LCD制程工艺知识简介

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lcd制程简介知识讲稿

lcd制程简介知识讲稿

02
1990年代,LCD技术开始应用于电视和计算机显示
器等领域,成为主流显示技术之一。
03
随着科技的不断进步,LCD技术不断升级和完善,如
高分辨率、低功耗、柔性化等方向的发展。
lcd制程技术的应用场景
01
LCD技术广泛应用于电视、电 脑、手机、平板等电子产品领 域,成为主流显示技术之一。
02
此外,LCD技术还应用于汽车 、航空航天、医疗等领域,如 车载导航、飞机仪表盘、医疗 影像等。
详细描述:技术创新案例分享将涵盖以下内容
分析该技术创新的应用领域和优势,阐述其对LCD制程 的改进和提升作用
结合数据和图表,展示技术创新带来的效果和效益,包 括生产效率的提高、产品质量的提升以及成本的降低等 方面
市场应用案例分享
• 总结词:LCD制程的产品在市场上有着广泛的应 用,从消费电子到工业设备,再到汽车电子等领 域都有涉及。市场应用案例分享将介绍LCD产品 在各个领域的应用情况和市场前景。
详细描述
液晶灌注不足通常是由于灌注设备或工艺问题,导致液晶无法完全填充液晶盒 。这会导致像素不亮、对比度下降等问题。解决方法包括优化灌注设备和工艺 、控制灌注速度和时间等措施。
05
lcd制程发展趋势和展望
高分辨率lcd制程发展
技术创新
随着显示技术的不断发展,lcd制程在分 辨率上取得了显著的提升。新型的lcd面 板制造技术,如nano-crystal和color filter on array (cfa)等,正在不断涌现, 使得lcd面板的分辨率得到了大幅的提升 ,对于消费者来说,更加细腻的画质无 疑会带来更好的视觉体验。
检查
对注入后的液晶进行质量 检查,确保满足性能要求 。

LCD基础知识及制造工艺流程介绍

LCD基础知识及制造工艺流程介绍

02
LCD制造工艺流程
玻璃基板加工
玻璃基板清洗
去除玻璃表面的杂质和 污垢,保证基板的洁净
度。
涂布光刻胶
在玻璃基板上涂布光刻 胶,用于保护下面的材
料。
曝光与显影
通过曝光和显影,将光 刻胶上的图案转移到玻
璃基板上。
去胶和蚀刻
去除多余的光刻胶,并 对玻璃基板进行蚀刻处
理,形成像素阵列。
彩色滤光片制作
后视镜
部分汽车后视镜采用LCD显示屏, 提高夜间或恶劣天气下的可视性。
LCD在其他领域的应用
医疗器械
工业控制
LCD技术在医疗设备中广泛应用,如 监护仪、超声波诊断仪等,提供高清 晰度的图像。
在工业自动化领域,LCD显示屏用于 各种控制面板和仪器仪表,方便操作 和维护。
航空航天
LCD显示屏在航空航天领域用于飞行 控制、导航系统等关键部位,确保安 全可靠。
LCD的工作原理
要点一
总结词
LCD的工作原理主要涉及到背光板、液晶层和偏振片等组 件的作用。当电流通过背光板时,会产生光线,光线经过 液晶层和偏振片调制后形成图像。不同的LCD类型和结构 在具体工作原理上略有差异。
要点二
详细描述
LCD的基本工作原理是利用液晶的物理特性进行光调制。 背光板负责提供均匀分布的光线,这些光线随后穿过液晶 层。液晶分子在电场的作用下发生排列变化,对光线进行 调制,最后通过偏振片,形成可以观察到的图像。不同的 LCD类型在具体结构和工作原理上略有差异,例如彩色 LCD需要额外的彩色滤光片来生成彩色图像。
像素密度
像素密度,也称为分辨率密度,是指每英寸屏幕中的像素数 ,它反映了屏幕的精细程度。像素密度越高,显示效果越细 腻。

LCD制作工艺资料

LCD制作工艺资料

LCD工艺流程简述一、前段工位:ITO玻璃的投入(grading)——玻璃清洗与干燥(CLEANING)——涂光刻胶(PR COAT)——前烘烤(PREBREAK)——曝光(DEVELOP)显影(MAIN CURE)——蚀刻(ETCHING)——去膜(STRIP CLEAN)【属于光科技术,详见百度百科】图检(INSP)清洗干燥(CLEAN)——TOP涂布(TOPCOAT)——UV烘烤(UVCURE)——固化(MAIN CURE)——清洗(CLEAN)——涂取向剂(PI PRINT)——固化(MAIN CURE)——清洗(CLEAN)——丝网印刷(SEAL/SHORT PRINTING)——烘烤(CUPING FURNACE)——喷衬垫料(SPACER SPRAY)——对位压合(ASSEMBLY)——固化(SEAL MAIN CURING)讲解:1. ITO图形的蚀刻:(ITO玻璃的投入到图检完成)A.ITO 玻璃的投入:根据产品的要求,选择合适的ITO 玻璃装入传递篮具中,要求ITO玻璃的规格型号符合产品要求,切记ITO层面一定要向上插入篮具中。

B.玻璃的清洗与干燥:将用清洗剂以及去离子水(DI水)等洗净 ITO 玻璃,并用物理或者化学的方法将ITO表面的杂质和油污洗净,然后把水除去并干燥,保证下道工艺的加工质量。

光刻技术(1.气相成底模2.旋转烘胶3.软烘4.对准和曝光5.曝光后烘焙(PEB)6.显影7.坚膜烘焙8.显影检查)C.涂光刻胶:在ITO玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶,涂过光刻胶的玻璃要在一定的温度下作预处理D.前烘:在一定的温度下将涂有光刻胶的玻璃烘烤一段时间,以使光刻胶中的溶剂挥发,增加与玻璃表面的粘附性。

