温度对半导体的电压电流影响实验

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温度升高,二极管在正向电流不变的情况下的正向电压 ,反向电流 。

温度升高,二极管在正向电流不变的情况下的正向电压 ,反向电流 。

温度升高,二极管在正向电流不变的情况下的正向电压,反向电流。

1.引言1.1 概述概述部分的内容可以包括以下内容:在现代电子技术中,二极管作为一种常见的电子元件,广泛应用于各种电路中。

温度是二极管正常工作时不可避免的一个因素。

随着环境温度的升高,二极管的物理性质和电学性能都会发生变化。

本文旨在探讨温度升高对二极管正向电压和反向电流的影响。

正向电压是指在二极管正向偏置时通过二极管的电压,而反向电流是指在二极管反向偏置时通过二极管的电流。

温度升高对二极管正向电压的影响,是指在二极管正向电流不变的情况下,温度的变化对二极管正向电压的影响程度。

正向电压是二极管正常工作时必须具备的特性之一,也是用于控制二极管导通和截止的重要参数之一。

同样,温度升高对二极管反向电流的影响,是指在二极管反向电压不变的情况下,温度的变化对二极管反向电流的影响程度。

反向电流是指在二极管处于反向偏置时流经二极管的电流,反向电流越小,表示二极管的正常工作越稳定。

了解温度对二极管正向电压和反向电流的影响,不仅可以帮助我们更好地设计和选择合适的二极管,也对于保证电子设备的稳定运行和延长其使用寿命具有重要意义。

接下来,本文将从温度升高对二极管正向电压的影响、温度升高对二极管反向电流的影响两个方面展开探讨,并总结其对二极管特性的整体影响。

1.2文章结构1.2 文章结构本文将围绕温度升高对二极管在正向电流不变的情况下的正向电压和反向电流的影响展开讨论。

具体结构如下:第二部分将重点探讨温度升高对二极管正向电压的影响。

首先,我们将介绍正向电压的基本概念,并解释正向电压在电路中的作用。

然后,我们将详细探讨温度升高对二极管正向电压的影响,包括温度对电压-电流特性曲线的影响、温度对漏电流的影响等。

在这一部分,我们将提出两个关键要点,以展示温度升高对二极管正向电压的影响。

第三部分将重点研究温度升高对二极管反向电流的影响。

我们将简要介绍反向电流的概念,并解释反向电流在电路中的重要性。

PN结的物理特性—实验报告

PN结的物理特性—实验报告

半导体PN 结的物理特性实验报告姓名:陈晨 学号:12307110123 专业:物理学系 日期:2013年12月16日 一、引言半导体PN 结是电子技术中许多元件的物质基础具有广泛应用,因此半导体PN 结的伏安特性是半导体物理学的重要内容。

本实验利用运算放大器组成电流-电压变换器的方法精确测量弱电流,研究PN 结的正向电流I ,正向电压U ,温度T 之间的关系。

本实验桶过处理实验数据得到经验公式,验证了正向电流与正向电压的指数关系,正向电流与温度的指数关系以及正向电压与温度的线性关系,并由此与计算玻尔兹曼常数k 与0K 时材料的禁带宽度E ,加深了对半导体PN 节的理解。

二、实验原理 1、 PN 结的物理特性(1)PN 结的定义:若将一块半导体晶体一侧掺杂成P 型半导体,即有多余电子的半导体,另一侧掺杂成N 型半导体,即有多余空穴的半导体,则中间二者相连的接触面就称为PN 结。

(2)PN 结的正向伏安特性:根据半导体物理学的理论,一个理想PN 结的正向电流I 与正向电压U 之间存在关系 ①,其中I S 为反向饱和电流,k 为玻尔兹曼常数,T 为热力学温度,e 为电子电量。

在常温(T=300K )下和实验所取电压U的范围内, 故①可化为 ②,两边取对数可得 。

(3)当温度T 不变时作lnI-U 图像并对其进行线性拟合,得到线性拟合方程的斜率为e/kT ,带入已知常数e 和T ,便得玻尔兹曼常数k 。

2、反向饱和电流I s(1)禁带宽度E :在固体物理学中泛指半导体或是绝缘体的价带顶端至传导带底端的能量差距。

对一个本征半导体而言,其导电性与禁带宽度的大小有关,只有获得足够能量的电子才能从价带被激发,跨过禁带宽度跃迁至导带。

(2)根据半导体物理学的理论,理想PN 结的反向饱和电流Is 可以表示为③,代入②得 ,其中I 0为与结面积和掺杂浓度等有关的常数,γ取决于少数载流子迁移率对温度的关系,通常取γ=3.4,k 为玻尔兹曼常数,T 为热力学温度.E 为0K时材料的禁带宽度。

pn结的伏安特性与温度特性测量(精)

pn结的伏安特性与温度特性测量(精)

PN结的伏安特性与温度特性测量半导体PN结的物理特性是物理学和电子学的重要基础内容之一。

使用本实验的仪器用物理实验方法,测量PN结扩散电流与电压关系,证明此关系遵循指数分布规律,并较精确地测出玻尔兹曼常数(物理学重要常数之一),使学生学会测量弱电流的一种新方法。

本实验的仪器同时提供干井变温恒温器和铂金电阻测温U与热力学温度T关系,求得该传感器的灵敏度,并电桥,测量PN结结电压be近似求得0K时硅材料的禁带宽度。

【实验目的】1、在室温时,测量PN结扩散电流与结电压关系,通过数据处理证明此关系遵循指数分布规律。

2、在不同温度条件下,测量玻尔兹曼常数。

3、学习用运算放大器组成I-V变换器测量10-6A至10-8A的弱电流。

U与温度关系,求出结电压随温度变化的灵敏度。

4、测量PN结结电压be5、计算在0K时半导体(硅)材料的禁带宽度。

6、学会用铂电阻测量温度的实验方法和直流电桥测电阻的方法。

【实验仪器】FD-PN-4型PN结物理特性综合实验仪(如下图),TIP31c型三极管(带三根引线)一只,长连接导线11根(6黑5红),手枪式连接导线10根,3DG6(基极与集电极已短接,有二根引线)一只,铂电阻一只。

