半导体物理学复习提纲(重点)

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(完整版)半导体物理知识点及重点习题总结(可编辑修改word版)

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基本概念题:第一章半导体电子状态1.1半导体通常是指导电能力介于导体和绝缘体之间的材料,其导带在绝对零度时全空,价带全满,禁带宽度较绝缘体的小许多。

1.2能带晶体中,电子的能量是不连续的,在某些能量区间能级分布是准连续的,在某些区间没有能及分布。

这些区间在能级图中表现为带状,称之为能带。

1.2能带论是半导体物理的理论基础,试简要说明能带论所采用的理论方法。

答:能带论在以下两个重要近似基础上,给出晶体的势场分布,进而给出电子的薛定鄂方程。

通过该方程和周期性边界条件最终给出 E-k 关系,从而系统地建立起该理论。

单电子近似:将晶体中其它电子对某一电子的库仑作用按几率分布平均地加以考虑,这样就可把求解晶体中电子波函数的复杂的多体问题简化为单体问题。

绝热近似:近似认为晶格系统与电子系统之间没有能量交换,而将实际存在的这种交换当作微扰来处理。

1.2克龙尼克—潘纳模型解释能带现象的理论方法答案:克龙尼克—潘纳模型是为分析晶体中电子运动状态和 E-k 关系而提出的一维晶体的势场分布模型,如下图所示X克龙尼克—潘纳模型的势场分布利用该势场模型就可给出一维晶体中电子所遵守的薛定谔方程的具体表达式,进而确定波函数并给出 E-k 关系。

由此得到的能量分布在 k 空间上是周期函数,而且某些能量区间能级是准连续的(被称为允带),另一些区间没有电子能级(被称为禁带)。

从而利用量子力学的方法解释了能带现象,因此该模型具有重要的物理意义。

1.2导带与价带1.3有效质量有效质量是在描述晶体中载流子运动时引进的物理量。

它概括了周期性势场对载流子运动的影响,从而使外场力与加速度的关系具有牛顿定律的形式。

其大小由晶体自身的 E-k 关B c n 系决定。

1.4 本征半导体既无杂质有无缺陷的理想半导体材料。

1.4 空穴空穴是为处理价带电子导电问题而引进的概念。

设想价带中的每个空电子状态带有一个正的基本电荷,并赋予其与电子符号相反、大小相等的有效质量,这样就引进了一个假想的粒子,称其为空穴。

半导体物理复习提纲

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《半导体物理学》复习提纲第二章平衡状态下半导体体材的特性重点掌握描述每个量子态被电子占据的几率随能量E变化的分布函数;费米能级E F;本征半导体的载流子浓度;掺杂半导体的载流子浓度;第三章非平衡状态下半导体体材的特性重点掌握非平衡状态指的是什么;载流子的漂移输运现象;载流子的扩散输运现象;电导率方程;爱因斯坦关系;布尔兹曼关系;连续性-输运方程第四章平衡和偏置状态下的PN结特性重点掌握PN的能带图;接触势;PN结的偏置;耗尽区厚度与电压的关系;结电容第五章PN结的伏-安特性重点掌握肖克莱定律;正偏条件下的PN 结特性;反偏条件下的PN 结特性;PN 结的瞬态特性第六章半导体表面和MIS 结构重点掌握p 型和n 型半导体积累、耗尽、反型和强反型状态下的表面感生电荷层 表面势;p 型和 n 型半导体在积累、耗尽、反型和强反型状态下的能带结构MIS 结构的 C-V 第七章 金属-半导体接触和异质结重点掌握金属和掺杂半导体形成的接触; 肖特基势垒; 功函数;半导体的亲和能;例题:1,分别计算比E F 高2kT 、3 kT 和低2 kT 、3 kT 能级电子的占有几率(e = 2.7183)。

解:(1) 比E F 高2kT 的能级2FEE kT根据21110.1192117.38911FE E kTf Ee e(2) 比E F 高3kT 的能级3FEE kT根据31110.0474121.08591FE E kTf Eee(3) 比E F 低2kT 的能级2FE EkT根据21110.8807110.13531FE E kTf Eee(4) 比E F 高3kT 的能级3FE EkT根据31110.95251 1.04981FE E kTf Eee比E F 高2kT ,3 kT 和低2 kT ,3 kT 能级电子的占有几率分别是12%、5%、88% 和95%。

2,设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近的能量能量E c (k ) 为222213C k k k E kmm价带极大值附近的能量E v (k ) 为式中m 为电子质量,k 1 = π/a ,a = 3.14Å 试求:(1)该晶体的禁带宽度;(2)导带底电子的有效质量; (3)价带顶电子的有效质量。

(完整word版)半导体物理知识点总结.doc

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一、半导体物理知识大纲核心知识单元 A:半导体电子状态与能级(课程基础——掌握物理概念与物理过程、是后面知识的基础)半导体中的电子状态(第 1 章)半导体中的杂质和缺陷能级(第 2 章)核心知识单元 B:半导体载流子统计分布与输运(课程重点——掌握物理概念、掌握物理过程的分析方法、相关参数的计算方法)半导体中载流子的统计分布(第 3 章)半导体的导电性(第 4 章)非平衡载流子(第 5 章)核心知识单元 C:半导体的基本效应(物理效应与应用——掌握各种半导体物理效应、分析其产生的物理机理、掌握具体的应用)半导体光学性质(第10 章)半导体热电性质(第11 章)半导体磁和压阻效应(第12 章)二、半导体物理知识点和考点总结第一章半导体中的电子状态本章各节内容提要:本章主要讨论半导体中电子的运动状态。

