第7章基团的保护剖析

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有机合成课件保护基团

有机合成课件保护基团

要点二
详细描述
在有机合成中,酮是一种常见的反应物和产物,但它的羰 基容易受到氧化和还原等反应的影响。为了保护酮的羰基 ,可以使用各种保护基团,如甲氧羰基、乙氧羰基、丙氧 羰基等。这些保护基团可以与酮形成稳定的化学键,从而 避免酮参与不必要的反应。
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详细描述
在有机合成中,羧酸是一种常见的反应物和产物,但它的羧基容易受到脱羧和氧化等反应的影响。为了保护羧酸 ,可以使用各种保护基团,如甲酯、乙酯、丙酯等。这些保护基团可以与羧酸形成稳定的化学键,从而避免羧酸 参与不必要的反应。
醛基保护基团的应用实例
总结词
醛基保护基团能够保护醛免受氧化和还原等反应的影响。
保护。
硅氧基
如三甲基硅氧基,常用 于醇的保护,易于脱去

磷酸酯基
如磷酸三乙酯、磷酸三 丁酯等,适用于醇的保
护,并可耐强酸。
氨基保护基团
乙酰基
常用于伯胺的保护。
苯磺酰基
适用于仲胺和叔胺的保护,可 在酸性条件下脱去。
甲磺酰基
适用于仲胺的保护,可在酸性 条件下脱去。
丙酮肟基
适用于伯胺的保护,可在酸性 条件下脱去。
羧基保护基团
甲酯基
常用于羧酸的保护,可在碱性条件下脱去。
苯甲酯基
适用于不活泼羧酸的保护,可在碱性条件下 脱去。
乙酯基
适用于羧酸的保护,可在碱性条件下脱去。
氨基甲酸酯基
适用于羧酸的保护,可在酸性或碱性条件下 脱去。
醛基保护基团
烯丙基
常用于醛的保护。
苯甲酰基
适用于醛的保护,可在酸性条件下脱 去。
乙酰基
亲核加成反应
在形成氮-保护基团时,通常发 生亲核加成反应,即试剂进攻有 机物中的硝基、磺酸酯等基团,

《保护基团》PPT课件

《保护基团》PPT课件

F
F
EtOAc
O
NaN3
F
F
NH2
NH
N3
F
F
F
F
NH2
N-乙酰基保护
N-烷基和 N-甲硅烷基保护
Example
NH2
1)nBuLi H 2)Me3SiCl P Ph
N(H)SiMe3
1)nBuLi/ DBPBr
H 2)MeOH
P Ph
tBu2P
NH2 P
Ph
感谢下 载
基团的保护
➢羟基的保护 ➢二醇的保护 ➢醛\酮的保护 ➢氨基的保护
醇的保护
➢醚化和酰基化 ➢硅醚化
甲基醚
成醚或酰基化
试剂: MeI, (MeO)2SO2, MeOTf 去保护基: TMSI/CH3Cl, BBr3/CH2Cl2
苄基醚
试剂: PhCH2Br/NaH,BnBr/Ag2O/DMF 去保护基: Pd/C-H2, Na/NH3(l), TMSI, BCl3/CH2Cl2
甲氧基ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ基醚
试剂: ClCH2OCH3/NaH/DMF 去保护基: 6M HCl-THF- H2 O
甲硫基甲基醚
试剂: ClCH2SCH3/NaH/DMF 去保护基: AgNO3, HgCl2 , MeI
甲氧基乙氧基甲基醚
MEM
试剂: ClCH2OCH2CH2OCH3/NaH/DMF
去保护基: ZnBr2/CH2Cl2, TiCl4/CH2Cl2
氨基的保护
➢ N-氨基甲酸酯保护基 ➢ N-乙酰基保护 ➢ N-烷基和 N- 硅烷基保护
N-氨基甲酸盐保护基
OH (a)O(Boc)2, NEt3, CH2Cl2