【实验原理】1、PN 结伏安特性及玻尔兹曼常数测量由半导体物理学可知,PN 结的正向电流-电压关系满足:[]1/0-=KT eU e I I (1)式(1)中I 是通过PN 结的正向电流,I 0是反向饱和电流,在温度恒定是为常数,T 是热力学温度,e 是电子的电荷量,U 为PN 结正向压降。

由于在常温(300K)时,kT /e ≈0.026v ,而PN 结正向压降约为十分之几伏,则KT eU e />>1,(1)式括号内-1项完全可以忽略,于是有:KT eU e I I /0= (2)也即PN 结正向电流随正向电压按指数规律变化。

若测得PN 结I-U 关系值,则利用(1)式可以求出e /kT 。

PN结正向压降与温度关系的研究和应用实验报告

PN结正向压降与温度关系的研究和应用实验报告

PN结正向压降与温度关系的研究和应用实验报告摘要:本实验通过测量PN结正向偏置情况下的正向压降随温度的变化,研究PN结的温度特性,并探索其在实际应用中的可能的应用。

引言:PN结是半导体器件中最基本的结构之一,其正向特性在电子学领域具有重要的应用价值。

而PN结的温度特性对于器件的工作稳定性和可靠性有较大的影响。

因此,研究PN结的温度特性,尤其是正向压降与温度的关系,对于提高器件性能有着重要意义。

实验目的:1.研究PN结的温度特性,特别是正向压降随温度的变化规律;2.探索PN结温度特性相关的应用,例如热敏电阻等。

实验原理:PN结在正向偏置情况下,通过正向电流使得P区载流子与N区载流子复合,产生电压降。

根据热力学原理,温度升高会提供更多的热能,促使载流子的热激发增加,从而降低正向电压的阻挡力。

因此,PN结正向压降与温度呈负相关。

实验步骤:1.搭建实验电路:将PN结与电源和电流测量仪连接,确保电路连接正确。

2.在实验装置中设置好温度传感器,与PN结接触。

3.调节电源的正向电流,并分别测量不同温度下的正向压降和电流。

4.依次调节不同温度下的电流,重复步骤3,记录数据。

实验结果:将测得的正向电流和压降数据制成表格,并绘制电压-温度曲线和电流-温度曲线。

讨论:通过分析实验结果,可以发现PN结的正向压降随着温度的升高而逐渐降低,且呈现较大的线性关系。

这与实验原理的推测相符合。

应用:基于PN结正向压降与温度的关系,我们可以将其应用于热敏电阻的制备和温度测量。

热敏电阻可以根据PN结的特性,根据温度的变化来改变电阻值,从而实现温度的感应和测量。

这在实际工业控制和家用电器中具有广阔的应用前景。

结论:通过本实验研究PN结的温度特性,我们发现PN结的正向压降随着温度升高而逐渐降低,并且可以将该特性应用于热敏电阻的制备和温度测量中。

实验结果对于提高PN结的性能和应用具有重要参考价值。

半导体材料热电效应研究实验报告

半导体材料热电效应研究实验报告

半导体材料热电效应研究实验报告[实验目的]测量半导体pn结电压--温度的对应关系。

[实验原理]pn结构成的二极管和三极管的伏安特性对温度有很大的依性,利用这一特点可以制造pn结温度传感器和晶体管温度!器。

[仪器介绍和使用]本实验所用装置由三部分组成:主控仪器箱(恒流源、电流测量及显示系统、制冷加热控制系统和计算机接口系统);栏池(内装样品及制冷元件、加热元件、测温:二极管);其中样品由绝热材料密封,升温由黄铜载体内发热体提供热量,降温采两级:-级为冷风,二级为BiTe系半导体制冷。

这样,当需要于室温时,两级同时工作。

而由高温回到室温时则由冷风使其速冷却。

采用黄铜做载体是因为其热导率高、热容适中。

加冷却功率均可调节。

仪器可实时观测到样品导电能力随温度的化[操作步骤][1]检查连接线无误后打开仪器电源开关。

[2]按“设置”按键,显示屏显示0010STAR,代表设置开始度,通过“+”、“一”按键修改要设定的初始温度。

再按“设按键,显示屏显示0080END,代表设置结束温度,通过“+”按键修改要设定的结束温度。

再按“设置”按键,显示屏显示0ET,代表设置模式,可不做设置。

再按“设置”按键显示屏显当前样品池的温度和样品的电压值。

黑客攻防自学编程入门效基发器学习编程”半导体激光价格半导体按“运行”按键,仪器进入测量工作后会首先自动调整温到初始温度,然后再加热、测量,当达到结束温度时自动停机。

因此,我们在仪器达到初始温度开始测量,完成表1所给出温度节点的电压值。

关闭仪器电源,整理试验结果。

[实验数据及后处理]测量半导体pn结的电压一温度对应关系,完成表1,并根据验数据作图(如图1,横坐标为开氏温度,纵坐标为电压。

1仅给出了20~60°C 的测量值。

半导体材料的热电特性:其热电特性非常显著,因此,用作温度传感器的材料。

一般而言,在较大的温度范围内,体都具有负的电阻温度系数。

半导体的导电机制比较复杂,输运作用的载流子为电子或空穴。

PN结正向伏安特性与温度的研究

PN结正向伏安特性与温度的研究

温度对pn结正向伏安特性的实验研究
实验设备
需要使用恒温箱、电流表、 电压表等设备,以及pn 结二极管样品。
实验步骤
在恒温箱中设定不同的温度, 测量不同温度下的正向电压和 电流值,记录数据并进行分析 。
实验结果
通过实验数据可以观察到随 着温度升高,正向电流增大 ,正向电压略有减小。
温度对pn结正向伏安特性的应用前景
Part
02
pn结正向伏安特性
pn结正向伏安特性的定义与原理
定义
pn结正向伏安特性是指在正向偏置 条件下,pn结的电压-电流关系特性 。
原理
当外加正向电压时,pn结内部的电场 被削弱,电子和空穴的扩散运动增强 ,形成正向电流。随着正向电压的增 加,正向电流也相应增加。
影响pn结正向伏安特性的因素
研究不足与展望
01 02 03
实验条件限制
虽然实验结果与理论模型基本一致,但由于实验条件的限 制,部分高温度下的数据点存在一定的误差。未来可以通 过改进实验设备和方法,提高实验数据的准确性和可靠性 。
理论模型简化
为了简化分析,本研究采用了简化的理论模型。然而,实 际pn结的物理过程可能更加复杂,涉及到更多的物理效应 。未来可以进一步完善理论模型,以更准确地描述pn结的 物理特性。
感谢您的观看
STEP 03
能源转换
STEP 02
利用pn结正向伏安特性随温 度变化的特性,可以开发新型 能源转换器件,如热电转换器 等。
STEP 01
电子器件优化
了解温度对pn结正向伏安特 性的影响,有助于优化电子器 件的性能,提高其稳定性。
温度传感器
利用pn结正向伏安特性随温 度变化的特性,可以制作温 度传感器,用于测量温度。

