电子材料导论期末复习
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1.简述电子材料与信息技术间的关系?
材料,能源,信息技术是当前攻击工人的新革命的三大支柱。在电子信息产业中,介电,磁电,光电,半导体,敏感等材料是信息技术基础和先导。
2. 简述半导体材料的分类及典型半导体材料的能带特点?
功能分:微电子,光电半导体,热电半导体,微波半导体,敏感半导体等材料。化学分:元素半导体,有机半导体等。结构:晶态和非晶态半导体。能带特点:晶体中电子作共有化运动后,相应的能量也不同于孤立原子中的电子,将发生变化;原来孤立的原子能级都分裂成一组组彼此相距很
近的能级,每组构成一个能带。能带能级对应于晶体中电子作共有化运
动的能量称为允带。允许带间的能量范围对共有化运动状态时禁止的,称为禁带。典型半导体材料的能带结构与绝缘体类似,只有禁带宽度较窄,一般在2eV以下。
3. 硅主要以什么状态存在,为什么它不是一个好的光电子材料?
硅在自然界中主要以二氧化硅或硅
酸盐化合物的形式存在。光电子材料的能带结构最好是直接带隙,而硅是间接带隙,而且对光的反射较强,光射在硅表面,能量损失30%左右,所以它不是一个号的光电子材料。
4. 电子材料可分为几代,每一代的代表材料是什么?
三代:第一代是以Si和Ge为代表的单质半导体材料,第二代以GaAs和InP为代表的化合物半导体材料,第三代是以GaN和金刚石为代表的宽禁带半导体材料。
5. 半导体微结构材料分类方法及主要生长方法?
分为三维材料二维材料一维材料零
维材料,按衬底不同分为GaAs基材料,InP基材料,Si基材料,生长方法:分子束外延MBE;金属有机化合物气相淀积MOCVD。
6.光电子材料可分为几类?典型的
探测器材料是那些?
5类,激光材料,光电探测,光学功能,光纤,光电显示材料。典型的探测器材料有:HgCdTe,PtSi,PbS,InSb 等。
7.激光晶体和激光玻璃的特点是什么?
激光晶体的特点是:荧光线宽,功率大,荧光寿命长,宽吸收带,高泵蒲量子效率。激光玻璃的特点:无荧光或较窄荧光,激光阀值高,储能能量大,热学性能差,膨胀系数大,热导率小,易于获得高光学质量和尺寸材料,各向同性。
8. 非线性光学晶体的性质?
非线性光学系数大;能够实现相应匹配;透光波段宽,透明度高;有高的光转换效率;有较高的抗光损伤阀值;物理、化学性能稳定,硬度大;易于加工,价格低廉。
9. 光纤工作原理及结构特点?
工作原理:全反射;结构特点:光导纤维由芯料外敷以涂层材料而成,大多数呈圆柱状。
10.简要回答主要集成电路衬底材料和互连材料及其发展方向?
衬底材料:Si、SoI、3-5族氮化物半导体材料;发展方向:高热导率,高稳定性,宽带隙,耐高温材料。主要互连材料:金属导电,绝缘介质材料。发展方向:高热到率,低电阻率,抗点迁移率和应力迁移性好的材料发展。
11. 基板材料应该具有哪些特性,什么材料适合作基板?
即高导热率。低介电常数与芯片具有良好的热匹配、低膨胀系数,优良的机械加工性能、化学活性小、低成本、无毒及电极的相容等性能。陶瓷,玻璃,树脂等材料。
12.简要回答半导体IC封装技术的
功能,介绍微电子封装技术发展趋势?
保护、供电、冷却微电子器件、提供器件和外界的电和机械上的联系、保护芯片的导电丝。
发展趋势:多芯片封装,超薄型封装,三维封装乃至光互连。
13. 什么是微机电系统?简述其特点?其工艺与微电子工艺有哪些不同?
是以微传感器,微执行器以及驱动和控制电路为基本元器件组成。特点:体积小、质量轻、功耗低,谐振频率高,响应时间短。微机电系统及器件的制造远非集成电路加工工艺所能及,必须在集成电路工艺基础上扩展一些专用的微机械加工技术,包括体型加工技术,表面加工技术,构件间的相互组装技术键合及封装技术,才能制造出具有一定性能的微器件和
微机电系统。
14.磁性材料按其组成可分为几类,各有何特点?
金属磁性材料和铁氧体磁性材料。金属:磁导率大,磁滞损耗小,稳定性高。铁氧体:导电性属半导体范畴,高介电性。
15.软磁材料和永磁材料的磁滞回线的特点是什么?软磁材料的磁滞回线窄而长,起始磁
导率高,矫顽力小,容易获得磁性也
容易失去磁性。永磁材料的具有高的
剩余磁感应强度和矫顽力,磁能积
高,凸出系数和恢复磁导率趋于1,
稳定性好。
16.铁电材料和铁磁体有何相似的性
质?
