半导体物理第十章1

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一、半导体物理知识大纲核心知识单元 A:半导体电子状态与能级(课程基础——掌握物理概念与物理过程、是后面知识的基础)半导体中的电子状态(第 1 章)半导体中的杂质和缺陷能级(第 2 章)核心知识单元 B:半导体载流子统计分布与输运(课程重点——掌握物理概念、掌握物理过程的分析方法、相关参数的计算方法)半导体中载流子的统计分布(第 3 章)半导体的导电性(第 4 章)非平衡载流子(第 5 章)核心知识单元 C:半导体的基本效应(物理效应与应用——掌握各种半导体物理效应、分析其产生的物理机理、掌握具体的应用)半导体光学性质(第10 章)半导体热电性质(第11 章)半导体磁和压阻效应(第12 章)二、半导体物理知识点和考点总结第一章半导体中的电子状态本章各节内容提要:本章主要讨论半导体中电子的运动状态。

主要介绍了半导体的几种常见晶体结构,半导体中能带的形成,半导体中电子的状态和能带特点,在讲解半导体中电子的运动时,引入了有效质量的概念。

阐述本征半导体的导电机构,引入了空穴散射的概念。

最后,介绍了Si、Ge 和 GaAs 的能带结构。

在 1.1 节,半导体的几种常见晶体结构及结合性质。

(重点掌握)在 1.2 节,为了深入理解能带的形成,介绍了电子的共有化运动。

介绍半导体中电子的状态和能带特点,并对导体、半导体和绝缘体的能带进行比较,在此基础上引入本征激发的概念。

(重点掌握)在 1.3 节,引入有效质量的概念。

讨论半导体中电子的平均速度和加速度。

(重点掌握)在1.4 节,阐述本征半导体的导电机构,由此引入了空穴散射的概念,得到空穴的特点。

(重点掌握)在 1.5 节,介绍回旋共振测试有效质量的原理和方法。

(理解即可)在 1.6 节,介绍 Si 、Ge 的能带结构。

(掌握能带结构特征)在 1.7 节,介绍Ⅲ -Ⅴ族化合物的能带结构,主要了解GaAs 的能带结构。

(掌握能带结构特征)本章重难点:重点:1、半导体硅、锗的晶体结构(金刚石型结构)及其特点;三五族化合物半导体的闪锌矿型结构及其特点。

张宝林-《半导体物理》[课件-总结]-文档资料

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第四章 电子和空穴的统计分布
1。状态密度和状态密度有效质量 2。费米分布函数:p73, 4.10式
描述每个量子态被电子占据的几率随能量E的变化 3。费米能级EF的意义,影响费米能级的因素;费米分布函数的性质 p74 4。能带中电子和空穴的浓度:
p77,4.22式,4.21式 ;p78, 4.25和4.26 p79,4.29式 5。本征半导体,电中性条件 本征费米能级:p81, 4.31式 本征载流子浓度:4.32式,4.33, 4.34, 4.35
第十章:
三、丹倍效应和光磁效应:
光生伏特效应: 相关概念、物理过程的描述及其性质。 相关应用。
THE END OF THE COURSE
18
第七章 非平衡载流子
平衡载流子和非平衡载流子 §7.1 非平衡载流子的产生和复合:(p166)
1。产生率和复合率 2。非平衡载流子的复合和寿命:典型公式:(p169, 7.7式)
直流光电导衰减法测量非平衡载流子寿命。 3。非平衡状态的准费米能级:(p170)
7.14和7.15,7.16和7.17,7.18, 7.19和7.20 准确写出
3。复合系数(p205) 不要求
§7.8 直接俄歇复合 (p207)
1。复合率:7.161 与哪些量有关,为什么?
2。非平衡载流子寿命:p210, 7.175及其衍生公式
§7.9 通过复合中心的复合 (p211)
新概念:电子和空穴的俘获系数: 7.179和7.187 7.185和7.192的物理意义。
3。表面复合和表面复合率:p198 要求清楚过程和对非平衡载流子稳态分布的影响,7.114, 7.115, 7.116 清楚其边界条件。
第七章 非平衡载流子

半导体物理第十章半导体的光学性质

半导体物理第十章半导体的光学性质
自发辐射光子的位相和传播方向与 入射光子不相同。
吸收 自发吸收
受激辐射:
当处于激发态(E2)的原子收到另一个能量为(E2-E1)的光子 作用时,受激原子立刻跃迁到基态E1,并发射一个能量也 为(E2-E1)的光子。这种在光辐射的刺激下,受激原子从激 发态向基态跃迁的辐射过程,成为受激辐射。 受激辐射光子的全部特性(频率,位相,方向和偏振态等 与入射光子完全相同。 受激辐射过程中,一个入射光子能产生两个相位,同频率 的光子
透过一定厚度d的媒质(两个界面):
T = (1− R)2 e−αd
如:玻璃,消光系数k=0 T=(1-R)2=0.962~92%
10.2 半导体的光吸收
本征吸收 直接跃迁,间接跃迁 其他吸收过程
10.2.1 本征吸收
本征吸收: 电子吸收光子由价带激发到导带的过程
条件:
hω ≥ hω0 = Eg
反射系数
R = ( n1 − n2 )2 n1 + n2
= ( n −1− ik )2 n +1− ik
=
(n −1)2 + k 2 (n +1)2 + k 2
玻璃折射率为 n~1.5,k~0, 反射率R~4% 如某一材料 n~4, k~0, 反射率为 R~36%
透射系数,透过某一界面的光的能流密度比值: T=1-R
把处于激发态E2的原子数大于处于基态E1的原子数的这种 反常情况,成为“分布反转”或“粒子数反转”。
要产生激光,必须在系统中造成粒子数反转。
粒子数反转条件
为了提高注入效率 异质结发光: PN结两边禁带宽度不等,势垒不对称。 空穴能注入N区,而电子不能注入P区。 P区为注入区,N区为发光区。