半导体材料_实验报告(3篇)

半导体材料_实验报告(3篇)

第1篇一、实验目的1. 熟悉半导体材料的性质,掌握半导体材料的制备方法。

2. 学习使用四探针法测量半导体材料的电阻率和薄层电阻。

3. 掌握半导体材料霍尔系数和电导率的测量方法。

4. 了解太阳能电池的工作原理,并进行性能测试。

二、实验原理1. 半导体材料:半导体材料具有介于导体和绝缘体之间的电导率,其电导率受温度、掺杂浓度等因素影响。

本实验所用的半导体材料为硅(Si)。

2. 四探针法:四探针法是一种测量半导体材料电阻率和薄层电阻的常用方法。

通过测量电流在半导体材料中流过时,电压的变化,可以得到材料的电阻率和薄层电阻。

3. 霍尔效应:霍尔效应是一种测量半导体材料霍尔系数和电导率的方法。

当半导体材料中存在磁场时,载流子在运动过程中会受到洛伦兹力的作用,导致载流子在垂直于电流和磁场的方向上产生横向电场,从而产生霍尔电压。

4. 太阳能电池:太阳能电池是一种将光能转化为电能的装置。

本实验所用的太阳能电池为硅太阳能电池,其工作原理是光生电子-空穴对在PN结处分离,产生电流。

三、实验仪器与材料1. 实验仪器:四探针测试仪、霍尔效应测试仪、太阳能电池测试仪、数字多用表、温度计等。

2. 实验材料:硅(Si)半导体材料、太阳能电池等。

四、实验步骤1. 四探针法测量半导体材料电阻率和薄层电阻(1)将硅半导体材料切割成合适尺寸的样品。

(2)将样品放置在四探针测试仪上,按照仪器操作步骤进行测量。

(3)记录实验数据,计算电阻率和薄层电阻。

2. 霍尔效应测量半导体材料霍尔系数和电导率(1)将硅半导体材料切割成合适尺寸的样品。

(2)将样品放置在霍尔效应测试仪上,按照仪器操作步骤进行测量。

(3)记录实验数据,计算霍尔系数和电导率。

3. 太阳能电池性能测试(1)将硅太阳能电池放置在太阳能电池测试仪上。

(2)按照仪器操作步骤进行测试,记录实验数据。

(3)计算太阳能电池的短路电流、开路电压、填充因子等参数。

五、实验结果与分析1. 四探针法测量半导体材料电阻率和薄层电阻根据实验数据,计算得到硅半导体材料的电阻率和薄层电阻分别为:ρ =0.3Ω·m,Rt = 0.1Ω。

PN结正向压降温度特性及正向伏安特性的研究

PN结正向压降温度特性及正向伏安特性的研究

PN结正向压降温度特性及正向伏安特性的研究PN结正向压降温度特性及正向伏安特性的研究随着半导体元件的不断发展,越来越多的应用场景需要对PN结的正向压降温度特性和正向伏安特性有更深入的了解。

本文将通过理论分析和实验验证的方式,对这两个特性进行详细研究。

首先,我们来看PN结正向压降温度特性。

PN结的正向压降是指在正向偏置的情况下,PN结两端的电压降。

正向压降与PN结内的载流子浓度有关,载流子浓度越高,正向压降越小。

同时,温度的变化也会对正向压降产生影响。

一般来说,正向压降随着温度的升高而减小。

这是因为在高温下,载流子浓度会增加,使得PN结内电场的分布变得更加均匀,从而减小了正向压降。

但是,在非常高的温度下,由于载流子的热激发效应,反向偏置电压也会增加,进而导致正向压降的增加。

因此,在设计半导体元件时需要考虑温度对正向压降的影响。

其次,我们来看PN结的正向伏安特性。

正向伏安特性描述了PN结在正向偏置下的电流与电压之间的关系。

根据欧姆定律,正向电流与正向电压成正比,即I = Is * (exp(qV / (nkT)) - 1),其中I为正向电流,V 为正向电压,Is为逆饱和电流,q为电子电荷量,k为玻尔兹曼常数,T 为绝对温度,n为器件的非理想因子。