E.曝光:用紫外光(UV)通过预先制作好的电极图形掩模版照射光刻胶表面,使被照光刻胶层发生反应,在涂有光刻胶的玻璃上覆盖光刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光:(如图所示)光致抗蚀羯曝光O 广乃、(以接近式为网】显影弊腰(以正股为例JI IJ图2光复印H艺主要流程F.显影:用显影液处理玻璃表面,将经过光照分解的光刻胶层除去,保留未曝光部分的光刻胶层,用化学方法使受UV光照射部分的光刻胶溶于显影液中,显影后的玻璃要经过一定的温度的坚膜处理G.坚膜:将玻璃再经过一次高温处理,使光刻胶更加坚固。

LCD制程工艺知识培训

LCD制程工艺知识培训

LCD制程工艺知识培训概述液晶显示器(Liquid Crystal Display,简称LCD)是一种普遍应用于电子设备中的显示技术。

它由多个液晶分子组成,利用电场的作用来控制光的透过和阻挡,从而实现图像的显示。

LCD制程工艺是指将液晶显示器的各个组件制造和组装到一起的过程。

本文将介绍LCD制程工艺的一些基本知识,包括液晶材料的选择、液晶分子的排列与控制、背光源的制备以及最终的组装过程。

液晶材料的选择液晶材料是制作液晶显示器的关键之一。

根据不同的需求,液晶材料可以分为两种类型:向列型液晶和向行型液晶。

向列型液晶是指液晶分子在电场作用下,沿着电场的方向排列。

这种液晶材料适合于较小的液晶显示器,具有较高的亮度和对比度。

向行型液晶是指液晶分子在电场作用下,垂直于电场的方向排列。

这种液晶材料适用于较大尺寸的液晶显示器,具有更好的视角和更快的响应速度。

根据具体的设计要求和应用场景,制程工艺人员需要选择合适的液晶材料来满足产品的要求。

液晶分子的排列与控制液晶分子的排列和控制是液晶显示器的核心技术之一。

液晶分子的排列状态决定了显示器的图像效果和显示性能。

液晶分子有两种基本的排列状态:平行排列和垂直排列。

在制程过程中,可以通过设计电场的作用方式和液晶分子的配方来控制液晶分子的排列状态,从而达到不同的显示效果。

液晶的排列状态可以通过电极的设计和制备来控制。

通常情况下,液晶显示器需要两组电极,其中一组为透明电极,另一组为反射电极。

电场的作用下,液晶分子在两组电极之间排列,从而实现图像的显示。

背光源的制备LCD显示器的背光源是显示器的另一个重要组成部分。

背光源可以提供显示器所需的光源,使得图像在不同环境下都能够清晰可见。

常见的背光源有冷阴极管(CCFL)和LED背光源。

CCFL是一种传统的背光源技术,使用气态冷阴极管产生的光来提供背光。

LED背光源则是一种新型的背光源技术,使用发光二极管(LED)来提供背光。

制作背光源需要注意功耗和光效的均衡。

LCD工艺和生产流程简介

LCD工艺和生产流程简介

1.基板清洗
噴水
2.光阻塗佈
P/R Coating ITO Glass
刷子
風刀
Array 生产-- ITO 成型工程
3.曝光
P/R Layer ITO Layer
Glass
4.顯影 反應部份光阻劑以顯影液去除
顯影液
UV
反應部份以顯影液除去
Array 生产-- ITO 成型工程
5.ADI (After Developing Inspection) 顯影後觀察(檢查) 检查项目:
一次测试项目
1.测量元件导通电流(ION) 2.测量元件截止电流(IOFF) 3.测量切入(CUT IN)电压VT 4.测量电压电流曲线TV CURVE
电流I
ION
IOFF
切入電壓
电压V
Array 生产– 表面处理工程
表面處理工程 1.中間塗佈(Isolation Layer Coating) 中間絕緣層以轉動方式塗佈
3.某段不亮 【原因】LCD內部或PIN腳ITO線路開路(製程不良或作業疏失引起) 【改善】1.ITO線路蝕刻製程控制
2.操作人員規範作業
4.十字線 【原因】SEG端與COM端線路間存在導電雜質引起絕緣層的破壞 【改善】1.控制液晶純度
2.絕緣層塗佈製程控制
LCD常見的不良現象
5.殘影 【原因】液晶未純化,LC本身作為電容質,其內部離子在長時間通電後,在電極兩端會
Cell生产–COG设备
Cell生产–COG
Cell生产–COG
Cell生产–FOG FOG是英文“FPC On Glass”的缩写。即将FPC通过ACF与邦定好IC玻璃连接导通。
Cell生产–FOG
Cell生产–FOG