第7章基团的保护

第7章基团的保护

CH2Cl O OH 砒 啶 或 Ph 3CCl 苄醚 O CPh3 CH2
H2
/ Pd-C 催化氢 解
或 Na / C2H5OH
OH H2O, HOAc r. t. 易水解
三 苯甲醚
(5)叔丁基醚 叔 丁 基 醚 对 强 碱 性 条 件 稳 定, 但 可 以 为 烷 基 锂 和
Grignard 试 剂 在 较 高 温 度 下 进 攻 破 坏。 它 的 制 备 一 般 用
2、缩醛和缩酮衍生物
(1)四氢吡喃醚
O OH , TsO H O O 混合型缩醛结构 H2O , H+ OH
Et 2O
H+ O O
RO H RO H O
-H
+
RO
O
一元醇在TsOH存在下与二氢吡喃作用生成四氢吡喃醚。 对碱、格氏试剂、烷基锂、氢化铝锂、烃化剂和酰化剂均稳定。
缺点是:不能用于在酸性介质中进行反应。此外,若用于旋光性醇, 由于引入了一个新的手性中心,将导致生成非对映异构体的混合物, 分离困难,造成产率降低。然而它在室温条件下,即能进行催化水解。
O R R'
(MeO)3CH, MeOH InCl3(5mol%) Cyclohexane reflux HO(CH2)nOH InCl3(5mol%)
第二节 羟基的保护

RR'C-CH2CH2OH OH R'H + RCOCH2CH2OMgX
H2O
+
RCOCH2CH2OH + R'MgX
③ Na R''X ②
RCOCH2CH2OR''
④ R'MgX H3O

第7章_亲和层析

第7章_亲和层析

配体自身应具有较好的稳定性, 4) 配体自身应具有较好的稳定性,在实验中能够 耐受偶联以及洗脱时可能的的较剧烈的条件, 耐受偶联以及洗脱时可能的的较剧烈的条件,可以 多次重复使用。 多次重复使用。
根据配体对待分离物质的亲和性的不同, 根据配体对待分离物质的亲和性的不同,可以将其分为 两类:特异性配体( ligand) 两类:特异性配体(specific ligand)和通用性配体 ligand)。 (general ligand)。 特异性配体一般是指只与单一或很少种类的蛋白质等生 特异性配体一般是指只与单一或很少种类的蛋白质等生 物大分子结合的配体。如生物素和亲和素、抗原和抗体、 物大分子结合的配体。如生物素和亲和素、抗原和抗体、酶 和它的抑制剂、激素-受体等, 和它的抑制剂、激素-受体等,它们结合都具有很高的特异 用这些物质作为配体都属于特异性配体。 性,用这些物质作为配体都属于特异性配体。配体的特异性 是保证亲和层析高分辨率的重要因素, 是保证亲和层析高分辨率的重要因素,但寻找特异性配体一 般是比较困难的,尤其对于一些性质不很了解的生物大分子, 般是比较困难的,尤其对于一些性质不很了解的生物大分子, 要找到合适的特异性配体通常需要大量的实验。 要找到合适的特异性配体通常需要大量的实验。
亲和层析的基本特点
1、纯化过程简单、迅速,且分离效率高 纯化过程简单、迅速, 特别适用于分离纯化一些含量低、 2、特别适用于分离纯化一些含量低、稳定性差的生物大 分子 纯化倍数大, 3、纯化倍数大,产物纯度高 4、必须针对某一分离对象制备专一的配基及寻求稳定的 层析条件 价格相对较昂贵; 5、价格相对较昂贵; 在洗脱中, 6、在洗脱中,交联在层析介质上的配基可能脱落并进入 产品中,从而造成不良影响,如抗体、染料等配基。 产品中,从而造成不良影响,如抗体、染料等配基。