从这个公式可以看出,正向电流与温度成正比,也就是说,随着温度的升高,正向电流也会增加。

这是因为在高温下,载流子的热激发效应增强,使得正向电流增大。

但是,需要注意的是,当温度达到一定值时,PN结可能会因为过热而损坏。

为了验证以上理论分析,我们进行了实验研究。

首先,我们搭建了一个实验平台,用来测试PN结的正向压降温度特性和正向伏安特性。

实验中,我们分别采用了不同的温度和正向偏置电压,测量了PN结两端的电压和电流。

实验结果与理论分析基本吻合,验证了我们的理论模型的准确性。

综上所述,PN结的正向压降温度特性和正向伏安特性对于半导体元件的设计和使用非常重要。

了解这两个特性的变化规律可以帮助我们选择合适的工作温度和正向偏置电压,以确保半导体元件的正常工作。

半导体二极管特性的研究实验报告

半导体二极管特性的研究实验报告

半导体二极管特性的研究实验报告半导体二极管特性的研究实验报告引言半导体二极管作为一种重要的电子元件,在电子技术领域中发挥着重要的作用。

本次实验旨在通过对半导体二极管特性的研究,深入了解其工作原理和特性参数的测量方法。

一、实验目的本次实验的主要目的是研究半导体二极管的特性,包括正向电压-电流关系、反向电压-电流关系以及温度对二极管特性的影响。

通过实验数据的测量和分析,我们将能够深入理解半导体二极管的工作原理和特性。

二、实验原理半导体二极管是由P型和N型半导体材料组成的,其中P型半导体材料富含空穴,N型半导体材料富含电子。

当二极管处于正向电压时,空穴和电子会在P-N结附近重新组合,形成电流流动。

而在反向电压下,由于P-N结的电场作用,电流会被阻挡。

三、实验步骤1. 实验仪器准备:准备好直流电源、万用表、半导体二极管以及温度计等实验仪器。

2. 正向电压-电流关系测量:将二极管连接到直流电源和万用表上,逐渐增加正向电压,并记录相应的电流数值。

3. 反向电压-电流关系测量:将二极管连接到直流电源和万用表上,逐渐增加反向电压,并记录相应的电流数值。

4. 温度对二极管特性的影响测量:使用温度计测量二极管的温度,并记录相应的电流数值。

四、实验结果与分析1. 正向电压-电流关系:通过实验测量数据,绘制出二极管的正向电压-电流关系曲线。

根据曲线的斜率,可以计算出二极管的动态电阻,从而判断其导通特性和工作状态。

2. 反向电压-电流关系:通过实验测量数据,绘制出二极管的反向电压-电流关系曲线。

根据曲线的斜率,可以判断二极管的反向击穿电压和反向漏电流,从而评估其反向电压承受能力。

3. 温度对二极管特性的影响:通过实验测量数据,分析二极管在不同温度下的电流变化情况。

根据温度的变化,可以判断二极管的温度系数和热稳定性。

五、实验结论通过本次实验,我们深入了解了半导体二极管的特性和工作原理。

根据实验结果和分析,我们可以得出以下结论:1. 正向电压-电流关系曲线呈指数增长,表明二极管在正向电压下具有导通特性。

实验 17 半导体 PN结伏安特性和温度特性研究

实验 17 半导体 PN结伏安特性和温度特性研究

实验 17 半导体 PN结伏安特性和温度特性研究
实验目的:研究半导体的PN结伏安特性和温度特性。

实验原理:
1. PN结:半导体材料中的一种结构,由P型半导体和N型半导体通过P-N结相连接而成。

PN结具有整流特性,在正向偏置时具有低电阻,而反向偏置时具有高电阻。

2. 伏安特性:指PN结在不同偏置电压下的电流和电压关系。

在正向偏置时,随着偏置电压的增加,电流也增大;在反向偏置时,电流较小。

3. 温度特性:温度对半导体器件特性有一定的影响。

通常情况下,随着温度的增加,半导体器件的电阻会减小,导致电流增大。

实验步骤:
1. 搭建半导体PN结伏安特性测量电路。

将PN结连接到电源和电流表,通过改变偏置电压测量不同电流值。

2. 测量PN结在不同偏置电压下的伏安特性曲线。

从零电压开始逐渐增加偏置电压,记录电流和电压值,并绘制伏安特性曲线。

3. 测量PN结在不同温度下的伏安特性。

通过将PN结加热或冷却,改变温度,并测量电流和电压值,观察温度对伏安特性的影响。

4. 分析实验结果,并讨论PN结的伏安特性和温度特性。

实验注意事项:
1. 搭建电路时应注意电流和电压的接线正确。

2. 在测试过程中,应逐渐增加偏置电压,避免过大的电流或电压对半导体器件的损坏。

3. 测量温度时需要使用专用的温度计或热敏电阻等检测温度变化。

实验结果:
通过测量PN结在不同偏置电压和温度下的伏安特性,可以得到相关数据,并通过曲线分析和对比,得出PN结的特性和温度特性的结论。

半导体高温存储实验原理

半导体高温存储实验原理

半导体高温存储实验原理
1. 材料稳定性测试,半导体材料在高温环境下可能会发生晶格缺陷、材料迁移、氧化等现象,因此实验可以通过在高温下长时间存储来观察材料的稳定性。

这可以通过对材料的电学性能、结构特征和表面形貌等进行分析来评估。

2. 电学性能测试,在高温环境下,半导体材料的电学性能可能会发生变化,例如载流子浓度、载流子迁移率等参数可能会受到影响。

实验可以通过在高温下测量材料的电导率、介电常数、击穿电压等参数来评估材料的高温稳定性。

3. 氧化性能测试,半导体材料在高温下容易发生氧化反应,导致电学性能的恶化。

实验可以通过在高温氧化气氛下暴露材料,并对氧化层进行表征来研究材料的氧化性能。

4. 结构特征分析,高温存储实验还可以通过使用X射线衍射、扫描电镜等手段来分析材料的晶体结构、晶界特征、晶格缺陷等信息,以了解材料在高温环境下的结构稳定性。

总的来说,半导体高温存储实验的原理涉及到对半导体材料在
高温环境下的稳定性、电学性能、氧化性能和结构特征等方面进行研究,以评估材料在高温环境下的可靠性和适用性。

这些实验可以为半导体材料的设计和应用提供重要的参考和指导。

(完整版)实验3半导体二极管伏安特性的研究

(完整版)实验3半导体二极管伏安特性的研究

实验3 半导体二极管伏安特性的研究世界上的物质种类繁多,但就其导电性能来说,大体上可分为导体、绝缘体和半导体三类。

某些物质,如硅、锗等,它们的导电性能介于导体和绝缘体之间,被称为半导体。

半导体之所以引起人们极大的兴趣,原因并不在于它具有一定的导电能力,而在于它具有许多独特的性质。

同一块半导体材料,它的导电能力在不同的条件下会有非常大的差别,比如,在很纯的半导体中掺入微量的其他杂质,它的导电性能将有成千上万倍地增加,并且可以根据掺入杂质的多少来控制半导体的导电性能。

人们正是利用半导体的这种独特的性质做出了各种各样的半导体器件。

本实验通过对常用的半导体器件—二极管特性的研究,了解PN结的特性、结构和工作原理,并测量二极管的部分参数。

【实验目的】1、了解PN结产生的机理和它的作用。

2、学习测量二极管伏安特性曲线的方法。

3、通过实验,加深对二极管单向导电特性的理解。

【仪器用具】HG61303型数字直流稳压电源、GDM-8145型数字万用表、滑线变阻器、FBZX21型电阻箱、C31-V型电压表、C31-A型电流表、FB715型物理设计性实验装置、可调电阻及导线若干、普通二极管、发光二极管、稳压二极管等【实验原理】1.电学元件的伏安特性在某一电学元件两端加上直流电压,在元件内就会有电流通过,通过元件的电流与其两端电压之间的关系称为电学元件的伏安特性。