LCD基础知识及制造工艺流程介绍

LCD基础知识及制造工艺流程介绍

LCD基础知识及制造工艺流程介绍LCD(液晶显示器)是一种运用液晶技术显示图像的平面显示设备。

它由一系列的液晶层、玻璃基板、导线及亮度调节膜等组成,能够实现高清晰度和低功耗的图像显示。

下面将介绍LCD的基础知识以及制造工艺流程。

一、LCD的基础知识1.液晶层:液晶是一种类似于液体的物质,具有一定的流动性。

液晶分为向列型液晶和向量型液晶两种。

其中,向列型液晶具有电流传输性能,可用于显示器制造。

液晶层通常由两块玻璃基板夹层组成。

2.基板:LCD的基板通常由玻璃或塑料材料制成。

它是液晶显示器的结构支撑物,上面附着有液晶材料,起到固定液晶和导线的作用。

3.导线:液晶显示器中的导线用于传输电信号,驱动液晶层完成图像的显示。

导线通常由透明导电材料(如铟锡氧化物)制成,通过在基板上形成通道和窗口的方法实现。

4.亮度调节膜:亮度调节膜用于控制液晶层的透光度,实现图像亮度的调节。

它通常由聚合物、薄膜材料或金属制成。

二、LCD的制造工艺流程1.基板生产:使用特制的玻璃或塑料材料制造基板,通过磨削、抛光和清洗等步骤形成平整的表面。

2.导线制作:将透明导电材料(如铟锡氧化物)涂布在基板上,然后通过光刻技术制作出导线的图案。

这包括涂覆光刻胶、曝光、显影和洗涤等步骤。

3.形成储存电容:在导线制作完成后,在基板上制作出储存电容的结构。

这通常通过在导线上涂覆并定位特定的电介质材料,然后用导线封装住这种材料。

4.液晶层制作:将液晶材料涂布在基板上,并进行取向处理。

液晶材料的涂布可以通过刮板涂布或滚涂等方法完成。

5.封装背光模块:将背光源(通常是冷阴极荧光灯或LED)和光学片封装在一起,形成背光模块。

6.封装前端制程:在液晶层基板中制造出色彩滤光片、液晶层与色彩滤光板的层间空气封闭结构,同时加工出液晶层之间分隔固体极板和液晶层封装胶。

7.封装:将两块形成互相关系的液晶层基板合并在一起,使用封装剂将其密封。

8.后端制程:液晶显示器的后端制程包括模组组装、封装测试、调试和包装等步骤。

LCD基础知识及制造工艺流程介绍

LCD基础知识及制造工艺流程介绍

编辑ppt
26
5.4 LCD的响应速度
温度越低响应速度越慢 TN型、HTN型产品的响应速度(25℃时)
Tr:150~200毫秒 Tf:200~250毫秒 STN型产品的响应速度(25℃时) Tr:200~300毫秒 Tf:250~350毫秒
编辑ppt
27
➢ TN (宽温液晶) 25℃时响应速度约0.2~0.5秒 0℃时响应速度约0.5~1秒 -20℃时响应速度约1~3秒 -30℃时响应速度约5~10秒
编辑ppt
3
1.2 相结构: 向列相、近晶相、胆甾相
向列相
近晶相
编辑ppt
ห้องสมุดไป่ตู้
胆甾相
4
1.3 液晶分子的结构 化学结构式
物理外观
• 形状各向异性, 长度 > 4倍宽度 • 分子长轴有一定刚性 • 分子末端含有极性或可极化的基团
CH3 - (CH2)4
CN
上述分子(5CB) 是 ~2 nm × 0.5 nm
3. 点 阵 方 式 ( 显 示 图形 )
以行列交叉单元显示图形。
编辑ppt
10
2.4 按技术类别分类
根据液晶分子扭曲程度,LCD可分为下列几类:
• TN:扭曲向列型(Twist nematic)液晶显示器。 • HTN:高扭曲向列型(High Twist nematic)液晶显 示器。 • STN :超扭曲向列型(Super Twist nematic)液晶显示器。 • FSTN :补偿膜超扭曲向列型(Film Super Twist)液晶显示器. • TFT : 薄膜晶体管(Thin-film transistor)液晶显示器。
显示的有关电极时,该部分液晶分子扭曲结构消失,失去了旋

LCD简介和工艺流程

LCD简介和工艺流程

清洗:用清洗剂把液晶盒表面、引 线脚及缝隙的液晶和污物洗掉。 老化:用略高于液晶清亮点的温度 使液晶分子重新定向。 磨边:将LCD在磨边机的转动砂轮上 把引脚线边缘磨出符合标准尺寸的 LCD。
五、 LCD的QC组
电测:加静态驱动波形点亮LCD,检查出不 合格品。电测设备为LCD电测仪,它可对各 种规格的LCD进行测试,主要性能指标包括: 阈值电压的目测 响应特性目测 全显及分显功耗电流测量 各电极之间的短路检查
脱膜:利用喷淋+超声波的冲洗方式(光刻 胶可与高浓度的碱液起反应),把覆盖在 ITO上面的光刻胶反应掉,显露出所需的 ITO图形,至此图案制作就完成了
经过脱膜后,须注意检查图案制作的效果 A:串漏笔(用PATTERN CHECK抽查)。 B:外观缺陷(ITO针孔、走线边缘缺陷等)。 C:用投影仪检查电脚宽度、间距并与图纸 对照,如能进行修补则用激光修补仪进行 修补。
三、 背光源
透射型和半透射型LCD一般都需要加背光源, 常见的背光源有: 1. 电致发光(EL) 2. 发光二极管(LED) 3. 冷阴极荧光灯(CCFL)
四、LCD的视角
视角简单地说就是显示图案能看得清楚的 角度。它是由定向层的摩擦方向决定。 视角以时针的钟点来命名,如6:00视角 , 12:00视角等等。例如计算器一般放在桌上 或拿在手上使用,LCD做成6:00视角最好。
二、显示方式
LCD有三种显示方式: 1.反射型 2.透射型 3.透反射型。 1.反射型LCD的底偏光片后面加了一块反射板, 它一般在户外和光线良好的办公室使用。 2.透射型LCD的底偏光片是透射偏光片,它需要 连续使用背光源,一般在光线差的环境使用。 3.透反射型LCD是处于以上两者之间,底偏光片 能部分反光,一般也带背光源,光线好的时候, 可关掉背光源;光差时,可点亮背光源使用LCD。

