半导体物理试题总结
半导体物理学试题库完整
半导体物理学试题库完整1.能够传导电荷的有效质量与能量函数对于波矢的二阶导数成反比。
有效质量的引入反映了晶体材料内部势场的作用。
2.半导体导带中的电子浓度取决于状态密度(即量子态按能量如何分布)和费米分布函数(即电子在不同能量的量子态上如何分布)。
3.当两种不同半导体接触后,费米能级较高的半导体界面一侧带正电。
在达到热平衡后,两者的费米能级相等。
4.半导体硅的价带极大值位于空间第一布里渊区的中央,其导带极小值位于[100]方向上距布里渊区边界约0.85倍处。
因此,它属于间接带隙半导体。
5.形成间隙原子和空位成对的点缺陷称为弗仑克耳缺陷。
形成原子空位而无间隙原子的点缺陷称为肖特基缺陷。
6.在一定温度下,与费米能级持平的量子态上的电子占据概率为1/2.高于费米能级2kT能级处的占据概率为1/1+exp(2)。
7.从能带角度来看,锗、硅属于间接带隙半导体,而砷化稼属于直接带隙半导体。
后者有利于光子的吸收和发射。
8.通常将服从XXX分布的电子系统称为非简并性系统,将服从费米分布的电子系统称为简并性系统。
9.对于同一种半导体材料,其电子浓度和空穴浓度的乘积与温度有关。
而对于不同的半导体材料,其浓度积在一定的温度下将取决于禁带宽度的大小。
10.半导体的晶格结构形式多种多样。
常见的Ge和Si材料,其原子均通过共价键四面体相互结合,属于金刚石结构;与Ge和Si晶格结构类似,两种不同元素形成的化合物半导体通过共价键四面体还可以形成闪锌矿和纤锌矿等两种晶格结构。
11.如果电子从价带顶跃迁到导带底时XXX不发生变化,则具有这种能带结构的半导体称为直接禁带半导体。
否则称为间接禁带半导体。
A。
在质量较大的原子组成的半导体中,存在着空穴。
B。
空穴主要存在于价带顶附近曲率较大的等能面上。
C。
同样,空穴也可以存在于价带顶附近曲率较小的等能面上。
D。
空穴也可以出现在自旋-轨道耦合分裂出来的能带上。
12.电子在导带能级中分布的概率表达式是exp(-E-Ec)/(kT),其中E为能级,Ec为导带底能级,k为玻尔兹曼常数,T为温度。
半导体物理复习试题及答案(复习资料)
半导体物理复习试题及复习资料一、选择题1.与绝缘体相比,半导体的价带电子激发到导带所需要的能量( B )。
A. 比绝缘体的大B.比绝缘体的小C. 和绝缘体的相同2.受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )。
A. 电子和空穴B.空穴C. 电子3.对于一定的N型半导体材料,在温度一定时,减小掺杂浓度,费米能级会( B )。
A.上移B.下移C.不变4.在热平衡状态时,P型半导体中的电子浓度和空穴浓度的乘积为常数,它和( B )有关A.杂质浓度和温度B.温度和禁带宽度C.杂质浓度和禁带宽度D.杂质类型和温度5.MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型( B )。
A.相同B.不同C.无关6.空穴是( B )。
A.带正电的质量为正的粒子B.带正电的质量为正的准粒子C.带正电的质量为负的准粒子D.带负电的质量为负的准粒子7.砷化稼的能带结构是( A )能隙结构。
A. 直接B. 间接8. 将Si 掺杂入GaAs 中,若Si 取代Ga 则起( A )杂质作用,若Si 取代As 则起( B )杂质作用。
A. 施主B. 受主C. 陷阱D. 复合中心9. 在热力学温度零度时,能量比F E 小的量子态被电子占据的概率为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比F E 小的量子态被电子占据的概率为( A )。
A. 大于1/2B. 小于1/2C. 等于1/2D. 等于1E. 等于010. 如图所示的P 型半导体MIS 结构的C -V 特性图中,AB 段代表( A ),CD 段代表(B )。
A. 多子积累B. 多子耗尽C. 少子反型D. 平带状态11. P 型半导体发生强反型的条件( B )。
A. ⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛=i A S n N q T k V ln 0B. ⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛≥i A S n N q T k V ln 20 C. ⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛=i D S n N q T k V ln 0 D. ⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛≥i D S n N q T k V ln 20 12. 金属和半导体接触分为:( B )。
半导体物理试卷解答
物理学院《半导体物理》试卷一、名词解释(3’X10)1空穴:价带顶电子激发到导带底后带顶附近出现的空的量子态称为空穴。
波矢k态未被电子占据时,其它所有价带电子的导电行为,等效于一个带正电荷e,具有正有效质量m p 的准粒子的导电行为。
2间接带隙半导体:导带底与价带顶在不同k方向。
或间接带隙半导体材料导带最小值(导带底)和价带最大值(价带顶)在k空间中不同位置。
3. 施主杂质、施主能级:解:施主杂质:Ⅴ族原子向晶体提供多余不配对电子(电子可动),并同时成为带正电离子(不可动正电中心)的杂质。
或是在硅中掺入V族元素杂质(如磷P,砷As,锑Sb等)后,这些V族杂质替代了一部分硅原子的位置,但由于它们的外层有5个价电子,其中4个与周围硅原子形成共价键,多余的一个价电子便成了可以导电的自由电子,这样一个V族杂质原子可以向半导体硅提供一个自由电子而本身成为带正电的离子,把这种杂质称为施主杂质;若在硅中掺入III族元素杂质,(如硼B,铝Al,镓Ga,铟In等),这些III族杂质原子在晶体中替代了一部分硅原子的位置,由于它们的最外层只有3个价电子,在与硅原子形成共价键时产生一个空穴,这样一个III族杂质原子可以向半导体硅提供一个空穴,而本身接受一个电子成为带负电的离子,把这种杂质称为受主杂质。
