石材抛光液配方成分,抛光原理及生产工艺技术

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大理石抛光机理研究

大理石抛光研究(摘要)抛光是石材加工中极重要的一道工序, 对于抛光机理, 长期以来一直处于假说阶段。

本文针衬大理石的四类抛光方法, 运用实验观察, 表面分析, 仪器检测等方法进行了系统地研究。

认为四类抛光方法均属于机械、热物理和化学作用的联合作用过程, 以检测数据结合理论分析手段提出了抛光表面存在有机化合物薄层的观点。

引言抛光是大理石表达加工中重要的环节。

对不同材质的大理石, 采用不同的抛光方法, 这些抛光方法大致可分为四类。

第一类为毛毡一草酸抛光法；第二类为毛毡一氧化铝抛光法；第三类为磨块抛光法；第四类为磨块一草酸抛光法。

磨块抛光主要采用M1或M1.5白刚玉磨块和金刚石磨块抛光。

磨块一草酸抛光通常采用含草酸磨块抛光。

国外对于抛光机理的研究有几种假说, 可概括为：1）微粒研磨作用原理（古克假说）；2）塑性变形原理（别里毕假说）；3）物理化学原理（格列希科夫假说）。

国内对于抛光机理的研究, 已进行了一些工作。

积极地开展这方面的研究, 对于我们正确地认识抛光过程, 掌握抛光实质, 从而改善抛光工艺, 提高抛光质量和抛光效率具有重大的理论意义与实践意义。

抛光过程中的特征现象抛光层形成过程, 依据抛光类型不同, 各有其特点, 但又具有其共性。

下面分别予以讨论。

1.机械作用对于毛毡一α-氧化铝抛光, 抛光过程中α-氧化铝与板面、毛毡发生相对运动。

磨粒对板面的机械研磨作用, 主要表现为冲撞、滑擦、滚压。

(试验使用了ZF-KA02,ZF-KA03,ZF-KA04不同晶体形貌与结构的α-氧化铝)为图1所示。

图1 研磨作用的几种形式冲撞作用主要发生在抛光的初始阶段, 滑擦、滚压作用, 则在整个抛光过程中都存在。

只是随着板面趋向于平滑, α-氧化铝ZF-KA02，ZF-KA03假颗粒原晶被打开粒径变细, 其作用越来越弱, 擦痕越来越细（见图2、图5）。

图2是精磨后板面呈现出的耕犁状况；图9是抛光过程中（光泽度为75度）板面上呈现的擦痕, 图4是在图3中的平坦处放大至15100倍时的擦痕现象, 图5是磨块一草酸水抛光至光泽度120度时, 板面的微细擦痕。