《半导体物理》讲义

《半导体物理》讲义

晶体结构晶格§1晶格相关的基本概念1.晶体:原子周期排列,有周期性的物质。

2.晶体结构:原子排列的具体形式。

3.晶格:典型单元重复排列构成晶格。

4.晶胞:重复性的周期单元。

5.晶体学晶胞:反映晶格对称性质的最小单元。

6.晶格常数:晶体学晶胞各个边的实际长度。

7.简单晶格&复式晶格:原胞中包含一个原子的为简单晶格,两个或者两个以上的称为复式晶格。

8.布拉伐格子:体现晶体周期性的格子称为布拉伐格子。

(布拉伐格子的每个格点对应一个原胞,简单晶格的晶格本身和布拉伐格子完全相同;复式晶格每种等价原子都构成和布拉伐格子相同的格子。

)9.基失:以原胞共顶点三个边做成三个矢量,α1,α2,α3,并以其中一个格点为原点,则布拉伐格子的格点可以表示为αL=L1α1 +L2α2 +L3α3 。

把α1,α2,α3 称为基矢。

10.平移对称性:整个晶体按9中定义的矢量αL 平移,晶格与自身重合,这种特性称为平移对称性。

(在晶体中,一般的物理量都具有平移对称性)11.晶向&晶向指数:参考教材。

(要理解)12.晶面&晶面指数:参考教材。

(要理解)立方晶系中,若晶向指数和晶面指数相同则互相垂直。

§2金刚石结构,类金刚石结构(闪锌矿结构)金刚石结构:金刚石结构是一种由相同原子构成的复式晶格,它是由两个面心立方晶格沿立方对称晶胞的体对角线错开1/4长度套构而成。

常见的半导体中Ge,Si,α-Sn(灰锡)都属于这种晶格。

金刚石结构的特点:每个原子都有四个最邻近原子,它们总是处在一个正四面体的顶点上。

(每个原子所具有的最邻近原子的数目称为配位数)每两个邻近原子都沿一个<1,1,1,>方向,处于四面体顶点的两个原子连线沿一个<1,1,0>方向,四面体不共顶点两个棱中点连线沿一个<1,0,0,>方向。

金刚石结构的密排面:{1,1,1} 晶面的原子都按六方形的方式排列。

半导体物理学(刘恩科第七版)半导体物理学课本习题解一到四章

半导体物理学(刘恩科第七版)半导体物理学课本习题解一到四章

半导体物理学(刘恩科第七版)半导体物理学课本习题解⼀到四章第⼀章1.设晶格常数为a 的⼀维晶格,导带极⼩值附近能量E c (k)和价带极⼤值附近能量E V (k)分别为:E c =0220122021202236)(,)(3m k h m k h k E m k k h m k h V -=-+ 0m 。

试求:为电⼦惯性质量,nm a ak 314.0,1==π(1)禁带宽度;(2)导带底电⼦有效质量; (3)价带顶电⼦有效质量;(4)价带顶电⼦跃迁到导带底时准动量的变化解:(1)eVm k E k E E E k m dk E d k m kdk dE Ec k k m m m dk E d k k m k k m k V C g V V V c 64.012)0()43(0,060064338232430)(2320212102220202020222101202==-==<-===-==>=+===-+ 因此:取极⼤值处,所以⼜因为得价带:取极⼩值处,所以:在⼜因为:得:由导带:043222*83)2(1m dk E d mk k C nC===sN k k k p k p m dk E d mk k k k V nV/1095.7043)()()4(6)3(25104300222*11-===?=-=-=?=-== 所以:准动量的定义:2. 晶格常数为0.25nm 的⼀维晶格,当外加102V/m ,107 V/m 的电场时,试分别计算电⼦⾃能带底运动到能带顶所需的时间。

解:根据:t k hqE f ??== 得qEkt -?=? sat sat 137192821911027.810106.1)0(1027.810106.1)0(----?=??--==--=ππ补充题1分别计算Si (100),(110),(111)⾯每平⽅厘⽶内的原⼦个数,即原⼦⾯密度(提⽰:先画出各晶⾯内原⼦的位置和分布图)Si 在(100),(110)和(111)⾯上的原⼦分布如图1所⽰:(a )(100)晶⾯(b )(110)晶⾯(c )(111)晶⾯补充题2⼀维晶体的电⼦能带可写为)2cos 81cos 87()22ka ka ma k E +-= (,式中a 为晶格常数,试求(1)布⾥渊区边界;(2)能带宽度;(3)电⼦在波⽮k 状态时的速度;(4)能带底部电⼦的有效质量*n m ;(5)能带顶部空⽳的有效质量*p m解:(1)由0)(=dk k dE 得 an k π= (n=0,±1,±2…)进⼀步分析an k π)12(+= ,E (k )有极⼤值,214221422142822/1083.7342232212414111/1059.92422124142110/1078.6)1043.5(224141100cm atom a a a cm atom a a a cm atom a a ?==?+?+??==?? +?+?=?==?+-):():():(222)mak E MAX =( ank π2=时,E (k )有极⼩值所以布⾥渊区边界为an k π)12(+=(2)能带宽度为222)()ma k E k E MIN MAX =-( (3)电⼦在波⽮k 状态的速度)2sin 4 1(sin 1ka ka ma dk dE v -== (4)电⼦的有效质量)2cos 21(cos 222*ka ka mdkEd m n-== 能带底部 an k π2=所以m m n 2*= (5)能带顶部 an k π)12(+=,且**n p m m -=,所以能带顶部空⽳的有效质量32*mm p =第⼆章1. 实际半导体与理想半导体间的主要区别是什么?答:(1)理想半导体:假设晶格原⼦严格按周期性排列并静⽌在格点位置上,实际半导体中原⼦不是静⽌的,⽽是在其平衡位置附近振动。

