半导体物理_第六章

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半导体物理基础 第六章 MOS

半导体物理基础   第六章   MOS

QS QB qNa xd
2 qNa xd S 2k s 0
(6-5)

(6-6)
6.2 理想MOS电容器
代入(6-44)式解出 x
d
Xd
kS 0 kS 0 2VG 1 C0 2 C0 C0 qkS 0 N a
2 0 12
(6-45)
C 2C 1 qN k VG C0 a S 0
6.2 理想MOS电容器
积累区( VG <0)
MOS系统的电容C基本上等于绝缘体电容 C0。当负偏压的数值逐渐减少时,空间电 荷区积累的空穴数随之减少,并且 QS 随 C也就变小。 平带情况( VG =0)
S
的变化也逐渐减慢, C S 变小。总电容
C FB C0
1 k 0 LD 1 k s x0
(6-1)
掌握载流子积累、耗尽和反型和强反型的概念。 正确画出流子积累、耗尽和反型和强反型四种情况的能带图。 导出反型和强反型条件
6.2 理想MOS电容器
6.2 理想MOS电容器
系统单位面积的微分电容
微分电容C与外加偏压 VG 的关系称为MOS系统的电容—电压特性。
dQM C dVG
(6-1)
S =半导体表面的电场
k0 =氧化物的相对介电常数
k S =半导体相对介电常数
xd =空间电荷区在半导体内部的边界亦即空间电荷区宽度。
外加电压 VG 为跨越氧化层的电压
V0和表面势 S 所分摊:
(6-2)
VG V0 S
6.1 理想MOS结构的表面空S结构内的电位分布
(6-22)
dV0 d s 1 dVG C dQM dQM dQM

半导体物理_第六章_pn结

半导体物理_第六章_pn结

Jn dEF dx n n
qDp dEF J p p0 kT dx
电流密度与费米能级的关系 对于平衡的pn结,Jn, Jp均为零,因此,
Jp dEF dx p p
EF=常数
qDp dEF J p p0 kT dx
当电流密度一定时,载流子浓度大的地方, EF随 位置变化小,而载流子浓度小的地方, EF随位置 变化较大。
非平衡载流子的电注入:正向偏压使非平衡载流子进入半导 体的过程。
注入到p区的电子断与空穴复合,电子流不断转化 为空穴流,直到全部复合为止。
扩散电流〉漂移电流
根据电流连续性原理,通过pp’(或nn’)任何一个界 面的总电流是相等的。只是电子电流和空穴电流 的比例不同。 总电流=扩散电流+漂移电流
反向偏移下,非平衡状态 外加反向电场与内建势场方向一致。
1. pp’处注入的非平衡少数载流子浓度:
EFn Ei n p ni exp( ) k0T EFn EFP n p p p ni exp( ) k0T
2
p p ni exp(
Ei EFp k0T
)
在pp’边界处, x=-xp, qV=Efn-Efp,
qV n p ( x p ) p p ( x p ) ni exp( ) k0T
电子电势能-q V(x)由n到p不断升高 P区能带整体相对n区上移。n区能带整体相对p区下移。 直到具有统一费米能级 pn结费米能级处处相等标志pn结达到动态平衡,无扩散、 漂移电流流过。
动态平衡时
本征费米能级Ei的变化与-qV(x)一致
k0T n Dn q
k0T n Dn q
同理,空穴电流密度为:
qV x p ( ) 0 2. 加反向偏压下,如果qV>>k0T, e k0T

半导体物理学第六章解读

半导体物理学第六章解读

ND X D ND NA
1
Q=eND
Xn
2
0e
(
NDNA ND NA
)(VD
V
2 )
♦单边突变结:
XD
2
e
0
1
(VD V NB
)
2
♦势垒区主要在轻掺杂 一边
• 对p+-n结, NB代表ND • 对p-n+结, NB代表NA
xn X D
xp XD
P+-n结
3. 突变结的势垒电容
电势
图6-8
电子势能(能带)
6.1.5p-n载流子的分布 ♦ 当电势零点取x=-xp处,则有: EC (x) EC qV (x)
EV (x) EV qV ( x)
x x p , EC ( x) EC x xn , EC (x) EC qVD
♦势垒区的载流子浓度为:
EC qV ( x ) EF
• 反向偏压下的突变结势垒电容(单位面积):
1
CT A
dQ dV
2(
0eND NA
ND NA )(VD
V
)
2
CT 0
A XD
CT
(VD
1 V )1/ 2
• 几点说明:
① p-n结的势垒电容可以等效为一个平行
板电容器,势垒宽度即两平行极板的距离
② 这里求得的势垒电容, 主要适用于反向 偏置情况
xn
NAXD ND NA
, xp
ND X D ND NA
• 代入上式
VD
q
2 0
( NAND ND NA
)
X
2 D
♦则,平衡p-n结
1
XD