铁电材料在某温度范围内,具有自发
极化,且其极化强度可以因外电场而
反向,同铁磁体具有磁滞回线一样,
铁电材料具有电滞回线,铁磁体具有
磁畴,铁电材料也具有铁电畴。铁电
材料还有一个温度临界温度时,晶体
发生结构向转变,自发极化消失,没
有铁电性。
17.简述声光效应和磁光效应?
声光效应:声波对光的“衍射”现象,
声波在透明介质中形成的介质密度
的周期性疏密变化,可视为一条光
栅,光栅条间隔等于声波波长,光通
过声波光栅时产生衍射;当光透过透
明的磁性物质或被磁性物质反射时,
由于存在自发磁化强度M,将产生的
各项异性,故可以观测到各种特殊的
光学现象,这些现象总称为慈光效
应。
18.正温度系数材料和负温度系数材
料的特点?
正温度系数材料的电阻率随着温度
升高二增大,负温度系数材料的电阻
率随着温度升高而减少。
19.典型的气敏材料及敏感机理?
典型的气敏材料有:SnO2气敏材料,
ZnO气敏材料,氧化铁系气敏材料,
钙钛矿型气敏材料。敏感机理:当被
测气体在该物质表面吸附后,引起其
电学特性发生变化。
20.典型的电解电容器材料是什么?
通过什么方法可以制备?
典型的电解电容器材料有:铝和钼,
它们主要都是通过电化学的方法在
金属阳极表面生成氧化膜电解质。
21.介电陶瓷的特点是什么?
介电常数高,变化范围大;串联电感
小;高强度,高可靠性,耐高温;电
阻率高,耐高点强度。
22.简述一种新型薄膜材料特点,制
备方法和应用?
Si基非晶态半导体薄膜:特点长程
有序,短程无序,可以部分实现连续
性的物性控制;制备方法:SiH4气体
的辉光放电分解法,溅射法,光CVD,
提高沉淀速率;应用:半导体集成电
路。
23.为什么说微电子材料是最重要的
信息材料,光电子材料是发展最快的
信息材料,光子材料是最有前途的信
息材料,请予以说明?
微电子材料:芯片材料、基板材料、
封装材料、光刻材料、各种电子化学
材料。光电子材料:应用于光电子材
料的总称,是指具有光子和电子的产
生、转换、传输功能的材料,光电子
材料是光电技术的先导和基础,光电
子材料的研制与发展对光电子技术
起推动促进作用。
24.信息技术的哪几个环节依靠材料
和元器件的发展?
信息技术的获取,传输,存储,显示,
处理环节依靠材料和元器件的发展。
25.晶体有哪些主要特征?
有规则的外形;均匀性;解理性;固
定的熔点;各向异性。
26.简要说明单晶、多晶、非晶体的
主要特点?
单晶体是指在整个晶体中,原子按照
同一种方式排列,整个材料被一个晶
格结构所贯穿,各向异性,有规则的
外形和固定的熔点;多晶体是由若干
个不同取向的小单晶组成,各项同
性,无规则的外形,原子仍对称和周
期性排列,有固定的熔点,非晶体中
原子排列不具有周期性,各项同性,
无规则的外形和固定的熔点。
27.请简要说明三种电子材料微观分
析方法?
(1)原子发射光谱:不同的元素,
其电子结构不同在光谱中波长的组
成和特征谱不同,可从原子受激后发
射的光谱及其强度对元素进行定性
和定量的分析。(2)结构分析方法:
X射线衍射分析法,X射线在晶体中
传播满足一下关系发生反射:n=2d布
喇格反射公式,为X射线波长,d为
晶面间间距,为反射角,通过对衍射
花样的分析,可以获得晶体结构的各
种参数。测量衍射峰的位置,可以得
到晶胞的尺寸,对称性及晶面取向。
(3)显微分析法:光学显微镜
50~1500倍,透射显微镜几十万倍,
扫描显微镜几千~几万倍,可以观察
晶体结构、晶粒的大小和形状,晶粒
分布、晶粒取向、晶体缺陷。
28.简述电子材料发展趋势?
晶体大尺寸化;晶体结构完美化;多
功能化;复合化;低维化;智能化。
29.研究半导体材料的结构主要有那
两个途径?
(1)能带论:从晶体结构长程周期
性研究电子能态结构;(2)化学键理
论:从物质化学组成,短程周期性研
究电子能态结构。
30.简要说明什么是半导体材料掺
杂,主要掺杂方式有哪些?重掺杂和
轻掺杂有什么不同,各用到哪方面?