一般以电压为横坐标,电流为纵坐标作出元件的电压-电流关系曲线,称为该元件的伏安特性曲线。

对于碳膜电阻、金属膜电阻、线绕电阻等电学元件,在通常情况下,通过元件的电流与加在元件两端的电压成正比,即其伏安特性曲线为一通过原点的直线,这类元件称为线性元件,如图3-1的直线a。

至于半导体二极管、稳压管、三极管、光敏电阻、热敏电阻等元件,通过元件的电流与加在元件两端的电压不成线性关系变化,其伏安特性为一曲线,这类元件称为非线性元件,如图3-1的曲线b、c。

伏安法的主要用途是测量研究非线性元件的特性。

实验一--变温霍尔效应实验报告

实验一--变温霍尔效应实验报告

变温霍尔效应对通电的导体或半导体施加一与电流方向垂直的磁场,则在垂直于电流和磁场方向上有一横向电位差出现,这个现象于1879年为物理学家霍尔所发现,故称为霍尔效应。

在20世纪的前半个世纪,霍尔系数及电阻率的测量一直推动着固体导电理论的发展,特别是在半导体纯度以及杂质种类的一种有力手段,也可用于研究半导体材料电输运特征,至今仍然是半导体材料研制工作中必不可少的一种常备测试手法。

在本实验中,采用范德堡测试方法,测量样品霍尔系数随温度的变化。

1.实验原理1.1霍尔效应霍尔效应是一种电流磁效应,如图1所示:图1霍耳效应示意图当样品通以电流I,并加一磁场垂直于电流,则在样品的两侧产生一个霍尔电位差:H H IBU Rd,H U 与样品厚度d 成反比,与磁感应强度B 和电流I 成正比。

比例系数H R 叫做霍尔系数。

霍尔电位差是洛伦兹力和电场力对载流子共同作用产生的结果。

1.2一种载流子导电的霍尔系数P 型半导体:1HH pR pq μμ⎛⎫= ⎪ ⎪⎝⎭, N 型半导体:1H H n R pq μμ⎛⎫=- ⎪⎝⎭, 式中n 和p 分别表示电子和空穴的浓度,q 为电子电荷,n μ和p μ分别是电子和空穴的电导迁移率,H μ为霍尔迁移率,H H R μσ=(σ为电导率)。

1.3两种载流子导电的霍尔系数假设载流子服从经典的统计规律,在球形等能面上,只考虑晶体散射及弱磁场(410Bμ,μ为迁移率,单位为)2cmV S ,B 的单位为T )的条件下,对于电子和空穴混合导电的半导体,可以证明:()2238H p nb R p nb π-=+(1)其中n p b μμ=。

2.1实验方法本实验采用范德堡法测量单晶样品的霍耳系数,其作用是尽可能地消除各种副效应。

考虑各种副效应,每一次测量的电压是霍耳电压与各种副效应附加电压的叠加,即1H E N RL H U U E E E E=++++∆实其中,H U 实表示实际的霍耳电压,E E 、N E 和RL E 分别表示爱廷豪森效应、能斯特效应、和里纪-勒杜克效应产生的附加电位差,E ∆表示四个电极偏离正交对称分布产生的附加电位差。

半导体热电特性实验报告

半导体热电特性实验报告

半导体热电特性实验报告摘要:本实验通过测量半导体材料的热电势和电阻,研究了其热电特性。

实验结果表明,随着温度的变化,半导体材料的热电势和电阻发生了明显的变化。

实验中还设计并建立了一个半导体热电特性测量电路,使用PID控制方法保持温度恒定,并采用示波器和万用表等仪器设备进行测量与分析。

通过本实验的学习,加深了对半导体材料热电特性的理解,为半导体材料的应用提供了一定的参考价值。

关键词:半导体;热电势;电阻;PID控制;测量1.引言半导体材料因其特殊的电学性质和热学性质广泛应用于电子器件、温度传感器等领域。

热电相互作用是指材料在温差作用下产生的电势差,其大小与材料的热电常数有关。

本实验旨在通过测量半导体材料的热电势和电阻,研究和了解其热电特性。

2.实验原理2.1热电效应当半导体材料的两个端口存在温度差时,会产生一个由热能转换为电能的电势差,即热电势。

半导体材料的热电效应有三种类型:Seebeck效应、Peltier效应和Thomson效应。

其中,Seebeck效应是最常见和最重要的一种效应。

2.2 Seebeck效应Seebeck效应是指当两个不同温度的导体连接成闭合电路时,在温度差作用下会产生一个自感应电动势。

该电动势与温差成正比,与导体的热电常数和材料特性有关。

3.实验设计实验中我们设计并建立了一个半导体热电特性测量电路。

该电路包括一个PID控制器、一个恒温箱,一个半导体样品和一对测量电极。

PID控制器通过反馈控制的方式保持温度的恒定。

4.实验步骤4.1检查仪器设备是否正常工作。

4.2将半导体样品连接到电路中,注意电极的正确接触。

4.3将半导体样品放入恒温箱中,并设置所需的温度。

4.4开始测量热电势和电阻。

通过示波器和万用表等仪器设备记录测量数据。

4.5将温度逐渐提高,重复步骤4.4,直至达到所需温度范围。

5.实验结果与分析通过实验测量数据,并进行相关分析,得出如下结论:5.1热电势随温度的变化呈现出一定的规律性。

浅析温度对半导体激光器输出信号的影响

浅析温度对半导体激光器输出信号的影响

浅析温度对半导体激光器输出信号的影响摘要:半导体激光器已经应用至许多领域,温度变化会在一定程度上影响激光器信号输出质量,文章建立模型进行量化分析,并进行了仿真验证,直观体现了具体影响。

关键词:线性调频;多普勒;误差1.引言半导体激光器技术的发展,使得激光测量趋于小型化与实用化,但与He-Ne激光器相比,其输出光功率的稳定性要稍逊色一些,尤其受环境温度的影响较大[51]。

另外,尽管半导体激光器的电光转换效率很高,但由于存在着各种非辐射复合损耗、自由载流子吸收等损耗机制,这使得其外微分量子效率(半导体激光器输出光子数随注入的电子数增加的比率)只能达到[1],其它未转化成光子的电子所做的功将转换化成热量,致使半导体激光器升温。