第7章基团的保护

第7章基团的保护
叔 丁 基 醚 的 除 去 要 用 中 强 度 酸,包 括 Lewis 酸,如 HCOOH,无 水 CF3COOH,HBr-HOAc,4 N HCl-dioxane 以 及 FeCl3,TiCl4,TMSI 等。
精品资料
2、缩醛和缩酮衍生物
(1)四氢吡喃醚
O , TsOH
H2O ,H+
OH Et2O
第七章 官能团保护 (bǎohù)
精品资料
第一节 概 述
有 机 合 成 中, 如 果 分 子 中 有 几 个 部 位 或 官 能 团 可 能 发 生 反 应, 而 我 们 又 只 希 望 在 某 一 部 位 或 官 能 团 上 发 生 反 应, 比 较 直 接 的 办 法 是 采 用 选 择 性 的 反 应 条 件 和 试 剂。 但 是 在 复 杂 分 子 的 合 成 中, 许 多 情 况 下 会 找 不 到 这 样 的 直 接 条 件, 或 选 择 性 不 好, 于 是 必 须 采 用 另 外 的 办 法, 将 不 希 望 发 生 反 应 的 部 位 保 护 起 来 成 为 衍 生 物 形 式, 待 达 到 目 的 之 后 再 恢 复 原 来 的 官 能 团, 这 样 的 办 法 称 为 “保 护 基 团” (Protecting Groups) 法。
OO 混合型缩醛结构
OH
H+
ROH
-H+
O
O
RO O
H
一元醇在TsOH存在下与二氢吡喃作用生成四氢吡喃醚。
RO O
对碱、格氏试剂、烷基锂、氢化铝锂、烃化剂和酰化剂均稳定。
缺点是:不能用于在酸性介质中进行(jìnxíng)反应。此外,若用于旋光性醇,由 于引入了一个新的手性中心,将导致生成非对映异构体的混合物,分离困难,造 成产率降低。然而它在室温条件下,即能进行(jìnxíng)催化水解。

有机合成中的 保护基团

有机合成中的 保护基团

O Me C O Me
HO HO
Me
TsO H, 89%
Me Me
O O
(i)m C P B A 99% (ii)M e2C uLi ether 94%
HO Me Me O O Me trace HC l distil OH O
7.2
二羟基的保护基团
C H 2O H C HO H C H 2O H P hC HO HC l (20%) O OH H C H 3C O C H 3 (80%) HC l O C H3
,Et M e3S iC l 3N R O S iM e3
HF ,or n B u 4N F +
6. 形成二甲硅醚 ROSi(CH3)3
制备时,用三甲基氯硅烷与醇类在三级胺中作用。此保护基在酸 中不太稳定,也可以用氟离子F-脱去(Si-F的键结力甚强,大于Si-O的 键能)。
7.1
羟基的保护基团
7. 形成四氢吡喃 ROTHP
O O C H3
(1) H B r (2) (P hC H 2O ) 2P O 2N (C 2H 5) 4
OH OH
O O
O
7.2
P hC H 2O C H 2 O
二羟基的保护基团
HO C H2
H 2, P d
O O P (O (O ) C H 2P h) 2
HO C H2
LiO H H 2O
O O P (O (O ) C H 2P h) 2
ROH (t B u)M e2S iC l idazol ,im e n B u 4N +F R OSi
9.
形成乙酸酯类 ROCOCH3
ROH (C H 3C O ) 2O ,P yr K 2C O 3,aq M eO H O R O C C H3

有机合成中基团的保护

有机合成中基团的保护

基团的保护方式一:使基团先参与反应又释放出方式二:反应的先后顺序问题(1)基团保护①醛基的保护如:②双键的保护如:③羟基的保护如:R--OH R--OCH3R--OCH3R--OH④羧基的保护如:⑤氨基的保护如:练习1、(氨基的保护)苄佐卡因是一种医用麻醉药品,学名对氨基苯甲酸乙酯,它以对硝基甲苯为主要起始原料经下列反应制得:请回答下列问题:(1)写出A、B、C的结构简式:A____________,B______________,C______________。