抛光液原理

抛光液原理一、抛光液的概念和分类抛光液是一种用于表面抛光处理的化学制剂，主要应用于金属、塑料、玻璃等材料表面的加工和修整。

根据不同的成分和使用目的，抛光液可以分为机械式抛光液、化学式抛光液和电解式抛光液三类。

二、机械式抛光液原理机械式抛光液是通过磨料颗粒在摩擦作用下对物体表面进行磨削，从而达到去除表面缺陷、改善表面质量的效果。

其中，磨料颗粒可以是硅砂、氧化铝等坚硬材料，也可以是玻璃珠、塑料颗粒等柔软材料。

机械式抛光液中还添加了一定量的助剂，如界面活性剂、防锈剂等，以提高其效果和稳定性。

三、化学式抛光液原理化学式抛光液是通过在物体表面形成一层氧化膜或硫化膜，并将其溶解掉来达到去除表面缺陷、改善表面质量的效果。

其中，化学式抛光液的成分包括腐蚀剂、缓蚀剂、表面活性剂等。

在使用化学式抛光液时，需要注意其对环境和人体的危害性，必须严格按照使用说明进行操作。

四、电解式抛光液原理电解式抛光液是通过在物体表面施加电流，在阳极处形成氧化膜或硫化膜，并将其溶解掉来达到去除表面缺陷、改善表面质量的效果。

其中，电解式抛光液的成分包括电解质、酸碱调节剂等。

与化学式抛光液相比，电解式抛光液具有更高的精度和效率，并且对环境和人体危害较小。

五、抛光液的应用1. 金属加工：用于金属零件表面处理，如去除氧化皮、毛刺等。

2. 塑料加工：用于塑料制品表面处理，如去除模具留下的痕迹等。

3. 玻璃加工：用于玻璃制品表面处理，如去除划痕、提高透明度等。

4. 光学加工：用于光学器件表面处理，如去除氧化皮、提高反射率等。

5. 电子加工：用于电子元器件表面处理，如去除焊接残留物、提高导电性能等。

六、抛光液的注意事项1. 使用前必须仔细阅读使用说明，并按照说明进行操作。

2. 操作时应戴上防护手套、口罩等个人防护装备，以避免对身体造成危害。

3. 操作时应注意环境卫生，避免污染环境和影响他人健康。

4. 使用后应及时清洗设备和容器，并妥善存放抛光液。

抛光液主要成分

抛光液主要成分
抛光液是一种常见的表面处理材料，它的主要作用是去除表面污渍和残留物，使表面
变得光洁、光亮，提高表面粗糙度。

抛光液的主要成分有：
一、磨料：也称抛光剂，是抛光液的主要成分之一，抛光液的磨料一般由硅藻、苹果
皮粉末、芥子粉末和天然石材等多种成分组成，它们有着不同的粒径，有微小细粒、细粒、纤维状、块状和碳素。

抛光液中的磨料由于有完整的粒度分布，可以提供充足的细度和抛
光效果。

二、乳化剂：是抛光液的辅助胶体，主要作用是增加抛光液的流动性，改善其覆盖效果，使其能更加均匀地抛光表面并减少浪费，乳化剂由脂肪醇、脂肪酸酯、聚氧乙烯及其
衍生物，硅油及其衍生物等多种成分混合而成。

三、定型剂：也叫稳定剂，主要是为了限制抛光液及辅助体会产生析出或分散，有效
地油墨把抛光液固定在表面上。

常见的稳定剂有聚乙烯-2氯乙烯共聚物、聚氯乙烯及其衍生物等。

四、抗摩擦剂：也叫抗磨剂，主要作用是防止抛光液和磨料粒子之间的摩擦，从而抑
制抛光液的研磨度，提高抛光效果，通常主要有硅油及其衍生物和羟基磷灰石等。

五、防腐保护剂：添加了防腐保护剂的抛光液具有良好的耐酸碱性、耐锈性及耐高温性，因此，能把表面的垃圾物质除尽，使表面更具防腐保护能力，常见的防腐保护剂有甲
酸钠、醋酸、酸性氢氧化钠、乙醇酸二乙酯等。

抛光液的制备

抛光液的制备
抛光液的制备一般可以根据不同的应用需求而有所不同，下面是一种常见的抛光液制备方法：
材料：
- 水
- 抛光粉末（例如氧化铝、氧化铁、碳化硅等）
- 分散剂（例如表面活性剂）
步骤：
1. 取一定量的水倒入容器中，作为制备抛光液的溶剂。