对于半导体激光器,其温度的升高会导致阈值电流增加,电光转化效率依比例降低。

因此温度的变化会直接影响半导体激光器输出光信号的质量。

2.阈值电流与温度的关系阈值电流密度与半导体激光器的结区温度的关系非常密切。

温度升高,自由电子的光学吸收会造成很大的光功率损耗,阈值电流密度随温度变化的曲线如图1所示。

从图中可以看出,温度较低时,阈值电流密度随温度的变化较小,当温度增至约时,阈值电流密度急剧变化。

图1 GaAs激光器J-T关系曲线图2 半导体激光器特性曲线影响半导体激光器温度特性的因素较多,目前通常采用实验验证公式来描述其阈值电流密度与温度的关系,其关系为(1)其中,为室温;为在某一温度下所测得的阈值电流密度;为一实验拟合参数,是表征半导体激光器温度稳定性的重要参数,被称作特征温度。

本系统所用的华上激光器的特征温度约为。

由(1)式可以看出,特征温度越高,半导体激光器的温度稳定性越好。

特征温度参数通常由半导体激光器生产厂家测试报告提供。

由阈值电流密度与阈值电流之间的关系可得阈值电流与温度的关系式为(2)式中,为半导体激光器结的面积;为室温下半导体激光器的阈值电流的大小,系统所用的半导体激光器的室温阈值电流为。

半导体激光器件中的温度对性能的影响研究

半导体激光器件中的温度对性能的影响研究

半导体激光器件中的温度对性能的影响研究激光器件是一种重要的电子元器件,被广泛应用于通信、医疗、工业和军事等领域。

而在激光器件中,温度是一个重要的参数,它对激光器件的性能产生着重要的影响。

本文将研究半导体激光器件中温度对其性能的影响,并探讨温度对激光器件性能的调控与优化方法。

温度对半导体激光器件的影响主要体现在以下几个方面:输出功率、阈值电流、光谱特性、转换效率、调制速度和寿命等。

下面将逐一进行探讨。

首先,温度对激光器件的输出功率有着直接影响。

一般而言,激光器件的输出功率随着温度的增加而增加,这是由于温度升高引导带能级和价带能级之间的能隙减小,进而提高电子和空穴的复合概率,从而增加激光的产生和放大效率。

但当温度过高时,由于激光介质材料的热膨胀系数受限,会导致激光谐振腔的尺寸变化,进而降低激光输出功率。

其次,阈值电流是指激光器件开始激发激光所需的最低电流。

温度对阈值电流也有显著的影响。

一般来说,随着温度的升高,激光器件的阈值电流减小。

这是因为随着温度升高,载流子浓度增加,从而提高电子与空穴的复合概率,进而减小阈值电流。

光谱特性也是激光器件性能中重要的一部分。

温度对激光器件的光谱特性有着明显的影响。

一般而言,随着温度的增加,激光器件的光谱峰值波长会发生红移。

这是由于温度升高导致晶格热膨胀,进而降低光子和晶格振动之间的耦合强度,从而减小光子的能量。

温度对激光器件的转换效率也有重要影响。

一般来说,随着温度的升高,激光器件的转换效率会降低。

这是由于温度升高会增加非辐射复合过程的概率,导致少量的能量从光子形式转化为热能。

因此,为了提高激光器件的转换效率,需要控制好温度的变化范围。

调制速度是指激光器件在高频调制下的响应速度。

温度对激光器件的调制速度也有一定的影响。

一般来说,温度升高会导致载流子的迁移率增加,从而提高激光器件的调制速度。

但当温度过高时,激光器件的响应时间会受到载流子寿命的限制,进而降低调制速度。

最后,温度对激光器件寿命的影响也是需要考虑的重要因素。

半导体热敏电阻的电压-温度曲线实验报告

半导体热敏电阻的电压-温度曲线实验报告

实验名称:半导体热电特性综合实验姓名学号班级桌号教室第一实验楼609实验日期 20 年月日节一、实验目的:(实验前,必须要熟悉EXCEL计算功能!否则,难以实验。

)1.了解半导体热敏电阻的微观机制。

2.测量半导体热敏电阻的电压-温度曲线。

3.学习用最小二乘法拟合热敏电阻的温度系数(热敏指数)4.了解计算机实时采集、应用EXCEL处理实验数据(自己提前学习)二、实验仪器1 通讯线接口2 温度显示窗口3 电压显示窗口4 制冷电流表5 按键6 测量线接口7 温控线接口8 指示灯9 样品池 10 档位选择开关注1. 正常开机后进入空闲状态,温度显示屏显示测量室的温度t (单位:℃),电压显示屏显示当前被测样品在该温度下的电压降U(单位:mV),被测样品的电阻值可用R=U/I求出,I是被测样品通过的恒定电流,实验用仪器已经调整在20μA。

注2. 档位选择开关选为“V” 时电压窗口显示样品(硅热敏电阻)两端电压值。

三、实验原理1 半导体热敏电阻的热电特性(1)半导体材料的热电特性:其热电特性非常显著,因此,常用作温度传感器的材料。

在较大的温度范围内,半导体都具有负的电阻温度系数。

半导体的导电机制比较复杂,载流子的浓度受温度的影响很大,因此半导体的电阻率受温度影响也很大。

随着温度的升高,热激发的载流子数量增加,导致电阻率减小,因此呈现负的温度系数的关系。

但是实际应用的半导体,往往通过搀杂工艺来提高半导体的性质,这些杂质原子的激发,同样对半导体的电输运性能产生很大的影响。

同时在半导体中还存在晶格散射、电离杂质散射等多种散射机制存在,因此半导体具有非常复杂的电阻温度关系,往往不能用一些简单的函数概括,但在某些温度区间,其电阻温度关系可以用经验公式来概括,如本实验中用的半导体热敏电阻,它的阻值与温度关系近似满足下式:(1)式中R0为T0时的电阻(初值), R是温度为T时的电阻,T为绝对温度,B 为温度系数(热敏指数)。