(2)用1H核磁共振谱可以证明化合物C中有____种氢处于不同的化学环境。

(3) ①与②能否颠倒位置,为什么2、(酚羟基的保护)工业上用甲苯生产对- 羟基苯甲酸乙酯HO ——COOC 2H 5(一种常用的化妆品防霉剂),其生产过程如下(反应条件未全部注明)所示:按上图填空: (1)有机物A 的结构简式为(2)写出反应⑤的化学方程式(有机物写结构简式,注明反应条件)(3)反应②和反应④的反应类型分别是(选填编号) 、 a .取代反应,b .加成反应,c .消去反应,d .酯化反应,e .氧化反应(4)写出反应③的化学方程式(有机物写结构简式,不用写反应条件,但要配平)(5)在合成线路中设计③和⑥两步反应的目的是 。

3、(醛基的保护)化合物A 是石油化工的一种重要原料,用A 和水煤气为原料经下列途径合成化合物D (分子式为C 3H 6O 3).已知:请回答下列问题:(1).写出下列物质的结构简式:A B COOH OCH 3③ 一定条件 ② Cl 2 ①催化剂 CH 3I CH 3CH 3OHC 2H 5OH⑤ CH 3OCH 3 ④ COOC 2H 5OCH 3 HI ⑥H CH 3A:__________;B:____________;C:_____________;D:___________.(2).指出反应②的反应类型______________________.(3).写出反应③的化学方程式_______________.(4).反应④的目的是___________________________________________________.(5).化合物D’是D的一种同分异构体,它最早发现于酸牛奶中,是人体内糖类代谢的中间产物.D’在浓硫酸存在的条件下加热,既可以生成能使溴水褪色的化合物E(C3H4O2),又可以生成六原子环状化合物F(C6H8O4).请分别写出D’生成E和F的化学方程式:D’→E:______________________________ D’→F:________________________.4、(氨基的保护)所给信息:①②苯胺,弱碱性,易氧化③利用这些反应,按以下步骤可从某烃A合成一种染料中间体DSD酸。

第七章保护基团PDF

第七章保护基团PDF

protective groups 参考文献T. W. Greene Protective groups in organic synthesis third editionCO2EtOHCO2EtOHNaBH4CO2EtOHCH2OHOOOCO2EtLiAlH4OOCO2EtHOHOHse lectivity 是手段不是目的一、概述理想保护基团的标准1保护基的来源经济性2容易引入保护效率高3保护基的引入对化合物的结构不应增加过量的复杂性如新手性中心等。

4保护后的化合物在后面的反应中要求稳定5保护后的化合物对分离、纯化和层析要稳定6能在高度专一的条件下选择性、高效脱除、不影响分子其余部分。

7去保护的后的主产物要易于分离。

8有时还可以将保护基转换为其他官能团。

二、羟基的保护一形成醚1.甲基醚ROHNaH CH32SO4ROCH3CH33SiICHCl3OSSOHOHOHCH2N2 Et2O Silica gel83OSSOHOCH3H3COI. 保护1 有机溶剂产率60—90 2MeI Me2SO4 NaH KITHF引入甲醚无很大位阻影响3CH2N2 硅胶/HBF4 Me2SO4 MeOH Bu4NI-4MeI Ag2O OOOOOOHt-BuOKMeITHF100OOOOOOCH3BaOH2 Me2SO4 rt 18h88HOCOOMeOH3COCOOMeOII去保护Lewis酸Me3SiI/CHCl3 BBr3 CH2Cl2。

浓HIROCH3CH3IROSiCH33H2OROHCH33SiOHCH33SiI2形成叔丁基醚类ROCCH33 ROHBF3.C2H52O2M HCl CH3OHROOOH异丁烯O-t-BuOBF3.Et2O H3PO4去保护无水CF3COOH 0-20oC. 2M HCl CH2OH HBr AcOH 20oC 30分钟3苄醚ROCH2Ph Bn-OR BnCl KOH粉末130140o 苄氯或苄溴与醇形成苄醚。