2. 将适量的抛光粉末加入溶剂中，搅拌均匀，直到粉末完全溶解或悬浮在溶液中。

3. 在溶剂中加入适量的分散剂，继续搅拌均匀。

分散剂的作用是使抛光粉末均匀分散在溶液中，防止粒子聚集。

4. 继续搅拌溶液，使抛光液达到所需的浓度和稠度。

如果需要调整抛光液的性质，可以适量添加其他添加剂，例如乳化剂、防腐剂等。

5. 将制备好的抛光液进行过滤，去除大颗粒杂质，以获得清澈的液体。

6. 将抛光液装入密封容器中，保存备用。

需要注意的是，抛光液的制备要根据具体应用需求进行调整，如不同的材料、不同的表面处理要求等，可以根据实际情况调整抛光粉末的种类、浓度和稠度等参数。

另外，也可以根据需要进行配方中其他添加剂的调整。

制备抛光液时需要小心操作，避免污染和意外事故的发生。

抛光液的组成及其他影响因素

抛光液的组成及其他影响因素①抛光液组成：为了保证化学抛光的效果，必须使金属表面溶解，并在表面形成前述的液体膜或固体膜。

化学抛光液的基本组成一般包括腐蚀剂、氧化剂、添加剂和水。

其中，腐蚀剂是主要成分，主要使工件在溶液中溶解；氧化剂和添加剂可抑制腐蚀过程，使反应朝有利于抛光的方向进行；水对溶液浓度起调节作用，便于反应产物的扩散。

用作金属溶解的成分一般是酸，其中用得较多的是H2S04、HN03、HC1、H3PO。

、HF等强酸，而对铝那样的两性金属，也可用NaOH，在这些酸中由于高浓度的磷酸和硫酸都具有较高的黏度，可形成液体膜扩散层，故这种成分具有两种功能。

这也是在化学抛光液的组成中主要采用磷酸和硫酸的原因。

为了提高黏度，使扩散层容易形成，也可加进明胶或甘油等能提高黏度的添加剂。

为了促进固体膜的形成，则需加入以硝酸或铬酸为主的强氧化剂。

②抛光时间：化学抛光存在一个最佳抛光时间范围。

若时间过短，只能获得没有光泽的梨皮状表面；若时间过长，不仅溶液损失增大，而且加工表面会出现污点或斑点。

而这个时间范围受材料、抛光液组成及抛光温度等因素的影响，通常难以预测，只能通过实验测定。

化学抛光中往往同时产生氢气，这是在抛光具有氢脆敏感性材料时必须注意的问题。

另外抛光液温度高达100~200CC时，还会发生退火作用。

为了把氢脆和退火作用的影响降到最低，就必须在最适温度范围内选择尽可能短的抛光时间。

③抛光温度：化学抛光时，溶解速度随着抛光液温度的提高而显着增加。

此外，强氧化性的酸在高温时的氧化作用会变得很显着。

在化学抛光中，由于这些酸的溶解作用和氧化作用会同时发生，故多数情况下都是把抛光液加热到较高温度来进行抛光的。

需要提供温度来进行抛光的金属有钢铁、镍、铅等，若温度低于某一定值，就会失去光滑的腐蚀表面，故存在一个形成光泽面的临界点，在临界点以上的温度范围内抛光效果较好。

而这个温度范围又因液体的组成不同而异，如果高于这个温度范围，会形成点蚀、局部污点或斑点，使整个抛光效果降低。

石材抛光液配方成分,抛光原理及生产工艺技术

石材抛光液配方成分,抛光原理及生产工艺技术石材抛光配方参考，工艺流程及抛光原理探讨大理石抛光是大理石护理晶面处理的前一道工艺流程或石材光板加工的最后一道程序。

是如今大理石护理的最重要的工艺流程之一。

目前大理石抛光工艺已经很成熟了，但是关于大理石抛光原料方面，基本还处于假说阶段，积极地开展这方面的研究, 对于我们正确地认识抛光过程, 掌握抛光实质, 从而改善抛光工艺, 提高抛光质量和抛光效率具有重大的理论意义与实践意义。

禾川化学是一家专业从事精细化学品分析、研发的公司，具有丰富的分析研发经验，经过多年的技术积累，可以运用尖端的科学仪器、完善的标准图谱库、强大原材料库，彻底解决众多化工企业生产研发过程中遇到的难题，利用其八大服务优势，最终实现企业产品性能改进及新产品研发。

样品分析检测流程：样品确认—物理表征前处理—大型仪器分析—工程师解谱—分析结果验证—后续技术服务。

有任何配方技术难题，可即刻联系禾川化学技术团队，我们将为企业提供一站式配方技术解决方案！1、石材抛光工艺过程和原理对不同材质的大理石, 采用抛光方法也有所不同, 总结起来大致可分为四类：1.1、毛毡一α-氧化铝抛光法抛光过程：毛毡一α-氧化铝抛光是干法抛光。