半导体掺杂就是在纯净的半导体掺
入浅能级杂质,主要的掺杂方式有热
扩散和离子注入,重掺杂与轻掺杂的
区别在于多子的浓度的大小,重掺杂
多子浓度大于轻掺杂浓度多子的浓
度。重掺杂用在做三极管的发射区,
轻掺杂用在做三极管的基区。
31.将简述Ge、Si的主要物理、化学
性质?
都具有灰色金属光泽的固体,硬而
脆;锗的金属性更显著。在空气和常
温下化学性质时稳定的,但升温时,
却容易同氧,氯等多种物质发生化学
反应,锗不溶于盐酸和稀硫酸,但能
溶于弄硫酸,浓硝酸,王水以及
HF-HNO3,混合酸中。硅不溶于
HCL.H2SO4,HNO3,及王水,溶于
HF-HNO3混合酸中,锗与浓碱几乎不
起作用,但很容易溶于H2O2-NaOH混
合液,硅与碱在常温下就能发生反
应.
32.请简述三、五族化合物半导体的
性质、晶体结构、能带特点?
典型材料:GaAs,Inp等.综合强度高,
熔点高,禁带宽度大,载流子迁移率
高,能带结构为直接跃迁型,几乎所
以得三五族化合物都排列成两种形
式的晶体结构,即立方闪锌矿型结构
和六角纤维锌矿型结构.
33.请简述GaN的特性?
GaN是一种坚硬稳定的高熔点材料.
晶体结构主要为闪锌结构,晶格常数
随生长条件,杂质浓度,化学配比的
变化而变化.非掺杂GaN为N型,电子
浓度为10(14~16)|cm3,呈高电导,利
用它的禁带宽度可制成蓝光器件.
34.什么是半导体微结构材料,简述
其分类及生长方法?
具有半导体异质结构,超晶格和具有
量子效应的半导体材料为半导体微
结构材料.按维数分为:三维,两维,
一维,零维材料,按衬底不同可
分:GaAs基材料,InP基材料,Si基材
料.生长方法主要有:分子束外延MBE,
金属有机化合物气相淀积MOCVD.
35.简述激光晶体的发展趋势?
大功率激光,可调谐激光,二极管泵
浦激光,新波长晶体激光,适合光纤
通信新材料激光
36.简述HgCdTe红外探测器的特点?
(1)Hg1-xCdTe材料是HgTe-CdTe赝
二系化合物半导体合金材料,其禁带
Eg是组分x和温度T的函数,对x和
T的调节和选择,使Eg从半金属HgTe
(-0.3ev)至半导体CdTe的Eg
(1.648ev)之间连续变化,适当选
择x和T可以设计所需波长的探测器
材料,探测范围1~25微米;
(2)HgCdTe
是一种本征半导体材料,其光吸收系
数比非本征半导体材料大得多,大约
1微米厚的材料可做到有效的光吸
收,探测器具有很高的量子效率;(3)
HgCdTe材料热激发速率小,可在较高
温度下工作;(4)HgCdTe材料有很小
的电子有效质量,很高的电子迁移
率,低的本征载流子浓度和小的介电
常数,HgCdTe探测器有较高的光电导
增益和响应率,适合研制高频响应,
频带宽的探测器。
37.热释电探测器对材料有什么要
求?
(1),吸热,温度变化而产生的电压
大,(2),热释电系数大,(3),介电系
数小;(4),材料易于加工.
38.目前作为金属互连线是哪种材
料?具有何特点?取代原金属是哪
种材料,有何优势?
目前是作为金属互联线的是AL,它具
有电阻率低,易淀积,易刻蚀,工艺成
熟的特点.取代它的是Cu,其特点是
低电阻率,抗电迁移和应力迁移性能
好,是理想的互连材料.
39.集成电路封装有哪些功能?
保护芯片,以免由环境,传输引起芯
片损失;为芯片的输入,输出提供互
连;给芯片提供物理保障;给芯片散
热.
40.物质按磁性可分为几类?各有何
特点?
软磁材料:磁滞回线窄而长,起始电
导率高,矫顽力小,既容易获得也容
易失去磁性.永磁材料:具有高的剩
余磁感应强度和矫顽力,磁能积液较
高,稳定性较好.压磁材料:形状和尺
寸能发生弹性变化,饱和磁化时磁致
伸缩系数大,能量密度大,应力产生
的推力大,能量转换率高,频带宽,工
作电压低,稳定性和可靠性高.旋磁
材料:高旋磁性,低损耗,高功率负荷,
高稳定性.磁光材料:主要是薄膜形
态的材料,一般具有高的磁光效应.
41.铁氧体的晶体结构有几种类型?
各有何特点?
尖晶石型铁氧体:分子式AB2O4,A-B
间的超交换相互作用最强,主要用作
软磁材料,居里温度较低.磁铅石型
铁氧体:晶体结构分为六角晶系,不
易退磁,主要用作永磁材料,可制成
扁平状,原料丰富,价格低廉.石榴石
型铁氧体:晶体结构属于立方晶系,
主要用作旋磁材料,磁晶各向异性和
磁致伸缩系数均较小.