07.保护基团

07.保护基团

S OH H O
S
CH2N2, Et2O, Silica gel O 83% H3CO OCH3
S
S
OH
H
O
O
(4)MeI, Ag2O
O O O
OH O O
t-BuOK, MeI, THF 100%
O O O
OCH3 O O
O
Ba(OH)2, Me2SO4, rt, 18h H3CO
O
HO COOMe 88%
NaH, PhCH2Br Li, NH3(l) Pd/C, H2, EtOH
ROCH2Ph
优先保护伯醇
Br
BnBr, NaH, DMF
97%
H OH
OCH2Ph
三、二醇的保护 1,2-二醇 1,3-二醇 (一)形成缩酮、缩醛 用醛、酮:丙酮、环己酮、苯甲醛或其烯醇醚 (2-甲氧基丙烯)等 在酸催化下进行。
COOMe
II.去保护 Lewis酸 Me3SiI/CHCl3, BBr3, CH2Cl2。 浓HI
R
O
CH3
CH3I + ROSi(CH3)3
H2O
ROH + (CH3)3SiOH
(CH3)3Si
I
2.形成叔丁基醚类 ROC(CH3)3
ROH+
BF3.(C2H5)2O RO 2M HCl, CH3OH
四、羰基的保护 (一)形成缩酮或其他等价物 反应活性: 醛>链状羰基>环己酮>α,β-不饱和酮>苯基酮 > > >α,β>
R R' O
R C R'
X Y
OH TsOH O benzene O PCC 5%HCl O O O O O
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CH 2OH CH-OH CH 2OH
PhCHO/H
① CH3(CH2)14COOH 干 燥 HCl ② H2O
CH 2OCO(CH2)1 4CH 3 CH-OH CH 2OH CH 2OH CHOCO(CH2)1 4CH 3 CH 2OH
H
① CH3(CH2)14COCl, Py ② H2/Pd

