(整理)APD光电二极管综合实验.
APD光电二极管特性(精)
APD光电二极管特性
教学环境
多媒体机房
教学
内容
1.APD光电二极管一般性能
2.倍增因子
3.过剩噪声因子
教学
目标
1.了解PIN光电二极管一般性能2.ຫໍສະໝຸດ 解倍增因子3.了解过剩噪声因子
重点
难点
1、掌握查看APD光电二极管的参数表,并根据参数表选型。
教学
方法
讲授、讨论、总结
教学
过程
讲授:
1.APD光电二极管一般性能
例举Si材料和InGaAs材料的雪崩光电二极管的参数表格,APD光电二极管的参数
包括光谱响应范围、峰值波长、灵敏度、量子效率、击穿电压、击穿电压温度系数、暗电流、截止波长、结电容、附加噪声指数和增益等。以及两者的特点和应用场合。
2.倍增因子
倍增因子是APD输出光电流和一次光生电流的比值,APD的响应度比PIN增加了g
倍。现有的APD的g值已达几十甚至上百,随反向偏压、波长和温度变化
3.过剩噪声因子
过剩噪声因子F是由于雪崩效应的随机性引起噪声增加的倍数。附加噪声指数与器件所用的材料和工艺相关,并例举了硅、锗和铟镓砷几种材料的附加噪声指数。
小结:
课堂总结
光电检测实验报告光电二极管
光电检测实验报告光电二极管实验名称:光电检测实验实验目的:1.了解光电二极管的基本原理和工作原理;2.掌握光电二极管的基本特性和性能参数;3.学习使用光电二极管进行光电检测实验。
实验设备:1.光电二极管;2.光源;3.数字万用表。
实验原理:光电二极管是一种将光信号转换成电信号的光电器件。
它是由P型半导体和N型半导体构成的二极管,光照射在PN结处时,光子能量被吸收,激发了电子-空穴对的产生,从而形成漂移电流,这个电流被称为光电流。
实验步骤:1.将光电二极管连接到数字万用表的电流测量档位上,确保电路接线正确;2.打开光源,调整光源距离光电二极管的位置,使其照射光强适中;3.使用数字万用表测量并记录光电二极管的光电流;4.调整光源的亮度,观察光电流的变化;5.分别在不同光照强度条件下,测量光电二极管的电流值;6.将实验数据整理并分析。
实验结果:在实验过程中,我们测量并记录了不同光照强度下光电二极管的电流值。
实验结果显示,光电二极管的光电流与光照强度呈线性关系。
随着光照强度的增加,光电流也随之增加。
在光照强度较弱的条件下,光电流较小;而在光照强度较强的条件下,光电流较大。
实验分析:通过实验结果可以看出,光电二极管的工作原理是光照射到PN结处,激发了电子-空穴对的生成。
光照强度越大,激发的电子-空穴对数量越多,产生的光电流也越大。
因此,光电二极管可以用来检测光的亮度和强度。
实验中我们还发现,在光照强度较弱的条件下,光电流的变化不太敏感。
而在光照强度较强的条件下,光电流的变化更为明显。
这是由于光电二极管的饱和现象导致的。
当光照强度较强时,光电二极管已经饱和,其光电流不再呈线性增加。
实验总结:通过本次光电检测实验,我们对光电二极管的原理和工作原理有了更深入的理解。
光电二极管可用于测量光的强度和亮度,并且其光电流与光照强度呈线性关系。
然而在光照强度较强的条件下,光电流的变化不再呈线性增加,而是受到饱和现象的影响。
光电二极管实验操作要点与数据处理
光电二极管实验操作要点与数据处理光电二极管是一种常见的光电器件,其原理是利用光照射在光电二极管上时,光子会激发电子跃迁至导带中,从而产生光电效应。
在光电二极管实验中,我们通常会进行测量和分析,以获得相关的数据和结论。
以下将介绍光电二极管实验的操作要点和数据处理的一些常用方法。
一、光电二极管实验操作要点1. 实验器材准备首先,为了保证实验的准确性和可靠性,需要使用高质量的光电二极管和其他实验器材。
确保实验器材是清洁的,以避免灰尘和污染对实验结果的影响。
2. 实验环境控制在进行光电二极管实验时,环境条件的控制非常重要。
光照的强度、波长和角度都会对实验结果产生影响。
因此,需要在实验过程中保持较为恒定的光照条件。
可以使用光源和滤光片来调节光照强度和光谱特性。
3. 光电二极管电路连接将光电二极管正确地连接到电路中是实验的第一步。
光电二极管通常有两个引脚,其中一个是阳极端,一个是阴极端。
阳极端连接到正电源,阴极端连接到负电源。
确保连接的稳定和可靠,以避免电路断开或产生干扰。
4. 光电二极管灵敏度测试在进行实验之前,可以通过灵敏度测试来评估光电二极管的性能。
可以使用已知光源的强度和波长,分别照射光电二极管,并记录相应的电流和电压值。
通过比较不同光源下的测量结果,可以对光电二极管的灵敏度做初步评估。
二、光电二极管数据处理方法在进行光电二极管实验后,我们需要对所获得的数据进行分析和处理,以得出有意义的结论。
以下是几种常用的数据处理方法。
1. 电流-电压特性曲线根据实验的测量结果,可以绘制光电二极管的电流-电压特性曲线。
在该曲线上,横坐标表示加在光电二极管上的电压,纵坐标表示通过光电二极管的电流。
这样的曲线能够直观地反映出光电二极管的工作状态和特性。
2. 光照强度-电流关系通过改变光照的强度,可以记录相应的光照强度和光电二极管输出的电流。
通过绘制光照强度和电流之间的关系曲线,我们可以了解到光电二极管的灵敏度和响应特性。
实验2-2光电二极管光电特性测试
实验2-2 光电二极管光电特性测试实验目的1、了解光电二极管的工作原理和使用方法;2、掌握光电二极管的光照度特性及其测试方法。
实验内容1、暗电流测试;2、当光电二极管的偏置电压一定时,光电二极管的输出光电流与入射光的照度的关系测量。
实验仪器1、光电探测原理实验箱1台2、连接导线若干实验原理1、光电二极管结构原理光电二极管的核心部分也是一个PN结,和普通二极管相比有很多共同之处,它们都有一个PN结,因此均属于单向导电性的非线性元件。
