半导体物理_第六章_pn结
半导体物理基础(6)PN结
XD
VD
(
q
2 r
0
)(
NA ND NAND
)
由于电场作用而使非平衡载流子进入半导体的过程称为-电注入
np0
nn0
Space charge region
Diffusion region
1. Alloyed Junctions (合金结)
合金温度
降温再结晶
2. Diffused Junctions (扩散结)
Conceptual example of the use of photolithography to form a pn junction diode.
3. Ion Implantation (离子注入)
p x pn0e k0T
I-V characteristic of a p-n junction
现假设:
1. 势垒区的自由载流子全部耗尽,并忽略势垒区中 载流子的产生和复合。
2. 小注入:注入的少数载流子浓度远小于半导体中 的多数载流子浓度。在注入时,扩散区的漂移电场 可忽略。
(1) 正向偏置 ( Forward bias)
刚接触,扩散》漂移
内建电场
漂移 扩散=漂移
(达到动态平衡)
漂移运动
P型半导体
---- - - ---- - - ---- - - ---- - -
内电场E N型半导体 + +++++ + +++++ + +++++ + +++++
半导体物理基础(6)PN结
n p
U max
N t Cni (e 2(e
qV k 0T
1)
qV 2 k 0T
1)
空间电荷区的产生电流
J G qGXD
N t C (np ni2 ) U Et Ei n p 2ni ch kT 0
qni X D 2
Et Ei
ni n, p
ni U 2
ni G 2
大注入 扩散区产生内建电场
注入p+-n结的n侧的空穴及其所造成的电子分布
p-n结的直流伏-安特性表明: 1. 具有单向导电性。 2. 具有可变电阻性。 p-n结的交流特性表明: p-n结还具有可变电容的性质 特别是在高频运用时,这个电容效应更为显著。
4. Epitaxial Growth (延生长) 外延(简称Epi)工艺是指在单晶衬底上生长
一层跟衬底具有相同晶格排列的单晶材料
方法: 分子束外延(MBE) 超高真空化学气相沉积(UHV/CVD)
常压及减压外延(ATM & RP Epi)
缓变结与突变结
(平衡状态下的结) 1 空间电荷区(Space charge region)的形成
J Jn J p
考虑-xp截面:
J J n ( xP ) J P ( xP )
忽略了势垒区载流子的产生和复合:
J J n ( xP ) J P ( xn )
Dp dpx J p ( x) qDp q px dx Lp
J p xn q
Dp Lp
2
1
3
其中 :
刚接触,扩散》漂移
内建电场
漂移
扩散=漂移
(达到动态平衡)
半导体物理 第六章 PN结
1、非平衡PN结能带图 2、PN结电流电压方程
1、非平衡PN结
(1)PN 结正偏、反偏
• 平衡PN结
P
N
• 正偏PN结
P
N
• 反偏PN结
P
N
哈尔滨工业大学微电子科学与技术系
(2)非平衡PN能带图
EC
E
n F
空穴 EFP
能量 EV
qVD q(VD-V)
E
p F
电子
EC
能量
EFn
EV
EC
空穴 EFP
扩散电容:
(2)突变结势垒电容
CTA2(NA r 0 N qD)A N V N (D DV)AX rD 0
XD
2r0(NAND)V (DV) qN AND
(3)线性缓变结势垒电容
CT
A3
qjr202 12(VDV)
r0A XD
XD
3
12r0(VD qj
V)
(4)扩散电容
CDa2q(np0Lnk 0Tpn0Lp)exk q p 0TV
x
x
qVD ECn EFn
电子 能量
EVn
哈尔滨工业大学微电子科学与技术系
• 本征费米能级 Ei 随位置 x 的变化
dEi qdV(x)
dx
dx
(3)平衡PN结的载流子分布
n ( xP) n n 0 exp
xp
qV
( x ) qV
k
xn
0
TN
D
ห้องสมุดไป่ตู้
pp0
p(x)
p n 0 expn(x )qV
§6.1 PN结及其能带图
P-N Junction and its energy band diagram
半导体物理学第6章(pn结)
Ei Ev
Ec Ei
Silicon (n-type)
Ef
Ev
热平衡条件
内建电势
内建电势
PN结的内建电 势决定于掺杂 浓度ND、NA、 材料禁带宽度 以及工作温度