主要介绍了半导体的几种常见晶体结构,半导体中能带的形成,半导体中电子的状态和能带特点,在讲解半导体中电子的运动时,引入了有效质量的概念。

阐述本征半导体的导电机构,引入了空穴散射的概念。

最后,介绍了Si、Ge 和 GaAs 的能带结构。

在 1.1 节,半导体的几种常见晶体结构及结合性质。

(重点掌握)在 1.2 节,为了深入理解能带的形成,介绍了电子的共有化运动。

介绍半导体中电子的状态和能带特点,并对导体、半导体和绝缘体的能带进行比较,在此基础上引入本征激发的概念。

(重点掌握)在 1.3 节,引入有效质量的概念。

讨论半导体中电子的平均速度和加速度。

(重点掌握)在1.4 节,阐述本征半导体的导电机构,由此引入了空穴散射的概念,得到空穴的特点。

(重点掌握)在 1.5 节,介绍回旋共振测试有效质量的原理和方法。

(理解即可)在 1.6 节,介绍 Si 、Ge 的能带结构。

(掌握能带结构特征)在 1.7 节,介绍Ⅲ -Ⅴ族化合物的能带结构,主要了解GaAs 的能带结构。

(掌握能带结构特征)本章重难点:重点:1、半导体硅、锗的晶体结构(金刚石型结构)及其特点;三五族化合物半导体的闪锌矿型结构及其特点。

半导体物理学复习纲要

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练习1
1。写出三种立方单胞的名称,并分别计算 单胞中所含的原子数。 (简立方,体心立方,面心立方,1,2,4)
2. 计算金刚石型单胞中的原子数。
(8)
练习2
1、简化能带图,指出各符号意义。
2、什么是载流子?金属和半导体中载流子分别是 什么? 材料中荷载电流的粒子,金属中为电子,半导体 中为电子和空穴
第四章
第四节 电阻率及其与杂质浓度和温度的关系 • 电阻率和杂质浓度的关系 • 电阻率随温度的变化 第六节 强电场下的效应、热载流子 • 欧姆定律的偏移 • 平均漂移速度与电场强度的关系 第七节 多能谷散射 耿氏散射 • 多能谷散射、 体内负微分电导 • 高场畴区及耿氏振荡
练习6
• 图中C是空穴电流方向,问A、B、D中哪个 是电子漂移方向?哪个是电子电流方向? 哪个是空穴漂移方向?
第1章 半导体中的电子状态
要求1-7节
1.1 半导体的晶格结构和结合性质 1.2 半导体中的电子状态和能带 1.3 半导体中电子的运动 有效质量 1.4 本征半导体的导电机构 空穴 1.5 回旋共振 1.6 硅和锗的能带结构 1.7 Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体的能带结构 1.8 Ⅱ-Ⅵ族公合物半导体的能带结构 1.9 SI1-xGex合金的能带 1.10 宽禁带半导体材料
1、T>0K时,电子占据费米能级的概率是( 1/2 )。
Chap4 载流子的输运现象
(5-6不要求)
§4.1 §4.2 §4.3 §4.4 §4.5 §4.6 §4.7
载流子的漂移运动,迁移率 载流子的散射 迁移率与杂质浓度和温度的关系 电阻率及其与杂质浓度和温度的关系 玻尔兹曼方程 电导率的统计理论 强电场效应 热载流子 耿氏效应 多能谷散射
第五章 非平衡载流子(要求1-7)

半导体器件物理复习纲要word精品文档5页

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第一章 半导体物理基础能带:1-1什么叫本征激发?温度越高,本征激发的载流子越多,为什么?1-2试定性说明Ge 、Si 的禁带宽度具有负温度系数的原因。

1-3、试指出空穴的主要特征及引入空穴的意义。

1-4、设晶格常数为a 的一维晶格,导带极小值附近能量E c (k)和价带极大值附近能量E v (k)分别为:2222100()()3C k k k E k m m -=+和22221003()6v k k E k m m =-;m 0为电子惯性质量,1k a π=;a =0.314nm ,341.05410J s -=⨯⋅,3109.110m Kg -=⨯,191.610q C -=⨯。

试求:①禁带宽度;②导带底电子有效质量;③价带顶电子有效质量。

题解:1-1、 解:在一定温度下,价带电子获得足够的能量(≥E g )被激发到导带成为导电电子的过程就是本征激发。

其结果是在半导体中出现成对的电子-空穴对。

如果温度升高,则禁带宽度变窄,跃迁所需的能量变小,将会有更多的电子被激发到导带中。

1-2、 解:电子的共有化运动导致孤立原子的能级形成能带,即允带和禁带。

温度升高,则电子的共有化运动加剧,导致允带进一步分裂、变宽;允带变宽,则导致允带与允带之间的禁带相对变窄。

反之,温度降低,将导致禁带变宽。

因此,Ge 、Si 的禁带宽度具有负温度系数。

1-3、准粒子、荷正电:+q ; 、空穴浓度表示为p (电子浓度表示为n ); 、E P =-E n (能量方向相反)、m P *=-m n *。

空穴的意义:引入空穴后,可以把价带中大量电子对电流的贡献用少量空穴来描述,使问题简化。

1-4、①禁带宽度Eg 根据dk k dEc )(=2023k m +2102()k k m -=0;可求出对应导带能量极小值E min 的k 值: k min =143k , 由题中E C 式可得:E min =E C (K)|k=k min =2104k m ;由题中E V 式可看出,对应价带能量极大值Emax 的k 值为:k max =0;并且E min =E V (k)|k=k max =22106k m ;∴Eg =E min -E max =221012k m =222012m a π =23423110219(1.05410)129.110(3.1410) 1.610π----⨯⨯⨯⨯⨯⨯⨯=0.64eV②导带底电子有效质量m n2222200022833C d E dk m m m =+=;∴ 22023/8C n d E m m dk == ③价带顶电子有效质量m ’ 22206V d E dk m =-,∴2'2021/6V n d E m m dk ==- 掺杂:2-1、什么叫浅能级杂质?它们电离后有何特点?2-2、什么叫施主?什么叫施主电离?2-3、什么叫受主?什么叫受主电离?2-4、何谓杂质补偿?杂质补偿的意义何在?题解:2-1、解:浅能级杂质是指其杂质电离能远小于本征半导体的禁带宽度的杂质。

半导体物理复习提纲

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基础知识1.导体,绝缘体和半导体的能带结构有什么不同?并以此说明半导体的导电机理(两种载流子参与导电)与金属有何不同?导体能带中一定有不满带;绝缘体能带中只有满带和空带,禁带宽度较宽一般大于2eV;半导体T=0 K时,能带中只有满带和空带,T>0 K时,能带中有不满带,禁带宽度较小,一般小于2eV。

(能带状况会发生变化)半导体的导带没有电子,但其价带中电子吸收能量,会跃迁至导带,价带中也会剩余空穴。

在外电场的情况下,跃迁到导带中的电子和价带中的空穴都会参与导电。

而金属中价带电子是非满带,在外场的作用下直接产生电流。

2.什么是空穴?它有哪些基本特征?以硅为例,对照能带结构和价键结构图理解空穴概念。

当满带附近有空状态k’时,整个能带中的电流,以及电流在外场作用下的变化,完全如同存在一个带正电荷e和具有正有效质量|m n* | 、速度为v(k’)的粒子的情况一样,这样假想的粒子称为空穴。