半导体物理 第六章 PN结

半导体物理 第六章  PN结
主要内容:
1、非平衡PN结能带图 2、PN结电流电压方程
1、非平衡PN结
(1)PN 结正偏、反偏
• 平衡PN结
P
N
• 正偏PN结
P
N
• 反偏PN结
P
N
哈尔滨工业大学微电子科学与技术系
(2)非平衡PN能带图
EC
E
n F
空穴 EFP
能量 EV
qVD q(VD-V)
E
p F
电子
EC
能量
EFn
EV
EC
空穴 EFP
扩散电容:
(2)突变结势垒电容
CTA2(NA r 0 N qD)A N V N (D DV)AX rD 0
XD
2r0(NAND)V (DV) qN AND
(3)线性缓变结势垒电容
CT
A3
qjr202 12(VDV)
r0A XD
XD
3
12r0(VD qj
V)
(4)扩散电容
CDa2q(np0Lnk 0Tpn0Lp)exk q p 0TV
x
x
qVD ECn EFn
电子 能量
EVn
哈尔滨工业大学微电子科学与技术系
• 本征费米能级 Ei 随位置 x 的变化
dEi qdV(x)
dx
dx
(3)平衡PN结的载流子分布
n ( xP) n n 0 exp
xp
qV
( x ) qV
k
xn
0
TN
D
ห้องสมุดไป่ตู้
pp0
p(x)
p n 0 expn(x )qV
§6.1 PN结及其能带图
P-N Junction and its energy band diagram

微电子学 半导体物理学 第六章pn结

微电子学 半导体物理学 第六章pn结

(N
2 x 2 + N D xn ) A p
x D = xn + x p N A x p = N D xn
NA ND xn = xD x p = xD NA + ND NA + ND
1/ 2
1/ 2
2ε 0ε r 2ε ε N + N D 代入 VD 得 x D = 0 r A VD = qN VD N AN D q eff q2 N A (x + x p )2 (-xp<x<0) EC ( x ) = EC ( p ) − 2ε 0ε r q2 N D ( x − xn )2 − 2011 EC ( x ) = E复旦大学半导体物理 -qV D (0<x<xn) + C ( p) 2ε 0ε r
复旦大学半导体物理 - 2011
14
平衡时的费米能级
J n = J n扩 + J n漂 = 0
dn 0 J n = qn 0 µ n E + qDn dx
dn0 1 dEi 1 dE F = − n0 + n0 dx k BT dx k BT dx dV ( x ) 1 dEi E=− = dx q dx
NDNA越大,VD越大;Eg越大,ni越小,VD越大。 NA=1017cm-3, ND=1015cm-3, Si的VD=0.70V. 复旦大学半导体物理 - 2011
17
平衡时,
qVD = Ecp − Ecn = E g + ( EFn − Ec ) + ( Ev − EFp )
对于非简并半导体,势垒高度会大于禁带宽度Eg吗?
耗尽层近似
从N区到P区,随着电子势能的升高,电子浓度 迅速下降,由于Vd(~1V),在势垒区的大部 分范围内,电子极为稀少,可视为电子耗尽, N侧空间电荷区的电荷基本是由电离施主贡献 的。同理,P侧空间电荷区的电荷有电离受主 贡献。 认为,在空间电荷区载流子被耗尽了

半导体物理第六章习题答案

半导体物理第六章习题答案

第6章 p-n 结1、一个Ge 突变结的p 区n 区掺杂浓度分别为N A =1017cm -3和N D =5´1015cm -3,求该pn 结室温下的自建电势。

解:pn 结的自建电势结的自建电势 2(ln)D A D iN N kT V qn=已知室温下,0.026kT =eV ,Ge 的本征载流子密度1332.410 cm i n -=´代入后算得:1517132510100.026ln0.36(2.410)D V V ´´=´=´4.4.证明反向饱和电流公式(证明反向饱和电流公式(证明反向饱和电流公式(6-356-356-35)可改写为)可改写为)可改写为2211()(1)i s n n p p b k T J b q L L s s s =++ 式中npb m m =,n s 和p s 分别为n 型和p 型半导体电导率,i s 为本征半导体电导率。

证明:将爱因斯坦关系式p p kT D qm =和nnkT D q m =代入式(式(6-356-356-35))得 0000()p n p n S p n n pn p n p p nn p J kT n kT p kT L L L L m m m m m m =+=+因为002i p p n n p=,002i n nn p n =,上式可进一步改写为,上式可进一步改写为00221111()()S n p i n p i n p p p n n n p p nJ kT n qkT n L p L n L L m m m m m m s s =+=+ 又因为又因为()i i n p n q s m m =+22222222()(1)i i n p i p n q n q b s m m m =+=+即22222222()(1)i i i n p p n q q b s s m m m ==++ 将此结果代入原式即得证将此结果代入原式即得证2222221111()()(1)(1)n p i i Sp np pn np pnqkT b kT J q b LL q b L L m m s s mssss=+=××+++ 注:严格说,迁移率与杂质浓度有关,因而同种载流子的迁移率在掺杂浓度不同的p 区和n区中并不完全相同,因而所证关系只能说是一种近似。