LCD简介及工艺流程总汇-最新课件

LCD简介及工艺流程总汇-最新课件
– 當物質產生靜電後 , 會隨時放電 , 若放到電子元件上將 導致元件破壞, 無法正常運作 , 此即稱靜電破壞或靜電
放電。
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工作環境中靜電大小
活動情形
靜電強度 Volt 10-20%相對濕度 65-95%相對濕度
走過地毯
35000
1500
走過塑膠地板
12000
250
在椅子上工作
6000
100
拿起塑膠文件夾(袋)
層列性 Smectic
向列性 Nematic
膽固醇性
Cholesteric
6
1-3如何使液晶作動?
TFT-LCD工作原理
LCD顯示器的顯像原理,是運用兩個電極夾住一層液晶材料,基本上是於兩 片皆有偏光板與ITO導電膜做電極的玻璃基板間,然後靠電極間電場的驅動,
引起液晶分子扭轉向列的電場效應,以控制光源的透射或遮斷功能。
取放panel時造成 panel與他物碰撞
而放電
環境因素
濕度過低
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˙防止靜電破壞方法 :
1.電子元件設計上,加上靜電保護電路 2.在工作環境上盡量減少靜電發生機會,下圖為標準作業環境 3.在運送過程上使用防靜電及海綿等等
人體用靜電環
250KΩ - 1MΩ
靜電防護盒
離子風扇
250KΩ - 1MΩ 250KΩ - 1MΩ
7000
600
拿起塑膠袋
20000
1000
工作椅墊磨擦
18000
1500
30
摩擦生電序列表
正電性(+) 負電性 (-)
玻璃 Glass 耐龍 Nylon
毛 Wool 鉛 Lead 鋁 Aluminum 紙張 Paper 棉 Cotton 木材 Wood 鋼鐵 Steel 鎳 Nickel 銅 Copper 橡膠 Rubber 聚酯 Polyester

lcd基本知识及制造流程简介

lcd基本知识及制造流程简介

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4.2.1 ITO图形蚀刻(光刻)
本阶段在导电玻璃上蚀刻出显示所需要的ITO(预清洗)
根据产品要求,准备好适合清洗所需规格的ITO玻璃(厚度,面电阻,基板 类型),玻璃的正面都朝同一方向放置,即让所有待清洗玻璃的识别角 朝同一方向放置。同一方向作业。 玻璃尺寸: 14X16英寸 厚度: 1.1mm, 0.7mm,0.55mm, 0.4mm (2) 玻璃清洗与干燥 将符合生产规格的ITO玻璃用化学,物理的方法将ITO玻璃表面的杂质﹑ 油污洗凈,然后把水除去并干燥,保证下道工序的加工质量. 化学方法: 清洗剂,碱
2.1 LCD的优点 信息显示技术随着信息社会化的发展显得越来越重要, 液晶显示器与其它显示器相比其有很多优点。 平面型显示、体积小、重量轻、便于携带; 功耗低、驱动电压低; 寿命长,一般在5万小时以上; 不含有害射线,对人体无害; 被动显示,不易被强光冲刷; 易于驱动,可用大规模集成电路直接驱动; 结构简单,没有复杂的机械部分; 造价成本低。
电测
光台检测
再定 向
清洗
打粒(Y 方向)
印油 墨
固化油 墨
贴偏光 片
消泡
外观检 察
入库
包装
FQC/QA
上针脚/ 热压纸
喷码
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4.2 LCD制作工艺流程简介 从LCD工艺流程图可知,LCD全部制作过程大体分为40多 道工序,其中实际TN制程有20多道工序,STN有30多道工序, 有些工序是特殊制程,只当客户有特殊要求才实施.这些工 序又可分为ITO图形蚀刻(图形段)﹑定向排列(PI 及摩擦) ﹑空盒制作﹑切割与灌液晶和成品检测与包装五个阶段
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在ITO玻璃上涂光刻胶
(5) 曝光