半导体物理习题问题详解

半导体物理习题问题详解

第一章半导体中的电子状态例1.证明:对于能带中的电子,K状态和-K状态的电子速度大小相等,方向相反。

即:v(k)= -v(-k),并解释为什么无外场时,晶体总电流等于零。

解:K状态电子的速度为:(1)同理,-K状态电子的速度则为:(2)从一维情况容易看出:(3)同理有:(4)(5)将式(3)(4)(5)代入式(2)后得:(6)利用(1)式即得:v(-k)= -v(k)因为电子占据某个状态的几率只同该状态的能量有关,即:E(k)=E(-k)故电子占有k状态和-k状态的几率相同,且v(k)=-v(-k)故这两个状态上的电子电流相互抵消,晶体中总电流为零。

例2.已知一维晶体的电子能带可写成:式中,a为晶格常数。

试求:(1)能带的宽度;(2)能带底部和顶部电子的有效质量。

解:(1)由E(k)关系(1)(2)令得:当时,代入(2)得:对应E(k)的极小值。

当时,代入(2)得:对应E(k)的极大值。

根据上述结果,求得和即可求得能带宽度。

故:能带宽度(3)能带底部和顶部电子的有效质量:习题与思考题:1 什么叫本征激发?温度越高,本征激发的载流子越多,为什么?试定性说明之。

2 试定性说明Ge、Si的禁带宽度具有负温度系数的原因。

3 试指出空穴的主要特征。

4 简述Ge、Si和GaAs的能带结构的主要特征。

5 某一维晶体的电子能带为其中E0=3eV,晶格常数a=5×10-11m。

求:(1)能带宽度;(2)能带底和能带顶的有效质量。

6原子中的电子和晶体中电子受势场作用情况以及运动情况有何不同?原子中内层电子和外层电子参与共有化运动有何不同?7晶体体积的大小对能级和能带有什么影响?8描述半导体中电子运动为什么要引入“有效质量”的概念?用电子的惯性质量描述能带中电子运动有何局限性?9 一般来说,对应于高能级的能带较宽,而禁带较窄,是否如此?为什么?10有效质量对能带的宽度有什么影响?有人说:“有效质量愈大,能量密度也愈大,因而能带愈窄。

《半导体物理学》课件

《半导体物理学》课件
重要性
半导体物理学是现代电子科技和信息 科技的基础,对微电子、光电子、电 力电子等领域的发展具有至关重要的 作用。
半导体物理学的发展历程
19世纪末期
半导体概念的形成,科学家开始认识到 某些物质具有导电性介于金属和绝缘体
之间。
20世纪中叶
晶体管的商业化应用,集成电路的发 明,推动了电子科技和信息科技的发
半导体中的热电效应
总结词
解释热电效应的原理及其在半导体中的应用。
详细描述
当半导体受到温度梯度作用时,会在两端产生电压差 ,这一现象被称为热电效应。热电效应的原理在于不 同温度下,半导体内部载流子的分布不同,导致出现 电势差。热电效应在温差发电等领域有应用价值,可 以通过优化半导体的材料和结构来提高热电转换效率 。
分析器件在长时间使用或恶劣环 境下的性能退化,以提高其可靠 性。
THANKS
THANK YOU FOR YOUR WATCHING
06
半导体材料与工艺
半导体材料的分类和特性
元素半导体
如硅、锗等,具有稳定的化学性质和良好的半导 体特性。
化合物半导体
如砷化镓、磷化铟等,具有较高的电子迁移率和 光学性能。
宽禁带半导体
如金刚石、氮化镓等,具有高热导率和禁带宽度 大等特点。
半导体材料的制备和加工
气相沉积
通过化学气相沉积或物理气相沉积方法制备 薄膜。
05
半导体器件的工作原理
二极管的工作原理
总结词
二极管是半导体器件中最简单的一种 ,其工作原理基于PN结的单向导电性 。
详细描述
二极管由一个P型半导体和一个N型半 导体结合而成,在交界处形成PN结。 当正向电压施加时,电子从N区流向P 区,空穴从P区流向N区,形成电流; 当反向电压施加时,电流极小或无电流 。

半导体物理课件

半导体物理课件

结论:磷杂质在硅、锗中电离时,能够释放电子而 产生导电电子并形成正电中心。这种杂质称施主杂 质 。掺施主杂质后,导带中的导电电子增多,增 强了半导体的导电能力。
主要依靠导带电子导电的半导体称n型半导体。
*从Si的电子能量图看:
电离能的计算:
氢原子
En
mq4
(4 0 )2 22
1 n
(2)受主杂质 (Acceptor) p型半导体 Ⅳ族元素硅、锗中掺Ⅲ族元素,如硼(B): *从si的共价键平面图看:
两边取对数并整理,得:
EF
1 2
EC ED
1 2
k0T
ln(
ND 2NC
)
ED起了本征EV 的作用
载流子浓度:
EC EF
EC
EF
n0 NCe k0T NCe k0T e k0T
ND NC
1
2
EC ED
e 2k0T
ND NC
1 2
ED
e 2k0T
2
2
(2)中温强电离区
N
D
n0 ND
(2)EF ~T
(3)EF ~掺杂(T一定,则NC也一定)
T一定,ND越大,EF越靠近EC(低温: ND > NC 时 , ND
(ln ND -ln2 NC)
ND < NC 时, ND
|ln ND -ln2 NC| 中温:由于T的升高, NC增加,使ND < NC , ND
B13:1S22S22P63S23P1 B有三个价电子,当它与周围的四
个Si原子形成共价键时,必须从别 处的硅原子中夺取一个价电子,共价 键中缺少一个价电子,产生空穴。 硼原子接受一个电子后,成为带负 电的硼离子。 B- —负电中心.