嵌陷在毛毡表层的磨粒, 对板面进行冲撞、滑擦、滚压作用。

在这些机械力作用下,通过材料的去除和塑变, 使板面凸凹处趋于平整。

抛光初始时洒在板面上的少量水, 使得磨粒分布均匀, 易于嵌陷在毛毡上。

抛光开始后, 由于热作用使温度升高, 水份开始蒸发, 水蒸汽是表面活化剂, 对降低表层的强度, 增加微凸休的活化能起一定作用。

抛光原理：毛毡一α-氧化铝抛光是机械, 热物理和化学作用的联合作用过程。

其中机械, 热物理作用占主导地位。

抛光面是一塑性变形层。

该表层内晶粒大小基木不变，表层上存在吸附层, 吸附层不仅有空气, 水蒸汽的吸附物, 还吸附有磨料、磨屑及沾染物。

1.2、磨块抛光法抛光过程：主要采用M1或M1.5白刚玉磨块和金刚石磨块抛光，抛光过程中机械作用主要为冲撞、滑擦。

抛光液成分

抛光液成分一、介绍抛光液是一种常见的表面处理剂，用于改善材料表面的光洁度和光亮度。

它由多种成分组成，每种成分都具有不同的功能和作用。

本文将详细介绍抛光液的成分，包括磨粒、溶剂、添加剂和稳定剂等。

二、磨粒磨粒是抛光液中的主要成分之一，它们的作用是在抛光过程中去除材料表面的微小凹陷和瑕疵，使表面更加光滑。

常见的磨粒有氧化铝、氧化铁、氧化硅等，它们具有不同的颗粒大小和硬度，可以根据需要选择合适的磨粒。

三、溶剂溶剂是抛光液中的溶解介质，它可以溶解其他成分，并帮助它们在抛光过程中发挥作用。

常见的溶剂有水、酒精、丙酮等，选择合适的溶剂可以提高抛光液的效果和稳定性。

四、添加剂添加剂是为了改善抛光液的性能和效果而添加的成分。

常见的添加剂包括表面活性剂、防腐剂、pH调节剂等。

表面活性剂可以降低液体的表面张力，增加液体与材料表面的接触面积，提高抛光效果；防腐剂可以防止抛光液在储存和使用过程中被污染和变质；pH调节剂可以调节抛光液的酸碱度，使其适应不同的材料和抛光要求。

五、稳定剂稳定剂是为了保持抛光液成分的稳定性而添加的成分。

抛光液在储存和使用过程中可能会受到温度、湿度和氧气等因素的影响，稳定剂可以减少成分的分解和变质，延长抛光液的使用寿命。

常见的稳定剂有抗氧化剂、防腐剂等。

六、其他成分除了上述主要成分外，抛光液中还可能含有其他辅助成分，如颜料、填料、着色剂等。

这些成分可以根据具体需要添加，以实现特殊的抛光效果或达到某种特定的外观要求。

七、总结抛光液的成分多种多样，每种成分都有其独特的功能和作用。

磨粒可以去除材料表面的瑕疵，溶剂可以溶解其他成分，添加剂可以改善抛光液的性能，稳定剂可以保持抛光液的稳定性。

了解抛光液的成分可以帮助我们选择适合的抛光液，提高抛光效果。

同时，在使用抛光液时，也需要注意成分的安全性和环境友好性，避免对人体和环境造成伤害。

石材产品的抛光原理

抛光磨石在被加工产品上抛光，待抛光产品烫手后，将板面加水量水，以起到降温作用，不允许连续加水或大量加水，否则，水的润滑作用将会使抛光达不到理想效果，也不能全部使用干抛光，过高的温度会烧坏板面，
而且会使板面出现裂纹。
石材产品的抛光原理
❖ 一般而言，产品精磨后，产品的光泽度在40~50左右，而有些石材精磨后达不到上面的光泽度，如山西黑、黑金砂、集宁黑等，此类产品精磨后的光泽度只有20~30度之间，用前面的微粒研磨原理解释不够一面，这种产品在抛光“干与湿”，温度的升高，降温中，强化抛光过程，发生物理化学反应，产品在经过“干抛光、湿抛光” 中，光泽度逐步提高，光泽度达85度以上
石材产品的抛光原理
2007.04.23
石材产品的抛光原理
❖ 装饰石材的美观，除产品颜色外，主要反映在产品的光泽度上，故产品的抛光是很重要、关键的环节，如何将产品抛光达到最佳效果，首先要了解抛光的材料、方法、原理。抛光材料主要是氧化铬（Cr2O3）、白刚玉（M1.0）、氧化铝（Al2O3）、草酸（COOH2）。
❖1 ❖ PVC浴柜实木浴柜 ❖ 本公司是一家专业生产玻璃洁具，高档实木浴柜、PVC柜的厂家,产品畅销国内外,是
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⑤抛光：表面明亮如镜，具有一定的镜面光泽度（85度以上）。
石材产品的抛光原理
❖ 2、物理化学原理：抛光的过程有2个，即“干抛光与湿抛光”，抛光磨石在“干与湿”之间当石材产品发生物理化学作用，干抛光是在石材表面温度升高使水分蒸发，导致抛光磨石浓度增大，从而达到强化效果，产品光泽度开始达到了理想要求，光泽度达85度以上或更高。