LCD制造工艺流程

LCD制造工艺流程

LCD制造工艺流程LCD(Liquid Crystal Display)是液晶显示器的英文缩写,是一种广泛应用于各种电子产品的显示技术。

LCD制造工艺流程可以简单分为六大步骤:基板制备、导电及栅极制备、液晶材料填充、封装、模组制备和组装测试。

一、基板制备1.玻璃基板准备:使用特种玻璃片制作成圆形或矩形的底座。

这些玻璃片将成为液晶分子的基质。

2.清洗:用酸、碱和去离子水等溶液对玻璃基板进行清洗,以去除表面的污垢和杂质。

3.涂覆:将光学薄膜涂覆在玻璃表面,以提高光学透明度和反射率。

二、导电及栅极制备1.导电层制作:在玻璃基板上溅射或喷涂一层透明导电层(通常为氧化铟锡或氧化铟锡锌)。

2.刻蚀:使用光刻技术在导电层上制作触摸和驱动电极。

3.栅极层制作:在玻璃基板上溅射或喷涂一层低温氧化硅(SiOx)或其他绝缘材料,用于隔离栅极和导电层。

4.刻蚀:使用光刻技术在绝缘层上制作栅极电极。

三、液晶材料填充1.在两片玻璃基板上的栅极电极上均匀涂覆一层聚合物,以形成液晶分子定向的基准面。

2.制作液晶间距:使用小玻璃珠或者薄膜作为间距标准,将两片基板固定在一起,形成液晶显示器的夹层结构。

3.注液:通过特殊装置将液晶材料注入夹层结构中,填充液晶间距,然后封口。

四、封装1.导电胶片制作:制备导电胶片,此胶片具有接触电极和连接电源的功能。

2.连接导电胶片:将导电胶片粘贴在液晶显示器的边缘区域上,与栅极电极和驱动电极连接。

3.封装结构制作:使用封装材料将液晶显示器的背光模块、面板和底座固定在一起,并确保显示器的稳定工作。

五、模组制备1.背光模块制作:制作光源模块,常用的包括冷阴影式背光模块和LED背光模块。

2.声音模块制作:如果需要,可以制作声音模块,用于播放声音或发出警报。

3.灰度控制器制作:制作液晶显示器的灰度控制器,用于调节显示屏的亮度和对比度。

六、组装测试1.组件安装:将模组组件安装到设备的框架中。

2.电气连接:将电气连接器连接到液晶显示器的导电胶片和驱动电路上。

LCD制程工艺知识简介

LCD制程工艺知识简介

感光树脂膜针孔、干版针孔、ITO异物
间纸摆放不正、治具气囊异常
研磨布贴附不良、研磨压入量不适
R、G、B膜残缺
金属异物
干版异物
治具压力异常、导通剂搅拌后时间超时
貼偏光片.終檢包裝.入庫
最後將偏光片貼在LCD板 的上下兩面,如此完成了 LCD液晶顯示器的成品。
电学原理进行短路测试,同时得到 激光修复所需要的数据。
2020/8/7
• 激光修复(LASER REPAIR )
工序作用: 对所查找到的短路缺陷进行 修复。
2020/8/7
成盒段主要工序
❖PI、TOP印刷 ❖摩擦 ❖SEAL、TR印刷 ❖喷洒 ❖对盒 ❖热压
2020/8/7
TOP\PI工序的作用
2020/8/7
抽真空 口
N2入口
封口.固化
灌入液晶後在其開口處加上封 口以防止液晶外漏 加圧
上Glass基板
下Glass基板
2020/8/7
封止治具 注射器
清洗.目檢.電測.清洗
LCD封口後在此利用 偏光板目檢LCD板是否 厚薄不均,或是內部液 晶散佈不均,
電檢利用液晶板上
之PIN腳加以導電,觀
• TOP工序:一般的TN 与STN 产品不要求此步骤,TOP 膜的涂布工艺 是在 光刻工艺之后再做一次SiO2 的涂布,以此把刻蚀区与非刻蚀区之间 的沟槽填平并把电极覆盖住,这既可以起到绝缘层的作用,又能有 效地消除非显示状态下的电极底影,还有助于改善视角特性等等, 因此大部分的高档次产品要求有TOP 涂布
)作脱膜液,将玻璃上余下的 光刻胶剥离掉,从而使ITO 玻 璃上形成与光刻掩模版完全一 致的ITO 图形
2020/8/7
Glass基板

LCD基础识知识及 制程简介

LCD基础识知识及 制程简介

BRIGHTNESS
SELECTED WAVEFORM
50% 100%
30% NONSELECTED WAVEFORM
Vth1
Vth2 OPERATING VOLTAGE ( Vop )
Conditions:
Vth1:(1)Temperature:See Individual Specification.
Specification.
2.6.2 響應時間(Response Time:τRISE,τFALL)
NONSELECTED WAVEFORM (10SEC)
Brightness
90% 100%
Tr
SELECTED WAVEFORM ( 10 SEC )
NONSELECTED WAVEFORM (10SEC)
6.2.3 STN LCD(Super Twist Nematic Liquid Crystal Display) 可在高驅動條件如 1/16~1/240 Duty時,仍擁有優秀的光電特性,因此 STN產品適用於點陣圖型顯示的產品,諸如顯示儀錶、電子字典,以及 要求較高特性的通信類產品,例如:行動電話,個人衛星導航系統(GPS) 等,皆為STN產品的使用範疇。
第三代 用於辦公室自動化設備、個人電腦、移動電話etc.
2 液晶顯示器件基本特性
1 低功耗 1 平板結構,體積小 1 被動顯示 1 顯示信息量大 1 顯示彩色化 1 長壽命 1 無輻射,無污染
1. LCD的基本结构 1.1 LCD的基本结构如下:
ITO电极 PI定向层 液晶分子 PI定向层
下玻璃基片
a. A type :
b. B type
1
1
1
1
Vop

(完整版)LCD制作工艺资料

(完整版)LCD制作工艺资料

LCD工艺流程简述一、前段工位:ITO 玻璃的投入(grading)——玻璃清洗与干燥(CLEANING)——涂光刻胶(PR COAT)——前烘烤(PREBREAK)——曝光(DEVELOP)显影(MAIN CURE)——蚀刻(ETCHING)——去膜(STRIP CLEAN)【属于光科技术,详见百度百科】——图检(INSP)——清洗干燥(CLEAN)——TOP 涂布(TOP COAT)——UV 烘烤(UV CURE)——固化(MAIN CURE)——清洗(CLEAN)——涂取向剂(PI PRINT)——固化(MAIN CURE)——清洗(CLEAN)——丝网印刷(SEAL/SHORT PRINTING)——烘烤(CUPING FURNACE)——喷衬垫料(SPACER SPRAY)——对位压合(ASSEMBLY)——固化(SEAL MAIN CURING)讲解:1. ITO 图形的蚀刻:(ITO 玻璃的投入到图检完成)A. ITO 玻璃的投入:根据产品的要求,选择合适的ITO 玻璃装入传递篮具中,要求ITO 玻璃的规格型号符合产品要求,切记ITO 层面一定要向上插入篮具中。

B.玻璃的清洗与干燥:将用清洗剂以及去离子水(DI 水)等洗净ITO 玻璃,并用物理或者化学的方法将ITO 表面的杂质和油污洗净,然后把水除去并干燥,保证下道工艺的加工质量。

光刻技术(1.气相成底模 2.旋转烘胶3.软烘4.对准和曝光5.曝光后烘焙(PEB)6.显影7.坚膜烘焙8.显影检查)C.涂光刻胶:在ITO 玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶,涂过光刻胶的玻璃要在一定的温度下作预处理:D.前烘:在一定的温度下将涂有光刻胶的玻璃烘烤一段时间,以使光刻胶中的溶剂挥发,增加与玻璃表面的粘附性。