半导体物理与器件-第十章-MOSFET基础(1)(MOS结构-CV特性)

半导体物理与器件-第十章-MOSFET基础(1)(MOS结构-CV特性)

11.2.2反型状态(高频)
加较大的正栅压,使反型层电荷出现,但栅 压变化较快,反型层电荷跟不上栅压的变化, 只有耗尽层电容对C有贡献。此时,耗尽层宽 度乃至耗尽层电容基本不随栅压变化而变化。
C' (inv)
C' (dep)min
tox
ox ox
tox
xdT
f 5 ~ 100Hz
f ~ 1MHz
强反型状态(低频)
加大的正栅压且栅压变化较慢,反型层 电荷跟得上栅压的变化
C' (inv)
Cox
ox
tox
平带 本征
41
10.2 C-V特性
n型与p型的比较
负偏栅压时为堆积模式, 正偏栅压时为反型模式。
p型衬底MOS结构
n型衬底MOS结构
正偏栅压时为堆积模式, 负偏栅压时为反型模式。
42
10.2 C-V特性
Cox
Cox
+2 fp
ms
| Q'SD max | Cox
VFB+2 fp
|QSDmax|=e Na xdT
f (半导体掺杂浓度,氧化层电荷,平带电压,栅氧化层电容)27
10.1 MOS电容 阈值电压:与掺杂/氧化层电荷的关系
P型衬底MOS结构
Q′ss越大,则VTN的绝对值 越大; Na 越高,则VTN的值(带符 号)越大。
栅压频率的影响
43
小节内容
理想情况CV特性
CV特性概念 堆积平带耗尽反型下的概念 堆积平带耗尽反型下的计算
频率特性
高低频情况图形及解释
44
10.2.3固定栅氧化层电荷和界面电荷效应
对MOS的C-V的影响主要有两种: (1)固定栅氧化层电荷 (2)氧化层-半导体界面电荷

半导体物理基础知识 ppt课件

半导体物理基础知识  ppt课件
原子最外层的电子称为价电子,有几个 价电子就称它为几族元素。 若原子失去一个电子,称这个原子为正 离子,若原子得到一个电子,则成为一个带负电的 负离子。原子变成离子的过程称为电离。
ppt课件
4
1.2半导体材料硅的晶体结构
1.2.2晶体结构
固体可分为晶体和非晶体两大类。 原子无规则排列所组成的物质为非晶体。而晶 体则是由原子规则排列所组成的物质。晶体有 确定的熔点,而非晶体没有确定熔点,加热时 在某一温度范围内逐渐软化。 1.2.3单晶和多晶 在整个晶体内,原子都是周期性的 规则排列,称之为单晶。由许多取向不同的单 晶颗粒杂乱地排列在一起的固体称为多晶。
ppt课件 17
1.6半导体的导电原理
1.6半导体的导电原理
导带
E (禁带宽)
g
价带
ppt 课件 1.6-1 图
18
1.6半导体的导电原理
1.6.2产生和复合 由于热或光激发而成对地产生电子空穴对,这种过程 称为“产生”。空穴是共价键上的空位,自由电子在运动中与 空穴相遇时,自由电子就可能回到价键的空位上来,而同时消 失了一对电子和空穴,这就是“复合”。在一定温度下,又没 有光照射等外界影响时,产生和复合的载流子数相等,半导体 中将在产生和复合的基础上形成热平衡。此时,电子和空穴的 浓度保持稳定不变,但是产生和复合仍在持续的发生。 1.6.3杂质和杂质半导体 纯净的半导体材料中若含有其它元素的原子,那么, 这些其它元素的原子就称为半导体材料中的杂质原子。对硅的 导电性能有决定影响的主要是三族和五族元素原子。还有些杂 质如金,铜,镍,锰,铁等,在硅中起着复合中心的作用,影 响寿命,产生缺陷,有着许多有害的作用。
ppt课件
11
1.2半导体材料硅的晶体结构

半导体物理基本知识1

半导体物理基本知识1
●本征载流子浓度随温度变化很大
在室温附近: Si: T ↑, 8K ni↑ 一倍 Ge: T ↑, 12K ni↑ 一倍
33
掺杂半导体
在硅内掺入适量III、V 族杂质后,将根本上改 变半导体的本征导电性。 掺入V 族杂质(施主杂质)后, Fermi能级EF 移向导带底附近,使电子的数量大于空穴的数量, 成为N 型半导体。 掺入III 族杂质(受主杂质)后, Fermi能级EF 移向价带顶附近,使空穴的数量大于电子的数量, 成为P 型半导体。
T mdn mdp
3
3/ 2
e

Eg kT
23
本征半导体
本征半导体: 纯净的半导体,电子和 空穴浓度相等。 n0 = p0 = ni Fermi 能级Ei 在禁带中 线附近。 室温下(300K)的硅 ni = 9.65×109 cm-3
24
本征半导体 本征半导体的费米能级:
电中性条件
E EF kT 满足: 或E F E kT
服从Fermi分布的电子系统称为简并系统
相应的半导体称为简并半导体
15
热平衡时非简并半导体的载流子浓度
导带中的电子浓度 no :
Ec EF kT
no Nc e
其中:
2kTmdn Nc 2 2 h
34
N 型半导体
施主杂质提供导电电子,使半导体成为N型。施主 杂质本身成为带正电荷的离子。
35
N 型半导体
导带电子 电离施主 P+ P原子中这个多余的电 子的运动半径远远大 于其余四个电子,所 受到的束缚最小,极 易摆脱束缚成为自由 电子。
施主杂质具有提供 电子的能力!
36
P 型半导体