抛光液的组成及其化学性能对抛光效果的影响

抛光液的组成及其化学性能对抛光效果的影响一、ｐＨ值对抛光效果的影响ｐＨ值决定了最基本的抛光加工环境，会对表面膜的形成、材料的去除分解及溶解度、抛光液的粘性等方面造成影响。

常用的抛光液分为酸性和碱性两大类。

酸性抛光液具有可溶性好、酸性范围内氧化剂较多、抛光效率高等优点，常用于抛光金属材料，例如铜、钨、铝、钛等。

当ｐＨ＜７时，随着ｐＨ值的增大，由于电化学反应、晶片表面氧化及蚀刻作用减弱，机械摩擦作用占据主导地位，导致抛光效率降低，表面刮痕尺寸增大，所以酸性抛光液的ｐＨ最优值为４，常通过加入有机酸来控制。

酸性抛光液的缺点是腐蚀性大，对抛光设备要求高，选择性不高，所以常向抛光液中添加抗蚀剂ＢTＡ提高选择性，但ＢＴＡ的加入易降低抛光液的稳定性碱性抛光液具有腐蚀性小、选择性高等优点，通常用于抛光非金属材料，例如硅、氧化物及光阻材料等。

当ｐＨ＞７时，随着ｐＨ值的增大，表面原子、分子之间的结合力减弱，容易被机械去除，抛光效率提高，但表面刮痕尺寸增大；当ｐＨ＞12.5时，由于晶片表面亲水性增强，抛光效率开始降低，所以碱性抛光液的ｐＨ最优值为10~11.5，常通过向水溶液中加入NaOH、KOH或NHOH来控制。

碱性抛光液的致命缺点4是不容易找到在弱碱性中氧化势高的氧化剂，导致抛光效率偏低。

碱性抛光液的氧化剂主要有Fe(NO3)3、K3Fe(CN)6、HN4OH和一些有机碱。

二、氧化剂对抛光效果的影响金属材料的抛光过程中，为了能够快速地在加工表面形成一层软而脆的氧化膜，便于后续的机械去除，从而提高抛光效率和表面平整度，通常会在抛光液中加人一种或多种氧化剂。

氧化剂种类会对抛光效果产生影响。

抛光金属钨时常用的氧化剂有H2O2、Fe(NO3)3，及其混合物。

H2O2氧化性较弱，氧化反应仅仅发生在钨表面颗粒的边缘，只有当氧化产物(WO3)溶解后，剩余的硬度较大部分才能暴露出来，参与下一次氧化反应；Fe(NO3)3中Fe3+氧化性较强，能在钨表面能够迅速形成硬度小、脆性大且容易去除的氧化层，从而提高了抛光效率和表面质量；当H2O2和Fe(NO3)3混合剂时发生Fenton反应，生成氧化性更强的过氧氢氧自由基(·OOH)，氧化层的形成速度进一步加快，所以相对于Fe(NO3)3抛光效率提高大约一倍。