E.曝光:用紫外光(UV)通过预先制作好的电极图形掩模版照射光刻胶表面,使被照光刻胶层发生反应,在涂有光刻胶的玻璃上覆盖光刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光:(如图所示)F.显影:用显影液处理玻璃表面,将经过光照分解的光刻胶层除去,保留未曝光部分的光刻胶层,用化学方法使受UV 光照射部分的光刻胶溶于显影液中,显影后的玻璃要经过一定的温度的坚膜处理G.坚膜:将玻璃再经过一次高温处理,使光刻胶更加坚固。

LCD制程简介含ODF-简体

LCD制程简介含ODF-简体
结合新型显示技术,如柔性显示、透明显示等,研究ODF技术在新型LCD产品中的应用,拓展LCD产品 的应用领域和市场空间。
THANKS
感谢观看
04
LCD制程与ODF技术的结合
ODF技术在LCD制程中的应用
液晶显示器的制程中,ODF技术主要用于优化薄膜晶体管(TFT)的制程,以提高 液晶显示器的性能。
ODF技术通过精确控制薄膜晶体管的形状、尺寸和位置,实现了更精细的像素控制, 提高了液晶显示器的分辨率和清晰度。
ODF技术还被用于制造具有更高开关速度和更低功耗的薄膜晶体管,从而提高了液 晶显示器的动态显示性能。
数据更加易于理解和可视化。
ODF技术的应用范围
数据交换
ODF技术可以用于不同系统之间 的数据交换,使得不同系统之间 的数据共享和集成更加方便。
数据可视化
ODF技术可以用于生成高质量的 矢量图形,使得数据更加易于可 视化和展示。
数据处理
ODF技术可以用于处理和分析复 杂的数据结构,使得数据的层次 关系更加清晰,便于理解和使用。
ODF技术的特点
01
可扩展性
ODF技术基于XML和SVG标准,具有良好的可扩展性,可以适应各种
不同类型的数据和业务需求。
02
标准化
ODF技术是一种标准化的技术,遵循国际标准组织(ISO)和开放地理
空间联盟(OGC)的规定,使得不同系统之间的数据交换更加方便。
03
可视化
ODF技术使用SVG标准来表示数据,可以生成高质量的矢量图形,使得
驱动IC
随着技术的不断发展,新型驱动 IC材料和工艺不断涌现,能够提 高LCD的显示效果和稳定性以及 降低生产成本。
04
01
驱动IC是LCD的重要组件之一, 负责控制LCD像素的开关和调节。

lcd基本知识简介和制造流程的介绍

lcd基本知识简介和制造流程的介绍
b. 偏光片使线性偏振光在通过液晶盒时,其偏振方向 沿着液晶分子扭转90˚
c. 当上下两个偏光片的偏光轴互相平行时,光线通过, d. 当上下两个偏光片的偏光轴互相垂直时,光线不能
通过.
24
偏光片基本原理图:
25
偏光片的基本结构
保護膜
一般透过型偏光片
TAC膜 PVA膜 TAC膜 压敏膠 離型膜
26
Krystalle(德语)
3
晶体
向列相液晶
各向同性相
4
1.3 液晶分子的结构
化学家的观点
物理学家的观点
• 形状各向异性, 长度 > 4倍宽度 • 分子长轴有一定刚性 • 分子末端含有极性或可极化的基团
CH3 - (CH2)4
CN
上述分子(5CB) 是 ~2 nm ×0.5 nm
5
1.4液晶的种类 向列液晶:分子沿某一择优方向取向,分子重心无序分布
一般物质
固态
液态
气态
液晶物質
固态
液晶态 液态
氣态
2
1.2 液晶的发现及命名
1888年奥地利植物学家 F.Reinitzer 在加热胆甾醇 苯甲酸酯结晶试验时发现:
结晶 酯
加热 冷却
乳白色 加热 浑浊液体 冷却
透明 液体
德国物理学家 O.Lehmann 将其称为:Fliessende 英文为:Liquid Crystal 中文即:液晶
no : (ordinary refractive index)入射光与晶体光 轴方向垂直时的折射率。 。
9
双折射定义: △n = ne – no
ne > no : positive birefringent (大部份液晶属

lcd基本知识简介及制造流程介绍

lcd基本知识简介及制造流程介绍
tr an s m is si on
100 80 60 40 20 90%
10%
On time (Ton )
Rise time (Tr) Non-selected State
T ( mS )
Fall Time (Tf )
Selected State Off time (Toff) Non-selected State
STN
Twist 180°-270°
Positive :黄绿底黑字(Y-G mode) 灰底蓝紫字(Gray mode) Negative:蓝底白字(Blue mode)
Positive :白底黑字 Negative:黑底白字
18
FSTN Twist 180°-270°
LCD的显示模式
a. 正性显示(Positive)
9
双折射定义:

n = ne – no
ne > no : positive birefringent (大部份液晶属
于这种类型)
ne < no : negative birefringent
10
1.6 介电异向性:
右图中液晶分子主轴与电
场平行及垂直时,产生两 个不等的介电常数:ε⊥与 ε// ,如右图。 定义: △ε ≡ ε// - ε⊥。 △ε >0的液晶当电场加入时, 以右图的B态最稳定。 △ε <0则以A态最稳定。
呈现液晶态,即使在液晶态温度范围之内, 温度的变化也会影响液晶材料的物性参数。 如粘度,介电常数和弹性常数等。从而造 成底色,对比度,响应速度等的变化。
36
Q&A
37
五﹑LCD工艺流程
5.1
前制程