《半导体物理》胡礼中第六章 非平衡载流子

《半导体物理》胡礼中第六章 非平衡载流子

第六章 非平衡载流子处于热平衡状态的半导体在一定温度下载流子密度是一定的。

但在外界作用下,热平衡状态将被破坏,能带中的载流子数将发生明显改变,产生非平衡载流子。

在半导体中非平衡载流子具有极其重要的作用,许多效应都是由它们引起的,如晶体管电流放大,半导体发光和光电导等都与非平衡载流子密切相关。

在大多数情况下,非平衡载流子都是在半导体的局部区域产生的,这些载流子除了在电场作用下作漂移运动外,还要作扩散运动。

本章主要讨论非平衡载流子的运动规律及其产生和复合机理。

§6-1 非平衡载流子的产生和复合一.非平衡载流子的产生。

若用n 0和p 0分别表示热平衡时的电子和空穴密度,则当对半导体施加外界作用使之处于非平衡状态时,半导体中的载流子密度就不再是n 0和p 0了,要比它们多出一部分。

比平衡态多出的这部分载流子称过剩载流子,习惯上也称非平衡载流子。

设想有一块n 型半导体,若用光子能量大于其禁带宽度的光照射该半导体,则可将其价带中的电子激发到导带,使导带比热平衡时多出了一部分电子n ∆,价带多出了一部分空穴p ∆,从而有:0n n n -=∆ (6-1) 0p p p -=∆ (6-2) 且 n ∆=p ∆ (6-3) 式中,n 和p 分别为非平衡状态下的电子和空穴密度,n ∆称非平衡多子,p ∆称非平衡少子,对于p 型半导体则相反。

n ∆和p ∆统称非平衡载流子。

图6-1为光照产生非平衡载流子的示意图。

通过光照产生非平衡载流子的方法称光注入,如果非平衡载流子密度远小于热平衡多子密度则称小注入。

虽然小注入对多子密度的影响可以忽略,但是对少子密度的影响却可以很大。

光注入产生的非平衡载流子可以使半导体的电导率由热平衡时的0σ增加到σσσ∆+=0,其中,σ∆称附加电导率或光电导,并有:p n pe ne μμσ∆+∆=∆ (6-4) 若n ∆=p ∆,则 )(p n pe μμσ+∆=∆ (6-5) 通过附加电导率的测量可直接检验非平衡载流子是否存在。

半导体物理第六章PN结

半导体物理第六章PN结

二、PN结的反向电流
加反向偏压时,外加电场与内 建电场方向相同,增强了势垒区的 电场强度,势垒区加宽、增高,漂 移运动超过了扩散运动。n区中的空 穴(p区中的电子)一旦到达势垒区 边界处,就立即被电场扫向p区(n 区),构成了pn结的反向电流,方 向由n区到p区。
一、PN结的正向电流
多子电流与少子电流的转换
注入的非平衡少子在扩散过程中与多子相遇
中性区 势垒区 扩散区 扩散区 中性区 + p n
而不断复合,经过一个扩散长度后,复合基 本完毕,载流子浓度接近平衡数值。非平衡 少子边扩散边复合的区域称为扩散区,载流 子浓度接近平衡值的区域称为中性区 半导体中的电流主要由多子运载,然而pn结 正向电流是由电注入的非平衡少子引起的。 �非平衡少子被多子复合并非电流的中断, 因为与少子复合的多子是从n区的右边过来的 电子,所以它们的复合正好实现了少子电流 到多子电流的转换,如图c所示。
qV ) k0T
� pn结的正向电流随正向偏压呈指数规律增长。
一、PN结的正向电流
正偏压作用下的能带图
1、由于正偏压的作用,势垒高度下降, pn结不再处于平衡状态,在势垒区和扩散区,电子 准费米能级和空穴准费米能级不一致,而在中性区二者则趋于重合。 �说明通过势垒边界分别注入到两侧的非平衡载流子扩散一段距离后才复合完毕。而中性区 载流子的分布接近热平衡分布,故在中性区,两个准费米能级趋于汇合成统一的费米能级。
qα j x d 2V ( x ) ρ ( x) = − = − dx 2 ε sε 0 ε sε 0
xD 对上式积分,并利用边界条件 ε ⎛ ± ⎜ ⎝ 2
⎞ ⎟ = 0 , 得: ⎠
ε ( x) =
qα j
2ε sε 0x − Nhomakorabea2

半导体物理学第6章(pn结)

半导体物理学第6章(pn结)
6.1.1 pn结的形成和杂质分析
在同一片半导体基片上,分别制造P 型半导 体和N 型半导体,经过载流子的扩散,在它们的 交界面处就形成了PN 结。
PN结是构造半导体器件的基本单元。其 中,最简单的晶体二极管就是由PN结构 成的。
PN
★ p-n结的形成
p-n结的形成 ♦ 控 制 同 一 块 半 导 体 的 掺 杂 , 形 成 pn 结 (合金法; 扩散法; 离子注入法等)
p(x) NV e
kT
pp0e kT
即有: x xp
n np0
p pp0
xn x
n nn0
p pn0
xp x xn
eV ( x)
n(x) np0e kT
eVD
np0 nn0e kT
eV ( x)
p(x) pp0e kT
eVD
pn0 pp0e kT
理想二极管方程(1)
新的坐标:
0

Dp
d 2pn dx'2

pn
p
边界条件:
-xp
xn
x
X’
0
pn (x' ) 0
pn (x'
0)

ni2 ND
eqVA / kT 1
空穴电流
一般解
pn (x')