42.磁存储和磁记录是利用磁性材料
的何来记录和存储信息的?磁存储
和磁记录什么形式?
利用磁性材料的矩形磁滞回线或磁
矩的变化来记录存储信息的.形式:
铁氧体存储器,磁膜存储器,超导存
储器磁光存储器;赐记忆形式:钢丝,
磁带,磁鼓.磁卡磁光盘.
43.请写出三种功能转换材料,各通
过何效应工作?
压电晶体材料,通过压电效应工作,
热释电晶体材料,通过热释电效应工
作;电光晶体材料,通过电光效应工
作.
44.铁电体具有何特性?其居里温度
有何物理意义?
特性:在某温度范围内具有自发极化,
自发极化强度可以因外电场而反向,
具有电电滞回线,存在一个温度临界
特性;及温度高于某一值时,机体结
构发生相变,自发极化消失,没有电
磁性,这个临界值就是居里温度.
45.声光效应将哪两种现象联系到一
起?其中一种现象起什么作用?
衍射和反射,衍射是产生对称分布的
衍射光.
46.热敏电阻材料有什么特性?PTC
和NTC各代表什么材料?BaTiO3属哪
种材料?
热敏电阻材料:电阻率随温度变化而
显著变化,PTC正温度系数热敏材料
NTC负温度系数热敏材料BaTiO3位
PTC材料
47简述氧化锡的气敏特性?
SnO2气敏材料主要检测对象为丙烷
酒精COH2H2S等,加入微量贵重金属
PtPd等作为增感剂可提高灵敏度和
选择性,添加CUNi等也对其工作温度,
灵敏度有一定影响.
48.湿度:大气中水蒸气的含量,可用
绝对湿度与相对温度表示,绝对温度
是指空气中水蒸气的绝对含量,相对
湿度是指某一待测蒸汽压与相同温
度下的饱和蒸汽压的比值百分数
49.主要的湿敏材料和气敏材料有哪
些?
湿敏:电解质系的LiCL+聚乙烯醇膜,
有机物系的纤维素+炭,金属基金属
氧化物系的涂布膜.气敏:SnO2气敏
材料ZnO气敏材料FeO3气敏材料.
请介绍一种新材料:纳米材料,指在
三维空间中至少有一维处于纳米尺
度范围(1-100nm)或由他们作为基本
单元构成的材料,这个约相当于
10-100个原子紧密排列在一起的尺
度.应用研究方面:降解材料领域;制
造结构陶瓷材料;电磁材料方面的应
用纳米颗粒具有独特的电学性能.电
子计算机和电子工业可以从阅读
硬盘上读卡机以及存储容量为目前
芯片上千倍的纳米材料级存储器芯
片都已投入生产。计算机在普遍采用
纳米材料后,可以缩小成为“掌上电
脑”。环境保护环境科学领域将出现
功能独特的纳米膜。这种膜能够探测
到由化学和生物制剂造成的污染,并
能够对这些制剂进行过滤,从而消除
污染。惰性气体下蒸发凝聚法。通常
由具有清洁表面的、粒度为1-100nm
的微粒经高压成形而成,纳米陶瓷还
需要烧结。国外用上述惰性气体蒸发
和真空原位加压方法已研制成功多
种纳米固体材料,包括金属和合金,
陶瓷、离子晶体、非晶态和半导体等
纳米固体材料。我国也成功的利用此
方法制成金属、半导体、陶瓷等纳米
材料。
简述石墨烯的制备方法,特性及应
用.
机械剥离法;氧化石墨;化学气相沉
积法;外延生长法;电化学法;电弧法;
有机合成法..
高比表面积,高导电性,机械强度高,
易于修饰及大规模生产等.应用:可
做成太空电梯缆线,代替硅生产超级
计算机,光子传感器,超高效太阳能
电池.本发明公开了一种石墨烯的制
备方法,属于化学合成技术领域。本
发明方法以金属钠和卤代烃为原料,
通过在惰性环境下在溶剂中进行反
应制备石墨烯。反应温度优选在120
-400℃之间,更优选为160-360℃之
间;金属钠和卤代烃的摩尔比优选在
1∶1-100∶1之间;其中卤代烃可在
反应前加入,也可在随着反应的进行
而加入;卤代烃优选为卤代C1-4脂
肪烃和卤代苯,如四氯乙烯、六氯苯、
三氯乙烯、溴苯、四溴乙烯等;本方
法还优选对制得的石墨烯进行后处
理以提高纯度。本发明方法具有设备
简单,容易操作,成本低廉,产率较
高且产物性能较好的优点,可在石墨
烯及相关产品如锂离子电池等的工
业化生产中发挥重要作用,应用前景
广阔。