半导体表征

  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。

为了满足各种半导体器件的需要,必需对材料的电学参数进行测量,这些参数一般为电 阻率、载流子浓度、导电类型、迁移率、寿命及载流子浓度分布等。测量方法有四探针 、三探针、扩展电阻、C-V 法及Hall 测量等。

对于半导体材料的电阻率,一般采用四探针、三探针和扩展电阻。

四探针法是经常采用的一种,原理简单,数据处理简便。测量范围为10-3-104 防 米, 能分辨毫米级材料的均匀性,适用于测量半导体材料、异型层、外延材料及扩散层、离 子注入层的电阻率,并能够提供一个迅速的、不破坏的、较准确的测量。

采用四探针法测量相同导电类型、低阻衬底的外延层材料的电阻率时,由于流经材料的 电流会在低阻衬底中短路,因此得到的是衬底与外延层电阻率并联的综合结果。这时, 需要采用三探针法、扩展电阻法等。

三探针法是利用金属探针与半导体材料接触处的反向电流-电压特性、测定击穿时的电压 来获得材料电阻率的知识的。

C-V 法利用PN 结或肖特基势垒在反向偏压时的电容特性,可以获得材料中杂质浓度及其分布的 信息,这类测量称为C-V 测量技术。这种测量可以提供材料截面均匀性及纵向杂质浓度分 布的信息,因此比四探针、三探针等具有更大的优点。虽然扩展电阻也能测量纵向分布 ,但它需将样品进行磨角。但是C-V 法既可以测量同型低阻衬底上外延材料的分布,也可测量高阻衬底用异型层的外延材料的分布。

Hall 测量在半导体材料测量中,霍尔效应有着广泛的应用。用它来研究半导体材料导电过程或输 运现象。可提供材料的导电类型、载流子浓度、杂质电离能(包括深、浅能级杂质)、 禁带宽度、迁移率及杂质补偿度等信息。

测量霍尔系数判断样品的导电类型,载流子浓度。范德堡法测量电阻率 原理:

一矩形半导体薄片,当沿其x 方向通有均匀

电流I (如I AB ),沿Z 方向加有均匀磁感应强

度的磁场时,则在y 方向上产生电势差(ΔV CD )。

这种现象叫霍尔效应。所生电势差用V H 表示,

称为霍尔电压,其相应的电场称为霍尔电场E y 。

实验表明,在弱磁场下,E y 同J (电流密度)

和B (磁场强度)成正比

E y =R H JB

式中R H 为比例系数,称为霍尔系数。

因此,将电流I 从A 点流入,B 点流出,测量C 、

D 两点电势差ΔV CD ,然后加上磁场,再测量V CD ’,得到霍尔电压V H =ΔV CD ,于是可以求出R H :

810⨯=

IB

t V R s H H (厘米3/库仑) (1) 电压单位是伏特,电流单位是安培,样品厚度t s 单位是厘米,磁场强度B 单位

是高斯。

还可以测量电阻率,将电流I 从A 点流入,C 点流出,并测B 、D 两点电势差,于是得到:AB C D CD AB I V V R -=,。同样方法测BC

D A DA BC I V V R -=,。 则可以求出电阻率:

)(2

2ln ,,,,DA BC CD AB s DA BC CD AB R R f t R R ⋅⋅+=πρ (2) 其中f 是修正因子,仅与CD AB R ,/DA BC R ,有关。 在不同的温度范围,R H 有不同的表达式。在本征电离完全可以忽略的杂质电

离区,且主要只有一种载流子的情况,当不考虑载流子速度的统计分布时,对空穴浓度为p 的P 型样品

01R H >=pq

(3)

式中q 为电子电量。对电子浓度为n 的N 型样品

0nq 1R H <-= (4)

2.范得堡法测量半导体方块电阻原理:设样品满足如下条件,则任意形状样品的方块电阻可以测量。A.接触点在样品的边界上;B.接触点足够小;C.样品厚度均匀;D.样品表面均匀连续,没有孤立的空洞。如图所示。

若A 、B 间通有电流I AB 时,测得D 、C 两点的电电势差为V DC ,则可定义以电阻量纲的量:AB DC DC AB I V R /,=

同理可以定义:

AD BC AD BC I V R /,=

根据有关的电学知识可以得到:),,(2,,2ln AD BC DC AB AD BC DC AB R R f R R R +=

π口

上式中f 为修正因子,由AD BC DC

AB R R ,,决定。

需要说明的是:在实际测量中,为了减小接触等各种因素带来的误差,常常将I AB 改变方向得到两个DC AB R ,,再求平均作为DC AB R ,代入公式计算方块电阻。

3.范德堡法测量半导体载流子浓度或面密度原理:

保持样品电流I 一定。参照上面可以定义,AC DB R :

,/AC DB DB AC R V I =

施加磁场B 。测量样品在加磁场前后DB V 的变化DB V ∆可以得到:

1DB H V R t ne IB

∆=

= 其中t 为样品厚度。即: DB IB n V et =∆ 或者:DB IB nt V e σ==∆

其中σ为载流子面密度。

需要说明的是:在实际测量中,为了减小接触等各种因素带来的误差,常常将I 改变方向、将B 改变方向得到四个,AC DB R ,再求平均作为,AC DB R 代入公式计算方块电阻。

相关文档
最新文档