③接触电势差: ♦ pn结的势垒高度—eVD 接触电势差—VD ♦ 对非简并半导体,饱和电离近似,接触 电势为:
kT nn 0 kT N D N A VD ln ln 2 e np0 e ni
④ 内部电场——由空间电荷区(即PN结的交界面两侧 的带有相反极性的离子电荷)将形成由N区指向P区的电 场E,这一内部电场的作用是阻挡多子的扩散,加速少子 的漂移。
⑤ 耗尽层——在无外电场或外激发因素时,PN结处于 动态平衡没有电流,内部电场E为恒定值,这时空间电荷 区内没有载流子,故称为耗尽层。
准中性区载流子浓度
理想二极管方程
求解过程
准中性区少子扩
散方程 求Jp(xn) 求Jn(-xp) J= Jp(xn)+ Jn(-xp)
理想二极管方程(1)
新的坐标:
d pn pn 0 Dp 2 dx' p
2
-xp
xn
x
X’
边界条件:
0
pn ( x' ) 0 ni2 qVA / kT pn ( x' 0) e 1 ND
图629正向电流一开始就随正向电压的增加而迅速上升达到一个极大峰值电流i随后电压增加电流反而减少达到一个极小谷值电流i当电压大于谷值电压后电流又随电压而上升图6270点平衡pn结1点正向电流迅速上升2点电流达到峰值3点隧道电流减少出现负阻4点隧道电流等5点反向电流随反向电压的增加而迅速增适当波长的光照射到非均匀半导体上由于内建场的作用半导体内部可以产生电动势光生电压光生伏特效应是内建场引起的光电效应
微电子学 半导体物理学 第六章pn结
(N
2 x 2 + N D xn ) A p
x D = xn + x p N A x p = N D xn
NA ND xn = xD x p = xD NA + ND NA + ND
1/ 2
1/ 2
2ε 0ε r 2ε ε N + N D 代入 VD 得 x D = 0 r A VD = qN VD N AN D q eff q2 N A (x + x p )2 (-xp<x<0) EC ( x ) = EC ( p ) − 2ε 0ε r q2 N D ( x − xn )2 − 2011 EC ( x ) = E复旦大学半导体物理 -qV D (0<x<xn) + C ( p) 2ε 0ε r
复旦大学半导体物理 - 2011
14
平衡时的费米能级
J n = J n扩 + J n漂 = 0
dn 0 J n = qn 0 µ n E + qDn dx
dn0 1 dEi 1 dE F = − n0 + n0 dx k BT dx k BT dx dV ( x ) 1 dEi E=− = dx q dx
NDNA越大,VD越大;Eg越大,ni越小,VD越大。 NA=1017cm-3, ND=1015cm-3, Si的VD=0.70V. 复旦大学半导体物理 - 2011
17
平衡时,
qVD = Ecp − Ecn = E g + ( EFn − Ec ) + ( Ev − EFp )
对于非简并半导体,势垒高度会大于禁带宽度Eg吗?
耗尽层近似
从N区到P区,随着电子势能的升高,电子浓度 迅速下降,由于Vd(~1V),在势垒区的大部 分范围内,电子极为稀少,可视为电子耗尽, N侧空间电荷区的电荷基本是由电离施主贡献 的。同理,P侧空间电荷区的电荷有电离受主 贡献。 认为,在空间电荷区载流子被耗尽了
半导体物理_第6章_pn结
+ + + + + + + + + + + +
+ + + + + +
n型半导体
空间电荷区, 也称耗尽层。
扩散运动
扩散的结果是使空间 电荷区逐渐加宽。
5
注意:
1、空间电荷区中没有载流子。 2、空间电荷区中内电场阻碍p区中的空穴、n 区中的电子(都是多子)向对方运动(扩 散运动)。
3 、 p 区中的电子和 n 区中的空穴(都是少 子),数量有限,因此由它们形成的电流 很小。
qVD k 0T
加正向偏置V后,结电压为(VD-Vf),
n p x p nn0e
q (V D V f ) k0T
qV f
n p0e
k0T
p n xn p p 0 e
q (VD V f ) k 0T
qV f
pn 0 e
k 0T
在xp处注入的非平衡电子浓度为:
2
d 2 pn p x Dp 0 2 dx p
x x p x A exp( ) B exp( ) Lp Lp
p x pno [exp( qV f k0T xn x ) Lp
) 1]exp(
Jp
Dp dpx qDp q px dx Lp
D1,D2是积分常数,由边界条件确定。设p型中性 区的电势为零,则在热平衡条件下边界条件为: 代入有:
V1(xp ) 0,V2 (xn ) VD