4缺陷能级杂质能级解:实际半导体材料晶格中,存在着偏离理想情况的各种现象。
(1) 原子并不是静止在具有严格周期性的晶格的格点位置上,而是在其平衡位置附近振动;(2)半导体材料并不是纯净的,而且含有若干杂质,即在半导体晶格存在着与组成半导体材料的元素不同的其它化学元素的原子;(3)实际的半导体晶格结构并不是完整无缺的,而存在着各种形式的缺陷。
(a)点缺陷,如空位,间隙原子;(b)线缺陷,如位错;(c)面缺陷,如层错,多晶体中的晶粒间界等。
由于杂质和缺陷的存在,会使严格按周期性排列的原于所产生的周期性势场受到破坏,有可能在禁带中引入允许电子具有的能量状态(即能级)--------杂质能级、缺陷能级。
《半导体物理学》试题与及答案
练习1-课后习题7
第二章 半导体中杂质和缺陷能级
锑化铟的禁带宽度E g = 0.18 e V ,相对介电常数 εr = 17 ,电子的 有效质量mn∗ = 0.015 m0, m 0为电子的惯性质量,求 ⅰ)施主杂质的电离能, ⅱ)施主的弱束缚电子基态轨道半径。
解:
练习2
第二章 半导体中杂质和缺陷能级
所以样品的电导率为: q(n0 n p0 p )
代入数据得,电导率为2.62 ×1013S/cm 所以,电场强度 E J 1.996103 mA / cm
作业-课后习题2
第四章 半导体的导电性
试计算本征Si 在室温时的电导率,设电子和空穴迁移率分别为1450cm2/V·S 和500cm2/V·S。当掺入百万分之一的As 后,设杂质全部电离,试计算其电 导率。比本征Si 的电导率增大了多少倍?(ni=1.5×1010cm-3; Si原子浓度为 =5.0×1022cm-3,假定掺杂后电子迁移率为900cm2/V·S)
m0为电子惯性质量,k1=1/2a; a=0.314nm。试求: (1)禁带宽度; (2)导带底电子有效质量; (3)价带顶电子有效质量; (4)价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。
练习2-课后习题2
第一章 半导体中的电子状态
2.晶格常数为0.25nm的一维晶格,当外加102V/m和107V/m 的电 场时,试分别计算电子自能带底运动到能带顶所需的时间。
所以,300k时,
nT 300
(1.05 1019
5.7
1018 )
exp(
0.67 1.61019 21.381023 300)
1.961013cm3
77k时,
半导体物理试题及答案
半导体物理试题及答案一、单项选择题(每题2分,共20分)1. 半导体材料的导电能力介于导体和绝缘体之间,这是由于()。
A. 半导体的原子结构B. 半导体的电子结构C. 半导体的能带结构D. 半导体的晶格结构答案:C2. 在半导体中,电子从价带跃迁到导带需要()。
A. 吸收能量B. 释放能量C. 吸收光子D. 释放光子答案:A3. PN结形成的基础是()。
A. 杂质掺杂B. 温度变化C. 压力变化D. 磁场变化答案:A4. 半导体器件中的载流子主要是指()。
A. 电子B. 空穴C. 电子和空穴D. 光子答案:C5. 半导体的掺杂浓度越高,其导电性能()。
A. 越好B. 越差C. 不变D. 先变好再变差答案:A二、填空题(每题2分,共20分)1. 半导体的导电性能可以通过改变其________来调节。
答案:掺杂浓度2. 半导体的能带结构中,价带和导带之间的能量差称为________。
答案:带隙3. 在半导体中,电子和空穴的复合现象称为________。
答案:复合4. 半导体器件中的二极管具有单向导电性,其导通方向是从________到________。
答案:阳极阴极5. 半导体的PN结在外加正向电压时,其内部电场会________。
答案:减弱三、简答题(每题10分,共30分)1. 简述半导体的掺杂原理。
答案:半导体的掺杂原理是指通过向半导体材料中掺入少量的杂质元素,改变其电子结构,从而调节其导电性能。
掺入的杂质元素可以是施主杂质(如磷、砷等),它们会向半导体中引入额外的电子,形成N型半导体;也可以是受主杂质(如硼、铝等),它们会在半导体中形成空穴,形成P型半导体。
2. 描述PN结的工作原理。
答案:PN结是由P型半导体和N型半导体结合而成的结构。
在PN结中,P型半导体的空穴会向N型半导体扩散,而N型半导体的电子会向P型半导体扩散。
由于扩散作用,会在PN结的交界面形成一个内建电场,该电场会阻止更多的载流子通过PN结。
半导体物理复习试题及答案复习资料
半导体物理复习试题及答案复习资料一、引言半导体物理是现代电子学中至关重要的一门学科,其涉及电子行为、半导体器件工作原理等内容。
为了帮助大家更好地复习半导体物理,本文整理了一些常见的复习试题及答案,以供大家参考和学习。
二、基础知识题1. 请简述半导体材料相对于导体和绝缘体的特点。
答案:半导体材料具有介于导体和绝缘体之间的导电特性。
与导体相比,半导体的电导率较低,并且在无外界作用下几乎不带电荷。
与绝缘体相比,半导体的电导率较高,但不会随温度显著增加。
2. 什么是本征半导体?请举例说明。
答案:本征半导体是指不掺杂任何杂质的半导体材料。
例如,纯净的硅(Si)和锗(Ge)就是本征半导体。
3. 简述P型半导体和N型半导体的形成原理。
答案:P型半导体形成的原理是在纯净的半导体材料中掺入少量三价元素,如硼(B),使其成为施主原子。
施主原子进入晶格后,会失去一个电子,并在晶格中留下一个空位。
这样就使得电子在晶格中存在的空位,形成了称为“空穴”的正电荷载流子,因此形成了P型半导体。
N型半导体形成的原理是在纯净的半导体材料中掺入少量五价元素,如磷(P)或砷(As),使其成为受主原子。
受主原子进入晶格后,会多出一个电子,并在晶格中留下一个可移动的带负电荷的离子。
这样就使得半导体中存在了大量的自由电子,形成了N型半导体。
4. 简述PN结的形成原理及特性。
答案:PN结是由P型半导体和N型半导体的结合所形成。
P型半导体和N型半导体在接触处发生扩散,形成电子从N区流向P区的过程。
PN结具有单向导电性,即在正向偏置时,电流可以顺利通过;而在反向偏置时,电流几乎无法通过。
三、摩尔斯电子学题1. 使用摩尔斯电子学符号,画出“半导体”的符号。