但光电二极管作为一种光电器件,也有它特殊的地方。
例如,光电二极管管壳上的一个玻璃窗口能接收外部的光照;光电二极管PN结势垒区很薄,光生载流子的产生主要在PN 结两边的扩散区,光电流主要来自扩散电流而不是漂移电流;又如,为了获得尽可能大的光电流,PN结面积比普通二极管要大的多,而且通常都以扩散层作为受光面,因此,受光面上的电极做的很小。
为了提高光电转换能力,PN结的深度较普通二极管浅。
图2-2.1为光电二极管外形图(a)、结构简图(b)、符号(c)和等效电路图(d)。
光电二极管在电路中一般是处于反向工作状态(见图2-2.2,图中E为反向偏置电压),在没有光照射时,反向电阻很大,反向电流很小(一般小于0.1微安),这个反向电流称为暗电流,当光照射在PN结上,光子打在PN结附近,使PN结附近产生光生电子和光生空穴对,称为光生载流子。
它们在PN结处的内电场作用下作定向运动,形成光电流。
光的照度越大,光电流越大。
如果在外电路上接上负载,负载上就获得了电信号。
因此光电二极管在不受光照射时处于截止状态,受光照射时处于导通状态随着光电子技术的发展,光信号在探测灵敏度、光谱响应范围及频率特性等方面的要求越来越高,为此,近年来出现了许多性能优良的光伏探测器,如硅、锗光电二极管、PIN 光电二极管、雪崩光电二极管(APD)等。
光电二极管目前多采用硅或锗制成,但锗器件暗电流温度系数远大于硅器件,工艺也不如硅器件成熟,虽然它的响应波长大于硅器件,但实际应用尚不及后者广泛。
APD光电二极管特性测试实验
APD光电二极管特性测试实验APD光电二极管特性测试实验1,实验目的1,学习掌握APD光电二极管的工作原理2,学习掌握APD光电二极管的基本特性3,掌握APD光电二极管特性测试方法4,了解APD光电二极管的基本应用2,实验内容有1,APD光电二极管暗电流测试实验2,APD光电二极管光电流测试实验3,APD光电二极管伏安特性测试实验4,APD光电二极管雪崩电压测试实验5、APD光电二极管光电特性测试实验6、APD光电二极管时间响应特性测试实验7、APD光电二极管光谱特性测试实验3、实验仪器1、光电检测综合实验仪器12、光路组件1组3、测光表1组4、1组5和2#重叠插头对(红色,50厘米)和10组6和2#重叠插头对(黑色,50厘米)10根7相电力电缆,1根8相电源线,1本9实验说明书,1台4示波器,雪崩光电二极管APD—雪崩光电二极管是一种具有内部增益的光电探测器,可用于探测微弱的光信号并获得较大的输出光电流。
雪崩光电二极管的内部增益基于碰撞电离效应。
当高反向偏置电压施加到PN结时,5耗尽层中的电场非常强,并且光生载流子在通过时将被电场加速。
当电场强度足够高(约3x10v/cm)时,光生载流子获得大量动能。
它们与半导体晶格高速碰撞,电离晶体中的原子,从而激发新的电子-空穴对。
这种现象被称为碰撞电离碰撞电离产生的电子-空穴对也在强电场的作用下加速,并重复前面的过程。
由于多次碰撞电离,载流子迅速增加,电流迅速增加。
这一物理过程被称为雪崩倍增效应。
++图6-1是APD的结构与电极接触的外侧的P区和N区被重掺杂,分别由P和N+表示;在I区和n区的中间是另一层宽度较窄的p区APD在大的反向偏置下工作。
当反向偏置电压增加到++到一定值时,耗尽层从N-P结区延伸到P区,包括中间P层区和I+区图4的结构是直通APD结构从图中可以看出,电场分布在区域一相对较弱,但在区域N-P++相对较强。
碰撞电离区,即雪崩区,位于n-p区虽然I区的电场比N-P区低得多,但也足够高,达到4(最高2×10V/cm),从而保证载流子达到饱和漂移速度。
光电检测实验报告光电二极管
光电检测实验报告光电二极管
与实验报告有关
一、实验目的
本实验旨在探究光电二极管的基本特性,了解不同参数对光电二极管
的作用原理。
二、实验原理
光电二极管是一种特殊的半导体器件,由一个P半导体和一个N半导
体组成。
其结构类似于普通的二极管,它是由一块金属片和一块硅片组成的。
金属片在表面覆盖着一层半导体材料层,而硅片则覆盖着一层P沟槽,形成一个PN结构,这就是光电二极管的基本结构。
当光电二极管接受到
外部光照时,在P层和N层之间就会产生电子-空穴对,并促使电子向N
层移动,从而在P层和N层之间构成一个电流,也就是由光引起的电流。
三、实验设备
1、光源:LED灯泡;
2、示波器:用于测量光电二极管的输出电流与电压;
3、电源:用于给光电二极管提供电势;
4、电阻:用于限制光电二极管的输出电流;
5、光电二极管:本次实验使用的是JH-PJN22;
6、多用表:用于测量电流、电压。
四、实验步骤
1、用多用表测量光电二极管JH-PJN22的参数,测量其正向电压和正向电流与LED照射强度的关系;
2、设置由电源、电阻和光电二极管组成的电路,并使用示波器测量输出电流和电压;。
APD实验指导书V1.01
目录第一章APD光电二极管综合实验仪说明.......... 错误!未定义书签。
二、实验仪说明................................................................................. 错误!未定义书签。
1、电子电路部分结构分布............................ 错误!未定义书签。
2、光通路组件 ..................................... 错误!未定义书签。
第二章 APD光电二极管特性测试.............. 错误!未定义书签。
1、APD光电二极管暗电流测试........................ 错误!未定义书签。
2、APD光电二极管光电流测试........................ 错误!未定义书签。