2 qN D xn D1 , D2 VD 2 r 0 2 r 0
半导体物理第六章习题答案
第6章 p-n 结1、一个Ge 突变结的p 区n 区掺杂浓度分别为N A =1017cm -3和N D =5´1015cm -3,求该pn 结室温下的自建电势。
解:pn 结的自建电势结的自建电势 2(ln)D A D iN N kT V qn=已知室温下,0.026kT =eV ,Ge 的本征载流子密度1332.410 cm i n -=´代入后算得:1517132510100.026ln0.36(2.410)D V V ´´=´=´4.4.证明反向饱和电流公式(证明反向饱和电流公式(证明反向饱和电流公式(6-356-356-35)可改写为)可改写为)可改写为2211()(1)i s n n p p b k T J b q L L s s s =++ 式中npb m m =,n s 和p s 分别为n 型和p 型半导体电导率,i s 为本征半导体电导率。
证明:将爱因斯坦关系式p p kT D qm =和nnkT D q m =代入式(式(6-356-356-35))得 0000()p n p n S p n n pn p n p p nn p J kT n kT p kT L L L L m m m m m m =+=+因为002i p p n n p=,002i n nn p n =,上式可进一步改写为,上式可进一步改写为00221111()()S n p i n p i n p p p n n n p p nJ kT n qkT n L p L n L L m m m m m m s s =+=+ 又因为又因为()i i n p n q s m m =+22222222()(1)i i n p i p n q n q b s m m m =+=+即22222222()(1)i i i n p p n q q b s s m m m ==++ 将此结果代入原式即得证将此结果代入原式即得证2222221111()()(1)(1)n p i i Sp np pn np pnqkT b kT J q b LL q b L L m m s s mssss=+=××+++ 注:严格说,迁移率与杂质浓度有关,因而同种载流子的迁移率在掺杂浓度不同的p 区和n区中并不完全相同,因而所证关系只能说是一种近似。
半导体物理第六章PN结
二、PN结的反向电流
加反向偏压时,外加电场与内 建电场方向相同,增强了势垒区的 电场强度,势垒区加宽、增高,漂 移运动超过了扩散运动。n区中的空 穴(p区中的电子)一旦到达势垒区 边界处,就立即被电场扫向p区(n 区),构成了pn结的反向电流,方 向由n区到p区。
一、PN结的正向电流
多子电流与少子电流的转换
注入的非平衡少子在扩散过程中与多子相遇
中性区 势垒区 扩散区 扩散区 中性区 + p n
而不断复合,经过一个扩散长度后,复合基 本完毕,载流子浓度接近平衡数值。非平衡 少子边扩散边复合的区域称为扩散区,载流 子浓度接近平衡值的区域称为中性区 半导体中的电流主要由多子运载,然而pn结 正向电流是由电注入的非平衡少子引起的。 �非平衡少子被多子复合并非电流的中断, 因为与少子复合的多子是从n区的右边过来的 电子,所以它们的复合正好实现了少子电流 到多子电流的转换,如图c所示。
qV ) k0T
� pn结的正向电流随正向偏压呈指数规律增长。
一、PN结的正向电流
正偏压作用下的能带图
1、由于正偏压的作用,势垒高度下降, pn结不再处于平衡状态,在势垒区和扩散区,电子 准费米能级和空穴准费米能级不一致,而在中性区二者则趋于重合。 �说明通过势垒边界分别注入到两侧的非平衡载流子扩散一段距离后才复合完毕。而中性区 载流子的分布接近热平衡分布,故在中性区,两个准费米能级趋于汇合成统一的费米能级。
qα j x d 2V ( x ) ρ ( x) = − = − dx 2 ε sε 0 ε sε 0
xD 对上式积分,并利用边界条件 ε ⎛ ± ⎜ ⎝ 2
⎞ ⎟ = 0 , 得: ⎠
ε ( x) =
qα j
2ε sε 0x − Nhomakorabea2
半导体物理基础(6)PN结
q(VD Vf )
qV f
pn xn pp0e
p e k0T
k0T
n0
q(VDVf )
qfV
pn xn pp0e k0T pn0ek0T
现假设:
1. 势垒区的自由载流子全部耗尽,并忽略势垒区中 载流子的产生和复合。
2. 小注入:注入的少数载流子浓度远小于半导体中 的多数载流子浓度。在注入时,扩散区的漂移电场 可忽略。
(1) 正向偏置 ( Forward bias)