答案:半导体的摩尔斯电子学符号为“--..-.-.-...-.”2. 根据摩尔斯电子学符号“--.-.--.-.-.-.--.--”,翻译为英文是什么?答案:根据翻译表,该符号翻译为“TRANSISTOR”。
半导体物理学题库
半导体物理学题库半导体物理学是研究半导体材料物理性质和内部微观过程的学科,它对于现代电子技术的发展起着至关重要的作用。
为了帮助大家更好地学习和掌握这门学科,我们精心整理了一份半导体物理学题库。
一、选择题1、以下哪种材料不是常见的半导体?()A 硅B 锗C 铜D 砷化镓答案:C解析:铜是导体,不是半导体。
硅、锗和砷化镓都是常见的半导体材料。
2、半导体中载流子的主要类型有()A 电子和空穴B 正离子和负离子C 质子和中子D 原子和分子答案:A解析:在半导体中,参与导电的载流子主要是电子和空穴。
3、本征半导体的电导率主要取决于()A 温度B 杂质浓度C 晶体结构D 外加电场答案:A解析:本征半导体的电导率主要由温度决定,温度升高,本征激发增强,载流子浓度增加,电导率增大。
4、施主杂质在半导体中提供()A 电子B 空穴C 电子和空穴D 既不提供电子也不提供空穴答案:A解析:施主杂质能够释放电子,从而增加半导体中的电子浓度。
5、受主杂质在半导体中提供()A 电子B 空穴C 电子和空穴D 既不提供电子也不提供空穴答案:B解析:受主杂质能够接受电子,从而增加半导体中的空穴浓度。
二、填空题1、半导体的能带结构中,导带和价带之间的能量间隔称为________。
答案:禁带宽度2、常见的半导体晶体结构有________、________和________。
答案:金刚石结构、闪锌矿结构、纤锌矿结构3、本征半导体中,电子浓度和空穴浓度的乘积是一个________。
答案:常数4、半导体中的扩散电流是由________引起的。
答案:载流子浓度梯度5、当半导体处于热平衡状态时,费米能级的位置在________。
答案:禁带中央附近三、简答题1、简述半导体的导电机制。
答:半导体的导电机制主要依靠电子和空穴两种载流子。
在本征半导体中,温度升高时,价带中的电子获得能量跃迁到导带,形成电子空穴对,从而产生导电能力。
在外加电场作用下,电子和空穴分别向相反的方向移动,形成电流。
半导体物理试题总结
半导体物理学考题A (2010 年 1 月)解答一、( 20 分)简述以下问题 :1.( 5 分)布洛赫定理。
解答: 在周期性势场中运动的电子,若势函数V(x) 拥有晶格的周期性,即: V ( x na ) V ( x ),则晶体中电子的波函数拥有以下形式: ( x ) e ikx u k ( x ) ,此中, u k ( x ) 为拥有晶格周期性的函数,即: u( x na ) u ( x )EE Ckk2.( 5 分)说明费米能级的物理意义;试画出 N 型半导体的费米能级随温度的变化曲线。
解答:费米能级 E F 是反应电子在各个能级中散布状况的参数。
能量为 E F 的量子态被电子占有的几率为1/2。
E dE F N 型E iE VN 型半导体的费米能级随温度变化曲线如右图所示:(2 分)T3、( 5 分) 金属和 N 型半导体密切接触,接触前,两者的真空能级相等,W M W S 。
试画出金属—半导体接触的能带图,注明接触电势差、空间电荷区和内建电场方向。
解答:E iE CEFMeV 0EFNE v x4.( 5 分)比较说明施主能级、复合中心和圈套在半导体中的作用及其差异。
解答:施主能级:半导体中的杂质在禁带中产生的距离能带较近的能级。
能够经过杂质电离过程向半导体导带供给电子,因此提升半导体的电导率;(1 分)复合中心: 半导体中的一些杂质或缺点,它们在禁带中引入离导带底和价带顶都比较远的局域化能级,非均衡载流子(电子和空穴)能够经过复合中心进行间接复合,所以复合中心很大程度上影响着非均衡载流子的寿命。
( 1 分)圈套:是指杂质或缺点能级对某一种非均衡载流子的明显累积作用,其所俘获的非均衡载流子数量可以与导带或价带中非均衡载流子数量对比较。
圈套的作用能够明显增添光电导的敏捷度以及使光电导的衰减时间明显增添。
(1 分)浅施主能级对载流子的俘获作用较弱;有效复合中心对电子和空穴的俘获系数相差不大,并且,其对非均衡载流子的俘获几率要大于载流子发射回能带的几率。
(完整word版)半导体物理学简答题及答案
复习思虑题与自测题第一章1. 原子中的电子和晶体中电子受势场作用状况以及运动状况有何不同,原子中内层电子和外层电子参加共有化运动有何不同。
答:原子中的电子是在原子核与电子库伦相互作用势的约束作用下以电子云的形式存在,没有一个固定的轨道;而晶体中的电子是在整个晶体内运动的共有化电子,在晶体周期性势场中运动。
当原子相互凑近结成固体时,各个原子的内层电子仍旧构成环绕各原子核的关闭壳层, 和孤立原子同样 ; 但是,外层价电子则参加原子间的相互作用,应当把它们当作是属于整个固体的一种新的运动状态。
构成晶体原子的外层电子共有化运动较强,其行为与自由电子相像,称为准自由电子,而内层电子共有化运动较弱,其行为与孤立原子的电子相像。
2.描绘半导体中电子运动为何要引入 " 有效质量 " 的观点 , 用电子的惯性质量描绘能带中电子运动有何限制性。
答:引进有效质量的意义在于它归纳了半导体内部势场的作用,使得在解决半导体中电子在外力作用下的运动规律时,能够不波及半导体内部势场的作用。
惯性质量描绘的是真空中的自由电子质量,而不可以描绘能带中不自由电子的运动,往常在晶体周期性势场作用下的电子惯性运动,成为有效质量3.一般来说 , 对应于高能级的能带较宽 , 而禁带较窄 , 能否这样,为何?答:不是,能级的宽窄取决于能带的疏密程度,能级越高能带越密,也就是越窄;而禁带的宽窄取决于混杂的浓度,混杂浓度高,禁带就会变窄,混杂浓度低,禁带就比较宽。
4.有效质量对能带的宽度有什么影响,有人说:" 有效质量愈大 , 能量密度也愈大 , 因此能带愈窄 .能否这样,为何?答:有效质量与能量函数关于K的二次微商成反比,对宽窄不同的各个能带,1( k)随 k的变化情况不同,能带越窄,二次微商越小,有效质量越大,内层电子的能带窄,有效质量大;外层电子的能带宽,有效质量小。