抛光液的制备

抛光液的制备抛光液在现代工业生产中有着广泛的应用，其制备方法至关重要。

本文将详细介绍如何制备不同磨粒和添加不同表面活性剂的抛光液，并提供具体的操作步骤。

一、制备不同磨粒的抛光液1.首先，选用商业用抛光液，如SiO2、Al2O3、CeO2等。

用量筒精确测量一定量的商业用抛光液，倒入烧杯中。

2.接下来，使用去离子水对抛光液进行稀释，直至达到所需的浓度。

3. 将稀释后的抛光液进行磁力搅拌，持续20分钟，以确保磨粒充分分散。

4. 在磁力搅拌的条件下，使用酸碱调节剂（如KOH、HNO3）将溶液调至所需的pH值。

二、制备添加不同表面活性剂的抛光液1.首先，称取一定量的表面活性剂，如聚醚、阴离子表面活性剂等。

将其用去离子水溶解，并进行磁力搅拌30分钟，确保表面活性剂完全溶解。

2.然后，用量筒测量一定量的市售SiO2抛光液，倒入烧杯中。

3. 将溶解好的表面活性剂缓慢倒入盛有SiO2抛光液的烧杯中，同时进行磁力搅拌20分钟，使表面活性剂与抛光液充分混合。

4.随后，加入适量的去离子水，将溶液稀释至所需体积。

5. 在磁力搅拌的条件下，使用酸碱调节剂（如KOH、HNO3）将溶液调至所需的pH值。

通过以上两个步骤，您就可以得到制备好的抛光液。

在实际操作过程中，还需要注意以下几点：1.稀释抛光液时，应缓慢搅拌，避免产生气泡和沉淀。

2.添加表面活性剂时，要确保其完全溶解，以免影响抛光效果。

3. 在调制pH值时，应密切观察溶液变化，避免酸碱度过高或过低。

4.制备过程中，尽量使用去离子水，以保证溶液的纯净度。

5. 在使用抛光液时，应根据实际需求选择合适的磨粒和表面活性剂。

掌握正确的抛光液制备方法，不仅可以提高生产效率，还能保证产品质量。

化学机械抛光液配方组成抛光原理及工艺

化学机械抛光液配方组成，抛光原理及工艺导读：本文详细介绍了化学机械抛光液的研究背景，机理，技术，配方等，需要注意的是，本文中所列出配方表数据经过修改，如需要更详细的内容，请与我们的技术工程师联络。

禾川化学专业从事化学机械抛光液成分分析，配方复原，研发外包效劳，提供一站式化学机械抛光液配方技术解决方案。

基于全球经济的快速开展，IC技术〔Integrated circuit, 即集成电路〕已经浸透到国防建立和国民经济开展的各个领域，成为世界第一大产业。

IC 所用的材料主要是硅和砷化镓等,全球90%以上IC 都采用硅片。

随着半导体工业的飞速开展，一方面，为了增大芯片产量，降低单元制造本钱，要求硅片的直径不断增大；另一方面，为了进步IC 的集成度，要求硅片的刻线宽度越来越细。

半导体硅片抛光工艺是衔接材料与器件制备的边沿工艺，它极大地影响着材料和器件的成品率，并肩负消除前加工外表损伤沾污以及控制诱生二次缺陷和杂质的双重任务。

在特定的抛光设备条件下，硅片抛光效果取决于抛光剂及其抛光工艺技术。

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有任何配方技术难题，可即刻联络禾川化学技术团队，我们将为企业提供一站式配方技术解决方案！2.硅片抛光技术的研究进展20世纪60年代中期前，半导体抛光还大都沿用机械抛光，如氧化镁、氧化锆、氧化铬等方法，得到的镜面外表损伤极其严重。

1965年Walsh和Herzog 提出SiO2溶胶-凝胶抛光后，以氢氧化钠为介质的碱性二氧化硅抛光技术就逐渐代替旧方法，国内外以二氧化硅溶胶为根底研究开发了品种繁多的抛光材料。

随着电子产品外表质量要求的不断进步, 外表平坦化加工技术也在不断开展，基于淀积技术的选择淀积、溅射玻璃SOG( spin-on-glass) 、低压CVD( chemical vapor deposit) 、等离子体增强CVD、偏压溅射和属于构造的溅射后回腐蚀、热回流、淀积-腐蚀-淀积等方法也曾在IC艺中获得应用, 但均属局部平面化技术,其平坦化才能从几微米到几十微米不等, 不能满足特征尺寸在0. 35 μm 以下的全局平面化要求。