外加电场与内建电场方向相反,削弱了内建电场,因而使势 垒两端的电势差由VD减小为(VD-Vf),相应地势垒区变薄。
Chapter 6 p-n Junctions(p-n结)
图1 p-n结基本结构
5.1 Fabrication Of p-n Junction
1. Alloyed Junctions (合金结) 2. Diffused Junctions (扩散结) 3. Ion Implantation (离子注入) 4. Epitaxial Growth (外延生长)
n p0
qVDqV(x)
nx nn0e k0T
qVDqV(x)
px pn0e k0T
p p0
n( x)
nn0
pn0
qVDqV(x)
nx nn0e k0T
qVDqV(x)
px pn0e k0T
5.3. p-n结电流-电压特性
I-V characteristic of a p-n junction
XDVD(2qr0)(NN AA NN DD)
由于电场作用而使非平衡载流子进入半导体的过程称为-电注入
n p0
nn0
第六章 pn结
单向导电性---整流
半导体物理学
34
(4)影响p-n结伏-安特性的主要因素:
产生偏差的原因:
a.正向小电压时忽略了势垒区的复合;正向大电压 时忽略了外加电压在扩散区和体电阻上的压降。 b.在反向偏置时忽略了势垒区的产生电流。
半导体物理学
35
p-n结的直流伏-安特性表明: 1. 具有单向导电性。
半导体物理学
9
刚接触,扩散>>漂移
内建电场
漂移
扩散=漂移 (达到动态平衡)
空间电荷区 Space charge region 阻挡层 耗尽区 Depletion region
半导体物理学
10
2.能带图 (Enery band diagram) EFn高于EFp表明两 种半导体中的电子 填充能带的水平不 同。
实际的PN结是利用掺杂的补偿效应形成的 1. 合金 2.扩散 3.注入 4.外延生长
Alloyed Junctions (合金结) Diffused Junctions (扩散结)
合金温度 降温再结晶
合金法
半导体物理学
2
扩散法
半导体物理学
3
离子注入
半导体物理学
4
外延生长工艺 “外延”指在单晶衬底上生长一层新单晶的技术。新 生单晶层的晶向取决于衬底,由衬底向外延伸而成,故 称“外延层”。
势垒区 VD:接触电势差
半导体物理学
11
3.接触电势差 (The Contact Potential) VD
平衡时
势垒高度
qVD ( EC ) P ( EC )n ( EV ) P ( EV )n
EFn EFp
半导体物理学
半导体物理:pn结
在n型或p型半导体衬底上直接生长一层导电类型相反的半导体薄层, 无须通过杂质补偿即可直接形成pn结。用这种方法形成pn结时,只需 在生长源中加入与衬底杂质导电类型相反的杂质,在薄层生长的同时 实现实时的原位掺杂。这种方法形成的杂质分布更接近于理想突变结 分布。
将n型和p型半导体片经过精细加工和活化处理的两个清洁表面在室温 下扣接在一起,然后在高真空和适当的温度与压力下,令原本属于两 个表面的原子直接成键而将两块晶片结合成一个整体,同时形成pn 结。直接键合法能形成最接近理想状态的突变结。
离子注入法采用气相杂质源,在高强度的电磁场中令其离化并静电加 速至较高能量后注入到半导体适当区域的适当深度,通过补偿其中的 异型杂质形成pn结。与扩散法相比,这种方法的最大特点是掺杂区域 和浓度能够精确控制,而且杂质分布接近于图4-1所示的突变结。用 离子注入法形成pn结不需要扩散法那样高的温度,因高能离子注入而 受到损伤的晶格也只须在适当高的温度下退火即可修复,因此不会引 起注入区周边杂质的扩散,是集成电路工艺普遍采用的掺杂方法。
4)外延法和直接键合法
在n型或p型半导体衬底上直接生长一层导电类型相反 的半导体薄层,无须通过杂质补偿即可直接形成pn结 。用这种方法形成pn结时,只需在生长源中加入与衬 底杂质导电类型相反的杂质,在薄层生长的同时实现 实时的原位掺杂。这种方法形成的杂质分布更接近于 理想突变结分布。
将n型和p型半导体片经过精细加工和活化处理的两个 清洁表面在室温下扣接在一起,然后在高真空和适当 的温度与压力下,令原本属于两个表面的原子直接成 键而将两块晶片结合成一个整体,同时形成pn 结。 直接键合法能形成最接近理想状态的突变结。
Jp
nq p
E
qDp
半导体物理学[第六章pn结]课程复习(精)
山东大学《半导体物理》期末复习知识点第六章 pn结6.1 理论概要与重点分析(1)pn结是将同种半导体材料的n型和p型两部分紧密结合在一起,在交界处形成一个结,即称为pn结。