5.简述有效质量与能带构造的关系;答:能带越窄,有效质量越大,能带越宽,有效质量越小。
半导体物理试题库及答案
半导体物理试题库及答案一、单项选择题(每题2分,共20分)1. 在半导体中,电子从价带跃迁到导带所需能量的最小值称为:A. 禁带宽度B. 费米能级C. 载流子浓度D. 电子亲和能答案:A2. 下列哪种半导体材料的禁带宽度大于硅?A. 锗B. 砷化镓C. 硅D. 碳化硅答案:D3. PN结在正向偏置时,其导电性能主要取决于:A. 电子B. 空穴C. 杂质D. 复合答案:B4. 半导体器件中,二极管的导通电压通常为:A. 0.2VB. 0.7VC. 1.5VD. 3.3V答案:B5. 在半导体物理学中,霍尔效应可以用来测量:A. 载流子浓度B. 载流子迁移率C. 载流子类型D. 所有以上答案:D二、多项选择题(每题3分,共15分)1. 下列哪些因素会影响半导体的载流子浓度?(多选)A. 温度B. 光照C. 杂质浓度D. 材料类型答案:ABCD2. 半导体器件的能带结构包括:A. 价带B. 导带C. 禁带D. 费米能级答案:ABC3. 下列哪些是半导体材料的特性?(多选)A. 导电性介于导体和绝缘体之间B. 导电性随温度升高而增加C. 导电性随光照强度增加而增加D. 导电性随杂质浓度增加而增加答案:ABCD三、填空题(每空1分,共20分)1. 半导体材料的导电性可以通过掺杂来改变,其中掺入____类型的杂质可以增加载流子浓度。
答案:施主2. 在PN结中,当外加电压的方向与PN结内电场方向相反时,称为______偏置。
答案:反向3. 半导体材料的导电性随温度升高而______。
答案:增加4. 半导体器件的能带结构中,价带和导带之间的区域称为______。
答案:禁带5. 霍尔效应测量中,当载流子受到垂直于电流方向的磁场作用时,会在垂直于电流和磁场的方向上产生______。
答案:霍尔电压四、简答题(每题5分,共10分)1. 简述半导体材料的导电机制。
答案:半导体材料的导电机制主要涉及价带中的电子获得足够能量跃迁到导带,从而成为自由电子,同时在价带中留下空穴。
半导体物理学期末复习试题及答案三
一、选择题。
1. 电离后向半导体提供空穴的杂质是( A ),电离后向半导体提供电子的杂质是( B )。
A. 受主杂质B. 施主杂质C. 中性杂质2. 在室温下,半导体Si 中掺入浓度为31410-cm 的磷杂质后,半导体中多数载流子是( C ),多子浓度为( D ),费米能级的位置( G );一段时间后,再一次向半导体中掺入浓度为315101.1-⨯cm 的硼杂质,半导体中多数载流子是( B ),多子浓度为( E ),费米能级的位置( H );如果,此时温度从室温升高至K 550,则杂质半导体费米能级的位置( I )。
(已知:室温下,31010-=cm n i ;K 550时,31710-=cm n i )A. 电子和空穴B. 空穴C. 电子D. 31410-cmE. 31510-cmF. 315101.1-⨯cmG. 高于i E H. 低于i E I. 等于i E3. 在室温下,对于n 型硅材料,如果掺杂浓度增加,将导致禁带宽度( B ),电子浓度和空穴浓度的乘积00p n ( D )2i n ,功函数( C )。
如果有光注入的情况下,电子浓度和空穴浓度的乘积np ( E )2i n 。
A. 增加B. 不变C. 减小D. 等于E. 不等于F. 不确定4. 导带底的电子是( C )。
A. 带正电的有效质量为正的粒子B. 带正电的有效质量为负的准粒子C. 带负电的有效质量为正的粒子D. 带负电的有效质量为负的准粒子5. P 型半导体MIS 结构中发生少子反型时,表面的导电类型与体材料的类型( B )。
在如图所示MIS 结构的C-V 特性图中,代表去强反型的( G )。
A. 相同B. 不同C. 无关D. AB 段E. CD 段F. DE 段G. EF 和GH 段6. P 型半导体发生强反型的条件( B )。
A. ⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛=i A S n N q T k V ln 0 B. ⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛≥i A S n N q T k V ln 20 C. ⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛=i D S n N q T k V ln 0 D. ⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛≥i D S n N q T k V ln 20 7. 由于载流子存在浓度梯度而产生的电流是( B )电流,由于载流子在一定电场力的作用下而产生电流是( A )电流。
半导体物理学试题及答案
半导体物理学试题及答案半导体物理学试题及答案(一) 一、选择题1、如果半导体中电子浓度等于空穴浓度,则该半导体以( A )导电为主;如果半导体中电子浓度大于空穴浓度,则该半导体以( E )导电为主;如果半导体中电子浓度小于空穴浓度,则该半导体以( C )导电为主。
A、本征B、受主C、空穴D、施主E、电子2、受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )。
A、电子和空穴B、空穴C、电子3、电子是带( B )电的( E );空穴是带( A )电的( D )粒子。
A、正B、负C、零D、准粒子E、粒子4、当Au掺入Si中时,它是( B )能级,在半导体中起的是( D )的作用;当B掺入Si中时,它是( C )能级,在半导体中起的是( A )的作用。
A、受主B、深C、浅D、复合中心E、陷阱5、 MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型( A )。
A、相同B、不同C、无关6、杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是( B )。
A、变大,变小 ;B、变小,变大;C、变小,变小;D、变大,变大。