变温霍尔效应实验报告

变温霍尔效应实验报告

变温霍尔效应实验报告一、实验目的1、了解霍尔效应的基本原理。

2、掌握变温霍尔效应的测量方法。

3、研究半导体材料的电学性质随温度的变化规律。

二、实验原理霍尔效应是指当电流垂直于外磁场通过导体时,在导体的垂直于磁场和电流方向的两个端面之间会出现电势差的现象。

对于半导体材料,其载流子浓度会随温度发生变化,从而导致霍尔系数也随温度改变。

在一定温度范围内,霍尔系数与温度之间存在一定的函数关系。

根据霍尔效应,霍尔电压$V_H$ 与电流$I$、磁感应强度$B$ 以及霍尔片的厚度$d$ 之间的关系为:$V_H = R_H\frac{IB}{d}$其中,$R_H$ 为霍尔系数。

三、实验仪器1、变温霍尔效应实验仪2、电磁铁3、控温仪4、数字电压表5、直流电源四、实验步骤1、样品安装将半导体样品安装在样品架上,并确保与电极接触良好。

2、仪器连接按照实验电路图,将实验仪器正确连接。

3、调节磁场打开电磁铁电源,逐渐增加磁场强度,直至达到设定值。

4、测量室温下的霍尔电压在室温下,给样品通以恒定电流,测量不同磁场强度下的霍尔电压。

5、变温测量启动控温仪,逐渐升高或降低样品温度,在每个设定温度点稳定一段时间后,测量相应的霍尔电压。

6、数据记录记录不同温度和磁场下的霍尔电压数据。

五、实验数据与处理以下是测量得到的部分实验数据:|温度(K)|磁场强度(T)|霍尔电压(mV)||||||300|05|12||300|10|24||350|05|09||350|10|18|根据实验数据,计算出不同温度下的霍尔系数。

以温度为横坐标,霍尔系数为纵坐标,绘制出霍尔系数随温度的变化曲线。

通过对曲线的分析,可以得出半导体材料的电学性质随温度的变化规律。

例如,在低温区,霍尔系数可能呈现较大的正值,表明主要载流子为空穴;在高温区,霍尔系数可能逐渐减小并变为负值,说明主要载流子转变为电子。

六、实验结果与讨论1、实验结果表明,随着温度的升高,半导体材料的霍尔系数发生了显著变化。

mos管阈值电压与温度

mos管阈值电压与温度

mos管阈值电压与温度mos管是一种常用的场效应管,其阈值电压与温度密切相关。

本文将从mos管的基本原理、阈值电压的定义和温度对阈值电压的影响等方面展开论述。

我们来介绍一下mos管的基本原理。

mos管是金属-氧化物-半导体场效应晶体管的简称,是一种具有双栅极结构的半导体器件。

它由源极、漏极、栅极和衬底四个部分组成。

当栅极施加的电压发生变化时,栅极与衬底之间形成的电场会改变沟道的导电性,从而控制漏极和源极之间的电流。

mos管具有输入电阻高、功耗低、噪声小等优点,在集成电路中得到了广泛应用。

阈值电压是mos管的重要参数之一。

它表示在栅极与衬底之间施加的电压达到一定值时,沟道开始导通的电压。

阈值电压的大小决定了mos管的导通特性。

通常情况下,mos管的阈值电压为正值,即需要施加正电压才能使mos管导通。

而温度则会对mos管的阈值电压产生影响。

温度对mos管的阈值电压有两个主要影响。

首先是温度对场效应晶体管内部电荷分布的影响。

随着温度的升高,晶体内部的电子和空穴热运动加剧,使得电荷分布发生变化,从而导致阈值电压的改变。

其次是温度对材料特性的影响。

mos管的阈值电压与材料的禁带宽度、载流子迁移率等因素有关。

而温度的升高会导致材料的禁带宽度减小、载流子迁移率下降,从而影响mos管的阈值电压。

为了更好地理解温度对mos管阈值电压的影响,我们可以通过实验进行验证。

一般来说,可以选取多个mos管样品,并将其放置在恒温器中,分别测量不同温度下的阈值电压。

实验结果表明,随着温度的升高,mos管的阈值电压逐渐减小。

这是因为温度升高导致晶体内部电荷分布的变化和材料特性的改变所致。

在实际应用中,我们需要考虑温度对mos管阈值电压的影响。

一方面,mos管的阈值电压与温度密切相关,需要根据具体的工作环境和要求进行合理的选型和设计。

另一方面,为了保证mos管的工作稳定性和可靠性,可以采取一些措施来降低温度对阈值电压的影响。

例如,可以采用温度补偿电路、加热控制系统等手段来控制mos管的工作温度,从而减小其阈值电压的波动。

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实验 温度、光对半导体导电特性的影响
一.实验目的与意义
无论是半导体单晶材料、PN 结、还是器件,其电学特性(如:电阻率ρ、I-V 曲线、载流子迁移率μ)均受温度、光(辐射)影响,因此,从原理上讲,半导体产品的应用受环境温度、辐射限制大。

所以在设计、使用半导体产品时必须考虑环境因素。

通过本实验的学习,加深学生对半导体导电性理论的理解,培养学生自行设计实验方法,实际动手操作,观察现象,进行理论分析的能力。

二.实验原理
1.电阻率的测量:
设样品电阻率ρ均匀,样品几何尺寸相对于探针间的距离可看成半无穷大。

引入点电流源的探针其电流强度为I ,则所产生的电力线有球面对称性,即等位面是以点电流源为中心的半球面,如图1-1所示。

在以r 为半径的半球上,电流密度j 的分布是均匀的。

图1-1 探针与被测样品接触点的电流分布
2
2r
I
j π=
(1-1) 若E 为r 处的电场强度,则
2
2r
I j E πρ
ρ=
= (1-2) 取r 为无穷远处的电位ф为零,并利用 dr
d E φ
-
=,则有: ⎰
⎰⎰∞
∞-=-=)
(0
22r r
r r dr
I Edr d ϕπρϕ (1-3) I
r
()r
I
r πρφ2=
(1-4) 式(1-2)就是半无穷大均匀样品上离开点电流源距离r 的点的电位与探针流过的电流和样品电阻率的关系式,它代表了一个点电流对距离为r 处的点的电势的贡献。

