6第二章PN结
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•
正向偏压情况下的PN结
载流子浓度
P
型
N pn pn 0
型
少数载流子电流
I I p In Ip
In
np
pn 0
空间电荷层
In
Ip
In
Ip xp 0 xn
x
xp
0
xn
x
xp 0 xn
x
x
(a)少数载流子分布
(b)少数载流子电流
(c)电子电流和空穴电流
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2.1.1 PN结空间电荷区
(a)在接触前分开的P型和N型硅的能带图
(b)接触后的能带图
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• 从费米能级恒定观点来看,热平衡pn结具有统一费米能级。
• 形成pn结之后,n区费米能级和p区费米能级统一。
E Fn E Fp k0T ln
Nd Na q 0 2 ni
p n 2pn pn pn0 Dp 2 t x p I p qADp dp n dx
• 对于P侧: n p
t
Dn
2np x 2 dn p dx
np np0 n
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I n qADn
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• 2.空间电荷区边界的少数载流子浓度
2 qN D xn 0 2
• 对于P+N,耗尽区的宽度为:
20 W xn qN D
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例2-1
• 硅突变PN结二极管N侧与P侧的掺杂浓度分别为Nd=1016cm-3和 Na=4×1018cm-3。计算在室温下零偏压时的内建电势差、耗尽层宽 度和最大电场。
•
x x 解: pn x pn0 Aexp Bexp L L p p
0 V pn 0 exp V 1 T
• 边界条件: p x p n n0
qADn qADp V np 0 pn 0 exp 1 L L V n p T
Shockley方程
V V T
• 正向偏压: I I 0 exp • 反向偏压: I I0 • I0称为饱和电流
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2. 外加直流电压下,pn结的能带图
正向偏压时:
n p EF EF qV
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反向偏压时:
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2.2.2 少数载流子的注入与输运 • 1.扩散近似 • 正向偏压下,注入到N(P)区的空穴(电子),对于N(P)区来说是少数载 流子,所以这种注入现象又称为少数载流子的注入。 • 对于N侧:
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• 反向偏压情况下的的PN结
PN
(a)少数载流子分布
(b)少数载流子电流
(c)电子电流和空穴电流
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例2-2
Dp Dn
k 0T p VT p 0.026 500 13cm 2 / s q k 0T n VT n 0.026 180 4.7cm 2 / s q
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2.3
理想pn结二极管的直流电流电压特性
理想pn结模型: • (1)忽略中性区的体电阻和接触电阻,外加电压全部降落在耗尽区 上。 • (2)半导体均匀掺杂。 • (3)小注入:即注入的少数载流子浓度比平衡多数载流子浓度小很 多。 • (4)空间电荷区内部存在复合电流和产生电流。 • (5)半导体非简并。
• 可见,q0 是热平衡时电子从 N区进入到P区、空穴从P区
进入到N区需要跨越的势垒
高度。 • 由于这个原因,也把空间电 荷区称为势垒区。
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3.耗尽层 -突变结 • 突变结势垒中的电场、电势分布
• 耗尽层近似:在空间电荷区中,与电离杂质浓度相比,自由载流子浓度 可以忽略,这称为耗尽近似。
k 0T N A ND 4 1018 1016 0 ln 0.026 0.83eV 20 q n2 2 . 25 10 i 20 5 W xn 3.28 10 cm qN D qN D xn Em 5 10 4 V / cm
V p n 0 exp VT 1
x xn
I p xn
qADp Lp
x xn
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I p xn qADp Lp V p n 0 exp VT 1
xn x V pn x pn0 pn0 exp 1 exp L V T p xn x V pn x pn0 exp 1 exp pn 0 VT Lp
1
x xn
I n xp
V qADn n p 0 exp Ln VT
x x
p
I I p xn I n xn I p xn I n xp V I 0 exp 1 V T
J p qDp Ip qADp Lp dpn x dx qDp
x xn