A ex'/ LP 1

A ex'/ LP 2
其中, LP DP P
♦ 正向偏压时,在少子扩散区, 少子复合 率>产生率(非平衡载流子注入); 反向时, 产生率>复合率(少数载流子被抽取)
♦ 反向时, 少子浓度梯度很小反向电流 很小

《半导体物理第六章》课件

《半导体物理第六章》课件

以可靠性测试、光电性能测试、尺寸测量为例,介绍半导体器件的特殊测试方法。
3
故障分析
讲解半导体器件的故障定位和与制造
学习IC设计的基本流程和制造 工艺。
集成电路器件
掌握集成电路的种类、分类及 其基本原理。
分立元件和模拟器件
介绍分立元件、模拟器件和数 字器件的基本特性和应用。
工作原理
掌握p-n结的基本构造、电学性质及工 作原理。
光电二极管
讲解光电二极管的内部结构、工作方 式和应用。
光电器件与半导体器件
发光二极管
介绍LED的特性、类型及应用。
传感器
介绍传感器的种类、原理及应用。
太阳能电池
掌握太阳能电池的工作原理和结构。
集成电路
学习集成电路的发展历史、制作工艺及设计 方法。
半导体材料与工艺
材料制备
掌握制备单晶硅和多晶硅的方 法及原理。
光刻工艺
学习光刻胶制备、光刻芯片制 造和相关工艺。
等离子刻蚀
讲解等离子刻蚀的基本原理和 工艺过程。
洁净室技术
介绍半导体器件制造中的洁净 室技术和要求。
半导体器件的特性与检测
1
电学特性
讲解电感、电容、电阻、电压及电流等基本电学特性。
2
特殊测试
半导体结构
讲解半导体的基本结构和制备 工艺。
载流子与能带理论
1 费米能级
介绍半导体中费米能级 的概念及作用。
2 载流子统计
掌握电子与空穴的贡献 对半导体电学特性的影 响。
3 掺杂
讲解杂质原子掺杂对半 导体特性的影响。
p-n结及其应用
1
二极管
2
掌握二极管的类型、电学特性和应用。
3

刘恩科半导体物理第六章课后习题最全答案

刘恩科半导体物理第六章课后习题最全答案

d 2V x 0 2 dx dV x x c dx
令 V 0 0 ,则 A 0 ,V x cx
E(x) c<0 0 V(x) x c>0 c>0
dV x V x dx x dx cx A dx
2 11.6 8.85 10 14 0.94 19 16 1.6 10 10
1 2
12.2 10

1 10 2

3.5 105 cm
(2) 画出 x 和 V x 的图线
+ + + + + + + + V + + + + + + + +
kT n , p kT p ,Ln Dn n , 又 Dn D q q L p D p p
Jp Jn D p N A Ln Dn N D L p


p N A Dn n n N D D p p
p N A n n n N D p p

1.56 10 x 3.47 10
9
5
V
cm
2
2 x
dV x dx
2

qN D x n
1.56 109 x 3.47 109 V cm2
V1 x qN A x 2 r 0
8 2 p
r 0
J s 400 6 10 1.6 10 5 J s 300 1.5 10 10
12 2
解法二:

半导体物理第六章 PN结

半导体物理第六章   PN结

非平衡载流子的电注入:正向偏压使非平衡载流子 进入半导体的过程。
正向偏压下pn结的能带图
在正向偏压下,p、n区均有非平衡少子注入,必须用 准费米能级EFn、EFp代替平衡时的统一费米能级
能带特征:
1. EFp 在p区及势垒
区为水平线,在空 穴扩散区(nn’到Lp 区)为斜线;
EFp 、Efn在扩散区为斜线的原因:由于复 合,存在浓度梯度,电子、空穴浓度逐渐 减小
PN结的形成机理(2):
内电场作用促进少子的漂移运动,使N区的少子空穴向P区漂移,P区的少子电子向N 区漂移,漂移运动的方向正好与扩散运动的方向相反。从N区漂移到P区的空穴补充 了原来交界面上P区所失去的空穴,从P区漂移到N区的电子补充了原来交界面上N区 所失去的电子,这就使空间电荷减少,内电场减弱。因此,漂移运动的结果是使空间 电荷区变窄,扩散运动加强。 最后,多子的扩散和少子的漂移达到动态平衡。在P型半导体和N型半导体的结合面 两侧,留下离子薄层,这个离子薄层形成的空间电荷区称为PN结。PN结的内电场方 向由N区指向P区。在空间电荷区,由于基本上没有自由载流子,所以也称耗尽层。P、 n两侧空间电荷总数相同,对外保持整体的电中性。
nn 0 1 两式相除取对数可得: ln (E Fn E Fp ) np 0 k0T
因为 n n 0 N D ,n p 0
ni NA
2
k0T nn 0 1 VD ( EFn EFp ) (ln ) q q np0
接触电势差:
PN结的载流子分布:
平衡时的pn结,取p区电势为零, 则势垒区中一点x的电势V(x)正值, x点的电势能为E(x)=-qV(x) 对非简并材料, x点的电子浓度 n(x),应用第三章计算平衡时导 带载流子浓度计算方法