图1-2 四根探针与样品接触示意图
对于图1-2所示的情形,四根探针位于样品中央,电流从探针1流入,从探针4流出,则可将1和4探针认为是点电流源,由式(1-3)得到探针2和3的电位为:
⎪⎪⎭
⎫ ⎝⎛-=
24122112r r I πρϕ (1-5) ⎪⎪⎭⎫ ⎝⎛-=
3413
3112r r I π
ρϕ (1-6) 探针2、3电位差为:3223ϕϕ-=V ,由此得出样品电阻率为:
I
V C
r r r r I V 23
1
341324122311112=⎪⎪⎭

⎝⎛---=-πρ (1-7) 式(1-7)就是利用直流四针探法测量电阻率的普遍公式。

当电流取I =C 时,则有ρ=V 23,可由数字电压表直接读出电阻率。

实际测量中,最常用的是直线四探针。

即四根探针位于同一直线上,并且间距相等,设相邻两探针间距为S ,则半无穷大样品有:
S S C 28.62==π (1-8)
通常只要满足样品的厚度,以及边缘与探针的最近距离大于四倍探针间距,样品近似半无穷大,能满足精度要求。

1. 块状和棒状样品的电阻率
四探针测试仪探针间距均为1mm ,块状和棒状样品外形尺寸与探针间距比较,符合半无穷大边界条件,有C=2π, 因此,只要I =6.28I 0,I 0为该电流量程满刻度值,由电压表读出的数值就是电阻率。

2. 片状样品的电阻率
片状样品其厚度与探针间距比较,不能忽略,测量时要提供对样品的厚度、测量位置的修正系数。

⎪⎭

⎝⎛⎪⎭⎫
⎝⎛=S d D S W G 0ρρ (1-9) 式中:ρ0为半无穷样品的电阻率;⎪⎭

⎝⎛S
W
G 为样品厚度W 与探针间距S 的修正函数,可由附录1查得;⎪⎭

⎝⎛S d D 为样品形状和测量位置的修正函数,可由附录2查得。

当圆形硅片的厚度满足
5.0〈S
W
时,有: ⎪⎭

⎝⎛⋅=S d D W I V 53.4ρ (1-10)
2.由ρ-T 曲线可知温度对电阻率影响很大,实验测得的高阻单晶硅片与掺杂单晶硅片ρ-T 曲线完全不同,这可由电阻率公式说明:
本征半导体电阻率ρi : )
(1p n i i q n μμρ+=
(2-1)
掺杂半导体电阻率ρ: )
1
p n pq nq μμρ+=
(2-2)
本征半导体电阻率由载流子浓度n i 决定,n i 随温度上升而急剧增加,室温附近,温度每增加8℃,硅的n i 就增加一倍,因为迁移率只稍有下降,所以电阻率将相应地降低一半左右。

300K 时,ρi 约为2.3*105
Ω·cm 。

对掺杂半导体,有杂质电离和本征激发两个因素存在,由有电离杂质散射和晶格散射,两种散射机构的存在,因而,复杂。

图2-1是掺杂单晶硅ρ-T 曲线示意图。

ρ
T
A
B
C
-- 本征半导体 — 掺杂半导体
D
图2-1 Si 的ρ-T 曲线示意图
温度较低时,本征激发可忽略,载流子主要由杂质电离提供,它随着温度升高,而增加;散射主要由电离杂质决定,迁移率随温度升高也增大,所以,ρ-T 曲线下降(AB 段)。

温度继续升高,杂质已全部电离,本征激发还不显著,载流子基本不变,而晶格振动散射成为主要影响因素,迁移率虽温度升高而降低,所以,ρ-T 曲线上升(BC 段)。

温度继续升高,本征激发很快增加,本征载流子的产生远远超过迁移率减小对电阻率的影响,本征激发成为最主要影响因素,表现出与本征半导体相似的特性(CD 段)。

三.实验内容
学生自行设计一半导体材料、芯片或器件的电学特性随环境温度或光注入变化的实验方案,在实验室现有条件下,进行测试,并对实验现象和结果进行分析、讨论,给出合理的理论解释。

四.实验样品与仪器
SZ82四探针测试仪,晶体管特性图示仪,YY2814LCR 自动测试仪,调温探针台,温控仪,白炽灯等,高阻单晶硅片,掺杂单晶硅片,pn 芯片,晶体管、二极管。

五.实验步骤
以半导体电阻率随温度的变化为例: 1、实验方法
采用SZ82四探针测试仪,温控仪,测量高阻单晶硅片、掺杂单晶硅片的电阻率随温度的变化,即做出电阻率-温度(ρ-T )曲线,对比高阻单晶硅与掺杂单晶硅ρ-T 曲线的不同。

2、测试数据:
按实验五调试四探针仪,硅片置于温控仪测试台上,从室温开始升温,每隔几℃测一组(ρ,T )值,分别列表记录测试结果,绘出高阻单晶硅片与掺杂单晶硅片的ρ-T 曲线。

由室温电阻率与硅掺杂浓度关系(附表ρ-n 曲线),得到硅片样品的杂志浓度含量。

六.数据处理 记录掺杂半导体电阻率随温度变化数据,画出ρ-T 图,分析误差。

ρ
T
A
B
C
-- 本征半导体 — 掺杂半导体
D
数据图反映的是上图BC段,电阻率随温度上升而上升。

BC段杂质已进入强电离区,本征激发不显著,载流子浓度基本不变,晶格振动散射成为主要的影响因素,随温度升高晶格振动散射加剧,迁移率随温度的升高而降低,故ρ-T曲线呈上升趋势(BC段)。

由于AB段温度太低,CD段温度太高,由于实验仪器的工作温度限制,上述两段超出测量范围,所以没有反映出AB段、CD段趋势的数据。

七.讨论题
实验数据误差分析。

电阻率测量误差:实验设备接触不好,接触过松会产生放电对实验设备如探针造成损坏,过紧会产生形变,影响载流子的分布;边缘不完全垂直于探针,使探针间间距有差异,从而导致电压分布的差异;零位的波动影响,输入电流为0时,输出不为0;以及样品或测量档位的不对称也可能导致零位变化,从而影响测量结果。

温度测量误差:实验仪器精度不够,接触不完全,导致数据来回跳变及变化幅度较大。

八.实验思考与总结
通过这次实验,初步了解电阻率随温度的变化情况,加深了对本征半导体以及掺杂半导体的电阻率随温度的变化趋势的理解,实验上观察了掺杂半导体的电阻率随温度的变化,加深了实验测量电阻率方法——四探针法测量电阻率的理解。

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