3、APD光电二极管伏安特性.......................... 错误!未定义书签。
4、APD光电二极管雪崩电压测试...................... 错误!未定义书签。
5、APD光电二极管光照特性.......................... 错误!未定义书签。
6、APD光电二极管时间响应特性测试.................. 错误!未定义书签。
7、APD光电二极管光谱特性测试...................... 错误!未定义书签。
第一章 APD光电二极管综合实验仪说明一、产品介绍雪崩光电二极管的特点是高速响应性和放大功能。
雪崩光电二极管(APD)的基片材料可采用硅和锗等材料。
其结构是在n型基片上制作p层,然后在配置上p+层。
一般上部的电极制作成环状,这是考虑到能获得稳定的“雪崩”效应。
外来的光线通过薄的p+层,然后被p层吸收,从而产生了电子和空穴。
由于在p层上存在着105V/cm的电场,因此位于价带的电子被冲击离子化后,产生雪崩倍增效应,电子和空穴不断产生。
光电综合实验报告
光电综合实验报告
实验目的:通过光电综合实验,了解光电效应在光电器件中的应用,掌握光电检测技术和光电器件的使用方法。
实验仪器:光电综合实验箱、光电二极管、光电三极管、光电开关等光电器件。
实验原理:光电效应是指当光照射在半导体材料上时,电子受到能量激发而跃迁至导带,从而产生电流或电压的现象。
光电器件是利用光电效应制成的电子器件,如光电二极管、光电三极管和光电开关等。
实验步骤:
1.将光电二极管插入实验箱中,并连接好电路。
2.调节实验箱上的光强度调节钮,观察光电二极管的输出信号。
3.更换光电三极管,并重复步骤2。
4.使用光电开关进行实验,观察其在光照和无光照状态下的输出信号变化。
实验结果:
通过实验,我们观察到光电二极管在光照射下产生了电流信号,光照强度越大,输出信号越强。
光电三极管的输出信号也随着光照强度的变化而变化,但其灵敏度比光电二极管更高。
而光电开关在有光照时输出高电平,在无光照时输出低电平,可以用于光控开关等应用。
实验结论:
光电器件是利用光电效应制成的电子器件,能够将光信号转换为电信号,具有灵敏度高、响应速度快等优点,并且在光控开关、光电传感器等领域有着广泛的应用。
通过本次实验,我们成功掌握了光电器件的使用方法及其在光电检测技术中的应用。
总结:
光电综合实验让我们更加深入地了解了光电效应在光电器件中的应用,通过实验操作,我们掌握了光电器件的使用方法,为今后在光电检测技术领域的应用奠定了基础。
希望能够通过不断地实践和学习,进一步提高自己的实验技能和理论水平。
光电二极管实验报告
光电二极管实验报告一、实验目的1.了解光电效应的基本原理。
2.掌握光电二极管的工作原理和特性。
3.学会使用光电二极管进行光电测量。
二、实验原理光电效应是指在光照射下,金属或半导体材料中的光电子能够从晶体中跃迁至导体中,产生光电流的现象。
光电二极管就是利用这种光电效应工作的电子器件。
光电二极管常用的材料有硅(Si)和锗(Ge)等,它们具有较宽的禁带宽度,能够较好地吸收可见光和红外光。
当外界光照射到光电二极管上,光子的能量被电子吸收,电子获得足够的能量跃迁到导体带中形成电子空穴对,从而产生电流。
光电二极管一般由PN结构构成,当光照射到PN结上时,少数载流子在电场作用下向两边移动形成电流,这个电流就是光电流。
三、实验器材1.光电二极管2.恒流源3.可变电阻器4.白炽灯5.直流电压表6.直流电流表7.导线等四、实验步骤1.搭建实验电路:将光电二极管接入电源电路,连接好电流表和电压表。
2.调节电流源的电流:将可变电阻器设为最小电阻值,使电压表读数为零。
然后慢慢调节电流源的电流,使其电压表读数稳定在一些特定值。
3.测量电流和电压:分别记录下此时的电流表和电压表的读数,作为光敏电流和光敏电压的基准值。
4.光照射:打开白炽灯,将灯光照射到光电二极管上,保持一定的光照强度。
5.测量电流和电压:记录下此时的电流表和电压表的读数。
6.改变灯光强度:逐渐改变灯光的强度,分别记录光敏电流和光敏电压的变化。
五、实验结果和分析在光照下,我们得到了一系列光敏电流和光敏电压的数据,并绘制了相应的图表。
根据实验数据及图表分析,我们得到以下结论:1.光电二极管正向导通电流与光照强度呈线性关系,即光电流与光照强度成正比。
2.在一定的电流源电流下,光电流大小与光照强度呈正相关关系。
3.光电二极管的光敏电压与光照强度成正比,即光敏电压与光照强度呈线性关系。
4.光电二极管的特性曲线一般为S型曲线,即在光照较弱时,光敏电流与光照强度关系不明显;而在光照较强时,光敏电流的增加较为明显,但增幅逐渐减小。
光电二极管发光实验研究
光电二极管发光实验研究一、前言光电二极管发光实验(LED实验)可以说是电子工程学科中最基础的一项实验,也是最为经典的电子元器件之一。
其在现代电子工业中得到了广泛应用,如在照明、家电、通讯、仪表等众多领域中都发挥了重要的作用。
本文将对LED实验进行详细介绍。
二、实验目的通过LED实验,掌握光电二极管的基本特性,学习LED的电路连接、工作原理及发光特性等方面的知识。
同时也可以锻炼实验操作和数据记录的能力。
三、实验原理1、LED的结构和工作原理LED是半导体器件中最常用的光电器件之一。
它基本上是由P 型半导体和N型半导体材料构成的一个小小的晶体管,它比普通的二极管多了一个极性。
在制造LED时,在材料的中间夹了一层补偿材料,这层补偿材料同时也要和P型半导体和N型半导体之间的电子结合。