半导体物理课后习题答案(1-12章)

半导体物理课后习题答案(1-12章)

∆ ED =
7.06 10− 4 eV
r1,n = ε r (
° m0 1 ) � a 17 = 0.53 600.67 A 0 ∗ mn 0.015
8. 磷化鎵的禁带宽度 Eg = 2.26eV ,相对介电常数 ε r = 11.1 ,空穴的有效质量
m∗p = 0.86m0 , m0 为电子的惯性质量,求ⅰ)受主杂质的电离能,ⅱ)受主所若 束缚的空穴基态轨道半径。 [解]: ∆ E A = 已知, E0 = m m∗p E0 rp = n 2ε r ( ∗0 ) a0 2 , mp m0 ε r
第1章 半导体中的电子状态
1. 设晶格常数为 a 的一维晶格,导带极小值附近能量 Ec(k)和价带极大值附近 能量 Ev(k)分别为: Ec(k)=
h 2 k 2 h 2 (k − k1) 2 h2k 2 3h 2 k 2 + 和 Ev(k)= - ; 3m 0 6m 0 m0 m0
m0 为电子惯性质量,k1=1/2a;a=0.314nm。试求: ①禁带宽度; ②导带底电子有效质量; ③价带顶电子有效质量; ④价带顶电子跃迁到导带底时准动量的变化。 [解] ① 禁带宽度 Eg 根据 值: kmin=
[ 110] , [ 101] , [ 011] , 轾 臌1 10
轾 臌10 1 , 轾 臌0 1 1 ;
,
[1 10], 轾 10 1 , 轾 臌 臌01 1 , 轾 臌110 , 轾 臌101 , 轾 臌0 11 ; 则由解析几何定理得, B 与 k3 的夹角余弦 cos θ 为: cos θ = 式中, B = b1i + b2 j + b3k . 对不同方向的旋转椭球面取不同的一组 (k1 , k2 , k3 ) .

半导体物理第10章半导体的光学性质和光电与发光现象

半导体物理第10章半导体的光学性质和光电与发光现象

二、激子吸收
激子可以在整个半导体材料中运动,由于它是电中性的,因 此,激子的运动并不形成电流。
对于常用的半导体材料,其禁带宽度都比较小,因而激子能 级都靠的很近,所以,激子吸收必须在低温下用分辨率极高的仪 器设备才能观测到。
随着超晶格、量子阱结构的出现,室温下在量子阱结构中观 测到了稳定的二维激子,并利用量子阱激子的纵向电场效应,已 制备出了光学双稳态器件和光调制器件。
二、激子吸收
激子中电子与空穴之间的关系,类似于氢原子中电子与质子的关系,因 此,激子具有和孤立氢原子相同的量子化能级。
根据氢原子的能级公式,激子的束缚能为:
Eenx
=

q4
8ε02ε2 rh2n2
mr*
mr*
=
m*p ⋅ mn* m*p + mn*
为电子、空穴的折合质量。
n = 1,2,L, ∞
n = 1 时,为激子的基态能级 Ee1x ;
间接跃迁(非竖直跃迁): 不遵守选择定则的跃迁。电子不仅与电磁波作用而吸收光子,同时还和晶
格交换一定的振动能量,即发射或吸收一个声子。显然,间接跃迁是电子、光 子和声子三者同时参与的过程。其能量关系为:
hv0 ± Ep = 电子能量差△E
式中Ep为声子的能量,“+” 表示吸收声子,“—” 表示发射声子。通常声子的 能量非常小,可忽略不计,即有:
在实际中,发生间接跃迁的几率比直接跃迁的几率小的多。 间接跃迁 的光吸收系数比直接跃迁的光吸收系数小很多。 直接跃迁的光吸收系数约 为104~106/cm,而间接跃迁的光吸收系数约为1~103/cm。
一、本征吸收
对于直接带隙半导体GaAs,当 hv ≥ hv0
α
GaAs

半导体物理第十章1详解

半导体物理第十章1详解

−1
, Eg

Ep
<
hv

Eg
+
Ep
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20
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21
伯斯坦移动
重掺杂半导体,如n型半导体,由于费米能 级进入导带,导带底的电子能级被电子占 满,价带电子只能跃迁到费米能级以上,所 以本征吸收的长波限向短波方向移动;
第十章
半导体光学性质和光电与发光现象
光与半导体相互作用的一般规律, 并用光子与晶体中电子、原子的相 互作用来研究半导体的光学过程。
内容: 半导体光学常数
光吸收;
光电导;
光生伏特效应;
半导体发光;
半导体激光;
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1
半导体的光学常数
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2
折射率和吸收系数
电磁波在不带电的各向同性的均匀 介质中传播时应满足如下方程:
⎫ ⎪ ⎪⎪

k2
=

1 2
εr
⎡ ⎢1 − ⎢⎣
⎛⎜1 + ⎝
σ2
ω

r

2 0
⎞1/ 2 ⎟ ⎠
⎤⎪ ⎥⎪ ⎥⎦ ⎭⎪
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8
导电媒质中平面波传播的波动方程为:
Ey
=
E0
exp
⎡⎢⎣iω
⎛ ⎜⎝t− NhomakorabeaNx c
⎞⎤ ⎟⎠⎥⎦
对于电介质,N为实数,对于导电媒质,N为
复数,其实数部分为一般折射率,其虚数部分
半导体吸收谱的特点:为连续的吸收带!
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13
本征吸收
电子由能带与能带之间跃迁所形成的吸收过程;