3.半导体材料的一般特性。

(1)电阻率介于导体与绝缘体之间(2)对温度、光照、电场、磁场、湿度等敏感(3)性质与掺杂密切相关4.费米统计分布与玻耳兹曼统计分布的主要差别是什么?什么情况下费米分布函数可以转化为玻耳兹曼函数?为什么通常情况下,半导体中载流子分布都可以用玻耳兹曼分布来描述?麦克斯韦-玻尔兹曼统计的粒子是可分辨的;费米-狄拉克统计的粒子不可分辨,而且每个状态只可能占据一个粒子。

低掺杂半导体中载流子遵循玻尔兹曼分布,称为非简并性系统;高掺杂半导体中载流子遵循费米分布,称为简并性系统。

费米分布:玻尔兹曼分布:空穴分布函数:(能态E不被电子占据的几率)当-≫ 时有≫,所以,则费米分布函数转化为,即玻尔兹曼分布。

半导体中常见费米能级位于禁带中,满足-≫ 的条件,因此导带和价带中的所有量子态来说,电子和空穴都可以用玻尔兹曼分布描述。

5.由电子能带图中费米能级的位置和形态(如,水平、倾斜、分裂),分析半导体材料特性。

半导体物理学复习提纲(重点)教学提纲

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第一章 半导体中的电子状态§1.1 锗和硅的晶体结构特征 金刚石结构的基本特征§1.2 半导体中的电子状态和能带 电子共有化运动概念绝缘体、半导体和导体的能带特征。

几种常用半导体的禁带宽度; 本征激发的概念§1.3 半导体中电子的运动 有效质量导带底和价带顶附近的E(k)~k 关系()()2*2nk E k E m 2h -0=; 半导体中电子的平均速度dEv hdk=; 有效质量的公式:222*11dk Ed h m n =。

§1.4本征半导体的导电机构 空穴空穴的特征:带正电;p n m m **=-;n p E E =-;p n k k =-§1.5 回旋共振§1.6 硅和锗的能带结构 导带底的位置、个数; 重空穴带、轻空穴第二章 半导体中杂质和缺陷能级§2.1 硅、锗晶体中的杂质能级基本概念:施主杂质,受主杂质,杂质的电离能,杂质的补偿作用。

§2.2 Ⅲ—Ⅴ族化合物中的杂质能级 杂质的双性行为第三章 半导体中载流子的统计分布热平衡载流子概念§3.1状态密度定义式:()/g E dz dE =;导带底附近的状态密度:()()3/2*1/232()4ncc m g E VE E h π=-;价带顶附近的状态密度:()()3/2*1/232()4p v Vm g E V E E hπ=-§3.2 费米能级和载流子的浓度统计分布 Fermi 分布函数:()01()1exp /F f E E E k T =+-⎡⎤⎣⎦;Fermi 能级的意义:它和温度、半导体材料的导电类型、杂质的含量以及能量零点的选取有关。

1)将半导体中大量的电子看成一个热力学系统,费米能级F E 是系统的化学势;2)F E 可看成量子态是否被电子占据的一个界限。

3)F E 的位置比较直观地标志了电子占据量子态的情况,通常就说费米能级标志了电子填充能级的水平。

半导体物理复习资料全

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第一章 半导体中的电子状态1. 如何表示晶胞中的几何元素?规定以阵胞的基矢群为坐标轴,即以阵胞的三个棱为坐标轴,并且以各自的棱长为单位,也称晶轴。

2. 什么是倒易点阵(倒格矢)?为什么要引入倒易点阵的概念?它有哪些基本性质? 倒格子: 2311232()a a b a a a π⨯=⋅⨯3122312()a a b a a a π⨯=⋅⨯1233122()a a b a a a π⨯=⋅⨯倒格子空间实际上是波矢空间,用它可很方便地将周期性函数展开为傅里叶级数,而傅里叶级数是研究周期性函数的基本数学工具。

3. 波尔的氢原子理论基本假设是什么?(1)原子只能处在一系列不连续的稳定状态。

处在这些稳定状态的原子不辐射。

(2)原子吸收或发射光子的频率必须满足。

(3)电子与核之间的相互作用力主要是库仑力,万有引力相对很小,可忽略不计。

(4)电子轨道角动量满足:h m vr nn π== 1,2,3,24. 波尔氢原子理论基本结论是什么? (1) 电子轨道方程:0224πεe r mv = (2) 电子第n 个无辐射轨道半径为:2022meh n r n πε= (3) 电子在第n 个无辐射轨道大巷的能量为:222042821hn me mv E n n ε== 5. 晶体中的电子状态与孤立原子中的电子状态有哪些不同?(1)与孤立原子不同,由于电子壳层的交迭,晶体中的电子不再属于某个原子,使得电子在整个晶体中运动,这样的运动称为电子共有化运动,这种运动只能在相似壳间进行,也只有在最外层的电子共有化运动才最为显著。

(2)孤立原子钟的电子运动状态由四个量子数决定,用非连续的能级描述电子的能量状态,在晶体中由于电子共有化运动使能级分裂为而成能带,用准连续的能带来描述电子的运动状态。

6. 硅、锗原子的电子结构特点是什么?硅电子排布:2262233221p s p s s锗电子排布:22106262244333221p s d p s p s s价电子有四个:2个s 电子,2个p 电子。

半导体物理学复习提纲(重点)

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第一章 半导体中的电子状态§1.1 锗和硅的晶体结构特征 金刚石结构的基本特征§1.2 半导体中的电子状态和能带 电子共有化运动概念绝缘体、半导体和导体的能带特征。

几种常用半导体的禁带宽度; 本征激发的概念§1。

3 半导体中电子的运动 有效质量导带底和价带顶附近的E(k )~k 关系()()2*2nk E k E m 2h -0=; 半导体中电子的平均速度dEv hdk=; 有效质量的公式:222*11dk Ed h m n =。