为使性能优越,一般采用合金法、扩散法、外延生长法和离子注入法等,改变其掺杂性质来实现这种“紧密接触”的。
pn结是重要半导体器件,如结型晶体管及其相应的集成电路的工作核心。
设两种杂质的交界面为xj,如果杂质有一个较宽的补偿过度阶段,为缓变结,较深的扩散法一般属此种情况。
(2)由于在结的两边两种载流子相差悬殊而发生扩散。
n区中的电子流入p区,在结附近留下不可以移动的电离施主;同样p区中的空穴流入n区在结的附近留下不可移动的电离受主,形成一个n区为正,p区为负的电偶极层,产生由n区指向p区的自建电场,此电场的作用是阻止载流子进一步相互扩散。
或者说产生了一个与扩散相反的载流子漂移,当两者达到平衡时,载流子通过结的净流动为零,达到平衡。
建立起一个稳定的空间电荷区和一个稳定的自建电场。
n型的一边带正电,电动势高;p型一边带负电,电势低,所产生电动势差称为pn结接触电动势差。
这个电动势差对n型区的电子和p型区的空穴各自向对方,运动都形成势垒,使整个结构在结区形成能带弯曲,其弯曲的高度称为势垒高度,它恰恰补偿了原来两边半导体中费米能级的高度差,使两边达到等高的统一费米能级。
山东大学《半导体物理》期末复习知识点(3)pn结上加正向电压V(p型一端接正,n型一端接负)时,外加电压电场与内建电场的方向相反,使内建电场减弱,势垒区变窄,势垒高度由平衡时的q VD变为q(VD-V)。
两区的费米能级分开为EnF-EpF=qV这时由内建电场引起载流子的漂移减弱,扩散相对增强。
于是有一个净的扩散电流从p区通过结流入n区,这便是pn结的正向电流。
随外加电压V的增加,势垒高度越来越小,载流子漂移越来越小,扩散进一步增加。
因此随外加正向电压的增加,正向电流迅速增大。
半导体物理课件:第六章 p-n结
当存在外间电压时,电压主要降落在这个势垒区,而扩散
区和中性区几乎没有。
16
2020/9/30
重庆邮电大学微电子教学部
6.2 p-n结电流电压特性
6.2.1 p-n结电场和电势 泊松方程
何为泊松方程? 其来历? 反映一定区域电势、电场、电荷之关系。
由麦克斯韦方程的微分形式:
D
D r0E
dV 2
6.2.3 理想p-n结的电流电压关系
计算电流密度方法 – 计算势垒区边界处注入的非平衡少子浓度, 以此为边界条件,计算扩散区中非平衡少子 的分布 – 将非平衡载流子的浓度代入扩散方程,算出 扩散密度,再算出少数载流子的电流密度 – 将两种载流子的扩散密度相加,得到理想pn结模型的电流电压方程式
2
2020/9/30
重庆邮电大学微电子教学部
引言
6.1 p-n结及其能带图 6.2 p-n结电流电压特性 6.3 p-n结电容 6.4 p-n结击穿 6.5 p-n结隧道效应
3
2020/9/30
重庆邮电大学微电子教学部
6.1 p-n结及其能带图
6.1.1 p-n结的形成及杂质分布
p型半导体和n型半导体结合,在 二者的交界面形成的接触结构, 就称为p–n结。
空穴漂移 电子扩散
27
电子漂移 空穴扩散
2020/9/30
重庆邮电大学微电子教学部
6.2.2 非平衡p-n结的能带图
反向偏压V
(p负,n正,V<0)
外加电场n→p 内建场n→p →外加电场加强了内建 场的强度,势垒升高
→n区的EF低于p区的EF
p区电子被不断的抽走 ——少子的抽取
28
2020/9/30
半导体物理 第六章 pn结ppt课件
E E cn x n n exp( ) x n 0 k T 0
qV ( x ) qV D n ) n 0exp( k T 0
当 X=Xn时,V(x)=VD,
n(x)=nn0
当 X=-Xp时,V(x)=0, n(-xp)=nn0
qV D n ( x ) n n exp( ) p p 0 n 0 k T 0
产生漂移电流
6.1.3
电子从费米能级高的n区流 向费米能级低的p区, 空穴从p流到n区。
最后,Pn具有统一费米能级EF,
EFn不断下移,EFp不断上 Pn结处于平衡状态。 移,直到EFn=EFp,
能带发生整体相对移动与pn结空 间电荷区中存在内建电场有关。
随内建电场(np)不断增大, V(x)不断降低,
使漂移电流〉扩散电流
少数载流子的抽取或吸出:n区边界nn’处的空穴被 势垒区强场驱向p区, p区边界pp’处的电子被驱向n 区。
qV D p p exp( ) n 0 p 0 k T 0