半导体物理第十章1

半导体物理第十章1

2
(n − 1) + k R= 2 2 (n + 1) + k
2 2
10
透射系数
RI 0
d
R(1 − R) I 0 e−α d
透射系数和反 射系数满足:
(1 − R) I 0
I0
(1 − R) I 0e−α d
(1 − R) 2 I 0e−α d
T = 1− R
光透射一定厚度的媒质: (假设两个界面反射系数 均为R,吸收系数为α )
杂质能级上的电子吸收光子跃迁到导带,价带 电子吸收光子能量跃迁到空着的杂质能级(空 穴吸收能量由杂质能级发射到价带); 杂质吸收谱长波限:
c f a e d b
hv0 ≥ EI
(a,b,c,d)
电离杂质吸收谱长波限:
hv ≥ Eg − EI (f,e)
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相对光电导:
Δσ
σ0
=
Δnμn + Δp μ p n0 μn + p0 μ p
对于本征光电导:
Δσ
Δn = Δp
μn 其中: b = μ p
(1 + b)Δn = σ 0 bn0 + p0
当n0,p0较小时,可获得高的相对光电导, 所以光敏电阻一般由高阻材料制成;
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虽然本征光吸收中激发的电子和空穴数相 等,但通常是作为多数载流子的光生载流 子具有较长的自由时间,而另一种载流子 则往往被一些陷阱所束缚,从而使得:
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透射法测得光衰减规律为:
媒质中的光衰减与光强成正比;
dI = −α I dx
I = I0e

半导体物理与器件课后习题1

半导体物理与器件课后习题1

硼和浓度为的 8 1014 cm3 砷。(a)该材料时 n 型半导体还是 p 型
半导体?(b)计算电子的浓度和空穴的浓度。(c)计算已电离的杂质浓
度。
解:T=450K 时 对于硅: Eg 1.12ev
n
2 i
NC NV exp(-
Eg kT
)
(2.8
1019
)
(1.04
1019
)
(
450 )3 300
原子替位的百分率。(b)对于浓度为1015 / cm3 的硼杂质原子,重新计算(a)
解:(a):硅原子的体密度
8个原子 5.4310-8
3
5.001022个原子 / cm3
硅原子替位百分率=
2 1016 5.00 1022
100
0 0
4 10-5
0 0
(b)同理:硅原子替位百分率=
1 1016 5.00 1022
(c)求出(a)与(b)中的 n0
解:当 T=300K 时,硅的 ni 1.51010 cm3, kT 0.0259ev

p0
ni
exp
EFi EF kT
1.51010 exp 0.35 0.0259
1.111016 (cm-3 )
(b)当 T=300K 时,硅中 NC 4.7 1017 cm3, Nv 7.01018 cm3 当 T=400K 时
习题 1
1.1 确定晶胞中的原子数:(a)面心立方;(b)体心立方;(c)金刚石晶格。
解:(a)面心立方:
8
个拐角原子×
1 8
=1
个原子
6
个面原子×
1 2
=3
个原子

半导体物理第十章1

半导体物理第十章1

半导体物理第⼗章1第l0章半导体的光电特性本章讨论光和半导体相互作⽤的⼀般规律,⽤光⼦与晶体中电⼦、原⼦的相互作⽤来研究半导体的光学过程、重点讨论光吸收、光电导和发光,以及这些效应的主要应⽤。

§10.1 半导体的光学常数⼀、折射率和吸收系数(Refractive index & Absorption coefficient )固体与光的相互作⽤过程,通常⽤折射率、消光系数和吸收系数来表征。

在经典理论中,早已建⽴了这些参数与固体的电学常数之间的固定的关系。

1、折射率和消光系数(Extinction coefficient)按电磁波理论,折射率定义为2ωεσεi N r -= 式中,εr 和σ分别是光的传播介质的相对介电常数和电导率,ω是光的⾓频率。

显然,当σ≠0时,N 是复数,因⽽也可记为ik n N -=2 (10-1)两式相⽐,可知222,ωεσε==-nk k n r (10-2) 式中,复折射率N 的实部n 就是通常所说的折射率,是真空光速c 与光波在媒质中的传播速度v 之⽐;k 称为消光系数,是⼀个表征光能衰减程度的参量。

这就是说,光作为⼀种电磁辐射,当其在不带电的、σ≠0的各问同性导电媒质中沿x ⽅向传播时,其传播速度决定于复折射率的实部,为c/n ;其振幅在传播过程中按exp(-ωkx /c )的形式衰减,光的强度I 0则按exp(-2ωkx /c)衰减,即)2exp(0ckx I I ω-= (10-3) 2、吸收系数光在介质中传播⽽有衰减,说明介质对光有吸收。

⽤透射法测定光在介质中传播的衰减情况时,发现介质中光的衰减率与光的强度成正⽐,即I dxdI α-= ⽐例系数α的⼤⼩和光的强度⽆关,称为光的吸收系数。

对上式积分得x e I I α-=0 (10-4)上式反映出α的物理含义是:当光在媒质中传播1/α距离时,其能量减弱到只有原来的1/e 。

将式(10-3)与式(10-4)相⽐,知吸收系数λπωαk c k 42==式中λ是⾃由空间中光的波长。

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第l0章 半导体的光电特性本章讨论光和半导体相互作用的一般规律,用光子与晶体中电子、原子的相互作用来研究半导体的光学过程、重点讨论光吸收、光电导和发光,以及这些效应的主要应用。