§1。

4本征半导体的导电机构 空穴空穴的特征:带正电;p n m m **=-;n p E E =-;p n k k =-§1。

5 回旋共振§1.6 硅和锗的能带结构 导带底的位置、个数; 重空穴带、轻空穴第二章 半导体中杂质和缺陷能级§2。

1 硅、锗晶体中的杂质能级基本概念:施主杂质,受主杂质,杂质的电离能,杂质的补偿作用。

§2。

2 Ⅲ—Ⅴ族化合物中的杂质能级 杂质的双性行为第三章 半导体中载流子的统计分布热平衡载流子概念§3。

1状态密度定义式:()/g E dz dE =;导带底附近的状态密度:()()3/2*1/232()4ncc m g E VE E h π=-;价带顶附近的状态密度:()()3/2*1/232()4p v Vm g E V E E hπ=-§3.2 费米能级和载流子的浓度统计分布 Fermi 分布函数:()01()1exp /F f E E E k T =+-⎡⎤⎣⎦;Fermi 能级的意义:它和温度、半导体材料的导电类型、杂质的含量以及能量零点的选取有关.1)将半导体中大量的电子看成一个热力学系统,费米能级F E 是系统的化学势;2)F E 可看成量子态是否被电子占据的一个界限。

3)F E 的位置比较直观地标志了电子占据量子态的情况,通常就说费米能级标志了电子填充能级的水平。

半导体器件物理复习重点

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半导体器件物理_复习重点第一章PN结1.1 PN结是怎么形成的?1.2 PN结的能带图(平衡和偏压)1.3 内建电势差计算1.4 空间电荷区的宽度计算Naxp?Ndxn1.5 PN结电容的计算第二章PN结二极管2.1理想PN结电流模型是什么?2.2 少数载流子分布(边界条件和近似分布)2.3 理想PN结电流??eVa??J?Js?exp???1? ??kT??Js?eDppn0Lp?eDnnp0Ln?1D1n??en??Na?n0Nd?2iDp?? ?p0??2.4 PN结二极管的等效电路(扩散电阻和扩散电容的概念)?2.5 产生-复合电流的计算2.6 PN结的两种击穿机制有什么不同?第三章双极晶体管3.1 双极晶体管的工作原理是什么?3.2 双极晶体管有几种工作模式,哪种是放大模式?3.3 双极晶体管的少子分布(图示)3.4 双极晶体管的电流成分(图示),它们是怎样形成的?3.5 低频共基极电流增益的公式总结(分析如何提高晶体管的增益系数)??1?pE0DELBtanh(xB/LB)NB1?1??NEnB0DBLEtanh(xE/LE)1DBxB??DExE 11?T??cosh(xB/LB)1?(x/L)2BB2??1?1Jr0?eV? exp??BE?Js0?2kT?????T????1??3.6 等效电路模型(Ebers-Moll模型和Hybrid-Pi模型)(画图和简述)3.7 双极晶体管的截止频率受哪些因素影响?3.8 双极晶体管的击穿有哪两种机制?第四章MOS场效应晶体管基础4.1 MOS结构怎么使半导体产生从堆积、耗尽到反型的变化?(加负压时,半导体产生堆积型,因为负电荷出现在金属板上,如果电场穿入半导体,作为多子的空穴将会被推向氧化物—半导体表面,形成堆积;加一个小的正压时,正电荷堆积在金属板上,如果电荷穿过电场时,作为多子的空穴被推离氧化物—半导体表面,形成一个负的空间电荷区;加一个更大的正压时,MOS电容中负电荷的增多表示更大的空间电荷区以及能带弯曲程度更大,半导体表面从P型转化为N型。

半导体复习提纲

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第一章半导体中的电子(diànzǐ)状态1半导体的三种(sān zhǒnɡ)结构:金刚石型(硅和锗)闪锌矿型(Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料(cáiliào)以及部分Ⅱ-Ⅵ族化合物如GaAs, InP, AlAs ,纤矿型(Ⅱ-Ⅵ族二元化合物半导体ZnS、ZnSe、CdS、CdSe).结晶学原胞是立方(lìfāng)对称的晶胞。

2电子(diànzǐ)共有化运动:当原子相互接近形成晶体时,不同原子的内外各电子壳层出现交叠,电子可由一个原子转移到相邻的原子,因此,电子可以在整个晶体中运动,称为电子的共有化运动。

由于内外壳层交叠程度很不相同,所以,只有最外层电子的共有化运动才显著。

3有效质量:将晶体中电子的加速度与外加的作用力联系起来,并且包含了晶体中的内力作用效果。

有效质量的物理意义:把晶体周期性势场的作用概括到电子的有效质量中去,使得在引入有效质量之后,就可把运动复杂的晶体电子看作为简单的自由电子。

有效质量的正负与位置有关。

大小由共有化运动的强弱有关。

引入有效质量的用处:使讨论晶体电子运动时,问题变得很简单,否则几乎不可能。

4回旋共振就是当半导体中的载流子在一定的恒定磁场和高频电场同时作用下会发生抗磁共振的现象。

该方法可直接测量出半导体中载流子的有效质量,并从而可求得能带极值附近的能带结构。

(母的)要样品纯度更高,在低温。

5直接带隙半导体材料:导带最小值(导带底)和满带最大值相应于相同的波矢k0间接带隙半导体材料:导带最小值(导带底)和满带最大值在k空间中不同位置 . 硅、锗与砷化镓的区别:硅锗为间接带隙半导体;砷化镓是直接带隙半导体。

砷化镓的禁带宽度大,E。

-1.43eV,宽于硅,更宽于锗,因此砷化镓半导体器件能在远高于硅半导体器件工作温度、更高于锗半导体器件工作温度的450℃下正常工作;其pn结的反向电压高,反向饱和电流低,适用于制作大功率半导体器件;能够引入深能级的杂质,制成体电阻率比锗和硅高出三个数量级以上的集成电路衬底。