平衡时,pn结具有统一的费米 能级,无净电流流过pn结。 1. 外加电压下,pn结势垒的变化及载流子的运动 势垒区:载流子浓度很小,电阻很大; 势垒外:载流子浓度很大,电阻很小; 外加正向偏压主要降在势垒区;外加正向电场与 内建电场方向相反, 产生现象:势垒区电场减小,使势垒区空间电荷减小; 载流子扩散流〉漂移流, 净扩散流〉0 ; 宽度减小; 势垒高度降低(高度从qVD降到q(VD-V)
高温熔融的铝冷却后,n型硅片 上形成高浓度的p型薄层。
P型杂质浓度NA,
n型杂质浓度ND,
特点:交界面浓度发生突变。
在n型单晶硅片上扩散受主杂质,形成pn结。 杂质浓度从p到n 逐渐变化,称为缓变结。
半导体物理学第6章(pn结)
在同一片半导体基片上,分别制造P 型半导 体和N 型半导体,经过载流子的扩散,在它们的 交界面处就形成了PN 结。
PN结是构造半导体器件的基本单元。其 中,最简单的晶体二极管就是由PN结构 成的。
PN
★ p-n结的形成
p-n结的形成 ♦ 控 制 同 一 块 半 导 体 的 掺 杂 , 形 成 pn 结 (合金法; 扩散法; 离子注入法等)
p(x) NV e
kT
pp0e kT
即有: x xp
n np0
p pp0
xn x
n nn0
p pn0
xp x xn
eV ( x)
n(x) np0e kT
eVD
np0 nn0e kT
eV ( x)
p(x) pp0e kT
eVD
pn0 pp0e kT
理想二极管方程(1)
新的坐标:
0
Dp
d 2pn dx'2
pn
p
边界条件:
-xp
xn
x
X’
0
pn (x' ) 0
pn (x'
0)
ni2 ND
eqVA / kT 1
空穴电流
一般解
pn (x')
A ex'/ LP 1
A ex'/ LP 2
其中, LP DP P
♦ 正向偏压时,在少子扩散区, 少子复合 率>产生率(非平衡载流子注入); 反向时, 产生率>复合率(少数载流子被抽取)
♦ 反向时, 少子浓度梯度很小反向电流 很小
半导体物理-第六章-pn结
6.1.5 pn结载流子分布
平衡时pn结,取p区电势为零, 势垒区一点x的电势V(x),
x点的电势能为E(x)=-qV(x)
对非简并材料, x点的电子浓度 n(x),应用第三章计算平衡时导 带载流子浓度计算方法
因为E(x)=-qV(x)
nn0
Nc
exp(
EF Ecn ), k0T
Ecn
6.1.3 pn结能带图
电子从费米能级高的n区流向费米能级低的p区,空穴从p流到n区。
EFn不断下移,EFp不断上移,直到EFn=EFp 最后,pn具有统一费米能级EF, pn结处于平衡状态。
能带发生整体相对移动与pn结空 间电荷区中存在内建电场有关。
随内建电场(np)不断增大, V(x)不断降低,
n
p0
[exp(
qV k0T
)
1]
非平衡少数载流子浓度是电压的函数。
同理,nn’边界注入的非平衡少数载流子浓度为
pn (xn )
pn0
exp(
qV k0T
)
pp0
exp(
qV qVD k0T
)
qV pn (xn ) pn (xn ) pn0 pp0[exp( k0T ) 1]
px
pn0
exp(
qVD
qV (x) )
k0T
pn0是平衡时n区的少子浓度 当 X=Xn时,V(x)=VD, p(xn)=pn0
当 X=-Xp时,V(x)=0, p(-xp)=pp0
p(xp )
p p0
pn0
exp(
qVD k0T
)
pn0
第六章 pn结
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得
V1 =
qN A ( x 2 + x 2 ) p 2ε r ε 0
+
qN A xx p
ε rε 0
(− x p < x < 0) (0 < x < x n )
2 qN D ( x 2 + x n ) qN A xx n V2 = V D − + 2ε r ε 0 ε rε 0
(2)突变结的势垒宽度
VD = qN A N AND 2 ( )X D 2ε r ε 0 N A + N D 2ε r ε 0 N A + N D ( ) q N AND
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§ 6.3 p-n结电容 结电容
1 p-n结电容的来源
(1)势垒电容:势垒区空间电荷随外加电压改变而改变 以CT表示 (2)扩散电容:扩散区的电荷数量随外加电压的改变而改 变以CD表示 (3)p-n结总电容定义: C=dQ/dV 是随外加偏压而改变的
3 qα j X D
α j为杂质浓度梯度
CT = A3
2 qα j ε r2 ε 0
12ε r ε 0 (VD − V )