这样便产生了PN结,当给这个PN结加上电源的时候,P型半导体中就会多出大量的空穴,空穴会在PN结内的N 区中流动,与N区的少子结合,同时还会释放出能量,这些能量以光的形式释放出来,因此就可以实现LED的发光效果。
2、光电二极管的电路连接LED的电路连接方式很简单,只要在电路中加入电阻就可以了。
如果没有加入电阻,LED将会因为电流过大而被烧坏。
LED的正极连接到电源正极,负极连接到电源负极。
电阻的连接方式有两种,一种是将电阻直接连接在LED的负极上;另一种是将电阻连接在LED正负极之间,这种方式更为安全可靠。
3、LED的发光特性LED的发光特性受制于其PN结的材料。
不同的材料具有不同的能带结构,因此其发光颜色也有所不同。
例如,红色LED( GaAsP)使用的是铝镓砷混晶材料,在在P型和N型半导体之间形成PN结,加上适当电源,当电子从N型半导体区移动到P型半导体区时,就会发射光子而发光,发射的波长为635纳米左右。
四、实验步骤1、实验前准备(1)检查电路连接的安全性,保证电路连接正确、电源电压正常;(2)将红色LED连接在电路中;(3)准备测试测量仪器,如万用表、示波器等。
雪崩光电二极管APD倍增特性的测试
三、实验步骤
倍增系数测试 • 启动单色仪,并扫描到800nm位置; • 不打开高压开关,运行软件采集数据,得到APD的无增益
•
•
电流值; 将反馈电阻更换为300K,然后打开高压开关,在控制面板 上调节“高压调节”旋钮并观察电压表示数,从60V开始 调节,每次增加5V并采集数据,得到APD的增益电流值, 电压达到反向电压的90%(为上次实验测定的值)时停止, 此时软件自动完成数据处理,显示出APD的倍增系数及其 曲线; 可以更换不同的波长或改变光强(通过改变单色 仪出射狭缝的大小),重复做上述步骤,并把结果进行比 较。 实验结束后,先将高压输出调到最小,然后关闭高压开 关,,并闭溴钨灯电源,最后关闭仪器总电源。
三、实验步骤
暗电流测试 1. 在控制面板上,把APD模块所带数据线小的红色插头插控制 面板上APD特性测试框中地正,大的红色插头插在其中的负, 黑色插头插在其中的地。“高压输出”与APD特性测框中的 “负”相连,“高压输出”与电压表的“2000+”连通,电 压表的“-”与地相连,电压表量程切换到2000V。然后用连 接线将APD特性测试框中的正与12-3中的孔2相连,并在4和 5上插上30M的反馈电阻; 2. 接通仪器总电源,打开高压开关; 3. 在控制面板上调节“高压调节”旋钮并观察电压表示数, 从60V开始调节,每次增加5V并采集数据,电压达到90%反 向电压(为上次实验测定的值)时停止; 实验结束后,先 将高压输出调到最小,然后关闭高压开关,再关闭仪器总 电源。
雪崩光电二极管APD倍增特性 的测试
一、实验目的
1. 2. 3. 4. 5. 加深对雪崩光电二极管工作原理的理解 学会雪崩光电二极管的反向电压的测试方法 学会雪崩光电二极管的暗电流的测试方法 学会雪崩光电二极管的倍增特性的测试方法 掌握雪崩光电二极管的使用方法。
APD实验指导书V1.01
APD光电二极管实验仪实验指导书目录第一章APD光电二极管综合实验仪说明..................... - 2 -二、实验仪说明 (2)1、电子电路部分结构分布........................................ - 2 -2、光通路组件 ................................................. - 3 -第二章 APD光电二极管特性测试......................... - 4 -1、APD光电二极管暗电流测试.................................... - 6 -2、APD光电二极管光电流测试.................................... - 7 -3、APD光电二极管伏安特性...................................... - 7 -4、APD光电二极管雪崩电压测试.................................. - 7 -5、APD光电二极管光照特性...................................... - 8 -6、APD光电二极管时间响应特性测试.............................. - 8 -7、APD光电二极管光谱特性测试.................................. - 9 -第一章 APD光电二极管综合实验仪说明一、产品介绍雪崩光电二极管的特点是高速响应性和放大功能。
雪崩光电二极管(APD)的基片材料可采用硅和锗等材料。
其结构是在n型基片上制作p层,然后在配置上p+层。
一般上部的电极制作成环状,这是考虑到能获得稳定的“雪崩”效应。
外来的光线通过薄的p+层,然后被p层吸收,从而产生了电子和空穴。
由于在p层上存在着105V/cm的电场,因此位于价带的电子被冲击离子化后,产生雪崩倍增效应,电子和空穴不断产生。
APD实验指导书V