半导体物理知识点及重点习题总结

半导体物理知识点及重点习题总结

半导体物理知识点及重点习题总结半导体物理是现代电子学中的重要领域,涉及到半导体材料的电学、热学和光学等性质,以及半导体器件的工作原理和应用。

本文将对半导体物理的一些重要知识点进行总结,并附带相应的重点习题,以帮助读者更好地理解和掌握相关知识。

一、半导体材料的基本性质1. 半导体材料的能带结构半导体材料的能带结构决定了其电学性质。

一般而言,半导体材料具有禁带宽度,可以分为导带(能量较高)和价带(能量较低)。

能量在禁带内的电子处于被限制的状态,称为束缚态,能量在导带中的电子可以自由移动,称为自由态。

2. 掺杂和杂质掺杂是将少量的杂质原子引入纯净的半导体材料中,以改变其导电性质。

掺入价带原子的称为施主杂质,掺入导带原子的称为受主杂质。

施主杂质会增加导电子数,受主杂质会增加载流子数。

3. P型和N型半导体掺入施主杂质的半导体为P型半导体,施主杂质的电子可轻易地跳出束缚态进入导带,形成载流子。

掺入受主杂质的半导体为N型半导体,受主杂质的空穴可轻易地跳出束缚态进入价带,形成载流子。

二、PN结和二极管1. PN结的形成和特性PN结是P型和N型半导体的结合部分,形成的原因是P型半导体中的空穴与N型半导体中的电子发生复合。

PN结具有整流作用,使得电流在正向偏置时能够通过,而在反向偏置时被阻止。

2. 二极管的工作原理二极管是基于PN结的器件,正向偏置时,在PN结处形成正电压,使得电子流能够通过。

反向偏置时,PN结处形成反电压,使得电流无法通过。

3. 二极管的应用二极管广泛用于整流电路、电压稳压器、振荡器和开关等领域。

三、晶体管和放大器1. 晶体管的结构和工作原理晶体管是一种三端器件,由三个掺杂不同的半导体构成。

其中,NPN型晶体管由N型掺杂的基区夹在两个P型掺杂的发射极和集电极之间构成。

PNP型晶体管的结构与之类似。

晶体管的工作原理基于控制发射极和集电极之间电流的能力。

2. 放大器和放大倍数晶体管可以作为放大器来放大电信号。

半导体物理学知识重点总结

半导体物理学知识重点总结
* 32 n

(4 分)
2m 3.1 已知半导体导带底的状态密度函数的表达式为 g ( E ) 4V
c
h
3
E Ec 1 2

(3 分)
试证明非简并半导体导带中电子浓度为 n0 证明:对于非简并半导导,由于
2m 2
n
k0T h3
*

32
Ec EF exp k T 0
当晶体受到电磁波辐射时, 在频率为 c 时便观测到共振吸收现象。 1.6 直接带隙材料 如果晶体材料的导带底和价带顶在 k 空间处于相同的位置,则本征跃迁属直接跃迁,这样的材料即是所谓的直 接带隙材料。 1.6 间接带隙材料 如果半导体的导带底与价带顶在 k 空间中处于不同位置,则价带顶的电子吸收能量刚好达到导带底时准动量还 需要相应的变化 第二章 半导体杂质和缺陷能级 2.1 施主杂质受主杂质 某种杂质取代半导体晶格原子后,在和周围原子形成饱和键结构时,若尚有一多余价电子,且该电子受杂质束
5
半導體物理知識點總結附重要名詞解釋
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半導體物理知識點要點
第一章 半导体电子状态 1.1 半导体 通常是指导电能力介于导体和绝缘体之间的材料,其导带在绝对零度时全空,价带全满,禁带宽度较绝缘体 的小许多。 1.2 能带 晶体中,电子的能量是不连续的,在某些能量区间能级分布是准连续的,在某些区间没有能及分布。这些 区间在能级图中表现为带状,称之为能带。 1.2 能带论是半导体物理的理论基础,试简要说明能带论所采用的理论方法。 答:能带论在以下两个重要近似基础上,给出晶体的势场分布,进而给出电子的薛定鄂方程。通过该方程和周期性 边界条件最终给出 E-k 关系,从而系统地建立起该理论。 单电子近似: 将晶体中其它电子对某一电子的库仑作用按几率分布平均地加以考虑,这样就可把求解晶体中电子波函数的复杂的 多体问题简化为单体问题。 绝热近似:近似认为晶格系统与电子系统之间没有能量交换,而将实际存在的这种交换当作微扰来处理。 1.金刚石 1) 结构特点: a. 由同类原子组成的复式晶格。其复式晶格是由两个面心立方的子晶格彼此沿其空间对角线位移 1/4 的长度形成 b. 属面心晶系,具立方对称性,共价键结合四面体。 c. 配位数为 4,较低,较稳定。(配位数:最近邻原子数) d. 一个晶体学晶胞内有 4+8*1/8+6*1/2=8 个原子。 2) 代表性半导体:IV 族的 C,Si,Ge 等元素半导体大多属于这种结构。 2.闪锌矿 1) 结构特点: a. 共价性占优势,立方对称性; b. 晶胞结构类似于金刚石结构,但为双原子复式晶格; c. 属共价键晶体,但有不同的离子性。 2) 代表性半导体:GaAs 等三五族元素化合物均属于此种结构。 3.电子共有化运动: 原子结合为晶体时,轨道交叠。外层轨道交叠程度较大,电子可从一个原子运动到另一原子中,因而电子可在 整个晶体中运动,称为电子的共有化运动。 k ( x) uk ( x)ei 2kx 4.布洛赫波: 晶体中电子运动的基本方程为: ,K 为波矢,uk(x)为一个与晶格同周期的周期性 uk ( x) uk ( x na) 函数, 5.布里渊区: 禁带出现在 k=n/2a 处,即在布里渊区边界上; 允带出现在以下几个区: 第一布里渊区:-1/2a<k<1/2a (简约布里渊区) 第二布里渊区:-1/a<k<-1/2a,1/2a<k<1/a E(k)也是 k 的周期函数,周期为 1/a,即 E(k)=E(k+n/a),能带愈宽,共有化运动就更强烈。 1.2 导带与价带 1.3 有效质量 有效质量是在描述晶体中载流子运动时引进的物理量。它概括了周期性势场对载流子运动的影响,从而使外场 力与加速度的关系具有牛顿定律的形式。其大小由晶体自身的 E-k 关系决定。

半导体物理知识点总结

半导体物理知识点总结

一、半导体物理知识大纲核心知识单元A:半导体电子状态与能级(课程基础——掌握物理概念与物理过程、是后面知识的基础)→半导体中的电子状态(第1章)→半导体中的杂质和缺陷能级(第2章)核心知识单元B:半导体载流子统计分布与输运(课程重点——掌握物理概念、掌握物理过程的分析方法、相关参数的计算方法)→半导体中载流子的统计分布(第3章)→半导体的导电性(第4章)→非平衡载流子(第5章)核心知识单元C:半导体的基本效应(物理效应与应用——掌握各种半导体物理效应、分析其产生的物理机理、掌握具体的应用)→半导体光学性质(第10章)→半导体热电性质(第11章)→半导体磁和压阻效应(第12章)二、半导体物理知识点和考点总结第一章半导体中的电子状态本章各节内容提要:本章主要讨论半导体中电子的运动状态。