化学抛光液成分分析-抛光液配方原理及生产技术工艺

化学抛光液成分分析，抛光原理及配方技术开发导读：本文详细介绍了抛光液的研究背景，理论基础，参考配方等，本文中的配方数据经过修改，如需更详细资料，可咨询我们的技术工程师。

化学抛光液，用于不锈钢电解抛光。

禾川化学引进尖端配方解剖技术，致力于化学抛光液成分分析，配方还原，研发外包服务，为抛光液相关企业提供一整套配方技术解决方案。

1 背景经过机械抛光后的铝合金工件虽然已经获得光亮的表面，但若将机械抛光后的工件直接进行阳极氧化，所得到的只是一个平滑的表面而得不到反光系数较高的膜层，所以经机械抛光后的工件还必须进行化学抛光或电抛光，以除去工件表面在机械抛光时所形成的晶体变形层，从而获得光亮、细致的表面。

铝合金的化学抛光可分为碱性抛光和酸性抛光两种。

酸性化学抛光的主要原料是磷酸、硫酸、硝酸、乙酸、氟化氢铵等。

由这些基本原料根据加工目的的不同可以组成很多配方，在化学抛光中仅有这些基本原料组成的配方并不能很好地满足生产要求，还需要有目的的在抛光溶液中添加一些旨在提高其光泽度和平滑度的添加物质。

这些添加物质可分为两大类:一是无机盐；二是有机物。

无机盐中采用的最多的是银、铜、镍、铬等，有机物有甘油、草酸、柠檬酸、氨基酸等。

禾川化学通过多年沉积,运用精细化工的复配技术, 做了小试和应用试验, 研制了一种铝合金化学抛光液配方技术；化学抛光可以认为是在一个特定条件下的光面化学侵蚀过程，其结果是需要获得一个平滑而光亮的表面，但并不是所有的铝合金材料都可以得到这个效果，一般而言，化学抛光的质量随铝合金各组分的不同而异，含铜及锌的铝合金抛光效果较差，而高硅铝则完全不适合化学抛光，通常是铝的纯度越高，抛光效果越好，抛光后的反射率越高。

样品分析检测流程：样品确认—物理表征前处理—大型仪器分析—工程师解谱—分析结果验证—后续技术服务。

有任何配方技术难题，可即刻联系禾川化学技术团队，我们将为企业提供一站式配方技术解决方案！化学抛光广泛应用于：一是铝合金经喷砂或拉丝后旨在对其表面进行光泽处理的加工；二是经机械抛光后的工件进行化学二次研磨以消除抛光时的抛光纹理，得到平滑而均匀的光亮表面，在理想状态下化学抛光可以做到比电解抛光更为平滑光亮的镜面效果；三是铝合金工件在进行纹理蚀刻前或在阳极氧化前为了获得一个基本的光度（或称为底光）而进行的加工。

化学抛光液成分分析抛光液配方原理及生产技术工艺

化学抛光液成分分析抛光液配方原理及生产技术工艺抛光液是一种常用的表面处理材料，用于改善金属、陶瓷、塑料等材料的表面光洁度和光泽度。

它是由多种成分组成，下面将对抛光液的成分分析、配方原理及生产技术工艺进行详细介绍。

一、抛光液的成分分析抛光液的成分可以分为基础成分和辅助成分两大类。

1.基础成分：-磨料：是抛光液的重要组成部分，根据被处理材料的硬度和要求，可以选择不同类型的磨料，如氧化铝、碳化硅、碳化硼等。

-润滑剂：用于减少磨料与被处理材料之间的摩擦力，提高抛光作用。

常用的润滑剂有脂肪酸盐、硼烷酮类。

-催化剂：用于加速抛光过程中的化学反应，提高抛光效果。

例如，过氧化氢、碳酸氢铵等。

-稳定剂：用于稳定抛光液的化学性质，防止化学反应速率过快或过慢，影响抛光效果。

如硫酸铵、草酸等。

2.辅助成分：-溶剂：用于溶解基础成分中的固体材料，便于液体抛光液的制备。

常用的溶剂有水、醇类、酮类等。

-助剂：用于提高抛光液的柔软性、黏度和稠度。

常见的助剂包括表面活性剂、乳化剂等。

二、抛光液的配方原理抛光液的配方原理主要遵循以下几个原则：1.体系配方平衡：配方中的各个组分之间应保持一定的平衡，不得出现明显的不相容反应，以确保抛光液的稳定性和一致性。