APD光电二极管实验仪实验指导书目录第一章APD光电二极管综合实验仪说明..................... - 2 -二、实验仪说明 (2)1、电子电路部分结构分布........................................ - 2 -2、光通路组件 ................................................. - 3 -第二章 APD光电二极管特性测试......................... - 4 -1、APD光电二极管暗电流测试.................................... - 6 -2、APD光电二极管光电流测试.................................... - 7 -3、APD光电二极管伏安特性...................................... - 7 -4、APD光电二极管雪崩电压测试.................................. - 7 -5、APD光电二极管光照特性...................................... - 8 -6、APD光电二极管时间响应特性测试.............................. - 8 -7、APD光电二极管光谱特性测试.................................. - 9 -第一章 APD光电二极管综合实验仪说明一、产品介绍雪崩光电二极管的特点是高速响应性和放大功能。
雪崩光电二极管(APD)的基片材料可采用硅和锗等材料。
其结构是在n型基片上制作p层,然后在配置上p+层。
一般上部的电极制作成环状,这是考虑到能获得稳定的“雪崩”效应。
外来的光线通过薄的p+层,然后被p层吸收,从而产生了电子和空穴。
由于在p层上存在着105V/cm的电场,因此位于价带的电子被冲击离子化后,产生雪崩倍增效应,电子和空穴不断产生。
光电二极管实验报告
光电二极管摘要:光电二极管(Photo-Diode)和普通二极管一样,也是由一个PN结组成的半导体器件,也具有单方向导电特性。
但在电路中它不是作整流元件,而是把光信号转换成电信号的光电传感器件。
通过实验的方法测量出光电二极管的主要的特性和技术参数,最高反向工作电压、暗电流、光电流、光谱特性等。
分析其特性及技术参数。
关键词:光电二极管特性技术参数分析一光电二极管的工作原理:光电二极管是将光信号变成电信号的半导体器件。
它的核心部分也是一个PN结,和普通二极管相比,在结构上不同的是,为了便于接受入射光照,PN 结面积尽量做的大一些,电极面积尽量小些,而且PN结的结深很浅,一般小于1微米。
光电二极管是在反向电压作用之下工作的。
没有光照时,反向电流很小(一般小于0.1微安),称为暗电流。
当有光照时,携带能量的光子进入PN结后,把能量传给共价键上的束缚电子,使部分电子挣脱共价键,从而产生电子---空穴对,称为光生载流子。
它们在反向电压作用下参加漂移运动,使反向电流明显变大,光的强度越大,反向电流也越大。
这种特性称为“光电导”。
光电二极管在一般照度的光线照射下,所产生的电流叫光电流。
如果在外电路上接上负载,负载上就获得了电信号,而且这个电信号随着光的变化而相应变化。
光电二极管、光电三极管是电子电路中广泛采用的光敏器件。
光电二极管和普通二极管一样具有一个PN结,不同之处是在光电二极管的外壳上有一个透明的窗口以接收光线照射,实现光电转换,在电路图中文字符号一般为VD。
光电三极管除具有光电转换的功能外,还具有放大功能,在电路图中文字符号一般为VT。
光电三极管因输入信号为光信号,所以通常只有集电极和发射极两个引脚线。
同光电二极管一样,光电三极管外壳也有一个透明窗口,以接收光线照射。
二光电二极管的种类、特性与用途:1 PN型特性:优点是暗电流小,一般情况下,响应速度较低。
用途:照度计、彩色传感器、光电三极管、线性图像传感器、分光光度计、照相机曝光计。
浅析APD光电二极管基本特性测试研究
浅析APD光电二极管基本特性测试研究发表时间:2019-05-05T16:47:16.533Z 来源:《电力设备》2018年第31期作者:蔡智[导读] 摘要:APD光电二极管是在光探测研究中使用的一种重要的光伏探测器元件,在光电系统领域中有着举足轻重的地位,我国光电领域的科研人员对APD光电二极管的研究十分重视,如何对APD光电二极管的性能进行测试成为了科研人员需要攻破的首要难关。
(汉口学院光电信息科学与工程专业湖北省武汉市 430212)摘要:APD光电二极管是在光探测研究中使用的一种重要的光伏探测器元件,在光电系统领域中有着举足轻重的地位,我国光电领域的科研人员对APD光电二极管的研究十分重视,如何对APD光电二极管的性能进行测试成为了科研人员需要攻破的首要难关。
本文主要介绍的针对APD光电二极管的部分特性测试,主要包括暗电流、光电流的测试、APD光电二极管的电压特点、APD光电二极管的光照性能测试、APD光电二极管的达到什么条件会击穿的测试以及APD光电二极管的响应度与倍增因子情况的测试研究。
关键词:APD光电二极管;结构;特性;测试1.简析APD光电二极管的概念与优点1.1 APD光电二极管的定义Avalanche Photo Diode的中文译名为雪崩光电二极管,又称APD光电二极管,主要应用与光电工程领域,APD光电二极管的生产材料主要是半导体材料硅或锗为主,APD光电二极管被称为雪崩光电二极管的原因是因为在光探测中,在APD光电二极管的P-N结上加上反向偏压后,测试的光被APD光电二极管中的P-N结构吸收后,形成的光电流在改变反向偏压后,会造成光电流成倍的激增的现象,因为视觉上形同“雪崩”,所以APD光电二极管又称为雪崩光电二极管。
1.2 APD光电二极管的优点普通的光电二极管在在光学反映中的性能测试中的性能较差,主要原因是普通光电二极管的灵敏度不高,对光电流的敏感性不强,APD光电二极管则是通过技术改良,增强了光电二极管的灵敏度,提高了对光电流的敏度,对我国光电领域的精密测量提供了技术前提。
分析光电二极管和apd的工作原理
分析光电二极管和apd的工作原理
光电二极管(Photodiode)是一种能够将光信号转化为电信号的器件。
它采用半导体材料制成,通常由P型和N型半导体组成的PN结构。
