等离子体及辉光放电现象

高密度等离子体——high density Plasmas（HDP)
种类： 电感耦合等离子体 磁控等离子体 电子回旋共振等离子体
产生过程： 在反应器中引入磁场和/或电场，增加电子在 等离子体中的行程，使电子和原子之间的碰撞 频率增加，从而增加等离子体中基和离子的密 度，实现高密度等离子体。
HDP源包括： 螺旋等离子源 电感耦合等离子源 平面盘绕源
等离子体可分为两种：高温和低温等离子体。高 温等离子体只有在温度足够高时发生的。低温等离子 体是在常温下发生的等离子体（虽然电子的温度很 高）。低温等离子体可以被用于氧化等表面处理或者 在有机物和无机物上进行沉淀涂层处理。广泛运用于 多种生产领域。例如：等离子电视，电脑芯片中的蚀 刻运用等。
等离子体的驱动—wenku.baidu.com射频放电
微电子加工领域，等离子体可以用交流信号驱 动，电源在射频的范围内，公认的频率为13.56MHz。
电容性放电等离子体是主要的等离子源。
辉光放电
低气压下的气体放电。放电管中的残余正离子在 极间电场的作用下被加速，于是得到足够的动能撞击 阴极而产生二次电子，经簇射过程产生更多的带电粒 子，使得气体导电。因此放电管两极间所需电压较高， 一般都在10千伏以上，但辉光放电的电流很小，温度 不高，属于低温等离子体现象。