一、醇羟基的保护
注:Tceoc---三氯乙氧羰基 ThP---四氢吡喃基
Tbeoc ---三溴乙氧羰基 Py---吡啶
Bn---苄基
1、形成醚类衍生物
(1)甲醚
ROH
R O CH3 I
Me2SO4 NaOH
ROMe
BF3/RSH 或 Me3SiI
H2O
ROH
ROH + Me3SiOH
CH3I + ROSiMe3 Me3Si
试剂 苄氯 三苯氯甲烷 二氢吡喃 丙酮 苯甲醛 乙酸酐 苯甲酰氯
保护基 苄醚 三苯甲醚
脱保护基条件 H2O / H+ r.t. H2 / Pd-C
备注 保护伯醇
四氢吡喃醚 H2O / H+ H2O / H + 缩醛、缩酮 或Lewis 酸 乙酸酯 苯甲酸酯 H2O / KHCO3
保护一元醇 保护顺式 邻二醇 保护伯、仲 一元醇
(2)三甲基硅醚
ROH + Me3SiCl (Me3SiNHSiMe3)
ROSiMe 3
醇/H2O
ROH
醇的三甲基硅醚对催化氢化、氧化、还原反应稳定,广 泛用于保护糖、甾族类及其它醇的羟基。它的一个重要特
色是可以在非常温和的条件下引入和脱去保护基,但因其
对酸、碱都很敏感,只能在中性条件下使用。
(3)苄醚
苄 基 醚 的 应 用 很 广, 可 以 经 受 许 多 温 和 的 氧 化 反 应, 如 Swern, PCC, PDC, Dess-Martin periodinate, Jones, NaIO4, Pb(OAc)4 以 及 LiAlH4 还 原。 苄 基 醚 一 般 用 PhCH2Br 或 PhCH2Cl 与 烷 氧 基 负 离 子 反 应 所 得。 如 BnBr/NaH/cat. Bu4NI。 另 外,BnBr/Ag2O/DMF 体 系 常 被 用 于 - 羟 基 酯 的 保 护。 对 易 消 除 的 - 羟 基 酯 可 以 用 酸 性 条 件。 苄基醚在中性溶液中室温下它们能很快被催化氢解,常用钯催化 氢解或者与金属钠在液氨(或醇)中脱保护。该方法广泛用于糖及核 苷酸中醇羟基的保护。
Zn-MeOH回流,Zn-AcOH搅拌1~3小时
例如:
OH + O 95%
30min
OThP
酸的水溶液 回流
OH
OH + ClSO 2Ar
OSO2Ar
碱的水溶液 或碱的醇溶液
OH
第三节 羰基的保护
一、缩醛(酮)类保护基团
O R R'
B10H14 (MeO)3CH, MeOH
MeO R
OMe R'
在 不 影 响 反 应, 但 要 消 耗 试 剂, 在 试 剂 比 较 贵 重
时, 采 用 保 护 基 团 的 方 法 是 一 种 经 济 的 选 择。
二、 选 择 保 护 基 时 的 注 意 事 项
1. 保 护 基 的 供 应 来 源, 包 括 经 济 程 度。 这 在 工 业
原 料 制 备 上 尤 其 重 要。 2. 保 护 基 团 必 须 能 容 易 地 进 行 保 护, 而 且 保 护 效 率 要 高。 3. 保 护 基 的 引 入 对 化 合 物 的 结 构 论 证 不 致 增 加 过 量 的 复 杂 性, 例 如 保 护 中 忌 讳 产 生 新 的 手 性 中 心, 象 四 氢 吡 喃 (THP) 和 乙 氧 基 乙 醚 (EE) 都 是 产 生 手 性 的 保 护 基。
O R R'
(MeO)3CH, MeOH InCl3(5mol%) Cyclohexane reflux HO(CH2)nOH InCl3(5mol%)
B10H14 THF-H2O
O R R'
17examplex 92%~97%
11examplex 84%~99%
O R H
RuCl3.3H2O(0.1mol%) R'OH, r. t., 10h
R'O R
OR' H
30examples, 45%~95%
R"O R
OR" R'
InCl3(5mol%) MeOH-H2O
第七章 官能团保护
第一节 概 述
有 机 合 成 中, 如 果 分 子 中 有 几 个 部 位 或 官 能 团 可 能 发 生 反 应, 而 我 们 又 只 希 望 在 某 一 部 位 或 官 能 团 上 发 生 反 应, 比 较 直 接 的 办 法 是 采 用 选 择 性 的 反 应 条 件 和 试 剂。 但 是 在 复 杂 分 子 的 合 成 中, 许 多 情 况 下 会 找 不 到 这 样 的 直 接 条 件, 或 选 择 性 不 好, 于 是 必 须 采 用 另 外 的 办 法, 将 不 希 望 发 生 反 应 的 部 位 保 护 起 来 成 为 衍 生 物 形 式, 待 达 到 目 的 之 后 再 恢 复
O PhCH2Cl/KOH ③ HCl/H2O/AcOH ④ Py