该结构中的P型半导体富含正电荷载流子(空穴),N型半导体富含负电荷载流子(电子)。
当光照射到光电二极管上时,能量足够大的光子会激发P-N结附近的价带电子跃迁到导带成为自由电子和空穴对。
由于P-N结附近存在内建电场,导致电子和空穴分别沿着不同的方向被电场推动,形成一个电流。
这个电流的大小与光照强度成正比。
但是光电二极管的响应速度有限,只适用于低速应用。
为了解决这个问题,我们引入增强型光电二极管——雪崩光电二极管(Avalanche Photodiode,APD)。
APD与普通光电二极管相似,也是采用P-N结构。
但在APD 中,P-N结的反向电压Vbias被人为增加,使得结区域形成高电场区。
当光子被吸收时,产生的电子在该高电场的加速下会与固有载流子(例:空穴)发生雪崩效应,形成光电子-空穴对,大大增强光电二极管的内部电流。
这意味着APD的增益因子大于光电二极管,可达到100倍以上,从而提高了信号的灵敏度。
然而,APD也存在一些问题。
首先,由于其内部电子雪崩效应,会增加背景噪声,导致增强的信号质量下降。
其次,由于高电场下的能流镜效应,会限制APD的最大运行速度。
综上所述,光电二极管和APD在工作原理上有所不同。
光电
二极管通过光子的光电效应产生电流,而APD在光电二极管
的基础上增加了雪崩效应,从而增强了光电转换效率和灵敏度。
APD光电二极管特性(精)
APD光电二极管特性
教学环境
多媒体机房
教学
内容
1.APD光电二极管一般性能
2.倍增因子
3.过剩噪声因子
教学
目标
1.了解PIN光电二极管一般性能
2.了解掌握查看APD光电二极管的参数表,并根据参数表选型。
教学
方法
讲授、讨论、总结
教学
过程
讲授:
1.APD光电二极管一般性能
倍。现有的APD的g值已达几十甚至上百,随反向偏压、波长和温度变化
3.过剩噪声因子
过剩噪声因子F是由于雪崩效应的随机性引起噪声增加的倍数。附加噪声指数与器件所用的材料和工艺相关,并例举了硅、锗和铟镓砷几种材料的附加噪声指数。
小结:
课堂总结
例举Si材料和InGaAs材料的雪崩光电二极管的参数表格,APD光电二极管的参数
包括光谱响应范围、峰值波长、灵敏度、量子效率、击穿电压、击穿电压温度系数、暗电流、截止波长、结电容、附加噪声指数和增益等。以及两者的特点和应用场合。
2.倍增因子
倍增因子是APD输出光电流和一次光生电流的比值,APD的响应度比PIN增加了g
APD光电二极管综合实验
APD光电二极管综合实验仪GCAPD-B实验指导书武汉光驰科技WUHAN GUANGCHI TECHNOLOGY CO.,LTD目录第一章 APD光电二极管综合实验仪说明 ................ - 3 -一、电子电路部份结构散布........................ - 3 -二、光通路组件 ................................. - 4 - 第二章 APD光电二极管特性测试.................... - 5 -一、APD光电二极管暗电流测试.................... - 7 -二、APD光电二极管光电流测试.................... - 8 -3、APD光电二极管伏安特性....................... - 8 -4、APD光电二极管雪崩电压测试 ................... - 9 -五、APD光电二极管光照特性...................... - 9 -六、APD光电二极管时刻响应特性测试 ............. - 10 -7、APD光电二极管光谱特性测试 .................. - 10 -第一章 APD光电二极管综合实验仪说明一、产品介绍雪崩光电二极管的特点是高速响应性和放大功能。
雪崩光电二极管(APD)的基片材料可采纳硅和锗等材料。
其结构是在n型基片上制作p层,然后在配置上p+层。
一样上部的电极制作成环状,这是考虑到能取得稳固的“雪崩”效应。
外来的光线通过薄的p+层,然后被p层吸收,从而产生了电子和空穴。
由于在p层上存在着105V/cm的电场,因此位于价带的电子被冲击离子化后,产生雪崩倍增效应,电子和空穴不断产生。
这种元件能够用作范围的光纤通信的受光装置和光磁盘的受光期间还,能够有效地处置微弱光线的问题,当量子效率为68%以上时,可取得大于300MH z的高速响应。
光电二极管实验报告
光电二极管实验报告一、实验目的1.了解光电二极管的基本原理和结构。
2.掌握光电二极管的特性曲线的测量方法。
3.研究光电二极管的灵敏度随入射光强度的变化规律。
二、实验原理光电二极管是利用光电效应产生的电流来转换光能为电能的器件。
在光照射下,光电二极管会产生光电效应,使阳极与阴极之间的电荷发生流动,产生电压差或电流。
光电二极管的主要特点有频率响应宽、噪声小、灵敏度高等。
根据光电效应的原理,光电二极管的电流与入射光的强度成正比关系,即光电流I和入射光的强度I0满足I=kI0的关系,其中k为比例系数。
当入射光的光强度大到一定程度时,光线过多会使得光电二极管的电流饱和,此时I=I0。
三、实验器材1.光电二极管2.光源3.电流电压源4.电阻箱5.电压表6.光电二极管放大器四、实验步骤1.将电流电压源与电阻箱、光电二极管放大器连接,并接通电源。
2.将电压表正极和负极分别与光电二极管放大器的正极和负极连接并调节至合适的电压范围。
3.调节电流电压源的输出电流和电阻箱的电阻,控制光电二极管的入射光强度。
4.记录电压表的读数,得到光电二极管的电流值。
5.逐渐增加入射光的光强度,记录光电二极管的电流值。
6.使用以上数据绘制光电二极管特性曲线。