§10.1 半导体的光学常数一、折射率和吸收系数(Refractive index & Absorption coefficient )固体与光的相互作用过程,通常用折射率、消光系数和吸收系数来表征。

在经典理论中,早已建立了这些参数与固体的电学常数之间的固定的关系。

1、折射率和消光系数(Extinction coefficient)按电磁波理论,折射率定义为2ωεσεi N r -= 式中,εr 和σ分别是光的传播介质的相对介电常数和电导率,ω是光的角频率。

显然,当σ≠0时,N 是复数,因而也可记为ik n N -=2 (10-1)两式相比,可知222,ωεσε==-nk k n r (10-2) 式中,复折射率N 的实部n 就是通常所说的折射率,是真空光速c 与光波在媒质中的传播速度v 之比;k 称为消光系数,是一个表征光能衰减程度的参量。

这就是说,光作为一种电磁辐射,当其在不带电的、σ≠0的各问同性导电媒质中沿x 方向传播时,其传播速度决定于复折射率的实部,为c/n ;其振幅在传播过程中按exp(-ωkx /c )的形式衰减,光的强度I 0则按exp(-2ωkx /c)衰减,即)2exp(0ckx I I ω-= (10-3) 2、吸收系数 光在介质中传播而有衰减,说明介质对光有吸收。

用透射法测定光在介质中传播的衰减情况时,发现介质中光的衰减率与光的强度成正比,即I dxdI α-= 比例系数α的大小和光的强度无关,称为光的吸收系数。

对上式积分得x e I I α-=0 (10-4)上式反映出α的物理含义是:当光在媒质中传播1/α距离时,其能量减弱到只有原来的1/e 。

将式(10-3)与式(10-4)相比,知吸收系数λπωαk c k 42==式中λ是自由空间中光的波长。

3、光学常数n 、k 和电学常数的关系解方程组(10-2)可得2/1202222)1(1[21εεωσεr r n ++=; 2/1202222)1(1[21εεωσεr r k +--= 式中,n 、k 、σ和εr 都是对同一频率而言,它们都是频率的函数。

当σ≈0时,n≈ε1/2,k≈0。

这说明,非导电性介质对光没有吸收,材料是透明的;对于一般半导体材料,折射率n 约为3—4。

吸收系数α除与材料本身有关外,还随光的波长变化。

α-1代表光对介质的穿透深度。

对于吸收系数很大的情况(例如,α≈1×105cm -1),光的吸收实际上集中在晶体很薄的表面层内。

小结:光在导电媒质中的传播与光在电介质中的传播相似。

所不同的是:在电介质中,电磁波的传播没有衰减;而在导电媒质中,如在半导体和金属内,波的振幅随着透入的深度而减小、即存在光的吸收。

这是由于导电媒质内部有自由电子存在,波在传播过程中在媒质内激起传导电流,光波的部分能量转换为电流的焦耳热。

因此,导电媒质的吸收系数决定于电导率。

二、反射率、吸收率和透射率一个界面对入射光的反射率R 定义为反射能流密度与入射能流密度之比,透射率T 定义为透射能流密度与入射能流密度之比。

按能量守恒,同一界面必有R +T =1。

定义一个物体对入射光的透射率T 为透出物体的能流密度与入射物体能流密度之比。

按能量守恒 ,必有R +T +A =1,A 即为吸收率。

1、光在界面的反射与透射(注意纠正参考书中“系数”和“率”的混乱)当光波(电磁波)照射到物体界面时,必然发生反射和折射。

一部分光从界面反射,另一部分则穿透界面进入物体。

当光从空气垂直入射于折射率为N =n -ik 的物体界面时,反射率对于吸收性很弱的材料,k 很小,反射率R 只比纯电介质的稍大;但折射率较大的材料,其反射率也较大。

譬如n=4时,其反射率接近40%。

在界面上,除了光的反射外,还有光的透射。

规定透射率T 为透射能流密度和入射能流密度之比。

由于能量守恒,在界面上透射系数和反射系数满足关系T =1-R 。

2、有一定厚度的物体对光的吸收如图10-1所示,以强度为I 0的光垂直入射空气中具有均匀厚度d 和均匀吸收系数α的物体,物体前后界面(入射面和出射面)都会对入射光有反射和透射,反射率皆为R ,但这两个界面各自的入射光强度显然不同。

入射面的入射光强度为I 0,反射光强度为RI 0,透入物体的光强度是(1-R )I 0;经过物体的吸收衰减之后到达出射界面的光的强度就是(1-R )I 0exp(-αd ),最后透过出射面的光强度就应等于(1-R )2I 0exp(-αd )。

不考虑光在物体中的多次反射,则厚度为d 的均匀吸收体对入射光的透射率按定义可得d e R T α--==2)1(入射光强度透射光强度 考虑光在两界面之间的多次反射之后,容易证明(作业):d de R e R T αα2221)1---=-(图10-1反射和透射示意图§10.2 半导体的光吸收材料吸收辐射能导致电子从低能级跃迁到较高的能级或激活晶格振动。

半导体有多种不同的电子能级和晶格振动模式,因而有多种不同的光吸收机构,不同吸收机构通常对应不同辐射波长,具有不同的吸收系数。

半导体中导致电子从低能带跃迁到高能带的吸收,不同于孤立原子中电子从低能级向高能级跃迁的吸收。

孤立原子中的能级是不连续的,两能级间的能量差是定值,因而电子在其间的跃迁只能吸收一个确定能量的光子,出现的是吸收线;而在半导体中,与原子能级相对应的是—个由很多能级组成的能带,这些能级实际上是连续分布的,因而光吸收也就表现为连续的吸收带。