主要介绍了半导体的几种常见晶体结构,半导体中能带的形成,半导体中电子的状态和能带特点,在讲解半导体中电子的运动时,引入了有效质量的概念。

阐述本征半导体的导电机构,引入了空穴散射的概念。

最后,介绍了Si、Ge和GaAs的能带结构。

在1.1节,半导体的几种常见晶体结构及结合性质。

(重点掌握)在1.2节,为了深入理解能带的形成,介绍了电子的共有化运动。

介绍半导体中电子的状态和能带特点,并对导体、半导体和绝缘体的能带进行比较,在此基础上引入本征激发的概念。

(重点掌握)在1.3节,引入有效质量的概念。

讨论半导体中电子的平均速度和加速度。

(重点掌握)在1.4节,阐述本征半导体的导电机构,由此引入了空穴散射的概念,得到空穴的特点。

(重点掌握)在1.5节,介绍回旋共振测试有效质量的原理和方法。

(理解即可)在1.6节,介绍Si、Ge的能带结构。

(掌握能带结构特征)在1.7节,介绍Ⅲ-Ⅴ族化合物的能带结构,主要了解GaAs的能带结构。

(掌握能带结构特征)本章重难点:重点:1、半导体硅、锗的晶体结构(金刚石型结构)及其特点;三五族化合物半导体的闪锌矿型结构及其特点。

半导体物理复习提纲

半导体物理复习提纲

电离杂质散:
,温度升高散射减少。温度越高载流子热运动的平均速度越大,
于是可以很快掠过杂质中心,偏转小,受到电离杂质的影响小。 对于杂质半导体,温度低时,电离杂质散射起主要作用;温度高时,晶格振动散射起主要 作用
6. 何谓漂移运动 半导体中的载流子在外场的作用下,作定向运动。 7. 迁移率的定义、量纲。影响迁移率的因素。 漂移速度 :因电场加速而获得的平均速度。 迁移率:单位电场下,载流子的平均漂移速度(cm2/V·s)
费米分布:
玻尔兹曼分布:
空穴分布函数:

时有
,所以
,即玻尔兹曼分布。
(能态 E 不被电子占据的几率) ,则费米分布函数转化为
半导体中常见费米能级 位于禁带中,满足
的条件,因此导带和价带中的所有
量子态来说,电子和空穴都可以用玻尔兹曼分布描述。
5.由电子能带图中费米能级的位置和形态(如,水平、倾斜、分裂),分析半导体材料特性。
基础知识
1.导体,绝缘体和半导体的能带结构有什么不同并以此说明半导体的导电机理(两种载流子 参与导电)与金属有何不同
导体能带中一定有不满带;绝缘体能带中只有满带和空带,禁带宽度较宽一般大于 2eV; 半导体 T=0 K 时,能带中只有满带和空带,T>0 K 时,能带中有不满带,禁带宽度较小,一 般小于 2eV。(能带状况会发生变化)
10.什么是本征半导体和本征激发 本征半导体:没有杂质和缺陷的纯净半导体。 本征激发:T>0K 时,电子通过热运动从价带激发到导带,同时价带中产生空穴。
11.何谓施主杂质和受主杂质浅能级杂质与深能级杂质各自的作用。
施主杂质:电离时能够释放电子而产生导电电子,并形成正电中心的杂质。 受主杂质:电离时能够获取电子而产生导电空穴,并形成负电中心的杂质。 浅能级杂质:电离能小的杂质称为浅能级杂质。所谓浅能级,是指施主能级靠近导带底,受 主能级靠近价带顶。可以通过控制掺杂杂质数量控制载流子数量,并可以通过补偿掺杂进行 追加式的浓度控制。 深能级杂质:非 III、V 族元素在硅、锗的禁带中产生的施主能级距离导带底较远和受主能级 距离价带顶较远,形成深能级,称为深能级杂质。深能级能起到减少非平衡载流子寿命的作 用。 12.何谓杂质补偿举例说明有何实际应用。 半导体中同时存在施主杂质和受主杂质时,施主和受主之间有相互抵消的作用。利用杂质的 补偿作用,根据扩散或离子注入的方法来改变半导体某一区域的导电类型,制成各种器件。 在一块 n 型半导体基片的一侧掺入较高浓度的受主杂质,由于杂质的补偿作用,该区就成为 p型半导体。 13.金原子的带电状态与浅能级杂质的关系 不容易电离,对载流子浓度影响不大。 深能级杂质能够产生多次电离,每次电离均对应一个能级,甚至既产生施主能级也产生受主 能级。 深能级杂质的复合作用比浅能级杂质强,可作为复合中心。 14.画出(a)本征半导体、(b)n 型半导体、(c)p 型半导体的能带图,标出费米能级、导 带底、价带顶、施主能级和受主能级的位置