7、砷有效的陷阱中心位置(B )A、靠近禁带中央B、靠近费米能级8、在热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( A )。
A、大于1/2B、小于1/2C、等于1/2D、等于1E、等于09、如图所示的P型半导体MIS结构的C-V特性图中,AB段代表( A),CD段代表( B )。
A、多子积累B、多子耗尽C、少子反型D、平带状态10、金属和半导体接触分为:( B )。
A、整流的肖特基接触和整流的欧姆接触B、整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触C、非整流的肖特基接触和整流的欧姆接触D、非整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触11、一块半导体材料,光照在材料中会产生非平衡载流子,若光照忽然停止t??后,其中非平衡载流子将衰减为原来的( A )。
半导体物理期末试题及答案
半导体物理期末试题及答案第一题:1. 请简述什么是半导体材料?并举例说明。
半导体材料是介于导体和绝缘体之间的材料,具有介于宽禁带和窄禁带之间的带隙能量。
在常温下,半导体材料既可以导电又可以绝缘。
它的导电性质可以通过控制掺杂来改变。
例如,纯净的硅元素是绝缘体,而掺杂的硅元素可以成为半导体材料。
第二题:2. 请解释什么是PN结?并简述其工作原理。
PN结是由P型半导体和N型半导体之间形成的结。
P型半导体中的杂质具有正电荷,被称为施主杂质;N型半导体中的杂质具有负电荷,被称为受主杂质。
PN结的形成是通过将P型半导体和N型半导体紧密接触,使得施主和受主杂质间发生电荷转移。
工作原理:在PN结中,由于施主杂质和受主杂质之间的电荷转移,使得PN结两侧形成了电场。
这个电场导致了电子从N区向P区漂移,同时空穴从P区向N区漂移。
这种漂移现象产生了空间电荷区,称为耗尽层。
在没有外加电压时,由于耗尽层的存在,PN结处于平衡状态。
当施加外加电压时,可以改变耗尽层的宽度。
正偏压(P极接正电,N极接负电)会使得耗尽层变窄,增加电流流过的机会,从而形成导通。
而负偏压(P极接负电,N极接正电)则会使得耗尽层变宽,阻止电流流过,从而形成截止。
第三题:3. 请解释什么是PN结的击穿电压?并说明几种常见的击穿方式。
PN结的击穿电压是指当施加外加电压达到某一临界值时,PN结内的电场强度足以克服材料的绝缘性,导致电流剧增的电压。
击穿电压是PN结失去绝缘特性的临界电压。
常见的击穿方式包括:- 穿越击穿:在高反向电压下,电子从PN结中的价带直接穿越到导带。
这种击穿一般发生在高纯度的材料中。
- 雪崩击穿:在高反向电压下,少数载流子加速并与相邻的原子碰撞,释放更多的载流子。
这种击穿一般发生在掺杂较多的材料中。
- 隧道击穿:在高反向电压下,载流子通过突破禁带形成隧道效应而穿越PN结。
这种击穿一般发生在材料的禁带很窄的情况下。
第四题:4. 请介绍几种常见的半导体器件,并简要说明其原理和应用。
半导体试题及答案
半导体试题及答案一、单项选择题(每题2分,共20分)1. 半导体材料的导电性介于金属和绝缘体之间,这是因为:A. 半导体材料内部存在大量的自由电子B. 半导体材料内部存在大量的空穴C. 半导体材料的能带结构D. 半导体材料的晶格结构答案:C2. 下列哪种掺杂方式可以增加半导体的导电性?A. N型掺杂B. P型掺杂C. 同时进行N型和P型掺杂D. 不进行任何掺杂答案:A3. 半导体的PN结在正向偏置时,其导通的原因是:A. 电子从P区注入N区B. 空穴从N区注入P区C. 电子和空穴的复合D. 电子和空穴的注入答案:D4. 半导体器件中,晶体管的放大作用主要依赖于:A. 基极电流B. 发射极电流C. 集电极电流D. 所有电流的总和5. 下列哪种材料不适合作为半导体材料?A. 硅B. 锗C. 铜D. 砷化镓答案:C6. 半导体器件的最小特征尺寸缩小,可以带来以下哪些好处?A. 降低成本B. 提高速度C. 减少功耗D. 所有以上答案:D7. 在半导体工艺中,光刻技术主要用于:A. 制造晶体管B. 制造集成电路C. 制造绝缘体D. 制造导线答案:B8. 半导体的能带理论中,价带和导带之间的区域被称为:A. 能隙B. 能级C. 能带D. 能区答案:A9. 下列哪种半导体器件具有记忆功能?B. 晶体管C. 存储器D. 逻辑门答案:C10. 半导体器件的热稳定性主要取决于:A. 材料的热导率B. 器件的散热设计C. 器件的制造工艺D. 所有以上答案:D二、多项选择题(每题3分,共15分)1. 半导体材料的特性包括:A. 导电性B. 绝缘性C. 半导体性D. 磁性答案:AC2. 下列哪些因素会影响半导体器件的性能?A. 温度B. 湿度C. 光照D. 电压答案:ABC3. 半导体器件的类型包括:A. 二极管B. 晶体管C. 集成电路D. 电阻答案:ABC4. 下列哪些是半导体材料的掺杂元素?A. 硼B. 磷C. 铜D. 锗答案:AB5. 在半导体工艺中,下列哪些步骤是必要的?A. 清洗B. 氧化C. 蒸发D. 抛光答案:ABC三、填空题(每题2分,共20分)1. 半导体材料的导电性主要依赖于______。
半导体物理学试题及答案
半导体物理学试题及答案半导体物理学试题及答案(一) 一、选择题1、如果半导体中电子浓度等于空穴浓度,则该半导体以( A )导电为主;如果半导体中电子浓度大于空穴浓度,则该半导体以( E )导电为主;如果半导体中电子浓度小于空穴浓度,则该半导体以( C )导电为主。
A、本征B、受主C、空穴D、施主E、电子2、受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )。
A、电子和空穴B、空穴C、电子3、电子是带( B )电的( E );空穴是带( A )电的( D )粒子。
A、正B、负C、零D、准粒子E、粒子4、当Au掺入Si中时,它是( B )能级,在半导体中起的是( D )的作用;当B掺入Si中时,它是( C )能级,在半导体中起的是( A )的作用。