xn x V pn 0 exp 1 exp L Lp V T p
x xn
xn x V pn 0 exp 1 exp L V T p
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2.2 加偏压的PN结
• 对于平衡的pn结,存在着一定宽度和势垒高度的势垒区,其中 相应出现了内建电场; • 每一种载流子的扩散电流和漂移电流相互抵消,没有净电流通 过pn结,EF处处相等。
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2.2.1 PN结的单向导电性 1.外加电压下,pn结势垒的变化及载流子的运动 • 正向偏压:势垒区宽度减小,高度降低;载流子的扩散运动大于漂移 运动。
d 0 取边界条件:x=xn, dx d qN D x x x E 1 n m dx x n
qN D xn m
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d qN D x xn dx
d qN D x xn dx
x Wn x xn
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x x pn x pn0 Aexp Bexp L L p p
xn xn qV V pn0 exp A pn0 exp 1 exp 1 exp L L k T V 0 p T p B 0
• 杂质完全电离:
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• 在N侧和P侧泊松方程可以分别简化为:
qN D d2 0 x xn 2 dx
d2 qN A 0 x xn 2 dx
对于0≤x ≤ xn:
qN D d x xn dx
V n n n p exp 0 V T 0 0 V 0 V n n 0 n p 0 exp n exp n exp n n exp p p0 p p0 VT VT VT VT nn nn0 V p p exp n n0 V T
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计算理想pn结模型的电流电压方程式的步骤
• 1、根据准费米能级计算势垒区边界nn’及pp’处注入的非平衡少数载 流子浓度; • 2、以此非平衡少数载流子浓度为边界条件,解扩散区中载流子连 续性方程式,得到扩散区中非平衡少数载流子的分布; • 3、将非平衡少数载流子的浓度分布代入扩散方程→扩散流密度→ 少数载流子的电流密度; • 4、将两种载流子的扩散电流密度相加,得到理想pn结模型的电流 电压方程式。
qN D x2 qN D xxn D 2
• 取x=xn处, 0
qN D x2 n D 2
2 qN D x2 qN D xxn qN D xn 2 2 2 2 xn qN D xn 2 xxn x2 2 x2 n
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• 在N型中性区,稳态时
p n 0 ,同时E=0,G=0: t
p 2p p E p Dp 2 p E pp G 0 t x x x p
d2p pn pn 0 Dp 2 0 dx p
d2 pn pn 0 pn pn 0 d2p pn pn 0 d2p pn pn 0 0 2 0 0 2 2 2 2 dx Dp p dx Lp dx Lp
qN x x 1 2 xn
2 D n
2
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qN x x 1 2 xn
2 D n
2
• 对于单边突变结P+N,空间电荷区两边的内建电势差为:
0 xn xp xn 0
0 pp 0nn 0 k 0 T pp 0nn 0 nn 0 ln V ln V ln T T q n2 n2 np0 i i
pp 0 pn 0 exp 0 VT
nn 0 np 0 exp 0 VT
• 加上偏下V,空间电荷区电势差变成 0 V
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• 当PN结加上正向偏压时,在结边缘np>np0,pn>pn0,这种现象称为载 流子正向注入;
• 当PN结加上反向偏压时,在结边缘np<np0,pn<pn0,这种现象称为载
流子正向注入;
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• 注入P+N结的N侧的空穴及其所造成的电子分布
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• 正向偏压:势垒区宽度减小,高度降低;扩散大于漂移, 向p区、n区注入少子。 • 反向偏压:势垒区宽度增加,高度增高;漂移大于扩散, 从p区、n区抽取少子。
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外向偏压时,pn结中电流的分布情况 • 通过pn结任一截面的总电流是相等的,只是对于不同的截 面,电子电流和空穴电流的比例有所不同而已。
• 由于外加正向偏压的作用使非
平衡载流子进入半导体的过程 称为非平衡载流子的电注入。
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当pn结加上反向偏压V时: • 势垒区:宽度增加,高度增高; • 载流子:漂移大于扩散。
2 0 VR W qN D
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