五、实验结果与分析通过实验,我们得到了光电二极管的特性曲线。
根据光电二极管的特性曲线,我们可以得到以下结论:1.光电流随着入射光强度的增加而线性增加,但在一定光强度范围后,光电流趋于稳定,不再增加,这是因为光电二极管已经饱和。
2.光电二极管的灵敏度随入射光强度的增加而增加,但在饱和后,灵敏度不再增加。
3.光电二极管的特性曲线可以用于测量入射光的强度。
六、实验总结通过本次实验,我对光电二极管的基本结构和原理有了更深入的了解,并通过实际操作掌握了光电二极管特性曲线的测量方法。
实验结果证实了光电二极管的工作原理和特性,同时也加深了我对光电效应的理解。
在实验过程中,我发现了一些问题,如光电二极管的灵敏度与入射光强度的关系并不是简单的线性关系,这可能与光电二极管内部电路的复杂性有关。
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APD光电二极管综合实验仪GCAPD-B实验指导书(V1.0)武汉光驰科技有限公司WUHAN GUANGCHI TECHNOLOGY CO.,LTD目录第一章 APD光电二极管综合实验仪说明 ................ - 3 -1、电子电路部分结构分布......................... - 3 -2、光通路组件 .................................. - 4 - 第二章 APD光电二极管特性测试.................... - 5 -1、APD光电二极管暗电流测试..................... - 7 -2、APD光电二极管光电流测试..................... - 8 -3、APD光电二极管伏安特性....................... - 8 -4、APD光电二极管雪崩电压测试 ................... - 9 -5、APD光电二极管光照特性....................... - 9 -6、APD光电二极管时间响应特性测试 .............. - 10 -7、APD光电二极管光谱特性测试 .................. - 10 -第一章 APD光电二极管综合实验仪说明一、产品介绍雪崩光电二极管的特点是高速响应性和放大功能。
雪崩光电二极管(APD)的基片材料可采用硅和锗等材料。
其结构是在n型基片上制作p层,然后在配置上p+层。
一般上部的电极制作成环状,这是考虑到能获得稳定的“雪崩”效应。
外来的光线通过薄的p+层,然后被p层吸收,从而产生了电子和空穴。
由于在p层上存在着105V/cm的电场,因此位于价带的电子被冲击离子化后,产生雪崩倍增效应,电子和空穴不断产生。
这种元件可以用作0.8m范围的光纤通信的受光装置和光磁盘的受光期间还,能够有效地处理微弱光线的问题,当量子效率为68%以上时,可得到大于300MH z的高速响应。
工作电压小于180V时,则暗电流仅为0.3nA。
采用锗的APD所使用的波长范围接近于1m,由于它专用于光纤通信,所以其响应速度高达600MHz以上,偏压30V以下时,可获得高于55%的量子效率。
暗电流很大,为0.5uA左右。
GCAPD-B型APD雪崩光电二极管综合实验仪主要研究APD光电二极管的基本特性,如光电流、暗电流、光照特性、光谱特性、伏安特性及时间相应特性等,以及这种光敏器件与其它光电器件的应用差别。
二、实验仪说明1、电子电路部分结构分布电子电路部分功能说明(1)电压表:独立电压表,可切换三档,200mV,2V,20V,通过拨段开关进行调节,白色所指示的位置即为所对应的档位。
“+”“-”分别对应电压表的“正”“负”输入极。
(2)电流表:独立电流表,可切换四档,200uA,2mA,20mA,200mA通过拨段开关进行调节,白色所指示的位置即为所对应的档位。
“+”“-”分别对应电压表的“正”“负”输入极。
(3)照度计电源:红色为照度计电源正极,黑色为照度计电源负极。
(4)直流电源:0~200V可调,“0~200V”为直流电源的正极,另一端为负极。
(5)信号测试单元:TP1:与T1直接相连TP2:与T2直接相连TP :光脉冲调制信号测试端注:信号测试单元的GND与直流电源0~200V不共地。
2、光通路组件出端输出端图1 光电二三极管光通路组件功能说明:分光镜:50%透过50%反射镜,将平行光一半给照度计探头,一半给等测光器件,实验测试方便简单,照度计可实时检测出等测器件所接收的光照度。
光器件输出端:红色——APD光电二极管“P”极黑色——APD光电二极管“N”极第二章 APD光电二极管特性测试一、实验目的1、学习掌握APD光电二极管的工作原理2、学习掌握APD光电二极管的基本特性3、掌握APD光电二极管特性测试方法4、了解APD光电二极管的基本应用二、实验内容1、APD光电二极管暗电流测试实验2、APD光电二极管光电流测试实验3、APD光电二极管伏安特性测试实验4、APD光电二极管雪崩电压测试实验5、APD光电二极管光电特性测试实验6、APD光电二极管时间响应特性测试实验7、APD光电二极管光谱特性测试实验三、实验仪器1、光电探测综合实验仪 1个2、光通路组件 1套3、光照度计 1台4、光敏电阻及封装组件 1套5、2#迭插头对(红色,50cm) 10根6、2#迭插头对(黑色,50cm) 10根7、三相电源线 1根8、实验指导书 1本9、示波器 1台四、实验原理雪崩光电二极管APD—Avalanche Photodiode是具有内部增益的光检测器,它可以用来检测微弱光信号并获得较大的输出光电流。
雪崩光电二极管能够获得内部增益是基于碰撞电离效应。