A、受主B、深C、浅D、复合中心E、陷阱5、 MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型( A )。
A、相同B、不同C、无关6、杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是( B )。
A、变大,变小 ;B、变小,变大;C、变小,变小;D、变大,变大。
7、砷有效的陷阱中心位置(B )A、靠近禁带中央B、靠近费米能级8、在热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( A )。
A、大于1/2B、小于1/2C、等于1/2D、等于1E、等于09、如图所示的P型半导体MIS结构的C-V特性图中,AB段代表( A),CD段代表( B )。
A、多子积累B、多子耗尽C、少子反型D、平带状态10、金属和半导体接触分为:( B )。
A、整流的肖特基接触和整流的欧姆接触B、整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触C、非整流的肖特基接触和整流的欧姆接触D、非整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触11、一块半导体材料,光照在材料中会产生非平衡载流子,若光照忽然停止t??后,其中非平衡载流子将衰减为原来的( A )。
半导体物理学试题及答案
半导体物理学试题及答案(总6页) --本页仅作为文档封面,使用时请直接删除即可----内页可以根据需求调整合适字体及大小--半导体物理学试题及答案半导体物理学试题及答案(一) 一、选择题1、如果半导体中电子浓度等于空穴浓度,则该半导体以( A )导电为主;如果半导体中电子浓度大于空穴浓度,则该半导体以( E )导电为主;如果半导体中电子浓度小于空穴浓度,则该半导体以( C )导电为主。
A、本征B、受主C、空穴D、施主E、电子2、受主杂质电离后向半导体提供( B ),施主杂质电离后向半导体提供( C ),本征激发向半导体提供( A )。
A、电子和空穴B、空穴C、电子3、电子是带( B )电的( E );空穴是带( A )电的( D )粒子。
A、正B、负C、零D、准粒子E、粒子4、当Au掺入Si中时,它是( B )能级,在半导体中起的是( D )的作用;当B掺入Si中时,它是( C )能级,在半导体中起的是( A )的作用。
A、受主B、深C、浅D、复合中心E、陷阱5、 MIS结构发生多子积累时,表面的导电类型与体材料的类型( A )。
A、相同B、不同C、无关6、杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是( B )。
A、变大,变小 ;B、变小,变大;C、变小,变小;D、变大,变大。
7、砷有效的陷阱中心位置(B )A、靠近禁带中央B、靠近费米能级8、在热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( D ),当温度大于热力学温度零度时,能量比EF小的量子态被电子占据的概率为( A )。
A、大于1/2B、小于1/2C、等于1/2D、等于1E、等于09、如图所示的P型半导体MIS结构的C-V特性图中,AB段代表( A),CD段代表( B )。
A、多子积累B、多子耗尽C、少子反型D、平带状态10、金属和半导体接触分为:( B )。
A、整流的肖特基接触和整流的欧姆接触B、整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触C、非整流的肖特基接触和整流的欧姆接触D、非整流的肖特基接触和非整流的欧姆接触11、一块半导体材料,光照在材料中会产生非平衡载流子,若光照忽然停止t?后,其中非平衡载流子将衰减为原来的( A )。
半导体物理试题
一、名词解释1、施主杂质:在半导体中电离时,能够释放电子而产生导电电子并形成正电中心的杂质称为施主杂质。
受主杂质:在半导体中电离时,能够释放空穴而产生导电空穴并形成负电中心的杂质称为受主杂质。
2、本征半导体:完全不含缺陷且无晶格缺陷的纯净半导体称为本征半导体。
实际半导体不可能绝对地纯净,本征半导体一般是指导电主要由本征激发决定的纯净半导体。
3、多子、少子(1)少子:指少数载流子,是相对于多子而言的。
如在半导体材料中某种载流子占少数,在导电中起到次要作用,则称它为少子。
(2)多子:指多数载流子,是相对于少子而言的。
如在半导体材料中某种载流子占多数,在导电中起到主要作用,则称它为多子。
4、欧姆接触指金属与半导体的接触,其接触面的电阻远小于半导体本身的电阻,实现的主要措施是在半导体表面层进行高参杂或引入大量的复合中心。
5、(1)费米能级:费米能级是绝对零度时电子的最高能级。
(2)受主能级: 被受主杂质所束缚的空穴的能量状态称为受主能级(3)施主能级:被施主杂质束缚的电子的能量状态称为施主能级6、电子亲和能:真空的自由电子能级与导带底能级之间的能量差,也就是把导带底的电子拿出到真空去而变成自由电子所需要的能量。
7、深/浅能级(1)浅能级杂质:在半导体中,能够提供能量靠近导带的电子束缚态或能量接近价带的空穴束缚态的杂质称为浅能级杂质。
(2)深能级杂质:在半导体中,能够提供能量接近价带的电子束缚态或能量接近导带的空穴束缚态的杂质称为深能级杂质。
8、肖特基势垒金属与半导体接触时,若二者功函不同,载流子会在金属与半导体之间流动,稳定时系统费米能级统一,在半导体表面一层形成表面势垒,是一个高阻区域,称为阻挡层。
电子必须跨越的界面处势垒通常称为肖特基势垒。
二、简答题1.简述PN结反向击穿的原理(雪崩效应、齐纳击穿、热电击穿)答:(1)雪崩击穿:半导体中,pn结反向电压增大时,势垒区中的电场很强,在势垒区内的电子和空穴由于受到强电场的漂移作用,具有很大的动能,它们与势垒区内的晶格原子发生碰撞时,能把价键上的电子和空穴碰撞出来,成为导电电子,同时产生一个空穴。
半导体物理期末考试试卷及答案解析