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Jn dEF dx n n
qDp dEF J p p0 kT dx
电流密度与费米能级的关系 对于平衡的pn结,Jn, Jp均为零,因此,
Jp dEF dx p p
EF=常数
qDp dEF J p p0 kT dx
当电流密度一定时,载流子浓度大的地方, EF随 位置变化小,而载流子浓度小的地方, EF随位置 变化较大。
非平衡载流子的电注入:正向偏压使非平衡载流子进入半导 体的过程。
注入到p区的电子断与空穴复合,电子流不断转化 为空穴流,直到全部复合为止。
扩散电流〉漂移电流
根据电流连续性原理,通过pp’(或nn’)任何一个界 面的总电流是相等的。只是电子电流和空穴电流 的比例不同。 总电流=扩散电流+漂移电流
反向偏移下,非平衡状态 外加反向电场与内建势场方向一致。
1. pp’处注入的非平衡少数载流子浓度:
EFn Ei n p ni exp( ) k0T EFn EFP n p p p ni exp( ) k0T
2
p p ni exp(
Ei EFp k0T
)
在pp’边界处, x=-xp, qV=Efn-Efp,
qV n p ( x p ) p p ( x p ) ni exp( ) k0T
电子电势能-q V(x)由n到p不断升高 P区能带整体相对n区上移。n区能带整体相对p区下移。 直到具有统一费米能级 pn结费米能级处处相等标志pn结达到动态平衡,无扩散、 漂移电流流过。
动态平衡时
本征费米能级Ei的变化与-qV(x)一致
k0T n Dn q
k0T n Dn q
同理,空穴电流密度为:
qV x p ( ) 0 2. 加反向偏压下,如果qV>>k0T, e k0T
对n区: 在x=xn处
xn x pn ( x) pn ( x) pn 0 pn0 exp( ) Lp
pn ( x) pn0
即p( x) 0
xn x pn ( x) pn ( x) pn 0 pn0 exp( ) Lp
边界条件:x, pn()=pn0, X=xn,
qV pn ( xn ) pn 0 exp( ) k0T
xn qV A pn 0 [exp( ) 1] exp( ), k0T Lp B0
外加正向偏 压下,非平 衡少数载流 x p x 子在两边扩 qV 同理: n ( x) n n [exp( ) 1] exp( ) 散区的分布 p p0 p0 k0T Ln
能带特征: EFn、EFp也发生了偏离,但 EFP位置高于 EFn ;
6.2.2 理想pn结模型及其电流、电压方程
理想pn结模型: (1)小注入; (2)突变耗尽层条件-外加电压和接触电势差都降落 在耗尽层,耗尽层外是电中性的,注入的少数载流 子做纯扩散运动; (3)通过耗尽层的电子、空穴电流为常数,忽略耗尽 层中载流子的产生及复合作用; (4) 玻耳兹曼边界条件:在耗尽层两端,载流子分 布满足玻耳兹曼统计分布。
势垒高度
在一定温度下,掺杂浓度越高,VD越大; ni越小, VD越大
6.1.5 pn结载流子分布
平衡时pn结,取p区电势为零, 势垒区一点x的电势V(x), x点的电势能为E(x)=-qV(x) 对非简并材料, x点的电子浓度 n(x),应用第三章计算平衡时导 带载流子浓度计算方法
因为E(x)=-qV(x)
2
2
pp’边界注入的非平衡少数载流子浓度为
np (x p ) np (x p ) np0 n p 0 [exp(
qV ) 1] k0T
非平衡少数载流子浓度是电压的函数。
同理,nn’边界注入的非平衡少数载流子浓度为
qV qV qVD pn ( xn ) pn 0 exp( ) p p 0 exp( ) k0T k0T
p型杂质浓度NA,
n型杂质浓度ND,
特点:交界面浓度发生突变。
在n型单晶硅片上扩散受主杂质,形成pn结。 杂质浓度从p到n 逐渐变化,称为缓变结。
j为杂质浓度梯度。
6.1.2 空间电荷区
pn结附近电离的受主、施主所带 电荷称为空间电荷(不可移动), 所在的区域为空间电荷区。
产生漂移电流
热平衡的pn结
x x p
qDn np 0 Ln
qV [exp( ) 1] k0T
理想pn 结,忽略势垒区内的复合-产生作用, 通过pp’界面的空穴电流密度为Jp(-xp)=通过nn’’界面 的空穴电流密度为Jp(xn);
小注入时,耗尽层外的扩散区不存在电场, 在X=Xn处,空穴扩散电流密度为
dp ( x) J p ( xn ) qD p n dx
x xn
qDp pn0 Lp
qV [exp( ) 1] k0T
同理,在X=-Xp处,电子扩散电流密度为