半导体物理学第六章

半导体物理学第六章
注入n区边界nn‘处的非平衡载流子浓度为:
qV pn ( xn ) pn ( xn ) pn 0 pn 0 k0T
1
注入势垒区边界pp‘和nn’处的非平衡少数载流子是外加电压的 函数,同时也是解连续性方程的边界条件。
在稳定态时,空穴扩散区中非平衡少子的连续性方程为:

代入,
xn x qV pn ( x) pn ( x) pn 0 pn 0 exp( ) 1 exp L k0T p
同理,注入p区的非平衡少子可以求得
xp x qV n p ( x) n p ( x) n p 0 n p 0 exp( ) 1 exp k0T Ln
半导体物理学
理学院物理科学与技术系
第六章 pn结
6.1
pn结及其能带图 6.2 pn结电流电压特性 6.3 pn结电容
6.1 pn结及其能带图
1、pn结的形成和杂质分布
在一块p型(或n型)半导体单晶上,用适 当的工艺方法(如合金法、扩散法、离子注 入等),把n型(p型)掺入其中,使这块单 晶的不同区域分别具有n型和p型的导电类型, 在两者交界处就形成pn结。
讨论: (1)正向偏压下,当V一定时,在势垒区边界处非平衡少数载流子浓度一定, 对扩散区形成了稳定的边界浓度;扩散区,非平衡少子按指数规律衰减; (2)反向偏压下,
q V k0T exp(
( xn x ) Lp
qV )0 k0T
N区
pn ( x) pn0e
小注入时,扩散区不存在电场,在n区边界处,空穴扩 散电流密度为: qD p pn 0 qV dpn ( x) J p ( xn ) qD p exp 1 x xn dx Lp k0T

半导体物理_第六章

半导体物理_第六章

N型半导体材料: 假定 n0 >> p0, Dn、Dp处于同一个数量级。当其满足 小注入条件,则 δ n<< n0 。 此时双极扩散系数可简化为:
再将上述条件应用于双极迁移率的公式,同样可以 得到:
结论: 对于N型半导体材料和小注入条件: 双极扩散系数可简化为少子空穴的扩散系数; 双极迁移率可简化为少子空穴迁移率; 少子空穴的扩散系数和迁移率都为常数,因此: 双极输运方程也简化为一个线性微分方程。
电子和空穴的浓度也不再满足热平衡时的条件,即:
过剩载流子的复合 半导体中,即使有稳定的过剩载流子产生也不会导 致过剩电子浓度和过剩空穴浓度的持续增加。 过剩电子也会不断地和过剩空穴相复合。 假设过剩电子和过剩空穴的复合率分别为Rn′、Rp′ 由于过剩电子和过剩空穴是成对复合掉的,因此:
下图所示为半导体材料中过剩载流子的复合过程。 如果撤掉外界作用,由于过剩载流子的复合作用,非 热平衡状态会逐渐向热平衡状态恢复。
612过剩载流子的产生与复合讨论过剩载流子产生和复合过程常用的符号过剩载流子的产生当有外界激发条件如光照时会把半导体价带中的电子激发至导带从而在导带中产生导电电子同时也会在价带中产生导电空穴即受到外部激励时半导体材料相对于热平衡状态额外产生了电子空穴对
如果半导体材料受到外部的激励(如温度的突然 升高),那么在原来热平衡浓度的基础上,会增加额 外的导带电子和价带空穴----非平衡过剩载流子,过 剩载流子是半导体器件工作的基础。 本章重点学习描述非平衡过剩载流子随空间位置 和时间变化状态---双极输运方程,这是研究分析PN 结和双极型晶体管特性的基础。
利用上述两个方程消去其中电场的微分项,即可得 到:
上式称为双极输运方程。 它描述了过剩电子浓度和过剩空穴浓度随着时间和空 间的变化规律,其中的两个参数分别为:

半导体物理-第六章-pn结

半导体物理-第六章-pn结

6.1.5 pn结载流子分布
平衡时pn结,取p区电势为零, 势垒区一点x的电势V(x),
x点的电势能为E(x)=-qV(x)
对非简并材料, x点的电子浓度 n(x),应用第三章计算平衡时导 带载流子浓度计算方法
因为E(x)=-qV(x)
nn0

Nc
exp(
EF Ecn ), k0T
Ecn

6.1.3 pn结能带图
电子从费米能级高的n区流向费米能级低的p区,空穴从p流到n区。
EFn不断下移,EFp不断上移,直到EFn=EFp 最后,pn具有统一费米能级EF, pn结处于平衡状态。
能带发生整体相对移动与pn结空 间电荷区中存在内建电场有关。
随内建电场(np)不断增大, V(x)不断降低,

n
p0
[exp(
qV k0T
)