---------------------------------------------------------------最新资料推荐------------------------------------------------------ 半导体物理期末考试试卷及答案解析------------------------------装---------------------------------------------订----------------------------------------线----------------------------------------安徽大学 20 09—20 10 学年第一学期《半导体物理学》考试试卷(B 卷)(闭卷时间 120 分钟)题号一二三四五六七总分得分阅卷人学号答题勿超装订线姓名专业年级一、选择题(每小题 2 分,共 20 分)得分1. 本征半导体是指( )的半导体。
A. 不含杂质和缺陷B. 电子浓度和空穴浓度相等C. 电阻率高D. 电子浓度与本征载流子浓度相等2. 关于 Si 的能带特征,以下描述错误的是( )。
A. 导带底位于六个等效的<100>方向B. 价带顶位于布里渊区中心C. Si 是直接带隙半导体D. 导带底附件的等能面是旋转椭球面3. 导带底附件的状态密度为 gc (E) ,电子占据能级 E 的几率为 fB (E) ,则导带电子浓度为( )。
A. gc (E) fB ( E )B. gc (E) fB ( E ) dE4. 简并半导体是指( )的半导体。
Ec′∫ C. Ec gc (E)dE∫ ( ) Ec′D. Ec gc (E) fB E dEA. (Ec -EF)或(EF-Ev)≤0 B. (Ec-EF)或(EF-Ev)≥0C. 能使用玻尔兹曼近似计算载流子浓度D. 导带底和价带顶能容纳多个状态相同的电子5.1/ 14对于 n 型非简并半导体,在饱和区,电阻率随温度上升而增加,可能的原因是( )。
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半导体物理学考题 A (2010年1月)解答一、(20分)简述下列问题:1.(5分)布洛赫定理。
解答:在周期性势场中运动的电子,若势函数V(x)具有晶格的周期性,即:)x (V )na x (V =+,则晶体中电子的波函数具有如下形式:)x (u e )x (k ikx=ψ,其中,)x (u k 为具有晶格周期性的函数,即:)x (u )na x (u k k =+2.(5分)说明费米能级的物理意义;试画出N 型半导体的费米能级随温度的变化曲线。
解答:费米能级E F 是反映电子在各个能级中分布情况的参数。
能量为E F 的量子态被电子占据的几率为1/2。
N 型半导体的费米能级随温度变化曲线如右图所示:(2分)3、(5分)金属和N 型半导体紧密接触,接触前,二者的真空能级相等,S M W W <。
试画出金属—半导体接触的能带图,标明接触电势差、空间电荷区和内建电场方向。
解答:4.(5分)比较说明施主能级、复合中心和陷阱在半导体中的作用及其区别。
解答:施主能级:半导体中的杂质在禁带中产生的距离能带较近的能级。
可以通过杂质电离过程向半导体导带提供电子,因而提高半导体的电导率;(1分)复合中心:半导体中的一些杂质或缺陷,它们在禁带中引入离导带底和价带顶都比较远的局域化能级,非平衡载流子(电子和空穴)可以通过复合中心进行间接复合,因此复合中心很大程度上影响着非平衡载流子的寿命。
(1分)陷阱:是指杂质或缺陷能级对某一种非平衡载流子的显著积累作用,其所俘获的非平衡载流子数目可以与导带或价带中非平衡载流子数目相比拟。
陷阱的作用可以显著增加光电导的灵敏度以及使光电导的衰减时间显著增长。
(1分)浅施主能级对载流子的俘获作用较弱;有效复合中心对电子和空穴的俘获系数相差不大,而且,其对非平衡载流子的俘获几率要大于载流子发射回能带的几率。
一般说来,只有杂质的能级比费米能级离导带底或价带顶更远的深能级杂质,才能成为有效的复合中心。
而有效的陷阱则要求其对电子和空穴的俘获几率必须有很大差别,如有效的电子陷阱,其对电子的俘获几率远大于对空穴的俘获几率,因此才能保持对Cv FNFME iE ϖCidV电子的显著积累作用。
一般来说,当杂质能级与平衡时费米能级重合时,是最有效的陷阱中心。
(2分) 二、(15分)设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近的能量)k (E c 为:m)k k (m 3k )k (E 21222c -+=ηη 价带极大值附近)k (E v 为: mk 3m 6k )k (E 22212v ηη-= 式中m 为电子质量,ak 1π=求出:⑴.禁带宽度;⑵.导带底电子的有效质量和价带顶空穴的有效质量;⑶.导带底的电子跃迁到价带顶时准动量的改变量,能量的改变量。
解答:⑴. 求禁带宽度E g (7分) 根据 , 可求出对应导带能量极小值E c-min 的k 值1min c k 43k =-,则212k k c min c k m 4)k (E E min c η==-=- 根据 , 可求出对应价带能量极大值E v-max 的k 值0k maxv =-,则212k k v max v k m6)k (E E max v η==-=-则22222212maxv min c g m a48h m a 12k m 12E E E =π==-=--ηη ⑵.求导带底电子有效质量(3分),则求价带顶空穴有效质量(3分) ,⑶.准动量改变量:(2分)能量改变量:=-Eg =-22222ma48h ma 12-=πη0m )k k (2m 3k 2dk )k (dE 122c =-+=ηη0mk 6dk )k (dE 2v =-=ηm 38m 2m 32dk )k (E d 2222c 2ηηη=+=m 83dk )k (E d /m 2c 22*n ==ηm 6dk )k (Ed 22v 2η-=m 61dk )k (E d /m m 2v 22*n *p =-=-=ηa8h3a 43k 43)k k (k 1min c max v -=-=-=-=--ηηηηπ∆三、(10分)一个有杂质补偿的硅半导体,已知掺入的受主浓度315a cm 10N -=。