《LCD前制程简介》课件

《LCD前制程简介》课件

去膜过程中需要控制去膜速度、均匀 度等参数,以确保露出干净的玻璃基 板表面,为后续工艺做准备。同时还 需要注意防止对玻璃基板造成损伤或 污染。
03 LCD前制程中的问题与对 策
清洗不净
总结词
清洗不净是LCD前制程中常见的问题之一,会导致后续工艺出现异常。
详细描述
在清洗过程中,如果未能彻底清除玻璃基板上的尘埃、污垢等杂质,将会影响涂布、曝光、显影等后续工艺的正 常进行。这可能导致涂层不均匀、线条模糊等问题,进而影响LCD产品的品质。
节能技术将进一步提高 LCD显示器的能效,减少 能源消耗。
废弃物处理
建立废弃物处理和回收机 制,减少对环境的负面影 响。
市场趋势
市场规模
随着液晶显示市场的不断扩大, LCD前制程市场规模也将随之增
长。
区域发展
新兴市场将为LCD前制程提供更多 的发展机会。
产品应用领域
除了传统的电视、显示器市场外, 还将拓展到新兴领域如车载显示、 虚拟现实等。
随着技术的不断发展,LCD显示 器也在不断升级和改进,如高分
辨率、广色域、低功耗等。
02 LCD前制程
清洗
01
清洗
在LCD制造过程中,清洗步骤是必不可少的,目的是去除玻璃基板上的
尘埃和污垢,确保表面的洁净度。
02 03
清洗方式
根据不同的工艺需求,清洗方式可分为湿式清洗和干式清洗。湿式清洗 主要利用化学试剂和清水来清除污垢,而干式清洗则采用离子束或激光 技术来去除尘埃。
提高制程效率的方法
引入自动化设备
通过引入先进的自动化设备,可以减少人工操作 ,提高生产效率。
优化工艺参数
通过对工艺参数的优化,可以提高产品的良品率 ,降低生产成本。

LCD工艺流程简要介绍

LCD工艺流程简要介绍

LCD工艺流程简要介绍首先,基板制备是LCD工艺流程的第一步,主要包括对玻璃基板的清洗、切割和形状加工等工序。

接着,薄膜沉积是液晶显示屏制作中的一个关键步骤,该过程涉及将不同功能的材料通过物理或化学方法沉积到基板上,并形成各种薄膜结构,如ITO膜、铝膜等。

光刻是一种通过光刻胶模板进行图案转移的工艺,其利用紫外线对光刻胶进行曝光和显影,以形成所需的图案结构。

蒸镀是通过真空蒸镀技术,在基板表面沉积金属或其他材料,以实现导电、反射或光学功能。

涂布是将光刻胶等物质均匀涂布到基板上,以用于后续的图案化处理。

刻蚀是利用化学蚀刻或物理蚀刻技术,去除光刻胶模板外多余的材料,形成所需的图案结构。

最后,装配是将薄膜基板与液晶、偏光片等组件进行组装,形成液晶显示屏的最终产品。

总的来说,LCD工艺流程是一个复杂的过程,涉及多种材料和加工工艺,需要高精度的设备和严格的工艺控制。

LCD(液晶显示器)作为目前最为常见的电子产品显示技术之一,广泛应用于手机、平板电脑、电视等各类电子设备中。

其制造过程复杂,需要依靠一系列先进的工艺流程来完成。

在接下来的内容中,我们将进一步深入探讨LCD工艺流程的各个环节。

针对液晶显示屏的制作,首先要进行基板的制备。

基板的制备是整个工艺流程的起始阶段,其质量直接影响着后续工艺步骤的进行。

基板主要以玻璃材料为主,在制备过程中需要进行清洗、切割和形状加工等步骤。

通过精密的切割和形状加工,可以确保基板的尺寸和平整度达到生产要求,以便后续工艺步骤能够顺利进行。

接下来是薄膜沉积阶段,该阶段是制作液晶显示器中至关重要的一大步。

在这一步骤中,不同功能的材料通过物理或化学方法沉积到基板上,并形成各种薄膜结构。

例如,ITO(氧化铟锡)薄膜用于制作透明导电层,Al(铝)薄膜用于反射层,SiO2(二氧化硅)薄膜用于保护层等。

这些薄膜层的特性和性能直接影响到LCD显示效果的品质和稳定性。

光刻是液晶显示器制作中的又一个关键步骤。

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抽真空 口
N2入口
封口.固化
灌入液晶後在其開口處加上封 口以防止液晶外漏 加圧
上Glass基板
下Glass基板 封止治具
注射器
清洗.目檢.電測.清洗
LCD封口後在此利用 偏光板目檢LCD板是否 厚薄不均,或是內部液 晶散佈不均,
電檢利用液晶板上 之PIN腳加以導電,觀 察LCD之點亮情形,加 以判斷LCD板是否顯示 序号 1 正常 2
3 4 5 6 7 8
不良项目 异物/ 污物 电极断裂 色差 研磨 膜针孔 上下短路 电极短路 导通不良




黑点或白点 缺划或缺行 Cell厚薄不均 研磨方向斜影 线 周围红晕状白点 “十”状黑点 嘀嘀声警报 密集缺划或缺行
层膜中有异物/ 污物、皮肤或纤维 感光树脂膜针孔、干版针孔、ITO异物 间纸摆放不正、治具气囊异常 研磨布贴附不良、研磨压入量不适 R、G、B膜残缺 金属异物 干版异物 治具压力异常、导通剂搅拌后时间超时
Ø ¹ Æ â
Ô Ó Ï °/ ¼ á Ä ¤
Ì Ê ¿ ´
Ñ Ä Í ¤
• 图形检测(PATTERN CHECK)
工序作用: 对玻璃表面形成的ITO图形用 电学原理进行短路测试,同时得到 激光修复所需要的数据。
• 激光修复(LASER REPAIR)
工序作用: 对所查找到的短路缺陷进行 修复。
貼偏光片.終檢包裝.入庫
最後將偏光片貼在LCD板 的上下兩面,如此完成了 LCD液晶顯示器的成品。
贴片、外观检验
将偏光片按照图纸标示的尺寸正确贴在屏表面的过程, 即是贴片。对贴片后的产品进行光台下检查,将各种 不良进行区分的过程即为外观检验。 管控项目:1 偏光片气泡 2 内污 3 贴歪 原因分析:1 粘贴辊压力不足、刮板边缘不齐或用力不均 2 净化度不够,擦拭用料掉毛 3 操作失误
成盒段主要工序
PI、TOP印刷 摩擦 SEAL、TR印刷 喷洒 对盒 热压

