻胶热熔法[3]、光电反应刻蚀法[4]、聚焦离⼦束刻蚀与沉积法[5]、化学⽓相沉积法[6]等。

此外,⽂献[7]采⽤⼆维胶体球阵列在⽓-液界⾯形成⼀种薄膜结构,将这种结构转移到固体表⾯,由于胶体球之间的强吸引⼒使胶体球颗粒聚集,⾃发形成⼆维阵列结构。

⽂献 [8]提出胶体颗粒⾃组装法,实现了微透镜阵列,但制作的微透镜阵列形貌均匀性差,且成本⾼。

⽂献[9]提出⼀种新的光敏玻璃热成型法,该⽅法⽤紫外辐射曝光来调制光敏玻璃材料,将材料加热到软化点,使材料发⽣膨胀,然后对光敏玻璃两侧施加压⼒,实现透镜阵列;但该⽅法采⽤曲⾯基底,需超精密加⼯⽅法制作,虽然具有很强优势,但是制作的透镜尺⼨较⼤且成本较⾼。

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2.1 光刻胶热熔法 利用光刻胶热熔法制作微透镜阵列的原理,如
图 2 所示。在基片上涂上一定厚度的正性光刻胶,在 圆形阵列的掩模遮挡下,进行紫外曝光,显影后便得 到圆柱阵列光刻胶结构,将光刻胶加热至熔融状态, 其表面张力将圆柱形结构转变成光滑的球冠状结 构,这样便得到了光刻胶材料的微透镜阵列[8]。这种 方法的优点是成本低、工艺简单;缺点是透镜材料选 择有限,工艺参数难以把握。
detectors CCD device
(c)CCD 系统
Incident plane wave f
focal plane b
distorted
focal plane f
(d)波前传感器
图 1 微透镜阵列应用
1 微透镜阵列的应用
2 微透镜阵列制作
随着科学技术的进步,当前的仪器设备已朝着 光、机、电集成的趋势发展。折射型微透镜阵列以其 体积小、净质量小、便于集成化、阵列化等优点,已成 为新的发展方向。而且折射型微透镜阵列,是一种目 前应用得十分广泛的微光学元件。折射微透镜阵列 器件在焦平面集光、激光准直、大面阵显示、光效率
!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!
(上接第 45 页)
[2] 张鸿海,范细秋,胡晓峰,等.一种微透镜阵列制作方法 [J]. 华中科技大学学报,2006,34(6):77 - 79.
[3] 任智斌. 折射型微透镜及微透镜阵列光学性质与制作技术 的研究[R]. 长春:中国科学院研究生院,2005.
然而,利用传统方法制造出来的光学元件,不仅
a
L1
L2
L3
制造工艺复杂,而且制造出来的光学元件尺寸大、净
质量大,已不能满足当今科技发展的需要。目前,人
b
们已经能够制作出直径非常小的透镜与透镜阵列, 这种透镜与透镜阵列通常是不能被人眼识别的,只
(a)人工复眼
L1
L2
Байду номын сангаас
L3
(b)线性光学扫描系统
有用显微镜、扫描电镜、原子力显微镜等设备才能观 察到,这就是微透镜和微透镜阵列。
296- 298. [11] 李 明. 飞秒激光和酸刻蚀方法制作凹面微透镜阵列[J].
光子学报,2009,(3):547- 550.
FabricationTechnology Research of Microlens Array
GAN Dai- wei ( Shan xi Institute of Technology,Huxian Shan xi 710302,China)
Equipment Manufactring Technology No.9,2011
微透镜阵列制作技术研究
甘代伟
(陕西国防工业职业技术学院,陕西 户县 710302)
摘 要:详细介绍了光刻胶热熔法、光敏玻璃热成型法、离子交换法、飞秒激光酸刻蚀法等 4 种比较实用的制作微透镜 阵列的方法,阐述了其原理,分析了各自的优缺点。 关键词:微透镜阵列;光刻胶热熔法;光敏玻璃热成型法;离子交换法;飞秒激光酸刻蚀法
体积比较大,属于折射型光学元件,遵循折射定律, Shack- Hartmann 波前传感器[6]以及线性光学扫描系 用几何光学的知识就能很好地研究其光学性质。相 统中[7],原理如图 1 (a)~(d)所示。
同的透镜按一定的周期排列在一个平面上,便构成
了透镜阵列,由普通的透镜组成的透镜阵列的光学 性质,就是单个透镜功能的合成。
目前,用于制作微透镜阵列的方法,有光刻胶热 熔法、光敏玻璃热成形法、离子交换法、飞秒激光法、 光电反应刻蚀法、聚焦离子束刻蚀与沉积法和化学 气象沉积法等方法。其中比较实用的是前 4 种方法, 下面分别加以介绍。