设室温下费米能级恰好与施主能级E d 重合,电子浓度315cm105n -⨯=,试求出:(1)平衡少子浓度;(2)样品中的施主浓度N d (设)2g d =; (3)电离杂质和中性杂质的浓度各是多少? 解答:(1)(2分)()34152102105.4105105.1-⨯=⨯⨯==cm n n p i(2)(4分)室温时,一般半导体都未进入本征激发区,可忽略本征激发。
而n>N a ,表明为N 型半导体。
所以受主全部电离。
电中性条件为:1exp +⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛-=-=+kTE E g N n N N n df d dd d a , 由于d f E E =,则 1+=+d dg N Na n , )(108.1)10105(3))(1(3161515-⨯=+⨯⨯=++=cm N n g N a d d(3)(4分)电离施主浓度315106-⨯=+=-cm N n n N a d d中性施主浓度316102.1)(-⨯=+-=cm N n N n a d d电离受主浓度31510-=cm Na 中性受主浓度0=a p四、(10分)试用一维非均匀掺杂(掺杂浓度随x 的增加而下降)的非简并p 型半导体模型导出爱因斯坦关系式:ekTD pp=μ 解答:由于掺杂浓度不均匀,电离后空穴浓度也不均匀,形成扩散电流dxdp eD pp -=j 空穴向右扩散的结果,使左边形成负电荷区,右边形成正电荷区,产生反x 方向的自建电场E i ,导致漂移电流i 'j pE e p p μ=热平衡情况下,自建电场引起的漂移电流与扩散电流彼此抵消,总的电流密度为零: 0e =-i p p pE dxdpeD μ+ 而dxdVE -=,有电场存在时,在各处产生附加势能)(x eV -,使能带发生倾斜。
设x 处价带顶为)()(x eV E x E v v -=,则x 处的空穴浓度为⎪⎭⎫⎝⎛---=kT ))x (eV E (E exp N )x (p V F V则iV F V E kTpe dx dV kT e p dx dV kT e kT )x (eV E E exp N dx dp =-=⎪⎭⎫ ⎝⎛-⋅⎪⎭⎫ ⎝⎛+--= 故0pE e E kTepD e -i p i p =+μ 得ekTD pp=μ 得证。
五、(15分)(1)试证明,一般情况下,本征半导体的电阻率不是最高电阻率;(2)最高电阻率是本征电阻率的多少倍?(3)若p n μμ>,最高电阻率的半导体是N 型还是P 型? 解答:(1)(8分)电阻率)(1112p in pn nnn e pe ne μμμμσρ+=+==令 p i n nn n n f μμ2)(+=,当)(n f 为最小值时,ρ为最大值。
令 0)(22=-=p i n nn dn n df μμ,得到: n p i n n μμ= 此时,02)(3222>=p i nn dn n f d μ,则 )(n f 为最小值,ρ为最大值:pn i p n i p n i e n n n e μμμμμμρ2111max =+⋅=而本征半导体电阻率为:)(1p n i i e n μμρ+=一般情况下,p n μμ>,所以,max ρρ≠i ,得证。
(2)(3分) pn pn i μμμμρρ2max += (3)(4分)已知npin n μμ=, 若p n μμ>,则i n n <,i i n nn p >=2,即n p >,所以,最高电阻率的半导体是P 型半导体。
六、(15分) 光照射如图所示P 型样品,假设光被均匀地吸收,电子-空穴对的产生率为G (小注入),少子的寿命为τ,开始光照(t=0)时,过剩少子浓度为零。
⑴.求出在光照开始后任意时刻t 的过剩少子浓度;⑵.不考虑表面复合,求出在光照达到稳定时的过剩少子浓度分布;(3). 当x=0的表面的表面复合速度为S 时,求出样品中稳态的过剩少子浓度分布。
解答:(1).(5分)由于无外场作用,且光被均匀吸收,非平衡载流子产生均匀,则连续性方程为:,则令所以 ,由边界条件:t=0,(2).(5分)无表面复合,光照达到稳定时,过剩载流子浓度将不再随时间变化:(3)(5分)当x =0处有表面复合,则引起载流子向x -方向的扩散,此时,稳态连续性方程为:022=+∆-∆G n dx n d D n n τ,则 222nnL G n dx n d τ-∆=∆ 令 n G n n τ-∆=∆', 则有:n nL x L x n Be AeG x n //)(++=∆-τ设样品无穷大,而)(x n ∆是有限值,因此,B =0,则 nL x n Ae G x n /)(-+=∆τ在x=0处,表面复合率=扩散流密度,即:0x 0x nn S dxnd D ==⋅=∆∆, 则 )(A G S A L D n nn+=-τ 得到 n n n n SL D G SL A +-=τ, 所以, )1()(/n L x nn nn e SL D SL G x n -+-=∆τG n t n +∆-=∂∆∂τn G tn ∆-=∂∆∂ττ有,'τG n n -∆=∆得到,’‘τn t n ∆-=∂∆∂τ/'t Ae n -=∆ττ/)(t Ae G t n -+=∆τG A n -=∆=得到,0)1()(/ττt e G t n --=∆ττG n G nt n =∆=+∆-=∂∆∂,00X七、(15分)半导体光吸收有哪几种?描述各种吸收过程及其吸收谱的特点,给出相应吸收能量阈值。
解答:半导体光吸收:本征吸收,激子吸收,杂质吸收,自由载流子吸收,晶格振动吸收 (1分) 1、(3分)本征吸收:电子由价带向导带的跃迁所引起的光吸收。
吸收谱为连续谱,在高能端。
吸收阈值为:g E h ≥ν(直接跃迁),p g E E h -≥ν(间接跃迁)2、(3分)激子吸收:价带中的电子吸收g E h <ν的光子,从价带激发,但还不足以进入导带成为自由电子,因库仑作用仍然和价带中留下的空穴联系起来,形成束缚态,即为激子,所引起的光吸收为激子吸收。
吸收谱在低温时才可观察到,在能量略低于本征吸收限处,为分立谱,并渐与本征吸收谱相连。
吸收能量阈值为:1ex E Eg -3、(3分)杂质吸收:占据杂质能级的电子或空穴的跃迁所引起的光吸收。