半导体物理 复习要点

半导体物理 复习要点

一、填充题1. 两种不同半导体接触后, 费米能级较高的半导体界面一侧带正电达到热平衡后两者的费米能级相等。

2. 半导体硅的价带极大值位于k空间第一布里渊区的中央,其导带极小值位于【100】方向上距布里渊区边界约0.85倍处,因此属于N型半导体。

3. 晶体中缺陷一般可分为三类:点缺陷,如空位,间隙原子;线缺陷,如位错;面缺陷,如层错和晶粒间界。

4. 间隙原子和空位成对出现的点缺陷称为弗仓克耳缺陷;形成原子空位而无间隙原子的点缺陷称为肖特基缺陷。

5.体位式杂质可显著改变载流子浓度;深能级杂质可显著改变非平衡载流子的寿命,是有效的复合中心。

6. 硅在砷化镓中既能取代镓而表现为施主杂质,又能取代砷而表现为受主杂质,这种性质称为杂质的双性行为。

7.对于ZnO半导体,在真空中进行脱氧处理,可产生氧空位,从而可获得 N型 ZnO半导体材料。

8.在一定温度下,与费米能级持平的量子态上的电子占据概率为50% ,高于费米能级2kT能级处的占据概率为0.7% 。

9.本征半导体的电阻率随温度增加而单调的下降,杂质半导体的电阻率随温度增加,先下降然后增大,再单调下降。

10.n型半导体的费米能级在极低温(0K)时位于导带底和施主能级之间中线处,随温度升高,费米能级先上升至一极值,然后下降至(Ec+Ed)/2 。

11. 硅的导带极小值位于k空间布里渊区的【100】方向。

12. 受主杂质的能级一般位于离价带顶较近的禁带中。

13. 有效质量的意义在于它概括了半导体内部势场的作用。

14. 间隙原子和空位成对出现的点缺陷称为弗仓克耳缺陷。

15. 除了掺杂,引入局部能级也可改变半导体的导电类型。

16. 回旋共振实验是测量半导体内载流子有效质量的重要技术手段。

17. PN结电容可分为势垒电容和扩散电容两种。

18. PN结击穿的主要机制有雪崩击穿、隧道击穿和热击穿。

19. PN结的空间电荷区变窄,是由于PN结加的是正向电压。

20.能带中载流子的有效质量反比于能量函数对于波矢k的二次微商,引入有效质量的意义在于其反映了晶体材料的内部势场的作用。

半导体物理学复习纲要

半导体物理学复习纲要

练习7
1、判断正误:一般情况下,满足小注入条件 的非平衡载流子浓度比平衡载流子浓度小。 () 2、填空:寿命标志着非平衡载流子浓度减小 到原值的( )所经历的时间。 3、简述小注入条件
4、处于非平衡态的n型半导体中,EFp 和EFn 哪 个距EF 近?为什么?
EFn
-
EF
EF
E
p F
第6章 pn 结
第一章
第一节 半导体的晶体结构和结合性质 • 金刚石型结构和共价键 • 闪锌矿型结构和混合键 • 纤锌矿型结构 第二节 半导体中的电子状态和能带 • 原子的能级和晶体的能带 • 半导体中的电子状态和能带 • 导体、半导体、绝缘体的能带
第一章
第三节 半导体中电子的运动和有效质量 • 半导体中E(k)与k的关系 • 半导体中电子的平均速度 • 半导体中电子的加速度 • 有效质量的意义 第四节 本征半导体的导电机构 空穴 第五节 回旋共振 • k空间等能面 • 回旋共振 第六节 硅和锗的导带结构 • 间接带隙半导体 第七节 砷化镓的能带结构 • 直接带隙半导体
效应 电子的三个自由度、自旋性质:磁场下分裂;输运
差别
• 2.单边突变p+n结,空间电荷区(势垒区)主要分 布在p+区还是n 区?
• 3.PN结只有低频下才有整流效应,而高频下没有 整流效应,为什么?(电容效应造成)
第七章金属和半导体的接触
• 7.1 金属半导体接触及其能级图 金属-半导体接触类型:肖特基接触和欧姆接
触 肖特基接触条件:半导体轻掺杂 欧姆接触条件:半导体重掺杂 • 7.2 金属半导体接触整流理论
练习1
1。写出三种立方单胞的名称,并分别计算 单胞中所含的原子数。 (简立方,体心立方,面心立方,1,2,4) 2. 计算金刚石型单胞中的原子数。 (8)
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第一章 半导体中的电子状态§1.1 锗和硅的晶体结构特征 金刚石结构的基本特征§1.2 半导体中的电子状态和能带 电子共有化运动概念绝缘体、半导体和导体的能带特征。

几种常用半导体的禁带宽度; 本征激发的概念§1.3 半导体中电子的运动 有效质量导带底和价带顶附近的E(k)~k 关系()()2*2nk E k E m 2h -0=; 半导体中电子的平均速度dEv hdk=; 有效质量的公式:222*11dk Ed h m n =。

§1.4本征半导体的导电机构 空穴空穴的特征:带正电;p n m m **=-;n p E E =-;p n k k =-§1.5 回旋共振§1.6 硅和锗的能带结构 导带底的位置、个数; 重空穴带、轻空穴第二章 半导体中杂质和缺陷能级§2.1 硅、锗晶体中的杂质能级基本概念:施主杂质,受主杂质,杂质的电离能,杂质的补偿作用。

§2.2 Ⅲ—Ⅴ族化合物中的杂质能级 杂质的双性行为第三章 半导体中载流子的统计分布热平衡载流子概念§3.1状态密度定义式:()/g E dz dE =;导带底附近的状态密度:()()3/2*1/232()4ncc m g E VE E h π=-;价带顶附近的状态密度:()()3/2*1/232()4p v Vm g E V E E hπ=-§3.2 费米能级和载流子的浓度统计分布 Fermi 分布函数:()01()1exp /F f E E E k T =+-⎡⎤⎣⎦;Fermi 能级的意义:它和温度、半导体材料的导电类型、杂质的含量以及能量零点的选取有关。

1)将半导体中大量的电子看成一个热力学系统,费米能级F E 是系统的化学势;2)F E 可看成量子态是否被电子占据的一个界限。

3)F E 的位置比较直观地标志了电子占据量子态的情况,通常就说费米能级标志了电子填充能级的水平。

费米能级位置较高,说明有较多的能量较高的量子态上有电子。

Boltzmann 分布函数:0()FE E k TB f E e--=;导带底、价带顶载流子浓度表达式:0()()ccE B c E n f E g E dE '=⎰00exp F cc E E n N k T -= , ()3*2322nc m kT N h π=导带底有效状态密度00exp v Fv E E p N k T-= , ()320322p v m k T N hπ*=价带顶有效状态密度载流子浓度的乘积0000exp exp g C V C V C V E E E n p N N N N k T k T ⎛⎫⎛⎫-=-=- ⎪ ⎪⎝⎭⎝⎭的适用范围。

§3.3. 本征半导体的载流子浓度 本征半导体概念;本征载流子浓度:⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛-===T k E N N p n n g V C i 021002exp )(;载流子浓度的乘积200i n p n =;它的适用范围。

§3.4杂质半导体的载流子浓度电子占据施主杂质能及的几率是⎪⎪⎭⎫⎝⎛-+=T k E E E f F D D 0exp 2111)(空穴占据受主能级的几率是⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛-+=T k E E E f A F A 0exp 2111)(施主能级上的电子浓度D n 为: ⎪⎪⎭⎫⎝⎛-+==T k E E N E f N n F D DD D D 0exp 211)(受主能级上的空穴浓度A p 为0()11exp 2AA A A F A N p N f E E E k T ==⎛⎫-+ ⎪⎝⎭电离施主浓度+D n 为:D D D n N n +=-电离受主浓度-A p 为:A A A p N p -=-费米能级随温度及杂质浓度的变化§3.5 一般情况下的载流子统计分布§3.6. 简并半导体1、重掺杂及简并半导体概念;2、简并化条件(n 型):0C F E E -≤,具体地说:1)N D 接近或大于N C 时简并;2)ΔE D 小,则杂质浓度N D 较小时就发生简并;3)杂质浓度越大,发生简并的温度范围越宽;4)简并时杂质没有充分电离;5)简并半导体的杂质能级展宽为能带,带隙宽度会减小。