1]
非平衡少数载流子浓度是电压的函数。
同理,nn’边界注入的非平衡少数载流子浓度为
pn (xn )

pn0
exp(
qV k0T
)

pp0
exp(
qV qVD k0T
)
qV pn (xn ) pn (xn ) pn0 pp0[exp( k0T ) 1]
px

pn0
exp(
qVD
qV (x) )
k0T
pn0是平衡时n区的少子浓度 当 X=Xn时,V(x)=VD, p(xn)=pn0
当 X=-Xp时,V(x)=0, p(-xp)=pp0
p(xp )

p p0
pn0
exp(
qVD k0T
)
pn0

半导体物理与器件-第六章 半导体中的非平衡过剩载流子

半导体物理与器件-第六章 半导体中的非平衡过剩载流子

Generation rate
Recombination rate
3
6.1载流子的产生与复合 6.1.1平衡半导体
平衡态半导体的标志就是具有统一的费米能级
EF,此时的平衡载流子浓度n0和p0唯一由EF决定。
平衡态非简并半导体的n0和p0乘积为
n0p0
Nc N vexp(
Eg kT
)
ni2
质量定律
称n0p0=ni2为非简并半导体平衡态判据式。
第6章 半导体中的非平衡过剩载流子
1
第6章 半导体中的非平衡过剩载流子
6.1载流子的产生与复合 6.2过剩载流子的性质 6.3双极输运 6.4准费米能级 *6.5过剩载流子的寿命 *6.6表面效应
2
6.1载流子的产生与复合 6.1.1平衡半导体
平衡状态下产生率等于复合率
产生是电子和空穴的生成过程 复合是电子和空穴的消失过程
一般来说:n型半导体中:δn<<n0,δp<<n0。 p型半导体中:δn<<p0,δp<<p0。
小注入:过剩载流子浓度远小于平衡态时的多子浓度. 大注入:过剩载流子浓度接近或大于平衡时多子的浓度.
7
6.1载流子的产生与复合 6.1.2过剩载流子
注意:
1.非平衡载流子不满足费米-狄拉克统计分布.
(有发光现象)、把多余能量传递给晶格或者把多余能量交给其 它载流子(俄歇复合)。
15
6.1载流子的产生与复合 6.1.2过剩载流子
过剩载流子的产生与复合相关符号
16
6.2过剩载流子的性质 6.2.1连续性方程
单位时间内由x方向的粒子流产生的 空穴的净增加量
Fpx为空穴粒子的流量

半导体物理学第6章(pn结)

半导体物理学第6章(pn结)

电位V
- - - - - - - - - - - - - - - - - - + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + +
V0
- - - - - -
P型区
空间 电荷 区
N型区
③ 空间电荷区 —— 在PN结的交界面附近,由于扩散 运动使电子与空穴复合,多子的浓度下降,则在P 区和N 区分别出现了由不能移动的带电离子构成的区域,这就是 空间电荷区,又称为阻挡层,耗尽层,垫垒区。 (见下一页的示意图)


漂移运动 P型半导体 - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - + + + + 内电场E
N型半导体
+ + + + + + + +
+ + + + + + + + + + + +
所以扩散和漂移这一对相反的运动最终达到平衡, 扩散运动 相当于两个区之间没有电荷运动,空间电荷区的厚 度固定不变。
Ei Ev
Ec Ei
Silicon (n-type)
Ef
Ev
热平衡条件
内建电势
内建电势
PN结的内建电 势决定于掺杂 浓度ND、NA、 材料禁带宽度 以及工作温度
③接触电势差: ♦ pn结的势垒高度—eVD 接触电势差—VD ♦ 对非简并半导体,饱和电离近似,接触 电势为:

半导体物理第六章

半导体物理第六章
注意Nd、Na浓度
参照前边图中φFn、 φFp的定义,可以知道:
N qφFn = EFi − EF = −kT ln d ni N q φFp = EFi − EF = kT ln a ni
接触电势差的大小 直接和杂质浓度、 本征载流子浓度、 以及热电压(温度 及分布)相关。
§6.1 pn结的基本结构
若在同一半导体内部,一边是P 型,一边是N 型,则 会在P 型区和N 型区的交界面附近形成pn 结,它的行 为并不简单等价于一块P型半导体和N 型半导体的串联。 这种结构具有特殊的性质:单向导电性。PN 结是许多 重要半导体器件的核心。
q PN结的制备方法: (1)合金法制备突变pn结; (2)扩散法制备缓变pn结; (3)外延、离子注入等;
D
内建电势差维持着n区多子电子与p区少子电子之间以及p区多子空穴 与n区少子空穴之间的平衡(扩散与漂移的平衡)。 由于空间电荷区是电子的势垒,因而空间电荷区(耗尽区)又称作势 垒区
对于平衡状态的pn结我们有:
E − EFi nn 0 = N d = ni exp F kT pp0 EFi − EF = N a = ni exp kT
参照前边图中φFn、 φFp的定义,可以知道:
VD = φFn + φFp
对照:费米能级和 N N kT N a N d = ln 2 = VT ln a 2 d 掺杂以及温度的关 q ni ni 系
N(x) NA NA ND ND x SiO2 n-Si n-Si xj x 杂质扩散 N(x)
n-Si p-Si sub
xj
n-Si
q pn结的空间电荷区和内建电场
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对于N型半导体材料,在小注入条件下,少数载 流子空穴的浓度将以时间常数τp0进行衰减。
τp0称为过剩少数载流子的寿命。此时多数载流 子电子和少数载流子空穴的复合率也完全相等, 即:
一般而言,过剩载流子产生率通常与电子或空 穴的浓度无关。
讨论过剩载流子产生和复合过程常用的符号
3. 产生与复合过程 (1)带与带之间的产生与复合过程:
2. 过剩载流子的产生与复合 当有外界激发条件(例如光照)存在时, 将会把价带中的一个电子激发至导带,从而产 生了一个电子-空穴对,这些额外产生出的电 子和空穴就称为过剩电子和过剩空穴。
过剩电子和过剩空穴一般是由外界激发条件 而产生的,其产生率通常记为gn'和gp',对于 导带与价带之间的直接产生过程来说,过剩电 子和过剩空穴也是成对产生的,因此有:
当有过剩载流子产生时,电子的浓度和空穴 的浓度就会高出热平衡时的浓度,即:
其中n0和p0分别是热平衡状态下导带电子和价带 空穴的浓度,δn和δp分别是过剩电子和过剩空 穴的浓度。 右图所示 就是由光 激发所引 起的过剩 电子和过 剩空穴的 产生过程
当有过剩载流子产生时,外界的激发作用就 已经打破了热平衡状态,电子和空穴的浓度也 不再满足热平衡时的条件,即:
第六章 半导体中的非平衡过剩载流子
本章学习要点: 1. 了解有关过剩载流子产生与复合的概念; 2. 掌握描述过剩载流子特性的连续性方程; 3. 学习双极输运方程,并掌握双极输运方程的 几个典型的应用实例; 4. 建立并深刻理解准费米能级的概念; 5. 了解表面效应对过剩载流子复合的影响,并 掌握其定性分析的方法。
D’和μ’分别称为双极扩散系数和双极迁移率。 根据扩散系数和迁移率之间的爱因斯坦关系,
由上述公式可见,双极扩散系数D’和双极 迁移率μ’均为载流子浓度的函数,又因为载流 子浓度n、p中都包含了过剩载流子的浓度δn , 因此双极输运方程中的双极扩散系数和双极迁 移率都不是常数,由此可见,双极输运方程是 一个非线性的微分方程。
我们已经介绍了处于热平衡状态下的半导 体材料。当有外加电压时,或者有电流流过半 导体器件时,半导体材料实际上就处于一种非 热平衡状态。 非热平衡状态:半导体材料处于外界作用 力下的一种状态。 本章中将讨论非平衡的过剩载流子随着空 间位置和时间的变化关系,这也是研究PN结稳 态特性和双极型晶体管特性所必不可少的
由此可见对于P型半导体材料和小注入条 件,双极扩散系数和双极迁移率分别简化为少 数载流子电子的扩散系数和迁移率,它们都为 常数,因此双极输运方程也简化为一个系数为 常数的线性微分方程。
同样如果我们考虑的是一块N型半导体材料并 假定n0>>p0,仍然采用小注入条件,即δn<<n0, 与上述分析类似,此时双极扩散系数可简化为
因此单位时间内由于x方向空穴粒子流的通 量而导致微分体积元中空穴的净增量为:
假如Fpx+(x)>Fpx+(x+dx),则微分体积元中 净的空穴数量将随着时间而不断增加。如果我 们将上式推广到一般的三维情形,则上式变为:
除了空穴粒子流的通量之外,空穴的产生率 和复合率同样也会影响微分体积元中空穴的浓度, 因此考虑空穴的产生和复合效应之后,单位时间 内微分体积元中空穴的净增量为:
由于过剩电子和过剩空穴相互分离所诱生 的内部电场示意图:
考虑上述内建电场之后,上一节中导出的 电子和空穴的连续性方程中的电场则应同时包 含外加电场和内建电场,即:
其中Eapp为外加电场,而Eint则为内建电场。 由于内建电场倾向于将脉冲的过剩电子和过剩空 穴保持在同一空间位置,因此这些带负电的过剩 电子和带正电的过剩空穴就会以同一个等效的迁 移率或扩散系数共同进行漂移或扩散运动。这种 现象通常称为双极扩散或双极输运过程。
1.泊松方程 我们已经提到连续性方程描述了过剩载流 子浓度随着时间和空间的变化规律,但是我们 还需要增加一个方程来建立过剩电子浓度及过 剩空穴浓度与内建电场之间的关系,这个方程 就是泊松方程,其表达式为:
其中εS是半导体材料的介电常数。为了便 于联立求解上述方程组,我们需要做适当的近 似。可以证明,只需很小的内建电场就足以保 证过剩电子和过剩空穴在一起共同漂移和扩散, 因此我们可以假设:
电子和空穴的连续性方程可进一步变换为下述 形式:
பைடு நூலகம்
注意在上述两个时间相关的扩散方程中,既包含 与总的载流子浓度n、p相关的项,也包含仅仅与 过剩载流子浓度δn、δp相关的项。
因此上述两式就是在掺杂和组分均匀的条 件下,描述半导体材料中过剩载流子浓度随着 时间和空间变化规律的方程。
§6.3 双极输运过程 如果在有外加电场存在的情况下,在半导 体材料中的某一点处产生出了一个脉冲的过剩 电子和一个脉冲的过剩空穴,此时这些过剩电 子和过剩空穴就会在外加电场的作用下朝着相 反的方向漂移. 但是,由于这些过剩电子和过剩空穴都是带 电的载流子,因此其空间位置上的分离就会在 这两类载流子之间诱生出内部电场,而这个内 建电场又会反过来将这些过剩电子和过剩空穴 往一起拉,即内建电场倾向于将脉冲的过剩电 子和过剩空穴保持在同一空间位置。
§6.1 载流子的产生与复合 所谓载流子的产生,即把一个价带电子激 发至导带,形成一对可以参与导电的电子-空 穴对的过程;所谓载流子的复合,即一个导带 电子跃迁至价带,使得一对本来可以参与导电 的电子-空穴对消失的过程。
1. 热平衡状态下的半导体材料 对于处于热平衡状态的半导体材料来说,其 中电子和空穴的浓度不随时间发生变化。但是 这只是一种动态平衡,在半导体材料中仍然不 断地存在着大量电子-空穴对的产生过程,同 时也存在着大量电子-空穴对的复合过程。
3. 非本征掺杂与小注入条件的限制 对于上述非线性的双极输运方程,我们可以 利用非本征半导体材料和小注入条件来对其进行 简化和线性化处理。
其中n0和p0分别是热平衡时的电子和空穴浓 度,δn则是过剩载流子浓度。如果我们考虑P型 半导体材料并假定p0>>n0,所谓小注入条件,即 过剩载流子浓度远小于热平衡时的多数载流子浓 度,亦即δn<<p0,再假设Dn、Dp处于同一个数量 级,由上式,双极扩散系数可简化为:
上式即称为一维条件下的空穴连续性方程。
类似地可以得到一维条件下的电子连续性方程为:
式中Fn-为电子粒子流的通量,其单位也是 cm-2s-1,电子的复合率表示为n/τnt,其中τnt既 包含热平衡载流子寿命,也包含过剩载流子寿命。 在第五章中我们曾经推导出了空穴的电流密度 方程和电子的电流密度方程,它们分别为:
尽管内建电场很小,但是其散度却未必能够 忽略不计。
为了确保内建电场的存在,以便使得过剩电 子和过剩空穴能够在一起共同漂移和扩散,只 需很小的过剩电子和过剩空穴的浓度差。可以 证明,过剩电子浓度δn和过剩空穴浓度δp只 要有1%的差别,其引起的内建电场散度就不 可以忽略,此时有:
2. 双极输运方程
一般情况下,半导体中的电子和空穴总是 成对产生的,因此电子和空穴的产生率总是相 等的,即:
其中第一项αrni2为热平衡时的产生率。由于 过剩电子和过剩空穴总是成对产生的,即:
在小注入的条件下,上述方程很容易求解。 对于非本征的N型半导体材料,通常n0>>p0;而对 于非本征的P型半导体材料,则有p0>>n0,小注入 条件也就是过剩载流子的浓度远远低于热平衡时 多数载流子的浓度。反之,大注入条件(接近或超 过)
和热平衡时一样,过剩电子也会不断地和过 剩空穴相复合。假设过剩电子和过剩空穴的复 合率分别为Rn'和Rp',由于过剩电子和过剩空 穴也是成对复合掉的,因此有:
下图所示为半导体材料中过剩载流子的复合过 程,如果撤掉外界作用,由于过剩载流子的复 合作用,非热平衡状态将会逐渐地向热平衡状 态恢复。
对于导带与价带之间的直接复合过程来说, 电子发生复合的速率既与电子的浓度成正比, 也与空穴的浓度成正比,因此有:
对于P型半导体,在小注入条件下上述方程变为
此方程的解为一个指数衰减函数:
对小注入条件来说,τn0是一个常数,上式反 映了过剩少数载流子电子的衰减过程,因此τn0 也称为过剩少数载流子的寿命。微秒数量级
过剩少数载流子电子的复合率(通常其定义为 一个正值)则可以表示为:
对于带与带之间的直接复合过程来说,过剩多 数载流子空穴也将以同样的速率发生复合,即:
假设电子和空穴的热产生率分别为Gn0和Gp0,其 单位为cm-3·s-1,对于导带与价带之间的产生过 程,电子和空穴都是成对产生的,因此有:
与此类似,假设电子和空穴的复合率分别为Rn0 和Rp0,其单位也是cm-3·s-1,对于导带与价带之 间的直接复合过程来说,电子和空穴也是成对 复合掉的:
在热平衡状态下,电子和空穴的浓度不随时间 改变,即达到动态平衡,因此有:
其中τn和τp分别是过剩电子和过剩空穴的寿 命,通常也将其称为过剩少数载流子的寿命。过 剩电子的产生率和过剩空穴的产生率必须相等, 我们可以将其定义为过剩载流子的产生率,即:
在小注入条件下,少数载流子的寿命通常 是一个常数,因此对于P型半导体材料来说,小 注入条件下的双极输运方程可表示为:
式中δn是过剩少数载流子电子的浓度,而 τn0则是小注入条件下少数载流子电子的寿命。 类似地,对于N型半导体材料来说,小注入 条件下的双极输运方程同样可表示为:
D' , '
需要指出的是 D' , ' 是一个等效的概 念,只有在研究载流子分布时被引用。在考 虑电子流或空穴流时决不能用 D' , ' ,而 用 Dn , n和Dp , p
对于双极输运方程来说,剩下的两项就是产生 率和复合率。对于P型半导体材料来说,则有:
而对于N型半导体材料来说,则有:
式中δp是过剩少数载流子空穴的浓度,而 τp0则是小注入条件下少数载流子空穴的寿命。
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