收稿日期:2011- 06- 14 作者简介:甘代伟(1983—),男,福建宁德人,助教,主要研究微纳米压印技术。
中图分类号:TH74
文献标识码:A
文章编号:1672- 545X(2011)09- 0044- 02
透镜是一种人们非常熟悉的光学元件,其属于 被动光学元件,用来会聚、发散光辐射。通常的透镜
增强、光计算、光互联及微型扫描等方面,获得越来 越 广 泛 的 应 用 , 比 如 在 CCD [4]、 人 工 复 眼 [5]、
3 结束语
微光学技术所制造出的微透镜与微透镜阵列以 其体积小、净质重量小、便于集成化、阵列化等优点, 已成为新的科研发展方向。光刻胶热熔法、光敏玻璃 热成型法、离子交换法、飞秒激光酸刻蚀法等 4 种比 较实用的制作微透镜阵列的方法中,利用飞秒激光 酸刻蚀的方法制作微透镜及其复制技术,工艺过程 极其简单,使用材料价格低廉,适合于各种光耦合和 光学传感器件并且效果良好,将会具有很大的市场 前景。
光敏玻璃 (a)曝光
(b)加热挤压
图 3 光敏玻璃热成型法原理
2.3 离子交换法 光敏玻璃热成型法,制作微透镜阵列的工艺流
程如图 4 所示。该方法将基底进行预处理,把需要改 变折射率的部分裸露,其余部分保护起来,并将其浸
2.4 飞秒激光酸刻蚀法 飞秒激光脉冲持续时间只有飞秒量级,远小于
材料中受激电子通过声子将能量转移、转化等形式 的放时间,从而避免了热扩散的影响,在加工过程中 限制了热影响区,避免了热熔化的存在,实现了相对 意义上的“冷”加工,因此飞秒激光光刻孔周围的区 域不会将受到热影响,而且孔的边缘不会出现大量 的熔化物质。飞秒激光打孔后,利用酸对光学玻璃的 刻蚀的特点,在多种光学玻璃表面制作了凹微透镜 阵列,因此通过飞秒激光酸刻蚀法加工的微透镜表 面品质很高。而且,飞秒激光加工还具有可成型材料 广、加工周期短、透镜结构可调以及可加工异形微透 镜等优点[11]。
《装备制造技术》2011 年第 9 期 泡在装有某种熔盐的容器中。金属离子扩散进入裸露 部分的基底,并置换出一些硅、钠或钾,这就使得裸露 玻璃表面附近的折射率呈球形分布,其性能类似于小 透镜。由于这种方法没有改变玻璃的面形,也没有附 加任何结构,因此制作出的微透镜比较坚固。然而,这 种方法的缺点是制作周期长,而且不便于检测 。 [10]
熔盐
玻璃
扩散
(a)光刻
(b)显影
图 4 离子交换法原理
(c)热熔成型
图 2 光刻胶热熔法
2.2 光敏玻璃热成型法 光敏玻璃热成型法,制作微透镜阵列的工艺流
程如图 3 所示。该方法用 UV 光、X- ray 射线、电子束 等高能量辐射光源,来调制光敏玻璃材料。调制的方 式,是将材料加热到软化点,材料发生膨胀。然后对 光敏玻璃两侧施加压力,由于光敏玻璃被曝光的部 分的密度与硬度远大于未曝光的部分,在挤压过程 中未曝光的部分会高出表面,在表面张力的作用下, 突起的表面变成球形,从而迫使其形成透镜的形状。 这种工艺是由美国 Corning 公司开发研制的。这种方 法的最大优点是它能使得透镜之间的部分变得不透 明,可以消除相邻透镜间的光线干扰,在显示器的应 用中尤为突出[9]。
Abstract:This article introduced four kinds of manufactured method with micro- lens array:the Melting photoresist method,photosensitive glass thermoforming method, ion exchange method,femtosecond laser with acid etching method,analyze the principles and their advantages and shortcomings. Key word:Microlens array;Melting photoresist method;photosensitive glass thermoforming method method;ion exchange method;femtosecond laser with acid etching method
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因材料性能等数据与实际有一定差异,并且未 考虑装配精度等因素,理论计算值与实际测试值有 一定的差异,实际测试变化值会更大。
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