2.磨料与被处理材料匹配：选用合适的磨料类型和粒度，以满足被处理材料的需求，避免过度剥离或过度打磨，保持抛光液的良好效果。

3.润滑剂和溶剂选择：根据被处理材料的性质和要求，选择适当的润滑剂和溶剂，以提高抛光液的润滑性和渗透性。

4.辅助成分的作用：辅助成分的加入可以调节抛光液的黏度、黏附性和稳定性，以满足不同材料和加工要求的需求。

抛光液的生产技术工艺主要包括以下步骤：1.原材料采购：根据产品配方，采购所需的各种原材料，确保原材料的质量和供应稳定。

2.材料准备：按照配方要求，将所需的磨料、润滑剂、催化剂等加入到适当的容器中，进行充分搅拌和混合，形成基础成分的糊状混合物。

3.辅助成分添加：根据配方要求，将溶剂、助剂等辅助成分逐步添加到基础成分的糊状混合物中，并进行充分搅拌和混合。

石料磨削液生产工艺及制作方法

石料磨削液生产工艺及制作方法清洗剂的类型有很多，石料磨削液也是其中一种，可以称之为清洗剂，也可以称它为润滑剂。

这是一种应用石料切割润滑清洗液体。

使用石料磨削液可以大大的降低生产成本。

一、石料磨削液特点与用途大理石、花岗石等石材，由于其硬度大，给加工处理带来困难。

磨削石材时，都使用硬度极高、价格昂贵的金刚石工具，磨削时用大量水来冷却，以降低磨削温度。

但是由于水的润滑性、耐压性较差，难以起到润滑，耐极压的作用，因而使金刚石刀具磨耗增大，加工效率降低，而且在磨削时产生的碎屑和石粉去除能力低，容易产生填街塞巷现象，更会使加效率降低。

若用本剂代替水进行磨削加工，可以免去上述缺点，提高刀具寿命和工效。

本剂在日本石材行业应用十分广泛。

本剂以润滑剂、表面处理剂、耐极压剂、防腐剂、防锈剂等为原料，经加热、混合、硫化、乳化等工序精制而成。

本剂有以下特点：1.用本剂替代水作冷却液，可大大提高工效。

据日本资料报道，可提高工作效率2~5倍。

2.延长金刚石刀具的使用时间，节省资金，一般延长2~10倍。

3.加工后的石材表面光润，平整，无凹凸不平处。

无需重新打磨或除刺。

4.本剂具有良好的化学稳定性和搞腐蚀性，可长期反复使用。

5.本剂虽一次投资较大，但磨削液能循环使用，可大大降低使用成本。

二、石料磨削液原材料硫黄、机械油、氯化石蜡、山梨糖醇酐单油酸酯、月桂、烷基磺酸钠、猪油、香精生产厂：沈阳化工厂、哈尔滨塑料十三厂、杭州电化厂三、石料磨削液配方硫黄15、机械油150、氯化石蜡60、山梨糖醇酐单油酸酯7、月桂80、烷基磺酸钠40、猪油400、香精若干四、制备及使用方法1.配方1制备：先制备硫化鲸鱼油的钾盐。

方法是：按配方将鲸鱼加热至80~120度，然后加入硫黄粉，边加热，边搅拌，直至硫黄粉完全溶解，并继续加热至140~180度，加入氢氧化钠，边加热边搅拌。

反应2~4h成为透明红棕色液体即成。

石材磨削液制备。

在上述制备好的硫化猪油的钾盐中，加入机械油，月桂，香精和水，并不断加以搅拌，必要时可适当加热，使其成为透明溶液。