3、杂质能带及杂质带导电。

第四章 半导体的导电性§4.1 载流子的漂移运动 迁移率 欧姆定律的微分形式:J E σ=;漂移运动;漂移速度d v E μ=;迁移率μ,单位 22//m V s cm V s ⋅⋅或; 不同类型半导体电导率公式:n p nq pq σμμ=+§4.2. 载流子的散射.半导体中载流子在运动过程中会受到散射的根本原因是什么? 主要散射机构有哪些?电离杂质的散射:32i i P N T -∝晶格振动的散射:32s P T ∝§4.3 迁移率与杂质浓度和温度的关系描述散射过程的两个重要参量:平均自由时间τ,散射几率P 。

他们之间的关系,1pτ=;1、电导率、迁移率与平均自由时间的关系。

22**;p nn n p p n ppq nq nqu pqu m m ττσσ====22**p p n p npnq pq nqu pqu mmττσ=+=+2、(硅的)电导迁移率及电导有效质量公式:n c c q m τμ=、11123c l t m m m ⎛⎫=+ ⎪⎝⎭3、迁移率与杂质浓度和温度的关系§4.4 电阻率及其与杂质浓度和温度的关系 各种半导体的电阻率公式:1n pnq pq ρμμ=+;不同温区电阻率的变化/不同温区载流子的散射机制。

§4.7 多能谷散射 耿氏效应用多能谷散射理论解释GaAs 的负微分电导。

第五章 非平衡载流子§5.1 非平衡载流子的注入与复合 非平衡态与非平衡载流子或过剩载流子; 小注入;附加电导率:()n p np nq pq pq σμμμμ∆=∆+∆=∆+§5.2非平衡载流子的寿命 非平衡载流子的衰减、寿命τ;复合几率:表示单位时间内非平衡载流子的复合几率,1τ;复合率:单位时间、单位体积内净复合消失的电子-空穴对数。

p τ∆。

§5.3 准Fermi 能级 1、“准Fermi 能级”概念2、非平衡状态下的载流子浓度:0000exp ()exp ()nC F C pF V V E E n N n n n k T E E p N p p p k T ⎛⎫-=-=+∆ ⎪⎝⎭⎛⎫-=-=+∆ ⎪⎝⎭000000exp exp exp exp n nF i F F i p pi F F F i E E E E n n n k T k T E E E E p p n k T k T ⎛⎫⎛⎫--== ⎪ ⎪⎝⎭⎝⎭⎛⎫⎛⎫--== ⎪ ⎪⎝⎭⎝⎭3、“准Fermi 能级”的含义1)从(5-10)可以看出,E F n -E F ,E F -E F p 越大,n 和p 值越大,越偏离平衡状态。

反之也可以说,n 和p 越大,E F n 和E F p 偏离E F 越远。

2)E F n 和E F p 偏离E F 的程度不同 如n-type 半导体n 0>p 0。

小注入条件下:◆ Δn<<n 0,n=n 0+Δn ,n>n 0,n≈n 0,E F n 比E F 更靠近导带底,但偏离E F 很小。

◆ Δp>>p 0,p=p 0+Δp ,p>p 0,E F p 比E F 更靠近价带顶,且比E F n 更偏离E F 。

可以看出:一般情况下,在非平衡状态时,往往总是多数载流子的准Fermi 能级和平衡时的Fermi 能级偏离不多,而少数载流子的准Fermi 能级则偏离很大。

3)20000exp exp n p n pF F F F i E E E E np n p n k T k T ⎛⎫⎛⎫--== ⎪ ⎪⎝⎭⎝⎭反映了半导体偏离热平衡态的程度。

E F n -E F p 越大,np 越偏离n i 2。

E F n =E F p 时,np=n i 2。

§5.4. 复合理论非平衡载流子复合的分类以及复合过程释放能量的方式 1、直接复合 2、间接复合定量说明间接复合的四个微观过程:俘获电子过程:电子俘获率=r n n(N t -n t ) 发射电子过程:电子产生率=s -n t ,1n s r n -= 俘获空穴过程:空穴俘获率=r p pn t发射空穴的过程:空穴产生率=s +(N t -n t ),s +=r p p 1 有效复合中心能级的位置为禁带中线附近。

§5.6. 载流子的扩散运动。

1、扩散流密度:()p p d p x S D dx ∆=-;()n n d n x S D dx∆=-⋅(单位时间通过单位面积的粒子数)。

2、空穴的扩散电流()()p pd p x J qD dx∆=-扩。

电子的扩散电流()()n n nd n x J qS qD dx∆=-=扩 3、光注入下的稳定扩散:稳定扩散:若用恒定光照射样品,那么在表面处非平衡载流子浓度保持恒定值()0p ∆,半导体内部各点的空穴浓度也不随时间改变,形成稳定的分布。

这叫稳定扩散。

稳态扩散方程及其解。

§5.7. 载流子的漂移运动 爱因斯坦关系爱因斯坦关系的表达式:0nn D k Tq μ=,0p p D k T qμ=§5.8. 连续性方程式 1、连续性方程式的表达式()22p p p p E p x p pp D E p g t x x x μμτ∂∂∂∂∆=---+∂∂∂∂ 其中()22p p x D x ∂∂的含义是单位时间单位体积由于扩散而积累的空穴数;p pE pE p x xμμ∂∂--∂∂的含义是单位时间单位体积由于漂移而积累的空穴数;pτ∆的含义是单位时间单位体积由于复合而消失的电子-空穴对数。

2、稳态连续性方程及其解 3、连续性方程式的应用。

牵引长度()P L E 和扩散长度Lp 的差别。

()p Lp E E u τ=;Lp =第六章 p-n 结§6.1 p-n 结及其能带图 1、p-n 结的形成和杂质分布 2、空间电荷区 3、p-n 结能带图 4、p-n 结接触电势差 5、p-n 结的载流子分布§6.2 p-n 结的电流电压特性 1、非平衡状态下的p-n 结 非平衡状态下p-n 结的能带图2、理想p-n 结模型及其电流电压方程式 ● 理想p-n 结模型 1) 小注入条件2) 突变耗尽层近似:电荷突变、结中载流子耗尽(高阻)、电压全部降落在耗尽层上、耗尽层外载流子纯扩散运动;3) 不考虑耗尽层中载流子的产生与复合作用;4) 玻耳兹曼边界条件:在耗尽层两端,载流子分布满足玻耳兹曼统计分布。

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