第2章-清华大学半导体物理与器件
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第二章半导体中的电子状态要求:掌握能带、有效质量和空穴的概念、常见半导体的能带结构、杂质能级。纲要
•半导体中的电子状态和能带的概念
•半导体中电子在外力下的运动,有效质量•材料导电性的差别(半导体如何导电)•空穴的概念
•常见半导体的能带结构(结论性知识)•杂质和缺陷能级
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其中布洛赫波为一个被周期函数u k (r )所调制的平面波。电子的空间分布几率|Ψ*Ψ|=|u *u |是晶格的周期函数。
u k (r )反映电子在原胞内的运动。e ik·r 反映电子在整个晶体中的共有化运动(如何理解?)。§2.1 半导体中的电子状态和能带(复习)布洛赫波
采用单电子近似,在晶体的周期场中,电子的波函数为布洛赫波函数:
(a n 为任意晶格矢)r k i k k e r u r v v v v v v ⋅=)()(ψ)()(n k k a r u r u v v v v v +=
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半导体能带的两种处理方法(半导体中的电子介于自由和强束缚之间)
1、近自由电子近似:从自由出发,加束缚条件
2、紧束缚近似:从束缚出发,减弱束缚•电子在原胞中不同位置上出现的几率不同(归一化)。
•电子在不同原胞的对应位置出现的几率相同(几率能否叠加?),真正反映电子的共有化运动。•如何理解电子的宏观运动?
电子的波函数几率和统计力学得到电子空间分布的变化,电子空间分布变化表现为宏观的电子运动。
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例:Si(金刚石结构)能带的形成(SP 3杂化和电子占据能态情况)
1、能级数目;
2、能级间隔;
3、电子不再是局域的。
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轨道杂化
和电子占
据情况:
价带完全
填满;导
带没有电
子。
布里渊区和能带中的电子态(用k表示)
晶体中同一电子态可以有多个k 来表征。一维, k 和(k+2nπ/a)表示同一电子态。为使每个能带的E∼k关系一一对应,将k 轴分成若干个区,称为布里渊区。一维:
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三维:满足布喇格反射条件的一个个平面围成的多面体。Ge、Si等面心立方晶格,简约布里渊区为截角八
面体。若取k
x 、k
y
、k
z
分别为[100]、[010]、[001]方
向
Г布区中心,k=0的点
Δ表示<100>方向
Λ表示<111>方向
Σ表示<110>方向
Χ布区边界与<100>轴的交点
L 布区边界与<111>轴的交点
Κ布区边界与<110>轴的交点
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m *的意义:
晶体中的电子除受到外力,还受到周期场力。引入m*,可得出外力F 和加速度a 的简单关系,把复杂的周期场力包括到m*中去了。
引入共有化运动速度和有效质量后,可将晶体中的电子视为经典粒子,将其运动规律等效成自由电子运动规律。则电子共有化运动的加速度与力的关系和经典力学相同,即:
m*具有质量量纲,称为晶体中电子的有效质量。
a
m*F =
•带底m*>0; 带顶m*<0;
•带顶、带底附近,E-k 关系曲率大的m*小;曲
率小的m*大;
•能带越宽,有效质量越小;能带越窄,有效质
量越大。
*采用有效质量的概念后,周期势场的作用就被
隐藏起来。负有效质量是在外力下的表现。
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部分填充带
对称填充,未加外场宏观电流为零。
加外场,电子逆电场方向在k 空间移动。散射最终造成稳定的不对称分布,产生宏观电流(电场方向)。
∑=−=n
i i
qv J 21
电流密度:
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§2.3导体、绝缘体和半导体的能带模型
T >0K ,一定数量电子激发到上面的空带。绝缘体的E g 大,导带电子极少;半导体的E g 小,导带电子较多。根据能带填充情况和E g 大小来区分金属、半导体和绝缘体。金属导体:最高填充带部分填充;
绝缘体和半导体:T =0K
,最高填充带为填满电子的带。
空带中若有电子,该带可参与导电,称为导带;满带中若缺少电子,该带亦可参与导电,称为价带。
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§2.4 空穴
半导体中的电流=导带电子的电流+价带电子的电流是外场引起的电子速度改变量即漂移分量,取决于
电场和散射。每个电子的Δv i 不同,但大量电子Δv i 的平均值在一定的外场下是确定的:(2.39)
是外场为零时电子的速度,显然:导带中少量电子的电流
导带少量电子处于导带底部,m n >0且为常数。设导带电子浓度n 0 ,外场下这些电子产生的电流密度为j n :
∑∑∑=−=Δ−−=−=000
1
1
01
n i i
n i i n i i n v q v q v q j v v v v 00=Σi v v 0i v v i v v
Δ
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价带中大量电子的电流用上述方法求价带电子的电流的问题:
设价带顶附近空态浓度p 0;
价带中全部电子在外场作用下产生的电流密度为j p 。若将空态全部填上电子,则这些电子在电场作用下产生的电流密度为j p ’。全满带中的电子不导电:
(2.43)
0=′+p
p j j v
v —
“空穴”的概念
计算量太大、m * 不为常数