一、本征吸收价带电子吸收光子能量向高能级跃迁是半导体中最重要的吸收过程。

其中,吸收能量大于或等于禁带宽度的光子使电子从价带跃迁入导带的过程被称为本征吸收。

1、本征吸收过程中的能量关系理想半导体在绝对零度时,价带内的电子不可能被热激发到更高的能级。

唯一可能的激发是吸收一个足够能量的光子越过禁带跃迁入空的导带,同时在价带中留下一个空穴,形成电子—空穴对,即本征吸收。

本征吸收也能在非零温度下发生。

发生本征吸收的条件是g E h h =≥0νν (10-5)h ν0是能够引起本征吸收的最低限度光子能量。

因此,对于本征吸收光谱,在低频方面必然存在一个频率界限ν0 (或说在长波方面存在一个波长界限λ0)。

当频率低于ν0或波长大于λ0时,不可能产生本征吸收,吸收系数迅速下降。

吸收系数显著下降的特定波长λ0(或特定频率ν0)称为半导体的本征吸收限。

图10-2给出几种半导体材料的本征吸收系数和波长的关系,曲线短波端陡峻地上升标志着本征吸收的开始。

根据式(10-5),并应用关系式ν=c/λ,可得出本征吸收的长波限λ0(单位为μm )与材料禁带宽度E g (单位为eV )的换算关系为g E /239.10=λ利用此换算关系可根据禁带宽度算出半导体的本征吸收长波限。

例如,Si (E g =1.12eV )的λ0≈1.1μm ;GaAs (E g =1.43eV )的λ0≈0.867μm ,两者的吸收限都在红外区;CdS (E g =2.42eV )的λ0≈0.513μm ,在可见光区。

图10-3是几种常用半导体材料本征吸收限和禁带宽度的对应关系。

图10-2 本征吸收曲线图10-3 Eg 和λ0的对应关系2、本征吸收过程中的选择定则在光照下,电子因吸收光子的跃迁过程,除了能量必须守恒外,还必须满足准动量守恒。

设电子跃迁的初、末两态的波矢分别为k 和k ′,则准动量守恒可表示为如下条件h k '-h k =光子动量由于在半导体中参与电子跃迁的光子的动量远小于电子的动量,可忽略不计,上式可近似为k k ='这说明,电子因吸收光子而发生的跃迁基本上没有波矢的改变,或说半导体中的电子只在没有明显波矢改变的两个状态之间才能发生只吸收光子的跃迁。

这就是电子跃迁的选择定则。

3、直接跃迁和间接跃迁1)直接跃迁和直接禁带半导体 参照图10-4所示的一维E(k )曲线可见,为了满足选择定则,吸收光子只能使处在价带中状态A 的电子跃迁到导带中k 相同的状态B 。

A 与B 在E(k )曲线上位于同一竖直线上。

这种跃迁称为直接跃迁。

在A 到B 的直接跃迁中所吸收的光子能量h ν与图中垂直距离相对应。

显然,对应于不同的k ,垂直距离各不相等。

就是说,和任何一个k 值相对应的导带与价带之间的能量差相当的光子都有可能被吸收,而能量最小的光子对应于电子从价带顶到导带底的跃迁,其能量即等于禁带宽度E g 。

由此可见,本征吸收形成一个连续吸收带,并具有一长波吸收限ν0=E g /h 。

因而从光吸收谱的测量可以求出禁带宽度E g 。

在常用半导体中,III-Ⅴ族的GaAs 、InSb 及Ⅱ-Ⅵ族等材料,导带极小值和价带极大值对应于相同的波矢,常称为直接禁带半导体。

这种半导体在本征吸收过程中发生电子的直接跃迁。

由理论计算可知,在直接跃迁中,如果对于任何k 值的跃迁都是允许的,则吸收系数与光子能量的关系为:2/1)()(g E h A h -=ννα 当g E h ≥ν0)(=ναh 当g E h <ν式中A 基本为一常数。

2)间接跃迁与间接禁带半导体 但是,不少半导体的导带底和价带顶并不像图l0-4所示那样具有相同的波矢,例如锗和硅。

这类半导体称为间接禁带半导体,其能带结构如图10-5所示。

对这类半导体,任何直接跃迁所吸收的光子能量都应该比其禁带宽度E g 大得多。

因此,若只有直接跃迁,这类半导体应不存在与禁带宽度相当的光子吸收。

这显然与实际情况不符。

这个不符意味着在本征吸收中除了有符合选择定则的直接跃迁外,还存在另外一种形式的跃迁,如图10-5中的O →S 跃迁。

在这种跃迁过程中,电子不仅吸收光子,同时还和晶格振动交换一定的能量,图10-4 电于的直接跃迁 图10-5 直接跃迁和间接跃迁即放出或吸收一个或多个声子。

这时,准能量守恒不可能是电子和光子之间所能满足的关系,更主要的参与者应该是声子。

这种跃迁被称为非直接跃迁,或称间接跃迁。

对这种由电子、光子和声子三者同时参与的跃迁过程,能量关系应该是hν0±E p=电子能量差∆E其中E p代表声子的能量,“+”号是吸收声子,“-”号是发射声子。

因为声子的能量非常小,数量级在百分之几eV以下,可以忽略不计。

因此,粗略地讲,电子在跃迁前后的能量差就等于所吸收的光子能量,hν0只在E g附近有微小的变化。

所以,由非直接跃迁得出和直接跃迁相同的关系,即∆E= hν0=E g从第4章已知,声子也具有和能带中电子相似的准动量。

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