J n ( x p ) qDp
dnp ( x) dx
qV pn ( xn ) pn ( xn ) pn0 p p 0 [exp( ) 1] k0T
非平衡少数载流子浓度是电压的函数。
稳态时,非平衡少数载流子的连续性方程
d E x pn pn 0 d pn d 2 p Dp p Ex n pn 0 2 dx dx dx p
2
由于p p ( x p ) p p 0 , p p 0 n p 0 ni
2
ni ni qV qV n p ( x p ) exp( ) exp( ) p p ( x p ) k0T p p0 k0T
qV n p 0 exp( ) k0T
qV qVD nn 0 exp( ) k0T
正向偏移下,非平衡状态
N区电子扩散 向P区; P 区空穴扩散 向N区
PP’处电子浓度〉P区空穴浓度, 形成向P区的电子扩散流。
非平衡少子(电子或空穴)在扩散过程中, 不断与多子复合,直到复合完毕,这段 扩散过程称为扩散长度。 一定正向偏压下,单位时间从n区扩散到pp’边界的电子浓度时一 定的,并在p区形成稳定分布(空穴一样)。
第六章 PN结
本章主要内容 6.1
pn结及其能带图;
6.2 pn结电流、电压特性;
6.3 pn结电容;
6.4 pn结击穿特性; 6.5 pn隧道特性;
pn相关器件认识
主要面向计算机主板、硬盘驱动器、手机充电器、 紧急照明以及笔记本电脑等应用。
蓝紫光半导体
太阳能电池
LED射灯
LED天花灯
LED花园灯
qVD p( x p ) p p 0 pn 0 exp( ) k0T
qVD p n 0 p p 0 exp( ) k0T
同一种载流子在势垒区两边的浓度关系服从波尔兹曼分布函数的关系。
6.2 pn结电流电压特性
6.2.2 非平衡状态下的pn结
1. 外加电压下,pn结势垒的变化及载流子的运动 势垒区:载流子浓度很小,电阻很大; 势垒外:载流子浓度很大,电阻很小; 外加正向偏压主要降在势垒区;外加正向电场与 内建电场方向相反。 产生现象:势垒区电场减小,使势垒区空间电荷减小; 载流子扩散流〉漂移流, 净扩散流〉0 ; 宽度减小; 势垒高度降低,高度从qVD降到q(VD-V)
LED LED球泡灯 球泡灯
ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
LED地灯
LED手电筒 LED手电筒
6.1 pn结及其能带图 6.1.1 pn结的形成及其杂质分布
一块p型半导体和一块n型半导体结合在一起,在其交接面处 形成pn结。
pn结是各种半导体器件, 如结型晶体管、集成电路的心脏。
高温熔融的铝冷却后,n型硅片上 形成高浓度的p型薄层。
6.1.4 pn结接触电势差
VD称为pn结的接触电势差或内建 电势差. qVD为pn结的势垒高度. 平衡时pn结的费米能级处处 相等. qVD=EFn-EFp nn0、np0分别为平衡时n、p区 的电子浓度
EFn Ei nn 0 ni exp( ) k0T
np0
EFp Ei ni exp( ) k0T
6.1.3 pn结能带图
电子从费米能级高的n区流向费米能级低的p区,空穴从p流到n区。 EFn不断下移,EFp不断上移,直到EFn=EFp 最后,pn具有统一费米能级EF, pn结处于平衡状态。
能带发生整体相对移动与pn结空 间电荷区中存在内建电场有关。
随内建电场(np)不断增大, V(x)不断降低,
EF Ecn nn 0 N c exp( ), Ecn qVD k0T Ecn Ex nx nn 0 exp( ) k0T
qV ( x) qVD nn 0 exp( ) k0T
当 X=Xn时,V(x)=VD,
n(x)=nn0
当 X=-Xp时,V(x)=0, n(-xp)=nn0
n( x p ) n p 0
qVD nn 0 exp( ) k0T
n(-xp)p区的少数载流子浓度。
X点空穴浓度为,
qVD qV ( x) px pn 0 exp( ) k0T
pn0是平衡时n区的少子浓度
当 X=Xn时,V(x)=VD,
p(xn)=pn0
当 X=-Xp时,V(x)=0, p(-xp)=pp0
在n区内部:x>>Lp处
xn x exp( )0 Lp
则pn ( x) pn0
x x qV pn ( x) pn 0 pn0 [exp( ) 1] exp( n ) k0T Lp
2.外加偏压下电流密度的关系
xp x qV n p ( x) n p 0 n p 0 [exp( ) 1] exp( ) k0T Ln
扩散区比势垒区大,准费米能级的变化主要发生 在扩散区,在势垒区中的变化忽略不计。