当PN结上加高的反向偏压时,耗尽层的电场很强,光生载流子经过时就会被电场加速,当电场强度足够高(约3x105V /cm)时,光生载流子获得很大的动能,它们在高速运动中与半导体晶格碰撞,使晶体中的原子电离,从而激发出新的电子一空穴对,这种现象称为碰撞电离。
碰撞电离产生的电子一空穴对在强电场作用下同样又被加速,重复前一过程,这样多次碰撞电离的结果使载流子迅速增加,电流也迅速增大,这个物理过程称为雪崩倍增效应。
图6-1为APD的一种结构。
外侧与电极接触的P区和N区都进行了重掺杂,分别以P+和N+表示;在I区和N+区中间是宽度较窄的另一层P区。
APD工作在大的反偏压下,当反偏压加大到某一值后,耗尽层从N+-P结区一直扩展(或称拉通)到P+区,包括了中间的P层区和I区。
图6-1的结构为拉通型APD的结构。
从图中可以看到,电场在I区分布较弱,而在N+-P区分布较强,碰撞电离区即雪崩区就在N+-P区。
尽管I区的电场比N+-P区低得多,但也足够高(可达2x104V/cm),可以保证载流子达到饱和漂移速度。
当入射光照射时,由于雪崩区较窄,不能充分吸收光子,相当多的光子进入了I区。
I区很宽,可以充分吸收光子,提高光电转换效率。
我们把I区吸收光子产生的电子-空穴对称为初级电子-空穴对。
在电场的作用下,初级光生电子从I区向雪崩区漂移,并在雪崩区产生雪崩倍增;而所有的初级空穴则直接被P+层吸收。
在雪崩区通过碰撞电离产生的电子-空穴对称为二次电子-空穴对。
可见,I区仍然作为吸收光信号的区域并产生初级光生电子-空穴对,此外它还具有分离初级电子和空穴的作用,初级电子在N+-P区通过碰撞电离形成更多的电子-空穴对,从而实现对初级光电流的放大作用。
图6-1 APD的结构及电场分布碰撞电离产生的雪崩倍增过程本质上是统计性的,即为一个复杂的随机过程。
每一个初级光生电子-空穴对在什么位置产生,在什么位置发生碰撞电离,总共碰撞出多少二次电子一空穴对,这些都是随机的。
因此与PIN光电二极管相比,APD的特性较为复杂。
APD的雪崩倍增因子M定义为:M=I P/I P0式中:I P是APD的输出平均电流;I P0是平均初级光生电流。
从定义可见,倍增因子是APD的电流增益系数。
由于雪崩倍增过程是一个随机过程,因而倍增因子是在一个平均之上随机起伏的量,雪崩倍增因子M的定义应理解为统计平均倍增因子。
M随反偏压的增大而增大,随W的增加按指数增长。
APD的噪声包括量子噪声、暗电流噪声、漏电流噪声、热噪声和附加的倍增噪声。
倍增噪声是APD中的主要噪声。
倍增噪声的产生主要与两个过程有关,即光子被吸收产生初级电子-空穴对的随机性以及在增益区产生二次电子-空穴对的随机性。
这两个过程都是不能准确测定的,因此APD倍增因子只能是一个统计平均的概念,表示为<M>,它是一个复杂的随机函数。
由于APD具有电流增益,所以APD的响度比PIN的响应度大大提高,有R0=<M>(I P/P)=<M>(ηq/hf)量子效率只与初级光生载流子数目有关,不涉及倍增问题,故量子效率值总是小于1。
APD的线性工作范围没有PIN宽,它适宜于检测微弱光信号。
当光功率达到几uW以上时,输出电流和入射光功率之间的线性关系变坏,能够达到的最大倍增增益也降低了,即产生了饱和现象。
、APD的这种非线性转换的原因与PIN类似,主要是器件上的偏压不能保持恒定。
由于偏压降低,使得雪崩区变窄,倍增因子随之下降,这种影响比PIN的情况更明显。
它使得数字信号脉冲幅度产生压缩,或使模拟信号产生波形畸变,应设法避免。
在低偏压下,APD没有倍增效应。
当偏压升高时,产生倍增效应,输出信号电流增大。
当反向偏压接近某一电压V B时,电流倍增最大,此时称APD被击穿,电压V B称作击穿电压。
如果反偏压进一步提高,则雪崩击穿电流使器件对光生载流子变的越来越不敏感。
因此APD的偏置电压接近击穿电压,一般在数十伏到数百伏。
须注意的是击穿电压并非是APD的破坏电压,撤去该电压后APD仍能正常工作。
APD的暗电流有初级暗电流和倍增后的暗电流之分,它随倍增因子的增加而增加;此外还有漏电流,漏电流没有经过倍增。
APD的响应速度主要取决于载流子完成倍增过程所需要的时间,载流子越过耗尽层所需的渡越时间以及二极管结电容和负载电阻的RC时间常数等因素。
而渡越时间的影响相对比较大,其余因素可通过改进结构设计使影响减至很小。
五、实验准备1、实验之前,请仔细阅读光电探测综合实验仪说明,弄清实验箱各部分的功能及拨位开关的意义;2、当电压表和电流表显示为“1_”是说明超过量程,应更换为合适量程。
3、连线之前保证电源关闭。
4、实验过程中,请勿同时拨开两种或两种以上的光源开关,这样会造成实验所测试的数据不准确。
六、实验步骤1、APD光电二极管暗电流测试实验装置原理框图如图6-2所示图6-2(1)组装好光通路组件,将照度计与照度计探头输出正负极对应相连(红为正极,黑为负极),将照度计电源线与面板上的照度计电源正负极对应相连(红为正极,黑为负极),将光源调制单元J4与光通路组件光源接口用彩排数据线相连。
(2)将将三掷开关BM2拨到“静态”,将拨位开关S1,S2,S3,S4,S5,S6,S7均拨下。
(3)“光照度调节”调到最小,连接好光照度计,直流电源调至最小,打开照度计,此时照度计的读数应为0。
(4)按图6-2所示的电路连接电路图,直流电源选择电源1,负载RL选择RL11=100K 欧,电流表选择200uA档。
(5)打开电源开关,缓慢调节直流电源1,直到微安表显示有读数为止,记录此时电压表U和电流表的读数I.I即为APD光电二极管在U偏压下的暗电流。
(注:在测试暗电流时,应先将光电器件置于黑暗环境中30分钟以上,否则测试过程中电压表需一段时间后才可稳定)(6)实验完毕,直流电源调至最小,关闭电源,拆除所有连线。