TOP\PI工序的作用



TOP工序:一般的TN 与STN 产品不要求此步骤,TOP 膜的涂布工艺 是在 光刻工艺之后再做一次SiO2 的涂布,以此把刻蚀区与非刻蚀区之间 的沟槽填平并把电极覆盖住,这既可以起到绝缘层的作用,又能有 效地消除非显示状态下的电极底影,还有助于改善视角特性等等, 因此大部分的高档次产品要求有TOP 涂布 PI工序:为在蚀刻完成的ITO 玻璃表面涂覆取向层,并用特定的方 法对限向层进行处理,以使液晶分子能够在取向层表面沿特定的方 向取向(排列),此步骤是液晶显示器生产的特有技术 在已洗净的基板上形成一层500Ao~1200Ao(0.05μm~0.12μm) 的均匀PI薄膜。PI液:聚酰亚胺
LCD工艺流程简介
NC -PE CY Tang
• 工艺流程Biblioteka 光刻主要工序–

– –

– –
投入 清洗 涂胶 曝光 显影 刻蚀 脱膜
•玻璃投入
工序作用: 位于整条生产线的前端,负责 整片ITO玻璃基板的投入。 要求ITO玻璃的規格型號符合 產品的要求。 发料是最主要的是要记住ITO 面朝上(通过大切角判断)
結束
The End
• 涂胶
工序作用: 在ITO 玻璃的导电层面上 均匀涂上一层光刻胶,涂 过光刻胶的玻璃要在一定 的温度下将涂有光刻胶的 玻璃烘烤一段时间,以使 光刻胶中的溶剂挥发,增 加与玻璃表面的粘附性
感光树脂膜
ITO
Glass基板
• 曝光
工序作用: 用紫外光(UV)通过预先制 作好的电极图形掩模版照射 光刻胶表面,使被照光刻胶 层发生反应,在涂有光刻胶 的玻璃上覆盖光刻掩模版在 紫外灯下对光刻胶进行选择 性曝光 UV光
Glass基板
• 脱膜
工序作用: 用高浓度的碱液(NaOH 溶液) 作脱膜液,将玻璃上余下的光 刻胶剥离掉,从而使ITO 玻璃 上形成与光刻掩模版完全一致 的ITO 图形
Glass基板
• 形成ITO图案过程
ITOÄ ¤ ¿ ½ Í º â ¿ ¹ Ì ½ º
å Ï Ç ´
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PI、TOP印刷
TOP/PI印刷图:
摩擦工序的作用
用绒布类材料以特定的方向摩擦取向层表面,以 使液晶分子将来能够沿着取向层的摩擦方向排列。如TN 型号摩擦取向:45 度
工序的作用

TOP/PI COATING后 PI TOP ITO GLASS

RUBBING后 PI层被取向
丝印工序的作用
边框作用:提供 CF/TFT基板接着时 所需之封边用框胶。 防止液晶外漏或被 污染。
灌液晶
灌入液晶的製程,液晶片放入一真空 的密封箱中,藉著基座的固定將小切 割後的LCD顯示板固定住,再由下方 的海綿提供液晶,首先會將密封箱抽 成真空,然後藉著彈簧活動機構將海 綿往上頂,如下圖16,然後釋放空氣 進入箱中,此時LCD板藉著毛細現象 將液晶完全吸入LCD板中間,完成灌 液晶的動作。

利用加热和加压的方法固化Seal, 并保持一定的Cell Gap
气嚢 成盒玻璃 热压纸
调机玻璃
热压
后部主要工序
切割
灌液 挤压,封口 清洗 电目测
清洗
贴片,包装
切割
當ITO玻璃貼合後,將對ITO 玻璃上之LCD各個單位作切割, LCD其中顯示板的大小是依其 產品不同而有單位大小不同 之分,故其自動化切割為依 不同之型號做可程式處理
银点作用:上下电极 导通
丝印
方向
刮板 SP接着剤(CP導通材) 印刷模板
Glass基板
SP接着线(CP導通材)
CP印刷後
间隔剂散布工序的作用

支撑上下基板,保持 液晶盒厚均匀
贴盒工序的作用
按对位标记上与下玻璃对位粘合,将对应的两片玻璃面对面 用封接材料粘合起来。

Glass基板
对盒

热压工序的作用
Glass基板
• 显影
工序作用: 用显影液处理玻璃表面,将 经过UV光照分解的光刻胶层 除去,保留未曝光部分的光 刻胶层,用化学方法使受UV 光照射部分的光刻胶溶于显 影液中,显影后的玻璃要经 过一定的温度的坚膜处理使 光刻胶更加坚 現像液
Glass基板
• 刻蚀
工序作用: 用适当的酸刻液将无光刻胶 覆盖的ITO 膜蚀掉,这样就 得到了所需要的ITO 电极图 形 注:ITO 玻璃为氧化铟锡的导 电玻璃,易与酸发生反应, 而用于蚀刻掉多余的ITO, 从而得到相应的拉线电极
ITO(indium tin oxide,氧化铟锡)导电玻璃是一种既透明又导电的玻璃, 它采用磁控溅射沉积成膜技术,以ITO材料作为溅射靶材,在玻璃基板 上生成一层很薄的ITO膜。
• 清洗
工序作用:

玻璃的清洗与干燥:用清洗 剂以及去离子水(DI 水)等 洗净ITO 玻璃,并用物理或 者化学的方法将ITO 表面的 杂质和油污洗净,然后把水 除去并干燥,保证下道工艺 的加工质量。
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