PhCH2O O OH PhCH2OH2C PhCH2O ① BzCl/Py ②H2[Pd-C] OH
O OH OBz OH 89%
PhCH2O
O
OCH2Ph adenin
O HN HOH2C O O N
TrCl/Py
O HN TrOH2C O O N
OR' OR
OR' OR
易结晶,疏水,溶于许多非羟基的有机溶剂中。它对碱和其它亲核试 剂稳定,但在酸性介质中不稳定。下列试剂经常用来除去三苯甲基保 护基:80%的乙酸(在回流温度),HCl/CHCl3和HBr(计算量)/AcOH在 0℃,将三苯甲醇吸收在硅胶柱子上,几小时即可脱醚。
4. 保 护 以 后 的 化 合 物 要 能 承 受 得 起 以 后 进 行 的
反 应 和 后 处 理 过 程。
5. 保 护 以 后 的 化 合 物 对 分 离、 纯 化、 各 种 层 析 技 术 要 稳 定。
6. 保 护 基 团 在 高 度 专 一 的 条 件 下 能 选 择 性、 高
效 率 地 被 除 去。 7. 去 保 护 过 程 的 副 产 物 和 产 物 能 容 易 被 分 离。
① Na/NH3 NH4Cl ② _ 3PhCH
3
HO
O OH OH 94%
adenin
PhCH2O adenin =
NH2 N N N
N 6-氨基嘌呤 (腺嘌呤)
(4)三苯甲基醚
CH2OH O OH HO OMe OH
TrCl/Py 1h
CH2OTr O OH HO OMe OH
多羟基化合物中选择性地保护伯醇羟基
2、缩醛和缩酮衍生物
(1)四氢吡喃醚
O OH , TsO H H2O , H+ O O 混合型缩醛结构 OH
Et 2O
H+ O O
RO H RO H O
-H
+
RO
O
一元醇在TsOH存在下与二氢吡喃作用生成四氢吡喃醚。 对碱、格氏试剂、烷基锂、氢化铝锂、烃化剂和酰化剂均稳定。
缺点是:不能用于在酸性介质中进行反应。此外,若用于旋光性醇, 由于引入了一个新的手性中心,将导致生成非对映异构体的混合物, 分离困难,造成产率降低。然而它在室温条件下,即能进行催化水解。
二、酚羟基的保护
酚羟基保护基 -OCH3 -OCH(CH3)2 -OC (CH3)3 -OCH2Ph -OCH2OCH3
O O
表7-2 酚羟基的保护与脱保护
脱保护基的条件
浓H2SO4,室温;浓HCl,封管加热;HCl(HBr)乙酸水溶液,回流;HI回流; 浓HNO3,CrO3,Ce(SO4)3,H2SO4;AlBr3,BCl3,BBr3,POCl3/ZnCl2; CH3MgI,MgI2,LiI/2,4,6-三甲基吡啶,回流;NaOMe/MeOH-DMSO, NaOH HBr, 回流 HCl-CH3OH, 60oC, CF3COOH室温 H2, Pd-C, HCl/AcOH, Na-C4H9OH H2SO4/AcOH 与酸水溶液回流
原 来 的 官 能 团, 这 样 的 办 法 称 为 “保 护 基 团”
(Protecting Groups) 法。
一、可 考 虑 应 用 保 护 基 团的场合
1. 保 护 一 些 官 能 团 后 能 达 到 反 应 希 望 的 区 域 选 择 性; 2. 保 护 某 些 官 能 团 后 可 以 提 高 反 应 的 立 体 选 择 性; 3. 基 团 保 护 之 后 有 利 于 多 种 产 物 的 分 离; 4. 如 在 Grignard 反 应 或 Wittig 反 应 中, 羟 基 的 存
第二节 羟基的保护

RR'C-CH2CH2OH OH R'H + RCOCH2CH2OMgX
H2O
+
RCOCH2CH2OH + R'MgX
③ Na R''X ②
RCOCH2CH2OR''
④ R'MgX H3O
RCOCH 2CH2OH
R' R' R-C-CH2CH2OR'' HI, H2O R-C-CH2CH2OH OH OH
该方法的优点是:条件温和,保护基容易引入,且对酸、碱、氧化剂 或还原剂都很稳定。 甲 基 醚 化 试 剂 :MeI、 (MeO)2SO2 或 MeOTf 与 相 应 的 碱 组 成 反 应 体 系, 但 也 有 用 CH2N2 /硅 胶 进 行 O-H 键 的 插 入 发 应。 甲 基 醚 非 常 惰 性, 除 去 也 相 当 不 容 易。 常 用 TMSI/CH3Cl or CH2Cl2 or MeCN 或 者 BBr3/CH2Cl2 等。 酚 用 甲 基 醚 保 护 较 多, 也 比 较 易 于 除 去。
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